本發(fā)明屬于新能源技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)透鏡箱式支撐架。

背景技術(shù)：

隨著全球人口和經(jīng)濟(jì)規(guī)模的不斷增長(zhǎng)，能源使用帶來(lái)的環(huán)境問(wèn)題及誘因不斷被人們所認(rèn)識(shí)，不止煙霧、酸雨等的危害，大氣中二氧化碳濃度升高將帶來(lái)的全球氣候變化，也已被確認(rèn)為不爭(zhēng)的事實(shí)。在此背景下，“碳足跡”、“低碳經(jīng)濟(jì)”、“低碳技術(shù)”、“低碳發(fā)展”、“低碳生活方式”、“低碳城市”、“低碳世界”等一系列新概念、新政策應(yīng)運(yùn)而生。低碳時(shí)代的理念在推動(dòng)著光熱高溫太能行業(yè)的快速發(fā)展，光熱高溫太陽(yáng)能的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能使得節(jié)能、環(huán)保、低碳、舒適、衛(wèi)生、快捷等方面的優(yōu)點(diǎn)越顯突出。

光學(xué)線性菲涅爾式是光熱太陽(yáng)能中的一種，并且在聚熱方面，菲涅爾透鏡已成功應(yīng)用到鍋爐預(yù)熱、太陽(yáng)灶、熱水器等眾多領(lǐng)域，給聚光菲涅爾透鏡的應(yīng)用帶來(lái)一個(gè)廣闊的前景。目前聚光菲涅爾透鏡的使用均采用反光原理，對(duì)于采用透光原理時(shí)，透鏡的支撐架在國(guó)內(nèi)尚屬空白。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種光學(xué)透鏡箱式支撐架，以解決上述背景技術(shù)中提出的采用透光原理時(shí)，透鏡的支撐架在國(guó)內(nèi)尚屬空白的問(wèn)題。

本發(fā)明所解決的技術(shù)問(wèn)題采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：本發(fā)明提供一種光學(xué)透鏡箱式支撐架，其特征在于：所述箱式支撐架分為兩層，分別為上層支撐架、下層支撐架，所述上層支撐架包括橫向支架、縱向支架，所述縱向支架與橫向支架的結(jié)構(gòu)相同，且位于相鄰的橫向支架之間，所述相鄰的縱向支架之間設(shè)有光學(xué)透鏡，所述下層支撐架的結(jié)構(gòu)與上層支撐架的結(jié)構(gòu)相同，所述上層支撐架與下層支撐架之間設(shè)有豎直支撐柱。

還包括底座，所述底座位于箱式支撐架的下方，所述底座包括支撐板、底架，所述底架固定在支撐板的下面，所述支撐板固定在箱式支撐架的下面。

還包括抗風(fēng)板，所述箱式支撐架的四個(gè)側(cè)面均設(shè)有抗風(fēng)板，所述抗風(fēng)板的截面為三角形。

所述橫向支架的頂部、底部及兩側(cè)均設(shè)有凹槽，所述凹槽與外界通過(guò)通槽相通，所述橫向支架的兩端分別設(shè)有橡膠密封件，所述橫向支架內(nèi)部設(shè)有空腔及通道，所述橫向支架的上表面設(shè)有第一限位槽、第二限位槽，所述第一限位槽、第二限位槽位于凹槽的同側(cè)，所述第一限位槽內(nèi)設(shè)有支撐件，所述第一限位槽頂部設(shè)有第一限位凸起，所述支撐件的底部位于第一限位槽內(nèi)，所述支撐件的側(cè)面設(shè)有與第一限位凸起相配合的限位滑槽，所述支撐件的頂部形狀為半圓形，所述第二限位槽內(nèi)設(shè)有下壓件，所述第二限位槽頂部設(shè)有第二限位凸起，所述下壓件的底部設(shè)有與第二限位凸起相配合的限位凸筋，所述下壓件的一側(cè)設(shè)有下壓臂，所述光學(xué)透鏡位于下壓臂與支撐件之間。

所述橫向支架與縱向支架的連接處設(shè)有連接螺栓，所述連接螺栓的螺栓頭位于橫向支架的凹槽內(nèi)，所述連接螺栓的螺栓桿穿過(guò)通槽另一端位于縱向支架的通道內(nèi)，所述縱向支架的上部設(shè)有圓槽，所述圓槽與通道連通，所述圓槽內(nèi)設(shè)有緊固件，所述緊固件為圓柱形，下部設(shè)有圓孔，所述連接螺栓穿過(guò)圓孔，所述緊固件內(nèi)部中空，且設(shè)有緊固螺釘，所述連接螺栓桿上設(shè)有與緊固螺釘相配合的緊固槽。

所述橫向支架與縱向支架均等距平行排列。

所述通道的截面為圓形。

所述緊固螺釘為內(nèi)六角螺釘。

本發(fā)明的有益效果為：

1本技術(shù)方案填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)采用透光原理透鏡支撐架的空白，整體結(jié)構(gòu)布局合理，實(shí)施效果非常理想。

2型材結(jié)構(gòu)通過(guò)截面的設(shè)計(jì)，可以增加型材的整體受力強(qiáng)度，其內(nèi)部設(shè)有空腔，可以減少型材用料，不僅可以減少成本，還可以減少型材重量，方便運(yùn)輸安裝。

3橫向支架與縱向支架通過(guò)連接螺釘固定，安裝及拆卸維修方便快捷，再通過(guò)橡膠密封件巧妙的使用，可以增加抗風(fēng)沙的密閉性。

4傳統(tǒng)的支撐架多為方形、長(zhǎng)方形，本技術(shù)方案截面為菱形，由于增加了三角形的抗風(fēng)板，可以有效的減小風(fēng)阻，還能減少型材用料，同時(shí)也增加了產(chǎn)品的美觀多樣性。

5由于本技術(shù)方案采用鏤空的設(shè)計(jì)方式，再將底部的支撐板制成透明的，使光學(xué)透鏡、集熱器、異形型材框體、支撐板共同組成透光的菱形箱體，可以保證風(fēng)沙氣候下的密閉與箱體下方植物的健康生長(zhǎng)。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的剖視示意圖；

圖2為本發(fā)明上層支撐架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明橫向支架與縱向支架裝配示意圖；

圖4為本發(fā)明緊固件結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明光學(xué)透鏡與縱向支架的裝配示意圖；

圖6為本發(fā)明箱式支撐架的立體示意圖。

圖中：1-箱式支撐架，2-上層支撐架，3-下層支撐架，4-豎直支撐柱，5-抗風(fēng)板，6-支撐板，7-底架，8-底座，9-橫向支架，10-縱向支架，11-凹槽，12-通槽，13-通道，14-空腔，15-螺栓頭，16-螺栓桿，17-連接螺栓，18-緊固槽，19-橡膠密封件，20-緊固螺釘，21-緊固件，22-圓槽，23-圓孔，24-光學(xué)透鏡，25-第一限位槽，26-第二限位槽，27-第一限位凸起，28-第二限位凸起，29-支撐件，30-下壓件，31-限位滑槽，32-限位凸筋，33-下壓臂。

具體實(shí)施方式

本實(shí)施例箱式支撐架1分為兩層，分別為上層支撐架2、下層支撐架3，上層支撐架2包括橫向支架9、縱向支架10，縱向支架10與橫向支架9的結(jié)構(gòu)相同，且位于相鄰的橫向支架9之間，相鄰的縱向支架10之間設(shè)有光學(xué)透鏡24，下層支撐架3的結(jié)構(gòu)與上層支撐架2的結(jié)構(gòu)相同，上層支撐架2與下層支撐架3之間設(shè)有豎直支撐柱。

還包括底座8，底座8位于箱式支撐架1的下方，底座8包括支撐板6、底架7，底架7固定在支撐板6的下面，支撐板6固定在箱式支撐架1的下面。

還包括抗風(fēng)板5，箱式支撐架1的四個(gè)側(cè)面均設(shè)有抗風(fēng)板5，抗風(fēng)板5的截面為三角形。

橫向支架9的頂部、底部及兩側(cè)均設(shè)有凹槽11，凹槽11與外界通過(guò)通槽12相通，橫向支架9的兩端分別設(shè)有橡膠密封件19，橫向支架9內(nèi)部設(shè)有空腔14及通道13，橫向支架9的上表面設(shè)有第一限位槽25、第二限位槽26，第一限位槽25、第二限位槽26位于凹槽11的同側(cè)，第一限位槽25內(nèi)設(shè)有支撐件29，第一限位槽25頂部設(shè)有第一限位凸起27，支撐件29的底部位于第一限位槽25內(nèi)，支撐件29的側(cè)面設(shè)有與第一限位凸起27相配合的限位滑槽31，支撐件29的頂部形狀為半圓形，第二限位槽26內(nèi)設(shè)有下壓件30，第二限位槽26頂部設(shè)有第二限位凸起28，下壓件30的底部設(shè)有與第二限位凸起28相配合的限位凸筋32，下壓件30的一側(cè)設(shè)有下壓臂33，光學(xué)透鏡24位于下壓臂33與支撐件29之間。

橫向支架9與縱向支架10的連接處設(shè)有連接螺栓17，連接螺栓17的螺栓頭位于橫向支架的凹槽11內(nèi)，連接螺栓17的螺栓桿穿過(guò)通槽12另一端位于縱向支架10的通道13內(nèi)，縱向支架10的上部設(shè)有圓槽22，圓槽22與通道13連通，圓槽22內(nèi)設(shè)有緊固件21，緊固件21為圓柱形，下部設(shè)有圓孔23，連接螺栓桿17穿過(guò)圓孔23，緊固件21內(nèi)部中空，且設(shè)有緊固螺釘20，連接螺栓桿17上設(shè)有與緊固螺釘20相配合的緊固槽18。

橫向支架9與縱向支架10均等距平行排列。

通道13的截面為圓形。

緊固螺釘20為內(nèi)六角螺釘。

以上對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實(shí)施范圍，凡依本發(fā)明申請(qǐng)范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。