一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置，主要內(nèi)容包括：通過(guò)將彩膜基板中的偏光層至于入光側(cè)，并分別在紅色濾光層、綠色濾光層的入光側(cè)增設(shè)紅色色轉(zhuǎn)換層、綠色色轉(zhuǎn)換層，而藍(lán)色出光區(qū)域中空置并由平坦化層填充的方式，使得入射的藍(lán)光轉(zhuǎn)換為所需要的紅光或綠光，再經(jīng)過(guò)傳統(tǒng)的紅色或綠色濾光層，能夠最大程度的減少光的亮度的損耗，實(shí)現(xiàn)低功耗彩色顯示。
【專利說(shuō)明】
一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在傳統(tǒng)的液晶顯示裝置中，由上至下依次主要包括:彩膜基板、液晶層、TFT (ThinFilm Transistor，薄膜晶體管)陣列基板、以及背光源。其中，背光源均設(shè)置為白色背光(即入射至TFT陣列基板的光為白光)，彩膜基板、液晶層、TFT陣列基板共同組成具有光閥的“液晶盒”，且彩膜基板外側(cè)和TFT陣列基板外側(cè)均設(shè)置有偏光片，通過(guò)調(diào)節(jié)TFT開關(guān)，為彩膜基板和TFT陣列基板施加電壓，使其中的液晶層發(fā)生旋轉(zhuǎn)，將背光源發(fā)出的光通過(guò)液晶層進(jìn)行旋光效應(yīng)，最終利用彩膜基板側(cè)的偏光層發(fā)射出去，實(shí)現(xiàn)顯示功能。
[0003]由于傳統(tǒng)液晶顯示裝置的背光源設(shè)置為白色背光，因此，需要在彩膜基板側(cè)設(shè)置彩色濾光片濾色實(shí)現(xiàn)彩色顯示。然而，這一光傳輸過(guò)程中的背光亮度損耗是不容忽視的。一般而言，主要包括以下原因:
[0004]一方面，背光源轉(zhuǎn)換為白光過(guò)程中的損耗。由于背光源通常采用藍(lán)色LED芯片，而該LED芯片本身是發(fā)藍(lán)光的，因此，需要通過(guò)激發(fā)黃色熒光粉后混色成為所需的白光?？梢?jiàn)，在激發(fā)黃色熒光粉的過(guò)程中，必然導(dǎo)致部分背光亮度損耗。
[0005]另一方面，彩色濾光片過(guò)濾背光過(guò)程中的損耗。由于在背光出射彩膜基板之前，需要通過(guò)彩膜基板外側(cè)的彩色濾光片，濾掉不需要的頻譜的光，從而實(shí)現(xiàn)彩色顯示。這一濾光操作濾掉了近70%的背光，因此，彩色濾光片成為背光亮度損耗最嚴(yán)重的器件之一。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的背光傳輸過(guò)程中背光亮度損耗較為嚴(yán)重的問(wèn)題。
[0007]本發(fā)明實(shí)施例采用以下技術(shù)方案:
[0008]一種彩膜基板,包括:
[0009]第一基底；位于所述第一基底之上的黑矩陣，其中，所述黑矩陣圖案化出紅色出光區(qū)域、綠色出光區(qū)域和藍(lán)色出光區(qū)域；位于所述紅色出光區(qū)域的紅色濾光層以及位于所述綠色出光區(qū)域的綠色濾光層；位于所述紅色濾光層之上的紅色色轉(zhuǎn)換層，以及位于所述綠色濾光層之上的綠色色轉(zhuǎn)換層；位于所述第一基底之上的平坦化層，其中，所述平坦化層填充所述藍(lán)色出光區(qū)域；位于所述平坦化層之上的偏光層。
[0010]在本發(fā)明實(shí)施例中，通過(guò)將彩膜基板中的偏光層至于入光側(cè)，并分別在紅色濾光層、綠色濾光層的入光側(cè)增設(shè)紅色色轉(zhuǎn)換層、綠色色轉(zhuǎn)換層，而藍(lán)色出光區(qū)域中空置并由平坦化層填充的方式，使得入射的藍(lán)光轉(zhuǎn)換為所需要的紅色或綠色，再經(jīng)過(guò)傳統(tǒng)的紅色或綠色濾光層，能夠最大程度的減少光的亮度的損耗，實(shí)現(xiàn)低功耗彩色顯示。
[0011]一種彩膜基板的制備方法，包括:提供第一基底；在所述第一基底之上形成黑矩陣，其中，所述黑矩陣圖案化出紅色出光區(qū)域、綠色出光區(qū)域和藍(lán)色出光區(qū)域；在所述紅色出光區(qū)域形成紅色濾光層，以及在所述綠色出光區(qū)域形成綠色濾光層；在所述紅色濾光層之上形成紅色色轉(zhuǎn)換層，以及在所述綠色濾光層之上形成綠色色轉(zhuǎn)換層；在所述第一基底之上形成平坦化層，其中，所述平坦化層填充所述藍(lán)色出光區(qū)域；在所述平坦化層之上形成偏光層。
[0012]在本發(fā)明實(shí)施例中，通過(guò)將彩膜基板中的偏光層至于入光側(cè)，并分別在紅色濾光層、綠色濾光層的入光側(cè)增設(shè)紅色色轉(zhuǎn)換層、綠色色轉(zhuǎn)換層，而藍(lán)色出光區(qū)域中空置并由平坦化層填充的方式，使得入射的藍(lán)光轉(zhuǎn)換為所需要的紅色或綠色，再經(jīng)過(guò)傳統(tǒng)的紅色或綠色濾光層，能夠最大程度的減少光的亮度的損耗，實(shí)現(xiàn)低功耗彩色顯示。
[0013]一種顯示裝置，包括所述的彩膜基板、液晶層、TFT陣列基板以及背光裝置，其中，所述背光裝置發(fā)出的光為藍(lán)光
[0014]在本發(fā)明實(shí)施例中，通過(guò)將彩膜基板中的偏光層至于入光側(cè)，并分別在紅色濾光層、綠色濾光層的入光側(cè)增設(shè)紅色色轉(zhuǎn)換層、綠色色轉(zhuǎn)換層，而藍(lán)色出光區(qū)域中空置并由平坦化層填充的方式，使得入射的藍(lán)光轉(zhuǎn)換為所需要的紅光或綠光，再經(jīng)過(guò)傳統(tǒng)的紅色或綠色濾光層，能夠最大程度的減少光的亮度的損耗，實(shí)現(xiàn)低功耗彩色顯示。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)要介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0016]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的設(shè)置有隔墊物的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種彩膜基板的制備方法的流程示意圖；
[0019]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0020]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0021]在本發(fā)明實(shí)施例中，通過(guò)將彩膜基板中的偏光層至于入光側(cè)，并分別在紅色濾光層、綠色濾光層的入光側(cè)增設(shè)紅色色轉(zhuǎn)換層、綠色色轉(zhuǎn)換層，而藍(lán)色出光區(qū)域中空置并由平坦化層填充的方式，使得入射的藍(lán)光轉(zhuǎn)換為所需要的紅光或綠光，再經(jīng)過(guò)傳統(tǒng)的紅色或綠色濾光層，能夠最大程度的減少損耗，實(shí)現(xiàn)低功耗彩色顯示。
[0022]下面通過(guò)具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明所涉及的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，本發(fā)明包括但并不限于以下實(shí)施例。
[0023]如圖1所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖，該彩膜基板I主要包括以下結(jié)構(gòu)單元:
[0024]第一基底101 ;位于第一基底101之上的黑矩陣102，其中，黑矩陣102圖案化出紅色出光區(qū)域103、綠色出光區(qū)域104和藍(lán)色出光區(qū)域105 ;位于紅色出光區(qū)域103的紅色濾光層106以及位于綠色出光區(qū)域104的綠色濾光層107 ;位于紅色濾光層106之上的紅色色轉(zhuǎn)換層108，以及位于綠色濾光層107之上的綠色色轉(zhuǎn)換層109 ;位于第一基底101之上的平坦化層110，其中，平坦化層110填充藍(lán)色出光區(qū)域105 ;位于平坦化層110之上的偏光層111，其中，所示偏光層111的材料為二向色性染料。
[0025]在該彩膜基板I的結(jié)構(gòu)中，相比于原有技術(shù)方案而言，為了避免彩色濾光層(紅色濾光層、綠色濾光層、藍(lán)色濾光層)在濾光過(guò)程中的背光亮度損耗，特在彩色濾光片的入光側(cè)增加了色轉(zhuǎn)換層。但是，考慮到入光側(cè)的背光的光譜組成元素，以及色轉(zhuǎn)換層的轉(zhuǎn)換原理(吸收短波的光譜，將其轉(zhuǎn)換為所需波長(zhǎng)的光譜)，因此，不宜在藍(lán)色出光區(qū)域設(shè)置色轉(zhuǎn)換層，僅在紅色出光區(qū)域103設(shè)置紅色色轉(zhuǎn)換層108，以及在綠色出光區(qū)域104設(shè)置綠色色轉(zhuǎn)換層109。若按照現(xiàn)有技術(shù)中的膜層設(shè)計(jì)，增加了色轉(zhuǎn)換層之后，液晶盒之間的光就不再是線偏振光，而是圓偏振光了，無(wú)法實(shí)現(xiàn)液晶光閥的作用。因此，本發(fā)明中將偏光層111內(nèi)置，即設(shè)置在平坦化層入光側(cè)，而不是設(shè)置在基底出光側(cè)，從而，保證了背光在進(jìn)入色轉(zhuǎn)換層之前(液晶盒中)仍是偏振光，起到光閥的作用。
[0026]優(yōu)選地,紅色色轉(zhuǎn)換層和綠色色轉(zhuǎn)換層的厚度均為:2 μ m-20 μ m。
[0027]優(yōu)選地，紅色色轉(zhuǎn)換層和綠色色轉(zhuǎn)換層的材料為含稀土元素的無(wú)機(jī)材料，或有機(jī)熒光材料，或量子點(diǎn)材料。其中，紅色色轉(zhuǎn)換層的材料為含稀土元素的無(wú)機(jī)材料時(shí)，可以為SrS:Eu> CaS:Eu和SrxCal_xS:Eu ;綠色色轉(zhuǎn)換層的材料為含稀土元素的無(wú)機(jī)材料時(shí),可以為 SrGa2S4 和 YAG:Ce。
[0028]優(yōu)選地，如圖2所示，該彩膜基板I還包括:位于偏光層111之上的隔墊物層112。其實(shí)，在實(shí)際的彩膜基板的結(jié)構(gòu)中，隔墊物層112與偏光層111的下方，本發(fā)明并不對(duì)隔墊物層112與偏光層111的位置關(guān)系進(jìn)行限定。
[0029]基于與上述實(shí)施例提供的一種彩膜基板屬于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種彩膜基板的制備方法。
[0030]如圖3所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種彩膜基板的制備方法的流程示意圖，主要包括以下步驟:
[0031 ] 步驟201:提供第一基底。
[0032]本發(fā)明所涉及的第一基底可以為玻璃基底，也可以為樹脂材料的基底。
[0033]步驟202:在第一基底之上形成黑矩陣，其中，黑矩陣圖案化出紅色出光區(qū)域、綠色出光區(qū)域和藍(lán)色出光區(qū)域。
[0034]具體地，本步驟可以利用沉積工藝形成黑色涂布層，該黑色涂布層的材料可以為高遮光性樹脂材料等。然后，利用掩膜板對(duì)該黑色涂布層進(jìn)行曝光、顯影、刻蝕等工藝，并最終形成本步驟所需的黑矩陣。黑色圖層經(jīng)過(guò)圖案化后，在形成黑矩陣的同時(shí)，也形成了紅色出光區(qū)域、綠色出光區(qū)域和藍(lán)色出光區(qū)域。
[0035]步驟203:在紅色出光區(qū)域形成紅色濾光層，以及在綠色出光區(qū)域形成綠色濾光層。
[0036]在本步驟203中，可利用現(xiàn)有的光刻工藝分別在紅色出光區(qū)域形成紅色濾光層，以及在綠色出光區(qū)域形成綠色濾光層。
[0037]步驟204:在紅色濾光層之上形成紅色色轉(zhuǎn)換層，以及在綠色濾光層之上形成綠色色轉(zhuǎn)換層。
[0038]在本步驟204中，可利用現(xiàn)有的光刻工藝分別在紅色濾光層之上形成紅色色轉(zhuǎn)換層，以及在綠色濾光層之上形成綠色色轉(zhuǎn)換層。具體地，涂布綠色色轉(zhuǎn)換材料，利用掩膜板對(duì)所述紅色色轉(zhuǎn)換材料進(jìn)行曝光、顯影，形成所述紅色色轉(zhuǎn)換層，以及涂布紅色色轉(zhuǎn)換材料，利用掩膜板對(duì)所述紅色色轉(zhuǎn)換材料進(jìn)行曝光、顯影，形成所述紅色色轉(zhuǎn)換層。需要說(shuō)明的是，本發(fā)明并不對(duì)形成紅色色轉(zhuǎn)層和綠色色轉(zhuǎn)換層的先后順序做限定。
[0039]優(yōu)選地,紅色色轉(zhuǎn)換層和綠色色轉(zhuǎn)換層的厚度均為:2 μ m-20 μ m。
[0040]優(yōu)選地，紅色色轉(zhuǎn)換層和綠色色轉(zhuǎn)換層的材料為含稀土元素的無(wú)機(jī)材料，或有機(jī)熒光材料，或量子點(diǎn)材料。其中，紅色色轉(zhuǎn)換層的材料為含稀土元素的無(wú)機(jī)材料時(shí)，可以為SrS:Eu> CaS:Eu和SrxCal_xS:Eu ;綠色色轉(zhuǎn)換層的材料為含稀土元素的無(wú)機(jī)材料時(shí),可以為 SrGa2S4 和 YAG: Ce。
[0041]步驟205:在第一基底之上形成平坦化層，其中，平坦化層填充藍(lán)色出光區(qū)域。
[0042]步驟206:在平坦化層之上形成偏光層。
[0043]具體地，在平坦化層之上涂布二向色性染料，并利用紫外光固化形成能夠透過(guò)偏振光的偏光層。
[0044]另外，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括上述彩膜基板。同時(shí)，還包括液晶層、TFT陣列基板以及背光裝置等，其中，背光裝置發(fā)出的光為藍(lán)光。
[0045]其中，該TFT陣列基板3可以為現(xiàn)有技術(shù)中的陣列基板的結(jié)構(gòu)，包括:第二基底、柵極、柵極絕緣層、有源層、源漏電極、鈍化層以及像素電極、下偏光片等主要膜層。
[0046]下面通過(guò)實(shí)例對(duì)上述方案進(jìn)行更為詳盡的說(shuō)明。
[0047]如圖4所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，在該顯示裝置中，由上至下依次包括:
[0048]彩膜基板I ;
[0049]液晶層2 ；
[0050]TFT陣列基板3 ；
[0051]背光裝置4。
[0052]其中，背光裝置4主要由藍(lán)光LED芯片構(gòu)成，在本發(fā)明實(shí)施例中，背光裝置4中是不需要白光的，因此，避免了使用黃色熒光粉進(jìn)行激發(fā)操作而造成的背光亮度的損耗。在背光裝置4發(fā)出藍(lán)光，然后入射至TFT陣列基板3，依次經(jīng)過(guò)下偏光片31、TFT陣列等，由于TFT陣列基板并不是本發(fā)明的發(fā)明點(diǎn)，因此，僅構(gòu)出TFT陣列基板的簡(jiǎn)圖。在TFT陣列基板3偵彳，下偏光片31的透過(guò)率大概為40%左右。在經(jīng)過(guò)TFT陣列基板3的藍(lán)光偏振光經(jīng)過(guò)液晶層2的旋光作用，入射至彩膜基板I，首先，透過(guò)偏光層11，透過(guò)率大概為70 %?80 %，然后，入射至色轉(zhuǎn)換層，該色轉(zhuǎn)換層的作用是:使對(duì)應(yīng)顏色的光譜透過(guò)，同時(shí)，對(duì)其他顏色的光譜進(jìn)行轉(zhuǎn)換，轉(zhuǎn)換成與該出光區(qū)域的光顏色對(duì)應(yīng)的光譜并透過(guò)，從而，提高了對(duì)應(yīng)顏色的光亮度。對(duì)于紅色色轉(zhuǎn)換層12而言，其亮度轉(zhuǎn)換率為80%左右，而且透過(guò)的幾乎全為紅光；對(duì)于綠色色轉(zhuǎn)換層13而言，其亮度轉(zhuǎn)換率高達(dá)200%，而且透過(guò)的幾乎全為綠光。對(duì)于空置的藍(lán)色出光區(qū)域，其透過(guò)率可以視為達(dá)到100%，而且，透過(guò)的光的顏色即為該藍(lán)色出光區(qū)域所需的藍(lán)光。在這樣的情況下，即使紅色濾光層14和綠色濾光層15的透過(guò)率較低(紅色濾光層為18%左右，綠色濾光層為60%左右)，但是相比于現(xiàn)有技術(shù)而言，下偏光片、上偏光片以及紅色濾光層、綠色濾光層濾掉的光是沒(méi)有變化的，唯一不同的是，本發(fā)明避免了藍(lán)色濾光層濾掉的光，同時(shí)，還利用色轉(zhuǎn)換層提高了光的亮度。而且，本發(fā)明在背光裝置中并沒(méi)有使用黃色熒光粉激發(fā)的方式，因此，也在一定程度上減少了光的亮度的損耗。
[0053]盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對(duì)這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。
[0054]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種彩膜基板，其特征在于，包括: 第一基底； 位于所述第一基底之上的黑矩陣，其中，所述黑矩陣圖案化出紅色出光區(qū)域、綠色出光區(qū)域和藍(lán)色出光區(qū)域； 位于所述紅色出光區(qū)域的紅色濾光層以及位于所述綠色出光區(qū)域的綠色濾光層；位于所述紅色濾光層之上的紅色色轉(zhuǎn)換層，以及位于所述綠色濾光層之上的綠色色轉(zhuǎn)換層； 位于所述第一基底之上的平坦化層，其中，所述平坦化層填充所述藍(lán)色出光區(qū)域； 位于所述平坦化層之上的偏光層。
2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述紅色色轉(zhuǎn)換層和綠色色轉(zhuǎn)換層的厚度均為:2 μ m-20 μ m。
3.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述紅色色轉(zhuǎn)換層和綠色色轉(zhuǎn)換層的材料為含稀土元素的無(wú)機(jī)材料，或有機(jī)熒光材料，或量子點(diǎn)材料。
4.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括:位于所述偏光層之上的隔墊物層。
5.一種彩膜基板的制備方法，其特征在于， 提供第一基底； 在所述第一基底之上形成黑矩陣，其中，所述黑矩陣圖案化出紅色出光區(qū)域、綠色出光區(qū)域和藍(lán)色出光區(qū)域； 在所述紅色出光區(qū)域形成紅色濾光層，以及在所述綠色出光區(qū)域形成綠色濾光層；在所述紅色濾光層之上形成紅色色轉(zhuǎn)換層，以及在所述綠色濾光層之上形成綠色色轉(zhuǎn)換層； 在所述第一基底之上形成平坦化層，其中，所述平坦化層填充所述藍(lán)色出光區(qū)域； 在所述平坦化層之上形成偏光層。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在所述紅色濾光層之上形成紅色色轉(zhuǎn)換層，以及在所述綠色濾光層之上形成綠色色轉(zhuǎn)換層，具體包括: 涂布紅色色轉(zhuǎn)換材料，利用掩膜板對(duì)所述紅色色轉(zhuǎn)換材料進(jìn)行曝光、顯影，形成所述紅色色轉(zhuǎn)換層，以及涂布綠色色轉(zhuǎn)換材料，利用掩膜板對(duì)所述紅色色轉(zhuǎn)換材料進(jìn)行曝光、顯影，形成所述紅色色轉(zhuǎn)換層； 或， 涂布綠色色轉(zhuǎn)換材料，利用掩膜板對(duì)所述紅色色轉(zhuǎn)換材料進(jìn)行曝光、顯影，形成所述紅色色轉(zhuǎn)換層，以及涂布紅色色轉(zhuǎn)換材料，利用掩膜板對(duì)所述紅色色轉(zhuǎn)換材料進(jìn)行曝光、顯影，形成所述紅色色轉(zhuǎn)換層。
7.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述紅色色轉(zhuǎn)換層和綠色色轉(zhuǎn)換層的厚度均為:2 μ m-20 μ m。
8.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述紅色色轉(zhuǎn)換層和綠色色轉(zhuǎn)換層的材料為含稀土元素的無(wú)機(jī)材料，或有機(jī)熒光材料，或量子點(diǎn)材料。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1?3任一所述的彩膜基板、液晶層、TFT陣列基板以及背光裝置，其中，所述背光裝置發(fā)出的光為藍(lán)光。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，所述TFT陣列基板包括:第二基底、柵極、柵極絕緣層、有源層、源漏電極、鈍化層以及像素電極。
【文檔編號(hào)】G02F1/1333GK104280935SQ201410590045
【公開日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年10月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月28日
【發(fā)明者】舒適, 薛建設(shè), 谷敬霞, 谷豐 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司