一種顯示用基板、顯示面板及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種顯示用基板、顯示面板及顯示裝置，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的顯示裝置難以滿足超薄化和低成本的問題。一種顯示用基板，包括襯底，所述襯底包括相對的上表面和下表面，所述襯底的下表面形成有散射微結(jié)構(gòu)，所述襯底的上表面形成有顯示用層結(jié)構(gòu)。用于顯示用基板、包含該顯示用基板的顯示面板和顯示裝置。
【專利說明】—種顯示用基板、顯示面板及顯示裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種顯示用基板、顯示面板及顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]目前，LCD(Liquid Crystal Display,液晶顯示器)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于社會生活中。眾所周知，液晶不具有發(fā)光特性，故LCD需要背光源才能實現(xiàn)顯示。目前，側(cè)入式背光源已占據(jù)中小尺寸的主流市場。
[0003]側(cè)入式背光源一般包括導(dǎo)光板和發(fā)光體,其中，發(fā)光體設(shè)置在導(dǎo)光板的側(cè)面。由于發(fā)光體一般為線光源例如CCFL(Cold Cathode Fluorescent Light，冷陰極熒光燈)或者點光源例如LED (Light-Emitting D1de，發(fā)光二極管)，則導(dǎo)光板主要用于將線光源或者點光源轉(zhuǎn)換為面光源，以提高背光源的發(fā)光均勻性進而提高顯示裝置的顯示效果。
[0004]具體的，如圖1所示，顯示裝置主要包括上基板10、下基板20、位于上基板10和下基板20之間的液晶30、以及位于下基板20下方的背光源40，其中，在上基板10的上方設(shè)置有上偏光片101，在下基板20的下方設(shè)置有下偏光片201，背光源40包括導(dǎo)光板401、以及設(shè)置在導(dǎo)光板401的側(cè)面上的發(fā)光二極管402。發(fā)光二極管402發(fā)出的光從導(dǎo)光板401的側(cè)面進入導(dǎo)光板401之后，經(jīng)過多次反射轉(zhuǎn)換成面光源從導(dǎo)光板401的上表面射出，照射在下基板20上。
[0005]在上述顯示裝置中，導(dǎo)光板相對較厚且造價不菲。而隨著空間資源的愈加緊張、商家對生產(chǎn)成本的嚴格控制、以及用戶對于便攜性的苛刻要求，該顯示裝置已經(jīng)難以滿足超薄化和低成本的要求。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的實施例提供一種顯示用基板、顯示面板及顯示裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的顯示裝置難以滿足超薄化和低成本的問題。
[0007]為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案:
[0008]一方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示用基板，該顯示用基板包括襯底，所述襯底包括相對的上表面和下表面，所述襯底的下表面形成有散射微結(jié)構(gòu)，所述襯底的上表面形成有顯示用層結(jié)構(gòu)。
[0009]另一方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板，該顯示面板包括對盒的上基板和下基板，所述下基板為包括上述任一項所述的顯示用基板，所述顯示用基板襯底的上表面靠近所述上基板，且所述顯示用層結(jié)構(gòu)包括偏光層。
[0010]再一方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括發(fā)光體以及本發(fā)明實施例提供的任一所述的顯示面板，其中，所述發(fā)光體位于所述襯底的側(cè)面或位于所述襯底的下面。
[0011]本發(fā)明實施例提供了一種顯示用基板、顯示面板及顯示裝置，所述顯示裝置包括發(fā)光體以及本發(fā)明實施例提供的顯示用基板，通過在所述顯示用基板的襯底的下表面形成有散射微結(jié)構(gòu)，從而使發(fā)光體進入到襯底內(nèi)部的光發(fā)生散射，形成面光源從襯底的上表面射出進入到偏光層，這樣，所述顯示裝置無需設(shè)置導(dǎo)光板，相比于現(xiàn)有技術(shù)減少了顯示裝置的厚度且降低了生產(chǎn)成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0013]圖1為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種顯示裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2為本發(fā)明實施例提供的一種顯示用基板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖3為圖2中散射微結(jié)構(gòu)是凸起的示意圖；
[0016]圖4為圖2中散射微結(jié)構(gòu)是凹槽的示意圖；
[0017]圖5為圖2中散射微結(jié)構(gòu)是凸起和凹槽的示意圖；
[0018]圖6為不同頂角的圓錐形凹槽的光通量數(shù)值圖；
[0019]圖7為本發(fā)明實施例提供的一種顯示裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖8為本發(fā)明實施例提供的另一種顯示裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]附圖標記:
[0022]10-上基板；101-上偏光片；20_下基板；201_下偏光片；200_襯底；202_上表面；203-下表面；204_偏光層；205_散射微結(jié)構(gòu)；206_凸起；207_凹槽；208_陣列層；209_絕緣層；210-發(fā)光體；211-反射層；30_液晶；40_背光源；401_導(dǎo)光板；402_發(fā)光二極管。

【具體實施方式】
[0023]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0024]需要說明的是，本發(fā)明實施例中所述“上”、“下”以光線傳播的方向為依據(jù)，光線先通過的層結(jié)構(gòu)或薄膜即在下，后通過的層結(jié)構(gòu)或薄膜即在上。
[0025]本發(fā)明實施例提供了一種顯示用基板，如圖2所示，該顯示用基板包括襯底200，襯底200包括相對的上表面202和下表面203，襯底200的下表面203形成有散射微結(jié)構(gòu)205，襯底200的上表面202形成有顯示用層結(jié)構(gòu)，例如可以是圖2所示的偏光層204、陣列層208等層結(jié)構(gòu)。
[0026]需要說明的是，該顯示用基板可以作為顯示面板的陣列基板，也可以作為顯示面板的彩膜基板，這里具體不作限定。當顯示用基板為陣列基板則對應(yīng)的顯示用層結(jié)構(gòu)可以是包括偏光層、薄膜晶體管、像素電極層等薄膜層結(jié)構(gòu)；當顯示用基板為彩膜基板則對應(yīng)的顯示用層結(jié)構(gòu)可以是包括彩色膜層以及黑矩陣等層結(jié)構(gòu)。
[0027]該顯示用基板通過在襯底的下表面形成有散射微結(jié)構(gòu)，使得從襯底的下表面或側(cè)面進入的光線射到散射微結(jié)構(gòu)后發(fā)生散射形成面光源，并從上表面射出，射出的光線亮度更加均勻。
[0028]進一步的，散射微結(jié)構(gòu)為凸起和/或凹槽，具體的，如圖3所示，該顯示用基板的散射微結(jié)構(gòu)可以是凸起206 ;或者如圖4所示，散射微結(jié)構(gòu)也可以是凹槽207 ;或者如圖5所示，散射微結(jié)構(gòu)還可以是凸起206和凹槽207。需要說明的是，凸起或凹槽可以是納米級，也可以是毫米級，納米級的凸起或凹槽相比毫米級的，散射更加均勻。
[0029]其中，若散射微結(jié)構(gòu)為納米級凹槽，則該散射微結(jié)構(gòu)可以采用納米刻蝕的方法，即利用刻蝕液刻蝕形成納米級凹槽；若散射微結(jié)構(gòu)為納米級凸起，則可以在襯底的下表面直接印刷納米級顆粒形成凸起。
[0030]進一步優(yōu)選的，為了更好的提高散射微結(jié)構(gòu)的散射能力，在散射微結(jié)構(gòu)為凹槽的情況下，凹槽內(nèi)可以填充有與襯底折射率不同的其他材料。在散射微結(jié)構(gòu)為凸起的情況下，凸起的折射率與襯底可以相同，也可以不同，這里不作具體限定。
[0031]進一步可選的，為了降低加工難度，上述凸起或凹槽可以是半球形，或是圓錐形。
[0032]更進一步優(yōu)選的，在凸起或凹槽是圓錐形的情況下，圓錐的頂角取值范圍為90° -132°。對于90° -132°頂角范圍內(nèi)的圓錐形凸起或凹槽，光線經(jīng)過凸起或凹槽反射后直接從襯底的上表面射出而不再發(fā)生反射；對于其他角度的圓錐形凸起或凹槽，光線經(jīng)過凸起或凹槽反射后射向上表面時，會有部分光線發(fā)生全反射后再次回到襯底中，當這些光線射向襯底的側(cè)面時有可能會直接射出，造成光能的損失。
[0033]這里以圓錐形凹槽為例驗證上述結(jié)果。具體的,襯底尺寸為30mmX20mmX0.4mm,且材料為PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)，襯底的一個側(cè)面設(shè)置有9個LED，且每個尺寸為0.4mmX0.4mmX0.1mm,接收面得到的不同頂角的圓錐形凹槽的光通量如圖6所示。從圖6中可以看到，圓錐頂角在90°、100°和120°時，接收面接收到的總通光量最多，即圓錐的頂角取值范圍為90° -132°時，對光的散射效果最好。
[0034]本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板，如圖7-8所示，包括對盒的上基板10和下基板20，下基板20為上述任一項所述的顯示用基板，其中，下基板(顯示用基板)20包括襯底200，襯底200包括相對的上表面202和下表面203，上表面202靠近上基板10，襯底200的上表面202形成有顯示用層結(jié)構(gòu)，顯示用層結(jié)構(gòu)包括偏光層204 (還可以包括陣列層208)，襯底200的下表面203形成有散射微結(jié)構(gòu)205。
[0035]需要說明的是，該顯示面板的具體類型在此不作限定，即顯示面板可以是TN(Twisted Nematic,扭曲向列)型顯不面板，也可以是 ADS (Advanced Super Dimens1nSwitch,高級超維場轉(zhuǎn)換)型顯示面板,還可以是IPS (In-Plane Switching,平面轉(zhuǎn)換)型顯示面板等其他類型；同時，對于上基板和下基板的層結(jié)構(gòu)也不做具體限定，例如上基板可以是包括黑矩陣、公共電極層等層結(jié)構(gòu)，下基板可以是包括偏光層、薄膜晶體管、像素電極層、鈍化層等層結(jié)構(gòu)，這里不再贅述。
[0036]該顯示面板的下基板通過在襯底的下表面形成有散射微結(jié)構(gòu)，使得從襯底的下表面或側(cè)面進入的光線射到散射微結(jié)構(gòu)后發(fā)生散射形成面光源，并從上表面射出，射出的光線亮度更加均勻，進而使得顯示面板的顯示效果更佳。
[0037]在上述顯示面板中，偏光層可以是直接貼附在襯底上表面的偏光片，也可以是形成在襯底上表面的偏光膜，這里不作具體要求，只要滿足將進入到偏光層的光線轉(zhuǎn)換成偏振光即可。
[0038]優(yōu)選的，偏光層可以是在襯底上沉積一層金屬例如Al (鋁)，然后刻蝕形成寬度為20nm?500nm的金屬線,該金屬線平行排布形成光柵,從而形成線柵偏光膜。線柵偏光膜相對于貼附在襯底的偏光片而言，厚度大為降低，更進一步減少顯示裝置的厚度。
[0039]需要說明的是，線柵偏光膜的原理為:該線柵偏光膜中的電子只能沿刻蝕出的金屬線運動，當光照射在金屬線光柵上時，光波電矢量在金屬線方向的振動就會被金屬線中的電子吸收，垂直金屬線方向的電矢量就能通過。這樣只有沿導(dǎo)線縱向的光子被吸收，而橫向的光子未被吸收，從而得到了線偏振光。
[0040]另外，為了實現(xiàn)顯示面板的顯示，如圖7-8所示，上基板10的上面還形成有上偏光片101，其中，上偏光片可以是貼附在上基板的上面，也可以是在上基板和液晶之間形成，這里不作具體限定。
[0041]可選的，為了控制上、下基板之間的電場大小用以實現(xiàn)不同灰度級的顯示，如圖7-8所示，顯示用層結(jié)構(gòu)還包括形成在偏光層204上的陣列層208，其中陣列層208可以包括薄膜晶體管(圖中未示出)等其他層結(jié)構(gòu)，具體不再贅述；為了避免偏光層對陣列層的影響，如圖7-8所示，在陣列層208與偏光層204之間形成有絕緣層209。
[0042]本發(fā)明實施例提供了一種顯示裝置，如圖7-8所示，該顯示裝置包括發(fā)光體210，及本發(fā)明實施例提供的任一所述的顯示面板，其中，發(fā)光體210位于襯底200的側(cè)面(如圖7所示)或位于襯底200的下面(如圖8所示)。
[0043]具體的，如圖7所示，發(fā)光體210位于襯底200的側(cè)面，則發(fā)光體210發(fā)出的光線經(jīng)過襯底200的側(cè)面進入到襯底200，由此形成側(cè)入式的顯示裝置，該顯示裝置具有成本低、體積小等特點。需要說明的是，發(fā)光體位于襯底側(cè)面的位置和數(shù)量在此不作限定，具體的，例如，發(fā)光體可以位于襯底的一個側(cè)面，或者位于兩個相對的側(cè)面等。
[0044]如圖8所示，發(fā)光體210位于襯底200的下面，則發(fā)光體210發(fā)出的光線經(jīng)過襯底200的下表面203進入到襯底200，由此形成直下式的顯示裝置，該顯示裝置具有分辨率高、亮度均勻等特點。
[0045]需要說明的是，發(fā)光體可以是線光源例如CCFL，或者點光源例如LED，或者是其他光源，這里不作具體限定。
[0046]上述顯示裝置主要用于液晶顯示領(lǐng)域，如圖7-8所示，在上基板10和下基板20之間可以形成有液晶30，但本發(fā)明并不限于此，任何需要背光源的顯示裝置都可應(yīng)用該顯示
>J-U ρ?α裝直。
[0047]上述顯示裝置通過在下基板的襯底的下表面形成有散射微結(jié)構(gòu)，從而使發(fā)光體進入到襯底內(nèi)部的光發(fā)生散射形成面光源,并從襯底的上表面射出進入到偏光層,這樣,顯示裝置無需設(shè)置導(dǎo)光板，相比于現(xiàn)有技術(shù)，減少了顯示裝置的厚度且降低了生產(chǎn)成本。
[0048]進一步優(yōu)選的，如圖7-8所示，在發(fā)光體210位于襯底200的側(cè)面的情況下，襯底200的下表面203還形成覆蓋凸起和/或凹槽的反射層211，這樣，反射層211可以將從襯底200的下表面203射出的光線反射到襯底200，從而提高了顯示裝置的亮度。
[0049]需要說明的是，反射層可以是貼附在襯底下表面的反射片，還可以是沉積在襯底下表面且覆蓋凸起和/或凹槽的反射膜。其中，反射片制作工藝簡單，而反射膜厚度較薄，具體可以根據(jù)實際情況選用，這里不作具體限定。
[0050]進一步需要說明的是，上述反射膜的材料可以為Al (鋁)，Ag(銀)等材料，同時為了防止反射膜材料被氧化，在反射膜材料上還可以形成有抗氧化層。
[0051]更進一步優(yōu)選的，為了提高發(fā)光體的利用效率和顯示裝置的亮度，在襯底中未設(shè)置發(fā)光體的側(cè)面上設(shè)置有反射層。即在發(fā)光體位于襯底的側(cè)面的情況下，可以是在襯底中未設(shè)置發(fā)光體的側(cè)面上設(shè)置有反射層；在發(fā)光體位于襯底的下面的情況下，可以是在襯底的所有側(cè)面上均設(shè)置有反射層。
[0052]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示用基板，包括襯底，所述襯底包括相對的上表面和下表面，其特征在于，所述襯底的下表面形成有散射微結(jié)構(gòu)，所述襯底的上表面形成有顯示用層結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示用基板，其特征在于，所述散射微結(jié)構(gòu)為凸起和/或凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示用基板，其特征在于，所述凹槽內(nèi)填充有與所述襯底折射率不同的其他材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的顯示用基板，其特征在于，所述凸起或凹槽為半球形或圓錐形。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示用基板，其特征在于，所述圓錐的頂角取值范圍為90。 -132。。
6.一種顯示面板，包括對盒的上基板和下基板，其特征在于，所述下基板為權(quán)利要求1-5中任一項所述的顯示用基板，所述顯示用基板襯底的上表面靠近所述上基板，且所述顯示用層結(jié)構(gòu)包括偏光層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，所述偏光層是線柵偏光膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示用層結(jié)構(gòu)還包括形成在所述偏光層上的陣列層，在所述陣列層與所述偏光層之間形成有絕緣層。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括發(fā)光體以及權(quán)利要求6-8任一項所述的顯示面板，其中，所述發(fā)光體位于所述顯示面板的顯示用基板襯底的側(cè)面或下面。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，所述發(fā)光體位于所述襯底的側(cè)面，所述襯底的下表面還形成有覆蓋所述凸起和/或所述凹槽的反射層。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的顯示裝置，其特征在于，在所述襯底中未設(shè)置所述發(fā)光體的側(cè)面上設(shè)置有反射層。
【文檔編號】G02F1/1335GK104280933SQ201410564478
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2014年10月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月21日
【發(fā)明者】武延兵, 王東升, 董友梅 申請人:京東方科技集團股份有限公司