感光性聚硅氧烷組合物、保護膜及具有保護膜的組件的制作方法
【專利摘要】一種感光性聚硅氧烷組合物、保護膜及具有保護膜的組件。感光性聚硅氧烷組合物包括聚硅氧烷高分子(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、含氮的雜環(huán)化合物(C)、以第四族元素的氧化物為主成分的無機粒子(D)以及溶劑(E)，其中含氮的雜環(huán)化合物(C)選自由式(1)至式(4)所表示的化合物所組成的族群。
【專利說明】感光性聚枯氧燒組合物、保護膜及具有保護膜的組件

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種聚娃氧焼組合物，并且特別涉及一種感光性聚娃氧焼組合物。

【背景技術】
[0002] 近年來，隨著半導體工業(yè)、液晶顯示器（liquid C巧stal display, LCD) W及有 機電激發(fā)光顯示器（organic electro-luminescence display, OELD)的發(fā)展，伴隨而來 對于尺寸縮小化的需求，使得光刻工藝（photolithogra地y)成為非常重要的議題。在光 刻工藝（地otolithography)中，必須將所需的圖案（pattern)微細化（finer), W達到尺 寸縮小化的目的。一般而言，微細化的圖案是由對具有高分辨率（resolution)及高感光 性（photosensitivity)的正型感光性組合物（positive photosensitive composition) 進行曝光及顯影來形成。值得一提的是，正型感光性組合物通常是W聚娃氧焼高分子 (polysiloxane polymer)為主要成分。
[0003] 日本特開2008-107529號掲示一種可形成高透明度（transparency)硬化膜 化ardened film)的感光性樹脂組合物。所述感光性樹脂組合物包括聚娃氧焼高分子，其 中，上述聚娃氧焼高分子是由含有氧雜環(huán)下焼基（oxetanyl)或下二酸酢基（即氧基二撰 基（(Mydicarbonyl group))的娃焼單體于共聚合（copolymerize)時經(jīng)開環(huán)反應而形成。 值得一提的是，所述的感光性樹脂組合物因具有親水性結構而在稀薄堿性顯影液（a化ali developer)中具有高溶解度（solubility)。然而，由所述的感光性樹脂組合物形成的保護 膜與具有保護膜的組件之間的粘附性（a化esion propedy)卻不佳，且所述保護膜的低溫 固化性（low-temperature州r油ility)目前仍無法被業(yè)界接受，因此不利于產(chǎn)業(yè)應用性。
[0004] 于是，急需發(fā)展一種感光性組合物，其所形成的保護膜與具有保護膜的組件之間 具有良好的低溫固化性與粘附性。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明提供一種感光性聚娃氧焼組合物，其所形成的保護膜具有低溫固化性且與 具有保護膜的組件之間具有良好的粘附性。
[0006] 本發(fā)明提供一種感光性聚娃氧焼組合物，其包括聚娃氧焼高分子（A)、鄰 蔡釀二疊氮賴酸醋（o-naphthoquinonediazidesulfonate)炬）、含氮的雜環(huán)化合物 (nitrogen-containing heterocyclic compound) (C)、W第四族元素的氧化物為主成分的 無機粒子做W及溶劑巧）。含氮的雜環(huán)化合物似選自由式（1)至式（4)所表示的化合 物所組成的族群：
[0007]

【權利要求】
1. 一種感光性聚娃氧焼組合物，其特征在于，包括： 聚娃氧焼高分子（A); 鄰蔡釀二疊氮賴酸醋炬）； 含氮的雜環(huán)化合物（C); W第四族元素的氧化物為主成分的無機粒子值）；W及 溶劑巧)， 其中該含氮的雜環(huán)化合物（C)選自由式（1)至式（4)所表示的化合物所組成的族群，
式（1)至式（4)中，公與X2各自獨立表示氨原子、醜基或焼基；Ri至R9各自獨立表示 氨原子、輕基、駿酸基、賴酸基、焼基、胺基、團素原子或琉基；m、n、q、s各自獨立表示選自0、 1、2、3的整數(shù)；p、r各自獨立表示選自0、1、2的整數(shù)；t、u各自獨立表示選自0、1、2、3、4的 整數(shù)。
2. 根據(jù)權利要求1所述的感光性聚娃氧焼組合物，其特征在于，基于該聚娃氧焼高分
子（A)的總量為100重量份，該鄰蔡釀二疊氮賴酸醋炬）的含量是1重量份至35重量份， 該含氮的雜環(huán)化合物（C)的含量是0. 1重量份至5重量份，該W第四族元素的氧化物為主 成分的無機粒子值）的含量是10重量份至150重量份，該溶劑巧）的含量是100重量份至 1000重量份。
3. 根據(jù)權利要求1所述的感光性聚娃氧焼組合物，其特征在于，該聚娃氧焼高分子（A) 是由式（5)所示的娃焼單體聚合形成， Si〇〇,(ORii)4_， 式巧） 式（5)中，RW表示氨原子、碳數(shù)為1至10的焼基、碳數(shù)為2至10的帰基、碳數(shù)為6至 15的芳香基、含有酸酢基的焼基、含有環(huán)氧基的焼基或含有環(huán)氧基的焼氧基；Rii各自獨立 表示氨原子、碳數(shù)為1至6的焼基、碳數(shù)為1至6的醜基或碳數(shù)為6至15的芳香基；W表示 選自0、1、2、3的整數(shù)。
4. 根據(jù)權利要求3所述的感光性聚娃氧焼組合物，其特征在于，式（5)中，至少一個Ri" 包括含有酸酢基的焼基、含有環(huán)氧基的焼基或含有環(huán)氧基的焼氧基。
5. 根據(jù)權利要求1所述的感光性聚娃氧焼組合物，其特征在于，在該W第四族元素的 氧化物為主成分的無機粒子值）中，第四族元素為鐵或鉛。
6. 根據(jù)權利要求1或5所述的感光性聚娃氧焼組合物，其特征在于，該W第四族元素的 氧化物為主成分的無機粒子值）的粒徑分布為Inm至75nm。
7. -種保護膜，其特征在于，包括根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的感光性聚娃氧焼 組合物。
8. -種具有保護膜的組件，其特征在于，包括組件W及根據(jù)權利要求7所述的保護膜， 其中該保護膜覆蓋在該組件上。
【文檔編號】G03F7/075GK104423170SQ201410445831
【公開日】2015年3月18日 申請日期:2014年9月3日 優(yōu)先權日:2013年9月10日
【發(fā)明者】吳明儒, 施俊安 申請人:奇美實業(yè)股份有限公司