圖案形成裝置及圖案形成方法、以及對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種圖案形成裝置及圖案形成方法、以及對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法。該圖案形成裝置中，使承載圖案的承載體(BL)與被轉(zhuǎn)印圖案的被轉(zhuǎn)印體(SB)對向配置?；谂臄z承載體(BL)的外緣的至少一部分而得的結(jié)果，使第一保持設(shè)備(61)移動而將承載體(BL)定位在第一目標(biāo)位置?；谂臄z被轉(zhuǎn)印體(SB)的外緣中的至少一部分而得的結(jié)果，使第二保持設(shè)備(41)移動而將被轉(zhuǎn)印體(SB)定位在規(guī)定的第二目標(biāo)位置。拍攝形成在承載體(BL)的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及形成在被轉(zhuǎn)印體的第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果使第一保持設(shè)備(61)及第二保持設(shè)備(41)中的至少一者移動，對承載體(BL)與被轉(zhuǎn)印體(SB)進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
【專利說明】圖案形成裝置及圖案形成方法、以及對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種對于以彼此的主面鄰近對向的方式保持的兩個物體進(jìn)行位置對準(zhǔn)的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]存在如下所述的【技術(shù)領(lǐng)域】:將兩個物體以使它們的主面彼此鄰近對向的狀態(tài)且以規(guī)定的位置關(guān)系予以配置。例如作為在玻璃(galss)基板或半導(dǎo)體基板等基板形成圖案(pattern)的技術(shù),例如有如專利文獻(xiàn)I中所記載般，使承載圖案的承載體密接于被轉(zhuǎn)印體(基板)而轉(zhuǎn)印圖案的技術(shù)。在這種轉(zhuǎn)印技術(shù)中，為了適當(dāng)?shù)毓芾硐虮晦D(zhuǎn)印體的圖案轉(zhuǎn)印位置，轉(zhuǎn)印前的承載體與被轉(zhuǎn)印體的位置對準(zhǔn)變得重要。作為這種用于兩個物體的位置對準(zhǔn)的技術(shù)，例如有專利文獻(xiàn)2至專利文獻(xiàn)4中所記載的技術(shù)。
[0003]在這些技術(shù)中,在使分別預(yù)先形成著對準(zhǔn)標(biāo)記(alignment mark)的兩個物體(承載體及被轉(zhuǎn)印體)鄰近對向配置的狀態(tài)下，利用相機拍攝這些對準(zhǔn)標(biāo)記。然后，根據(jù)圖像內(nèi)的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系求出兩個物體間的相對的位置偏移量，使兩個物體相對移動以修正該位置偏移，由此，進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
[0004][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0005][專利文獻(xiàn)]
[0006][專利文獻(xiàn)I]日本專利特開2010-158799號公報
[0007][專利文獻(xiàn)2]日本專利特開2009-212489號公報
[0008][專利文獻(xiàn)3]日本專利特開2006-172930號公報
[0009][專利文獻(xiàn)4]日本專利特開2004-342642號公報
[0010]近年來，要求設(shè)備進(jìn)一步薄型化及大型化，并且也要求圖案的高精細(xì)化。因此，對于基板等板狀體的位置對準(zhǔn)也開始要求更高的精度。然而，就所述現(xiàn)有技術(shù)而言有時難以應(yīng)對這種要求。例如為了基于拍攝結(jié)果實現(xiàn)高精度的位置對準(zhǔn)，必須提高拍攝設(shè)備的分辨率，但這樣一來，拍攝范圍必然變狹窄。另一方面，為了將拍攝設(shè)備用于粗略的位置對準(zhǔn)，需要更廣泛的拍攝范圍，但難以同時實現(xiàn)高分辨率及廣泛的拍攝范圍。而且，為了構(gòu)成高分辨率且拍攝范圍廣泛的拍攝設(shè)備，成本提高。
[0011]而且，例如必須預(yù)先將承載體或被轉(zhuǎn)印體的位置校準(zhǔn)到至少對準(zhǔn)標(biāo)記位于拍攝視場內(nèi)的程度的位置。為了這一目的，通常進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)(prealignment)處理。作為這種相對粗略的位置對準(zhǔn)，先前例如采用如下方法等:通過使承載體或被轉(zhuǎn)印體等物體碰撞設(shè)置在裝置內(nèi)的適當(dāng)位置的位置限制構(gòu)件而進(jìn)行布局；或在裝置外部將位置已預(yù)先對準(zhǔn)的物體搬入到裝置內(nèi)的規(guī)定位置。然而，近年來，由于要求圖案的細(xì)致化，所以對準(zhǔn)標(biāo)記的尺寸變小，而且，所要求的位置精度也變得微細(xì)。因此，在拍攝中使用高分辨率且高倍率的相機，由此導(dǎo)致拍攝視場變小。另一方面，所處理的物體也進(jìn)一步大型化，由此導(dǎo)致物體的重量也增大而容易發(fā)生彎曲，因此，就機械性的位置限制而言，難以將承載體或被轉(zhuǎn)印體等定位在適當(dāng)位置。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]本發(fā)明是鑒于所述課題而完成，其目的在于提供一種可使應(yīng)鄰近對向的兩個物體、例如承載圖案的承載體及被轉(zhuǎn)印該圖案的被轉(zhuǎn)印體高精度地進(jìn)行位置對準(zhǔn)的對準(zhǔn)技術(shù)及利用該對準(zhǔn)技術(shù)的圖案形成技術(shù)。
[0013]為了達(dá)成所述目的，本發(fā)明的圖案形成裝置的第一實施方式包括:第一保持設(shè)備，保持由圖案承載面承載圖案的承載體；第二保持設(shè)備，以使被轉(zhuǎn)印面與所述承載體的所述圖案承載面對向的方式，保持包括被轉(zhuǎn)印所述圖案的所述被轉(zhuǎn)印面的被轉(zhuǎn)印體；第一移動設(shè)備，使所述第一保持設(shè)備與所述圖案承載面平行地移動；第二移動設(shè)備，使所述第二保持設(shè)備與所述被轉(zhuǎn)印面平行地移動；預(yù)對準(zhǔn)(pre-alignment)設(shè)備，拍攝由所述第一保持設(shè)備保持的所述承載體的外緣的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第一移動設(shè)備作動而將所述承載體定位在規(guī)定的第一目標(biāo)位置，并且拍攝由所述第二保持設(shè)備保持的所述被轉(zhuǎn)印體的外緣的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第二移動設(shè)備作動而將所述被轉(zhuǎn)印體定位在規(guī)定的第二目標(biāo)位置；以及精密對準(zhǔn)設(shè)備，拍攝形成在定位于所述第一目標(biāo)位置的所述承載體的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及形成在定位于所述第二目標(biāo)位置的所述被轉(zhuǎn)印體的第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果使所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者作動，對所述承載體與所述被轉(zhuǎn)印體進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
[0014]而且，為了達(dá)成所述目的，本發(fā)明的圖案形成方法的第一實施方式包括:配置步驟，利用第一保持設(shè)備保持承載圖案的承載體，并且利用第二保持設(shè)備保持被轉(zhuǎn)印所述圖案的被轉(zhuǎn)印體，使所述承載體的圖案承載面與所述被轉(zhuǎn)印體的被轉(zhuǎn)印面對向地配置；預(yù)對準(zhǔn)步驟，拍攝所述承載體的外緣的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第一保持設(shè)備移動而將所述承載體定位在規(guī)定的第一目標(biāo)位置，并且拍攝所述被轉(zhuǎn)印體的外緣中的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第二保持設(shè)備移動而將所述被轉(zhuǎn)印體定位在規(guī)定的第二目標(biāo)位置；以及精密對準(zhǔn)步驟，拍攝形成在所述承載體的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及形成在所述被轉(zhuǎn)印體的第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果使所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者移動，對所述承載體與所述被轉(zhuǎn)印體進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
[0015]在這樣構(gòu)成的發(fā)明中，拍攝由第一保持設(shè)備保持的承載體及由第二保持設(shè)備保持的被轉(zhuǎn)印體的各外緣，基于其拍攝結(jié)果，第一移動設(shè)備及第二移動設(shè)備使承載體及被轉(zhuǎn)印體移動到各目標(biāo)位置。這里，只要可檢測出承載體及被轉(zhuǎn)印體的外緣的位置即可，相較于高分辨率，拍攝視場廣泛來得更佳。
[0016]即便這時對各目標(biāo)位置的定位精度未必高，也可使形成在承載體的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及形成在被轉(zhuǎn)印體的第二對準(zhǔn)標(biāo)記的位置位于某種程度的范圍內(nèi)。即，通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)定第一目標(biāo)位置及第二目標(biāo)位置，能以第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記成為可由精密對準(zhǔn)設(shè)備拍攝的位置的方式進(jìn)行位置調(diào)整。因此，精密對準(zhǔn)設(shè)備的拍攝視場可相對狹窄，由此，能以高分辨率進(jìn)行拍攝，且可獲得高的位置對準(zhǔn)精度。
[0017]這些情況下的承載體及被轉(zhuǎn)印體是通過使保持它們的第一保持設(shè)備及第二保持設(shè)備移動而與第一保持設(shè)備及第二保持設(shè)備一并進(jìn)行移動。因此，即便為大型且有重量的承載體或被轉(zhuǎn)印體，也可使它們不變形而確實地移動到目標(biāo)位置。
[0018]這樣一來，在本發(fā)明的第一實施方式中，可通過不使用對準(zhǔn)標(biāo)記的預(yù)對準(zhǔn)來使第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記移動到規(guī)定的范圍內(nèi)。而且，可通過使用以所述方式在某種程度上限定位置的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記的精密對準(zhǔn)，實現(xiàn)更高精度的位置對準(zhǔn)。因此，可對承載圖案的承載體及被轉(zhuǎn)印該圖案的被轉(zhuǎn)印體高精度地進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
[0019]在本發(fā)明中，精密對準(zhǔn)設(shè)備例如也可構(gòu)成為可在同一視場內(nèi)同時拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記。通過在同一視場內(nèi)拍攝分別形成在承載體及被轉(zhuǎn)印體的對準(zhǔn)標(biāo)記，能以更良好的精度來掌握兩者的位置關(guān)系，并可更高精度地對承載體與被轉(zhuǎn)印體進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
[0020]而且，例如第一保持設(shè)備以如下方式構(gòu)成:保持承載體的周緣部，以使圖案承載面朝上的水平姿勢且以使比周緣部靠內(nèi)側(cè)的中央部的下方敞開的狀態(tài)保持承載體；且圖案形成裝置的構(gòu)成也可為還包括推頂設(shè)備，所述推頂設(shè)備是通過從下方推頂承載體的中央部而使由承載體承載的圖案抵接于被轉(zhuǎn)印體的被轉(zhuǎn)印面。在這種構(gòu)成中，由第一保持設(shè)備保持著周緣部的承載體的中央部因自重而朝下彎曲，且即便欲從側(cè)方推擠承載體使其移動也會被彎曲吸收，而難以進(jìn)行位置對準(zhǔn)。在這種情況下，通過應(yīng)用本發(fā)明，其效果尤其顯著。
[0021 ] 而且，例如也可為如下構(gòu)成:預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備包括拍攝承載體及被轉(zhuǎn)印體的外緣的預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部，另一方面，精密對準(zhǔn)設(shè)備包括以高于預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部的分辨率拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記的精密對準(zhǔn)用拍攝部。這樣一來，可根據(jù)目的而包括分辨率不同的拍攝部，由此，能使裝置成本與所需的性能平衡。
[0022]在該情況下，精密對準(zhǔn)用拍攝部也可例如包括倍率固定的攝像光學(xué)系統(tǒng)。使倍率可變的情況下的光軸偏移或高倍率時的圖像的失真(distortion)等會成為檢測精度降低的原因，但通過使倍率固定，可避免這種問題且可實現(xiàn)對準(zhǔn)標(biāo)記的高精度的位置檢測、及基于該位置檢測的高精度的位置對準(zhǔn)。
[0023]另一方面，預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備的構(gòu)成也可為例如包括多個預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部，多個所述預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部分別拍攝承載體的外緣中的互不相同的多個部位及被轉(zhuǎn)印體的外緣的互不相同的多個部位。通過在多個部位拍攝承載體及被轉(zhuǎn)印體的外緣，可掌握它們在面內(nèi)的位置偏移量，從而可更確實地向目標(biāo)位置移動。
[0024]而且，在本發(fā)明的圖案形成方法中，優(yōu)選的是在精密對準(zhǔn)步驟中，將第一對準(zhǔn)標(biāo)記處于進(jìn)行拍攝的拍攝部的視場內(nèi)的承載體的位置設(shè)為第一目標(biāo)位置，另一方面，將第二對準(zhǔn)標(biāo)記處于拍攝部的視場內(nèi)的被轉(zhuǎn)印體的位置設(shè)為第二目標(biāo)位置。這樣一來，可通過執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)步驟而確實地將兩對準(zhǔn)標(biāo)記位于拍攝部的視場內(nèi)，并且可通過執(zhí)行精密對準(zhǔn)步驟而實現(xiàn)承載體與被轉(zhuǎn)印體的高精度的位置對準(zhǔn)。
[0025]而且，例如在預(yù)對準(zhǔn)步驟中，也可拍攝承載體的外緣中的互不相同的多個部位而求出承載體相對于第一目標(biāo)位置的位置偏移量，使第一保持設(shè)備相應(yīng)于該位置偏移量而移動，另一方面，拍攝被轉(zhuǎn)印體的外緣中的互不相同的多個部位而求出被轉(zhuǎn)印體相對于第二目標(biāo)位置的位置偏移量，使第二保持設(shè)備相應(yīng)于該位置偏移量而移動。這樣一來，可與所述圖案形成裝置的發(fā)明同樣地，掌握承載體及被轉(zhuǎn)印體在面內(nèi)的位置偏移量，從而可更確實地向目標(biāo)位置移動。
[0026]而且，也可包括轉(zhuǎn)印步驟，該轉(zhuǎn)印步驟是在精密對準(zhǔn)步驟之后，使承載體與被轉(zhuǎn)印體抵接而將圖案從承載體轉(zhuǎn)印至被轉(zhuǎn)印體。使承載體與被轉(zhuǎn)印體在經(jīng)精度良好地進(jìn)行位置對準(zhǔn)的狀態(tài)下抵接而進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印，由此，可在被轉(zhuǎn)印體的適當(dāng)位置形成圖案。[0027]而且，本發(fā)明的圖案形成裝置的第二實施方式是一種圖案形成裝置，該圖案形成裝置是使由第一保持設(shè)備保持的承載體的主面中的可承載圖案的一面與由第二保持設(shè)備保持的板狀體的一面相互擠壓而形成圖案，為了達(dá)成所述目的，該圖案形成裝置包括:移動設(shè)備，使所述第二保持設(shè)備與所述板狀體的一面平行地移動；拍攝設(shè)備，拍攝由所述第二保持設(shè)備保持的所述板狀體的外緣的至少一部分；以及預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備，在形成所述圖案前，基于所述拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果，在利用所述第二保持設(shè)備保持所述板狀體的狀態(tài)下使所述移動設(shè)備作動，將所述板狀體定位在目標(biāo)位置。
[0028]而且，為了達(dá)成所述目的，本發(fā)明的圖案形成方法的第二實施方式包括:第一步驟，在使承載體的主面中的可承載圖案的一面與板狀體的一面相互對向的狀態(tài)下，利用第一保持設(shè)備保持所述承載體，并且利用第二保持設(shè)備保持所述板狀體；以及第二步驟，使所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者移動，使所述承載體的一面與所述板狀體的一面相互擠壓而形成圖案；且所述第一步驟包括預(yù)對準(zhǔn)步驟，該預(yù)對準(zhǔn)步驟是拍攝由所述第二保持設(shè)備保持的所述板狀體的外緣的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果而使所述第二保持設(shè)備在保持所述板狀體的狀態(tài)下與所述板狀體的一面平行地移動，而將所述板狀體定位在目標(biāo)位置。
[0029]在這樣構(gòu)成的發(fā)明中，使由第一保持設(shè)備保持的承載體的一面與由第二保持設(shè)備保持的板狀體的一面相互擠壓而形成圖案，但在這之前，板狀體已以由第二保持設(shè)備保持的狀態(tài)定位在目標(biāo)位置。即，在利用第二保持設(shè)備保持板狀體的狀態(tài)下執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)。因此，即便在利用第二保持設(shè)備保持板狀體之前發(fā)生的搬送位置偏移或板狀體的彎曲等產(chǎn)生影響，也可通過預(yù)對準(zhǔn)而消除這些影響，從而可將板狀體確實地定位在目標(biāo)位置。結(jié)果，可提高圖案形成的精度。
[0030]這里，在板狀體具有多邊形形狀的情況下，也可構(gòu)成為執(zhí)行如下步驟而執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)，所述步驟是指:傾斜修正步驟，拍攝作為規(guī)定板狀體的形狀的一條邊的第一邊上的互不相同的多個部位，基于其拍攝結(jié)果而修正板狀體相對于目標(biāo)位置的傾斜；及偏移修正步驟，拍攝規(guī)定傾斜經(jīng)修正的板狀體的形狀的邊中的與第一邊不平行的第二邊及第一邊，基于其拍攝結(jié)果而修正板狀體相對于目標(biāo)位置的偏移(offset)。由此，可將多邊形形狀的板狀體準(zhǔn)確地定位在目標(biāo)位置。
[0031]而且，也可在執(zhí)行這些傾斜修正步驟及偏移修正步驟之前，對利用第二保持設(shè)備將板狀體保持在目標(biāo)位置時的第一邊及第二邊進(jìn)行拍攝，將根據(jù)其拍攝結(jié)果所獲得的與目標(biāo)位置有關(guān)的信息記憶為目標(biāo)位置信息。而且，在傾斜修正步驟中，基于根據(jù)拍攝結(jié)果所獲得的與板狀體的位置有關(guān)的信息及目標(biāo)位置信息而求出板狀體相對于目標(biāo)位置的傾斜量，通過對應(yīng)于傾斜量的第二保持設(shè)備的移動而修正板狀體相對于目標(biāo)位置的傾斜。而且，在偏移修正步驟中，也可基于根據(jù)拍攝結(jié)果所獲得的與板狀體的位置有關(guān)的信息及目標(biāo)位置信息，求出板狀體相對于目標(biāo)位置的偏移量，通過對應(yīng)于偏移量的第二保持設(shè)備的移動而修正板狀體相對于目標(biāo)位置的偏移。通過這樣基于根據(jù)拍攝結(jié)果所獲得的信息及目標(biāo)位置信息進(jìn)行兩階段的修正處理，能以高精度將多邊形形狀的板狀體定位在目標(biāo)位置。
[0032]而且，在將在一面設(shè)置著第一圖案的版設(shè)為板狀體，利用該第一圖案使承載體的一面圖案化的情況下，在利用第一保持設(shè)備保持承載體后，也可不對第一保持設(shè)備與通過預(yù)對準(zhǔn)步驟而定位在目標(biāo)位置的版進(jìn)行位置對準(zhǔn)，使承載體的一面與版的一面相互擠壓，而將第一圖案轉(zhuǎn)印至承載體的一面。這也是因為通過預(yù)對準(zhǔn)使版(板狀體)定位在目標(biāo)位置，因此在承載體與版之間未發(fā)生大的位置偏移，而且，即便發(fā)生少許的位置偏移也不會對承載體的一面的圖案化本身帶來影響。
[0033]對此，在將設(shè)置在承載體的一面的第二圖案轉(zhuǎn)印至作為板狀體之一的基板的情況下，理想的是除執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)外還執(zhí)行精密對準(zhǔn)。即，在承載體具有第一對準(zhǔn)標(biāo)記并且在承載體的一面設(shè)置著第二圖案，且板狀體為具有第二對準(zhǔn)標(biāo)記的基板的情況下，理想的是執(zhí)行如下兩個步驟，即:精密對準(zhǔn)步驟，對由第一保持設(shè)備保持的承載體的第一對準(zhǔn)標(biāo)記、及通過預(yù)對準(zhǔn)步驟而定位在目標(biāo)位置的基板的第二對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行拍攝，基于其拍攝結(jié)果使第一保持設(shè)備及第二保持設(shè)備中的至少一者移動而對承載體與基板進(jìn)行位置對準(zhǔn)；以及轉(zhuǎn)印步驟，在精密對準(zhǔn)步驟后，使承載體的一面與板狀體的一面相互擠壓而將第二圖案轉(zhuǎn)印至基板的一面。
[0034]此外，為了較好地拍攝板狀體的外緣，也可如下述般構(gòu)成。即，也可構(gòu)成為:第二保持設(shè)備包括吸附保持板狀體的另一面的中央部的保持平面，且以板狀體的外緣從保持平面伸出的狀態(tài)保持板狀體，拍攝設(shè)備相對于板狀體從與第一保持設(shè)備為相反側(cè)的一側(cè)拍攝板狀體的外緣。由此，可不干涉第一保持設(shè)備或承載體地配置拍攝設(shè)備，從而能良好地拍攝板狀體的外緣。
[0035]為了達(dá)成所述目的，本發(fā)明的對準(zhǔn)裝置包括:第一保持設(shè)備，保持形成著第一對準(zhǔn)標(biāo)記且具有光透過性的第一板狀體，可使所述第一板狀體在與其主面平行的方向移動；第二保持設(shè)備，使形成著第二對準(zhǔn)標(biāo)記的第二板狀體保持相對于所述第一板狀體平行且隔著規(guī)定的間隙而鄰近對向的狀態(tài)，可使所述第二板狀體在與其主面平行的方向移動；主拍攝設(shè)備，相對于所述第一板狀體，以光軸與所述第一板狀體的主面正交的方式配置在與所述第二板狀體為相反側(cè)的一側(cè)，拍攝所述第一板狀體及所述第二板狀體；以及副拍攝設(shè)備，相對于所述第一板狀體設(shè)置在與所述第二板狀體為相反側(cè)的一側(cè)，以比所述第一拍攝設(shè)備的拍攝范圍更廣泛的拍攝范圍對所述第一板狀體及所述第二板狀體進(jìn)行拍攝；且，基于所述副拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果，所述第一保持設(shè)備使所述第一板狀體移動定位在所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記處于所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍的位置，另一方面，基于所述副拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果，所述第二保持設(shè)備使所述第二板狀體移動定位在所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記處于所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍的位置，進(jìn)而，基于所述主拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果，所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者使所述第一板狀體與所述第二板狀體的相對位置變化，以使所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記相對于所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記的相對位置成為預(yù)先規(guī)定的目標(biāo)位置。
[0036]而且，為了達(dá)成所述目的，本發(fā)明的對準(zhǔn)方法包括:配置步驟，使形成著第一對準(zhǔn)標(biāo)記且具有光透過性的第一板狀體、及形成著第二對準(zhǔn)標(biāo)記的第二板狀體相互平行地且隔著規(guī)定的間隙地鄰近對向配置，并且相對于所述第一板狀體，在與所述第二板狀體為相反側(cè)的一側(cè)，以光軸與所述第一板狀體的主面正交的方式配置主拍攝設(shè)備；預(yù)對準(zhǔn)步驟，相對于所述第一板狀體從與所述第二板狀體為相反側(cè)的一側(cè)，利用具有比所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍更廣泛的拍攝范圍的副拍攝設(shè)備，在同一視場內(nèi)拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記與所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果，將所述第一板狀體及所述第二板狀體定位在所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記均處于所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍的位置；以及精密對準(zhǔn)步驟，利用所述主拍攝設(shè)備在同一視場內(nèi)拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果，使所述第一板狀體與所述第二板狀體相對移動，以使所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記相對于所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記的相對位置成為預(yù)先規(guī)定的目標(biāo)位置。
[0037]在這些發(fā)明中，通過基于利用拍攝范圍廣泛的副拍攝設(shè)備所拍攝出的結(jié)果，使第一板狀體及第二板狀體移動，而將第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記定位在主拍攝設(shè)備的拍攝范圍內(nèi)。因此，即便拍攝范圍相對狹窄的主拍攝設(shè)備也可確實地在同一視場內(nèi)拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記。而且，基于利用主拍攝設(shè)備所拍攝的結(jié)果，對第一板狀體與第二板狀體進(jìn)行位置對準(zhǔn)。就從斜向進(jìn)行的拍攝而言，將兩片板狀體間的間隙(gap)變動表現(xiàn)為拍攝結(jié)果中的對準(zhǔn)標(biāo)記的相對位置的變動，因此間隙調(diào)整的精度對位置對準(zhǔn)的精度造成影響。對此，在本發(fā)明中，主拍攝設(shè)備的光軸設(shè)定在與第一板狀體的主面正交的方向，因此可實現(xiàn)不受間隙變動的影響的高精度的位置對準(zhǔn)。而且，無需擴大主拍攝設(shè)備的拍攝范圍，因此例如可通過增大拍攝時的放大倍率，而提高第一板狀體與第二板狀體之間的位置檢測精度。
[0038]而且，對于主拍攝設(shè)備而言，無需廣泛的拍攝范圍，另一方面，對于副拍攝設(shè)備而言，無需高分辨率，進(jìn)而在這些拍攝設(shè)備中不需要使拍攝范圍或放大倍率可變的構(gòu)成，因此能以低成本構(gòu)成裝置。
[0039]在這些發(fā)明中，優(yōu)選的是以其光軸與第一板狀體的主面斜交的方式設(shè)置副拍攝設(shè)備。這樣一來，利用副拍攝設(shè)備所估測的第一板狀體的表面積比使光軸與第一板狀體的主面正交時的更廣泛。即，可擴大副拍攝設(shè)備的拍攝范圍。而且，通過將光軸設(shè)定在與主拍攝設(shè)備的光軸方向不同的方向，可使主拍攝設(shè)備與副拍攝設(shè)備相互不干涉地進(jìn)行拍攝。
[0040]而且，也可使副拍攝設(shè)備的拍攝范圍包含主拍攝設(shè)備的拍攝范圍的至少一部分。通過以與主拍攝設(shè)備的拍攝范圍重復(fù)的方式設(shè)定副拍攝設(shè)備的拍攝范圍，而在將第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記位于副拍攝設(shè)備的拍攝范圍內(nèi)的狀態(tài)下，使第一板狀體及第二板狀體基于副拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果而移動，因此移動后的第一板狀體及第二板狀體的位置的確認(rèn)變得容易。
[0041]而且，例如主拍攝設(shè)備也可包括倍率固定的放大光學(xué)系統(tǒng)。對于主拍攝設(shè)備而言，無需廣泛的拍攝范圍，因此，通過使用放大光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行拍攝范圍被限定但為高倍率的拍攝，可提高第一板狀體與第二板狀體的相對位置的檢測精度，從而可提高位置對準(zhǔn)精度。通過將倍率固定，可不發(fā)生在倍率可變的情況下成為問題的光軸的偏移等而實現(xiàn)高倍率的拍攝。
[0042]而且，例如，主拍攝設(shè)備也可具有比副拍攝設(shè)備更高的分辨率。通過使主拍攝設(shè)備為高分辨率，可提高位置檢測精度。另一方面，就副拍攝設(shè)備而言，只要具有可檢測第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記的大致位置的程度的分辨率即可，可使用分辨率相對低的拍攝設(shè)備從而減少裝置成本。
[0043]而且，例如也可使副拍攝設(shè)備的景深比主拍攝設(shè)備的景深更深，且副拍攝設(shè)備使第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記均處于聚焦范圍而進(jìn)行拍攝。對于副拍攝設(shè)備而言，無需高的放大倍率，因此可使用具有相對深的景深的攝像光學(xué)系統(tǒng)的拍攝設(shè)備。因此，即便在隔著間隙地配置第一板狀體與第二板狀體的情況下，也可在將第一對準(zhǔn)標(biāo)記與第二對準(zhǔn)標(biāo)記一并位于聚焦范圍內(nèi)的狀態(tài)下進(jìn)行拍攝。而且，這樣一來，可提高基于副拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果的第一板狀體及第二板狀體的位置檢測精度，且可更確實地使第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記位于主拍攝設(shè)備的拍攝范圍內(nèi)。
[0044]而且，例如也可設(shè)置拍攝范圍彼此不同的多個主拍攝設(shè)備、及拍攝范圍彼此不同的多個副拍攝設(shè)備。根據(jù)這種構(gòu)成，可將第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記分別設(shè)置在第一板狀體及第二板狀體的多個部位而供進(jìn)行位置對準(zhǔn)，因此可更提高位置對準(zhǔn)的精度。
[0045]而且，例如也可使第一板狀體及第二板狀體中的至少一者在預(yù)對準(zhǔn)步驟與精密對準(zhǔn)步驟中向大致相同的方向移動。作為用以使第一板狀體及第二板狀體移動的機構(gòu)，可使用各種機構(gòu)，但在預(yù)對準(zhǔn)步驟中，使移動對象板狀體向某個方向移動后，在精密對準(zhǔn)步驟中也使其向大致相同的方向移動，由此，可抑制因移動機構(gòu)的后退(backlash)而導(dǎo)致的定位精度的降低，從而可實現(xiàn)高精度的位置對準(zhǔn)。
[0046][發(fā)明的效果]
[0047]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的圖案形成裝置及圖案形成方法的第一實施方式，通過拍攝承載體及被轉(zhuǎn)印體的外緣而不利用對準(zhǔn)標(biāo)記地進(jìn)行大致的位置對準(zhǔn)，并且拍攝承載體的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及被轉(zhuǎn)印體的第二對準(zhǔn)標(biāo)記而進(jìn)行更精密的位置對準(zhǔn)。這樣一來，可高精度地對承載體與被轉(zhuǎn)印體進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
[0048]而且，根據(jù)本發(fā)明的圖案形成裝置及圖案形成方法的第二實施方式，在利用第二保持設(shè)備保持板狀體的狀態(tài)下使第二保持設(shè)備與板狀體的一面平行地移動而執(zhí)行板狀體向目標(biāo)位置的定位、即預(yù)對準(zhǔn)。因此，即便在利用第二保持設(shè)備保持板狀體之前發(fā)生搬送位置偏移或板狀體的彎曲等，也可通過預(yù)對準(zhǔn)而將板狀體確實地定位在目標(biāo)位置，從而能以優(yōu)良的精度進(jìn)行圖案形成。
[0049]而且，根據(jù)本發(fā)明的對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法，可利用拍攝范圍相對廣泛的副拍攝設(shè)備來對形成在第一板狀體的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及形成在第二板狀體的第二對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行拍攝，將它們定位在更狹窄的主拍攝設(shè)備的拍攝范圍內(nèi)，然后，利用使光軸與第一板狀體的主面正交的主拍攝設(shè)備，拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記及第二對準(zhǔn)標(biāo)記。因此，可高精度地基于主拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果而對第一板狀體與第二板狀體進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0050]圖1是表示本發(fā)明的圖案形成裝置的第一實施方式的立體圖。
[0051]圖2是表示該圖案形成裝置的控制系統(tǒng)的框(block)圖。
[0052]圖3是表示下平臺(stage)區(qū)塊的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0053]圖4是表示升降手(hand)單元(unit)的結(jié)構(gòu)的圖。
[0054]圖5是表示轉(zhuǎn)印輥(roller)單元的結(jié)構(gòu)的圖。
[0055]圖6是表示上平臺組件(assembly)的結(jié)構(gòu)的圖。
[0056]圖7是表示圖案形成處理的流程圖(flowchart)。
[0057]圖8 (a)、圖8 (b)、圖8 (c)是示意性地表示處理的各階段中的裝置各部的位置關(guān)系的第一圖。
[0058]圖9 (a)、圖9 (b)、圖9 (c)是示意性地表示處理的各階段中的裝置各部的位置關(guān)系
的第二圖。
[0059]圖10(a)、圖10(b)是示意性地表示處理的各階段中的裝置各部的位置關(guān)系的第三圖。[0060]圖11(a)、圖11(b)、圖11(c)是示意性地表示處理的各階段中的裝置各部的位置關(guān)系的第四圖。
[0061]圖12(a)、圖12(b)、圖12(c)是示意性地表示處理的各階段中的裝置各部的位置關(guān)系的第五圖。
[0062]圖13 (a)、圖13(b)、圖13(c)是示意性地表示處理的各階段中的裝置各部的位置關(guān)系的第六圖。
[0063]圖14是表示版或基板與橡皮布的位置關(guān)系的圖。
[0064]圖15 (a)、圖15(b)、圖15(c)是示意性地表示處理的各階段中的裝置各部的位置關(guān)系的第七圖。
[0065]圖16 (a)、圖16 (b)是用以說明對準(zhǔn)處理的原理的圖。
[0066]圖17是用以說明預(yù)對準(zhǔn)的原理的第一圖。
[0067]圖18 (a)、圖18 (b)是用以說明預(yù)對準(zhǔn)的原理的第二圖。
[0068]圖19 (a)、圖19(b)、圖19(c)是示意性地表示上平臺區(qū)塊及基板用預(yù)對準(zhǔn)相機(camera)的大致構(gòu)成的圖。
[0069]圖20 (a)、圖20 (b)是示意性地表示(_X)側(cè)的上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)的構(gòu)成的圖。
[0070]圖21(a)、圖21(b)是示意性地表示(+X)側(cè)的上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)的構(gòu)成的圖。
[0071]圖22 (a)、圖22 (b)、圖22 (C)、圖22 (d)是示意性地表示版的預(yù)對準(zhǔn)處理的圖。
[0072]圖23(a)、圖23(b)是說明第二實施方式的裝置中的預(yù)對準(zhǔn)處理的圖。
[0073]圖24 (a)、圖24 (b)是表示預(yù)對準(zhǔn)相機及對準(zhǔn)相機的聚焦范圍的圖。
[0074]圖25是表示第二實施方式的對準(zhǔn)處理的流程圖。
[0075]圖26 (a)、圖26 (b)是例示伴隨對準(zhǔn)處理的對準(zhǔn)標(biāo)記的移動的形態(tài)的圖。
[0076][符號的說明]
[0077]I: 圖案形成裝置、對準(zhǔn)裝置
[0078]2: 主框架
[0079]4: 上平臺區(qū)塊
[0080]6: 下平臺區(qū)塊
[0081]8: 控制單元(預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備、精密對準(zhǔn)設(shè)備)
[0082]21:底座框架
[0083]22,23:上平臺支撐框架
[0084]25:預(yù)對準(zhǔn)相機(副拍攝設(shè)備)
[0085]27:對準(zhǔn)相機(精密對準(zhǔn)設(shè)備、精密對準(zhǔn)用拍攝部、主拍攝設(shè)備)
[0086]40:上平臺組件
[0087]41:上平臺(第二保持設(shè)備)
[0088]41a:保持平面
[0089]42:增強框架
[0090]43:梁狀結(jié)構(gòu)體
[0091]44:上部吸附單元
[0092]45,46:支撐柱
[0093]47,447,624,628,644:升降機構(gòu)[0094]61:下平臺(第一保持設(shè)備)
[0095]61a:下平臺的上表面
[0096]62,63:升降手單元
[0097]64:轉(zhuǎn)印輥單元(推頂設(shè)備)
[0098]241?243:基板用預(yù)對準(zhǔn)相機(拍攝設(shè)備、預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備、預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部)
[0099]244?246:橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機(預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備、預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部)
[0100]421、422:增強肋
[0101]441,642:支撐框架
[0102]442:管
[0103]443:吸附墊
[0104]444、482c、482h、627:滑塊
[0105]445、451、461、482b、482g、626、646、6211、6221:導(dǎo)軌
[0106]446、481、4811、4812:底板
[0107]482(4821,4822):上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)(移動設(shè)備、第二移動設(shè)備)
[0108]482a:基座構(gòu)件
[0109]482d: Y軸用滾珠螺桿支架
[0110]482e:Y軸用滾珠螺桿
[0111]482f: Y軸用馬達(dá)
[0112]482m: X軸用馬達(dá)
[0113]482η:交叉滾輪軸承
[0114]482 j: X軸用滾珠螺桿
[0115]482k: X軸用滾珠螺桿支架
[0116]482p:支架
[0117]601:對準(zhǔn)平臺
[0118]602:支柱
[0119]603:平臺支撐板
[0120]605:對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)(第I移動設(shè)備)
[0121]611:開口窗
[0122]612:槽
[0123]613:擋塊構(gòu)件
[0124]621,622:支柱
[0125]623:滑座
[0126]625:手
[0127]625a:手的上表面
[0128]625b:吸附孔
[0129]641:轉(zhuǎn)印輥
[0130]643:支承輥
[0131]644a:基座部
[0132]644b:支撐腳[0133]645:下部框架
[0134]647:移動機構(gòu)
[0135]801: CPU (中央處理器)
[0136]802:馬達(dá)控制部
[0137]803:閥控制部
[0138]804:負(fù)壓供給部
[0139]805:圖像處理部
[0140]806:氣體供給部
[0141]AMb:橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記(第一對準(zhǔn)標(biāo)記)
[0142]AMs:基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記(第二對準(zhǔn)標(biāo)記)
[0143]AR:有效區(qū)域
[0144]AXU AX2:光軸
[0145]BL, BLi:橡皮布(承載體、第二板狀體)
[0146]El ?E4:邊
[0147]FRU FR2:聚焦范圍
[0148]FV:視場
[0149]FVU FV2:拍攝范圍
[0150]G:間隙
[0151]HB:橡皮布用手
[0152]HP:版用手
[0153]HS:基板用手
[0154]IR1、IR2、IR3、IR4、IR5、IR6:區(qū)域
[0155]Ml、M2:拍攝元件
[0156]LUU LU2:透鏡單元
[0157]SlOl ?S106、S110、S113:步驟
[0158]S107?S108:配置步驟
[0159]S109:預(yù)對準(zhǔn)步驟
[0160]Slll:精密對準(zhǔn)步驟
[0161]SI 12:轉(zhuǎn)印步驟
[0162]S201:配置步驟
[0163]S202?S205:預(yù)對準(zhǔn)步驟
[0164]S206?S211:精密對準(zhǔn)步驟
[0165]SB:基板(被轉(zhuǎn)印體、板狀體、第一板狀體)
[0166]SP:處理空間
[0167]P1、P2、P3、P4、X40、X50、X41、X51、X42、X52、X43、X53、Y60、Y61、Y62、Y63:位置
[0168]PP:版(板狀體、第一板狀體)
[0169]PT:涂布層
[0170]Rl:橡皮布中的在圖中附有點且靠近周緣部的區(qū)域
[0171]R2:推擠區(qū)域[0172]X、Y、Z:方向
[0173]Χ10、Χ11、Χ20、Χ21、Υ30、Υ31:距離
[0174]Χο--、Υο--、Λ Χ0、Λ Χ1、Λ Χ2:偏移量
[0175]α:角度
【具體實施方式】
[0176]<第I實施方式>
[0177]圖1是表示本發(fā)明的圖案形成裝置的第一實施方式的立體圖。而且，圖2是表示該圖案形成裝置的控制系統(tǒng)的框圖。該圖案形成裝置I也具有作為本發(fā)明的對準(zhǔn)裝置的功能。此外，在圖1中，為了表現(xiàn)出裝置的內(nèi)部構(gòu)成而表示已去除外部罩體(cover)的狀態(tài)。為了統(tǒng)一地表示各圖中的方向，如圖1右下所示，設(shè)定XYZ正交座標(biāo)軸。這里,XY平面表示水平面，Z軸表示鉛垂軸。更詳細(xì)來說，(+Z)方向表示鉛垂朝上方向。從裝置觀察時的前面方向為(-Y)方向，包含物品的搬入搬出的從外部向裝置的進(jìn)出(access)是沿Y軸方向進(jìn)行。
[0178]該圖案形成裝置I具有上平臺區(qū)塊4及下平臺區(qū)塊6安裝著主框架(mainframe)2的結(jié)構(gòu)。在圖1中，為了明確表示各區(qū)塊的區(qū)別，對上平臺區(qū)塊4標(biāo)注間距(pitch)粗的點，而且，對下平臺區(qū)塊6標(biāo)注間距細(xì)的點。除所述以外，圖案形成裝置I包括根據(jù)預(yù)先記憶的處理程序(program)來控制裝置各部并執(zhí)行規(guī)定動作的控制單元8 (圖2)。關(guān)于上平臺區(qū)塊4及下平臺區(qū)塊6的詳細(xì)構(gòu)成將在下文進(jìn)行說明，首先，說明裝置I的整體構(gòu)成。
[0179]圖案形成裝置I是通過使由下平臺區(qū)塊6保持的橡皮布(blanket)BL、與由上平臺區(qū)塊4保持的版PP或基板SB相互抵接而進(jìn)行圖案形成的裝置。更具體來說，利用該裝置I的圖案形成過程是如下所述。首先，使對應(yīng)于應(yīng)形成的圖案而制成的版PP抵接于均勻地涂布著圖案形成材料的橡皮布BL，由此使承載在橡皮布BL上的涂布層圖案化(圖案化處理)。然后，使以所述方式圖案化的橡皮布BL與基板SB抵接，由此，將承載在橡皮布BL上的圖案轉(zhuǎn)印至基板SB (轉(zhuǎn)印處理)。由此，在基板SB上形成所期望的圖案。
[0180]這樣一來，該圖案形成裝置I可用于在基板SB形成規(guī)定圖案的圖案形成過程中的圖案化處理及轉(zhuǎn)印處理這兩個處理，但也能以僅承擔(dān)這些處理中的一個處理的形態(tài)使用。
[0181]圖案形成裝置I的下平臺區(qū)塊6是由主框架2的底座框架(base frame) 21支撐。另一方面，上平臺區(qū)塊4安裝于一對上平臺支撐框架22、上平臺支撐框架23，該一對上平臺支撐框架22、上平臺支撐框架23是以從X方向夾著下平臺區(qū)塊6的方式從底座框架21豎立設(shè)置且沿Y方向延伸。
[0182] 而且，在主框架2上安裝著用于對被搬入至裝置的版PP、基板SB及橡皮布BL進(jìn)行位置檢測的預(yù)對準(zhǔn)相機。具體來說，用于在不同的三個部位對沿Y軸方向搬入至裝置的版PP或基板SB的邊緣(edge)進(jìn)行檢測的三臺基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241、基板用預(yù)對準(zhǔn)相機242、基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243分別安裝于從上平臺支撐框架22、上平臺支撐框架23豎立設(shè)置的懸臂(boom)。同樣地，用于在不同的三個部位對沿Y軸方向搬入至裝置的橡皮布BL的邊緣進(jìn)行檢測的三臺橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244、橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機245、橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246分別安裝于從上平臺支撐框架22、上平臺支撐框架23豎立設(shè)置的懸臂。此外，在圖1中，未出現(xiàn)位于上平臺區(qū)塊4的背后的一臺橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246。而且，在圖2中，為方便起見，分別將版及基板用預(yù)對準(zhǔn)相機簡單記為“基板用PA相機”、將橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機簡單記為“橡皮布用PA相機”。
[0183]圖3是表示下平臺區(qū)塊的結(jié)構(gòu)的立體圖。在下平臺區(qū)塊6中，在中央部開口的板狀的對準(zhǔn)平臺601的四角分別沿鉛垂方向(Z方向)豎立設(shè)置著支柱602，利用這些支柱602來支撐平臺支撐板603。雖然省略了圖示，但在對準(zhǔn)平臺601的下部，設(shè)置著具有以沿鉛垂方向Z延伸的旋轉(zhuǎn)軸為旋轉(zhuǎn)中心的旋轉(zhuǎn)方向(以下稱為“Θ方向”)、X方向及Y方向的三種自由度的例如交叉滾輪軸承(cross roller bearing)等對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605 (圖2),對準(zhǔn)平臺601是經(jīng)由該對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605而安裝于底座框架21。因此，利用對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605的作動，使對準(zhǔn)平臺601可相對于底座框架21沿X方向、Y方向及Θ方向在規(guī)定的范圍內(nèi)進(jìn)行移動。
[0184]在平臺支撐板603的上部，配置著上表面成為與大致水平面一致的平面且在中央部形成著開口窗611的環(huán)狀矩形的下平臺61。在下平臺61的上表面載置著橡皮布BL，下平臺61保持該橡皮布BL。
[0185]關(guān)于開口窗611的開口尺寸,必須大于橡皮布BL的表面區(qū)域中的作為圖案形成區(qū)域而有效地發(fā)揮功能的中央部的有效區(qū)域(未圖示)的平面尺寸。即，在將橡皮布BL載置在下平臺61時，必須成為如下的狀態(tài):橡皮布BL下表面中的對應(yīng)于有效區(qū)域的區(qū)域整體面向開口窗611，且有效區(qū)域的下方為完全敞開。而且，利用圖案形成材料而形成的涂布層是以至少覆蓋有效區(qū)域整體的方式形成。
[0186]在下平臺61的上表面61a，以分別沿著開口窗611的周緣各邊的方式設(shè)置著多個槽612,各槽612是經(jīng)由未圖示的控制閥(valve)而連接于控制單元8的負(fù)壓供給部804。各槽612配置在平面尺寸比橡皮布BL的平面尺寸小的區(qū)域內(nèi)。而且，如圖中的一點鏈線所示，橡皮布BL是以覆蓋這些槽612全部的方式載置在下平臺61。而且，為了實現(xiàn)所述配置，在下平臺上表面61a適當(dāng)配置著橡皮布BL的位置限制用擋塊(stopper)構(gòu)件613。
[0187]通過對各槽612供給負(fù)壓而使各槽612作為真空吸附槽發(fā)揮功能，這樣將橡皮布BL的周緣部的四邊吸附保持在下平臺61的上表面61a。通過利用相互獨立的多個槽612構(gòu)成真空吸附槽，即便因某些原因而使一部分的槽產(chǎn)生真空破壞也可維持其他槽對橡皮布BL的吸附，因此可確實地保持橡皮布BL。而且，與設(shè)置單獨的槽的情況相比，能以更強的吸附力吸附橡皮布BL。
[0188]在下平臺61的開口窗611的下方，設(shè)置著用以使橡皮布BL沿Z軸方向上下移動的升降手單元62、升降手單元63、以及從下方抵接于橡皮布BL并將其推頂?shù)霓D(zhuǎn)印輥單元64。
[0189]圖4是表示升降手單元的結(jié)構(gòu)的圖。兩個升降手單元62、升降手單元63的結(jié)構(gòu)相同，因此，這里對其中一個升降手單元62的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。升降手單元62包括從底座框架21沿Z方向豎立設(shè)置的兩根支柱621、支柱622，板狀的滑座(slide base)623相對于這些支柱621、支柱622可上下移動地安裝。更具體來說，對于兩根支柱621、支柱622分別安裝著沿鉛垂方向(Z方向)延伸的導(dǎo)軌6211、導(dǎo)軌6221，且使安裝于滑座623的背面、S卩(+Y)側(cè)主面的未圖示的滑塊(slider)滑動自如地安裝于導(dǎo)軌6211、導(dǎo)軌6221。而且，例如包括馬達(dá)(motor)及滾珠螺桿(ball screw)機構(gòu)等適當(dāng)?shù)尿?qū)動機構(gòu)的升降機構(gòu)624會根據(jù)來自控制單元8的控制指令而使滑座623上下移動。
[0190]在滑座623，上下移動自如地安裝著多只(在該例中為4只)手625。除了基座部分的形狀對應(yīng)于配設(shè)位置而有所不同以外，各手625的結(jié)構(gòu)基本上相同。各手625固定在滑塊627上，該滑塊627滑動自如地卡合于沿鉛垂方向(Z方向)安裝在滑座623的前面、S卩(-Y)側(cè)主面的導(dǎo)軌626?；瑝K627連結(jié)于安裝在滑座623的背面的例如包括無桿缸(rodlesscylinder)等適當(dāng)?shù)尿?qū)動機構(gòu)的升降機構(gòu)628,且通過該升降機構(gòu)628的作動而相對于滑座623沿上下方向移動。在各手625分別設(shè)置著獨立的升降機構(gòu)628，而可使各手625個別地上下移動。
[0191]g卩，在升降手單元62中，可通過升降機構(gòu)624使滑座623上下移動而使各手625一體地升降，并且可通過各升降機構(gòu)628獨立地作動而使各手625個別地升降。
[0192]手625的上表面625a加工成為以Y方向為長度方向的細(xì)長的平面狀,可使該上表面625a抵接于橡皮布BL的下表面而支撐橡皮布BL。而且,在上表面625a設(shè)置著經(jīng)由未圖示的配管及控制閥而與設(shè)置在控制單元8的負(fù)壓供給部804連通的吸附孔625b。由此，可視需要對吸附孔625b供給來自負(fù)壓供給部804的負(fù)壓，而由手625的上表面625a吸附保持橡皮布BL。因此，可防止利用手625支撐橡皮布BL時的滑動。
[0193]而且，對吸附孔625b經(jīng)由未圖示的配管及控制閥從控制單元8的氣體(gas)供給部806視需要供給適當(dāng)?shù)臍怏w、例如干燥空氣或惰性氣體等。即，通過由控制單元8控制的各控制閥的開閉，而選擇性地對吸附孔625b供給來自負(fù)壓供給部804的負(fù)壓及來自氣體供給部806的氣體。
[0194]在將來自氣體供給部806的氣體供給至吸附孔625b時，從吸附孔625b噴出少量氣體。由此，在橡皮布BL的下表面與手上表面625a之間形成微小的間隙,手625成為一面從下方支撐橡皮布BL，一面從橡皮布BL下表面隔開的狀態(tài)。因此，可一面利用各手625支撐橡皮布BL，一面使橡皮布BL不會摩擦各手625地沿水平方向移動。此外，也可將氣體噴出孔與吸附孔625b分開地設(shè)置在手上表面625a。
[0195]返回到圖3，在下平臺區(qū)塊6中，以使手625朝內(nèi)且在Y方向相對向的方式使具有如上所述的構(gòu)成的升降手單元62、升降手單元63對向配置。在各手625最大程度地下降的狀態(tài)下，手上表面625a位于下平臺上表面61a的更下方、即自下平臺上表面61a向(-Z)方向大幅度地后退的位置。另一方面，在各手625最大程度地上升的狀態(tài)下，各手625的前端成為從下平臺61的開口窗611向上方突出的狀態(tài)，手上表面625a到達(dá)下平臺上表面61a的更上方、即自下平臺上表面61a向(+Z)方向突出的位置。
[0196]而且，在從上方觀察時，在兩個升降手單元62、升降手單元63的相互對向的手625的前端彼此之間設(shè)置著固定的間隔，使它們不會接觸。而且，如下所述，轉(zhuǎn)印輥單元64是利用該間隙而沿X方向移動。
[0197]圖5是表示轉(zhuǎn)印輥單元的結(jié)構(gòu)的圖。轉(zhuǎn)印輥單元64包括轉(zhuǎn)印輥641，為沿Y方向延伸的圓筒狀的輥構(gòu)件；支撐框架642，沿該轉(zhuǎn)印輥641的下方在Y方向延伸且在其兩端部旋轉(zhuǎn)自如地支撐轉(zhuǎn)印輥641 ；以及升降機構(gòu)644，包括適當(dāng)?shù)尿?qū)動機構(gòu)且使支撐框架642沿Z方向上下移動。轉(zhuǎn)印輥641不與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)連接地自由旋轉(zhuǎn)。而且，在支撐框架642設(shè)置著從下方抵接于轉(zhuǎn)印棍641的表面而防止轉(zhuǎn)印棍641的彎曲的支承棍(backuproll)643。
[0198]Y方向上的轉(zhuǎn)印輥641的長度比下平臺61的開口窗611的四邊中的沿Y方向的邊的長度、即開口窗611的Y方向上的開口尺寸短，且比下述由上平臺保持時的版PP或基板SB的沿Y方向的長度長。橡皮布BL中的作為圖案形成區(qū)域有效的有效區(qū)域的長度當(dāng)然小于版PP或基板SB的長度，因此在Y方向，轉(zhuǎn)印輥641比有效區(qū)域長。
[0199]升降機構(gòu)644包括基座部644a、以及從該基座部644a向上方延伸并連結(jié)于支撐框架642的Y方向上的中央附近的支撐腳644b。支撐腳644b是通過馬達(dá)或氣缸等適當(dāng)?shù)尿?qū)動機構(gòu)而可相對于基座部644a上下移動?；?44a滑動自如地安裝于沿X方向延伸設(shè)置的導(dǎo)軌646，進(jìn)而連結(jié)于例如包括馬達(dá)及滾珠螺桿機構(gòu)等適當(dāng)?shù)尿?qū)動機構(gòu)的移動機構(gòu)647。而且，在沿X方向延伸設(shè)置且固定在底座框架21的下部框架645的上表面安裝著導(dǎo)軌646。通過使移動機構(gòu)647作動，而使轉(zhuǎn)印輥641、支撐框架642及升降機構(gòu)644 —體地在X方向移行。
[0200]詳細(xì)情況將在下文進(jìn)行敘述，在該圖案形成裝置I中，使轉(zhuǎn)印輥641抵接于由下平臺61保持的橡皮布BL并對橡皮布BL局部地進(jìn)行推頂，由此，使橡皮布BL抵接于由上平臺保持并與橡皮布BL鄰近對向配置的版PP或基板SB。
[0201]升降機構(gòu)644是通過升降手單元62、升降手單元63的相互對向的手625所形成的間隙而移行。而且，各手625的上表面625a可朝(-Z)方向后退到轉(zhuǎn)印輥單元64的支撐框架642的下表面的更下方為止。因此，在該狀態(tài)下使升降機構(gòu)644移行，由此，轉(zhuǎn)印輥單元64的支撐框架642通過各手625的上表面625a的上方，可避免轉(zhuǎn)印棍單兀64與手625碰撞。
[0202]接下來，對上平臺區(qū)塊4的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。如圖1所示，上平臺區(qū)塊4包括:上平臺組件(assembly) 40,為沿X方向延伸的結(jié)構(gòu)體；一對支撐柱45、支撐柱46,分別從上平臺支撐框架22、上平臺支撐框架23豎立設(shè)置并分別支撐上平臺組件40的X方向兩端部；以及升降機構(gòu)47，例如包括馬達(dá)及滾珠螺桿機構(gòu)等適當(dāng)?shù)尿?qū)動機構(gòu)而使上平臺組件40整體在Z方向升降移動。
[0203]圖6是表示上平臺組件的結(jié)構(gòu)的圖。上平臺組件40包括:上平臺41，由下表面保持版PP或基板SB ;增強框架42，設(shè)置在上平臺41的上部；梁狀結(jié)構(gòu)體43，結(jié)合于增強框架42并沿X方向水平地延伸；以及上部吸附單元44，安裝于上平臺41。如圖6所示，上平臺組件40具有相對于包含其外形上的中心的XZ平面及YZ平面分別大致對稱的形狀。
[0204]上平臺41為略小于應(yīng)保持的版PP或基板SB的平面尺寸的平板狀構(gòu)件，保持為水平姿勢的其下表面41a成為抵接地保持版PP或基板SB的保持平面。保持平面要求具有高的平面度，因此，作為其材料，適宜的是石英玻璃或不銹鋼板。而且，在保持平面設(shè)置著用于安裝下述上部吸附單元44的吸附墊(pad)的貫通孔。
[0205]增強框架42包括在上平臺41的上表面沿Z方向延伸設(shè)置的增強肋(rib)的組合，如圖所示，為了防止上平臺41的彎曲并維持其下表面(保持平面)41a的平面度，將與YZ平面平行的增強肋421、及與XZ平面平行的增強肋422分別適當(dāng)進(jìn)行多種組合。增強肋421、增強肋422例如可包括金屬板。
[0206]而且，梁狀結(jié)構(gòu)體43是將多片金屬板組合而形成的以X方向為長度方向的結(jié)構(gòu)體，其兩端部由支撐柱45、支撐柱46支撐而可上下移動。具體來說,在支撐柱45、支撐柱46分別設(shè)置著沿Z方向延伸的導(dǎo)軌451、導(dǎo)軌461，另一方面，在與該所述導(dǎo)軌451、導(dǎo)軌461對向的梁狀結(jié)構(gòu)體43的(-Y)側(cè)主面安裝著未圖示的滑塊，這些滑塊可滑動自如地卡合。而且，如圖1所示，梁狀結(jié)構(gòu)體43與支撐柱46是利用升降機構(gòu)47而連結(jié)，通過使升降機構(gòu)47作動，而使梁狀結(jié)構(gòu)體43在維持水平姿勢的狀態(tài)下沿鉛垂方向(Z方向)移動。上平臺41是經(jīng)由增強框架42而與梁狀結(jié)構(gòu)體43 —體地結(jié)合，因此通過使升降機構(gòu)47的作動，而使上平臺41在將保持平面41a保持為水平的狀態(tài)下上下移動。
[0207]此外，增強框架42及梁狀結(jié)構(gòu)體43的結(jié)構(gòu)并不限定于圖示的類型。這里，將與YZ平面平行的板狀構(gòu)件和與XZ平面平行的板狀構(gòu)件組合而獲得所需的強度，但也可對除此以外的形狀適當(dāng)組合金屬板(metal plate)或角(angle)構(gòu)件等。設(shè)為這種結(jié)構(gòu)是為了輕量地構(gòu)成上平臺組件40。為了減少各部的彎曲，也考慮增加上平臺41的厚度或使梁狀結(jié)構(gòu)體43為實心體，但這樣一來，上平臺組件40整體的質(zhì)量變大。
[0208]配置在裝置的上部的結(jié)構(gòu)物的重量變大則對用于支撐其或使其移動的機構(gòu)要求更進(jìn)一步的強度及耐久性，裝置整體也變得非常大且重。更現(xiàn)實的是，一面利用板材等組合而獲得所需的強度，一面謀求結(jié)構(gòu)物整體的輕量化。
[0209]而且，在由增強框架42包圍的上平臺41的上部，安裝著一對上部吸附單元44。在圖6上部表示將其中一個上部吸附單元44取出至上方的狀態(tài)。在上部吸附單元44中，在從支撐框架441延伸到下方的多個管(pipe)442的下端分別安裝著例如橡膠制的吸附墊443。各管442的上端側(cè)是經(jīng)由未圖示的配管及控制閥而連接于控制單元8的負(fù)壓供給部
804。支撐框架441形成為不干涉構(gòu)成增強框架42的肋421、肋422的形狀。
[0210]支撐框架441是經(jīng)由一對滑塊444及卡合于這一對滑塊444的一對導(dǎo)軌445而相對于底板446沿鉛垂方向移動自如地得到支撐。而且,底板(baseplate)446與支撐框架441是通過例如包括馬達(dá)及滾珠螺桿機構(gòu)等適當(dāng)?shù)尿?qū)動機構(gòu)的升降機構(gòu)447而結(jié)合。通過升降機構(gòu)447的作動，而使支撐框架441相對于底板446進(jìn)行升降，且與該支撐框架441的升降一體地，管442及吸附墊443進(jìn)行升降。
[0211]通過將底板446固定在梁狀結(jié)構(gòu)體43的側(cè)面，而使上部吸附單元44與上平臺41一體化。在該狀態(tài)下，各管442的下端及吸附墊443插通至設(shè)置在上平臺41的未圖示的貫通孔內(nèi)。而且，通過升降機構(gòu)447的作動，使吸附墊443在其下表面突出至上平臺41的下表面(保持平面)41a的更下方為止的吸附位置、與下表面退避到上平臺41的貫通孔的內(nèi)部(上方)的退避位置之間進(jìn)行升降移動。而且，當(dāng)將吸附墊443的下表面定位在與上平臺41的保持平面41a大致相同的高度時，上平臺41與吸附墊443可協(xié)同地將版PP或基板SB保持在保持平面41a。
[0212]返回到圖1，以所述方式構(gòu)成的上平臺組件40是設(shè)置在底板481上。更詳細(xì)來說，將支撐柱45、支撐柱46分別豎立設(shè)置于底板481，且以相對于該支撐柱45、支撐柱46可升降的方式安裝上平臺組件40。底板481是由上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482支撐，該上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482安裝于上平臺支撐框架22、上平臺支撐框架23且例如包括交叉滾輪軸承等適當(dāng)?shù)目蓜訖C構(gòu)。
[0213]因此，上平臺組件40整體可相對于主框架2水平移動。具體來說，底板481是通過上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482的作動而在水平面、即XY平面內(nèi)水平移動。對應(yīng)于各個支撐柱45、支撐柱46而設(shè)置的一對底板481可相互獨立地移動，伴隨它們的移動，上平臺組件40可相對于主框架2沿X方向、Y方向及Θ方向在規(guī)定的范圍內(nèi)移動。
[0214]以所述方式構(gòu)成的圖案形成裝置I的各部由控制單元8控制。如圖2所示，控制單元8包括:中央處理器(Central Processing Unit, CPU) 801,管理裝置整體的動作；馬達(dá)控制部802，控制設(shè)置在各部的馬達(dá)；閥控制部803，控制設(shè)置在各部的控制閥類；以及負(fù)壓供給部804，產(chǎn)生對各部供給的負(fù)壓。此外，在可利用從外部供給的負(fù)壓的情況下，控制單元8也可不包括負(fù)壓供給部。
[0215]馬達(dá)控制部802是通過控制設(shè)置在各功能區(qū)塊的馬達(dá)群來管理裝置各部的定位或移動。而且，閥控制部803是通過控制設(shè)置在從負(fù)壓供給部804連接于各功能區(qū)塊的負(fù)壓的配管路徑上、及從氣體供給部806連接于手625的配管路徑上的閥群，而管理利用負(fù)壓供給而進(jìn)行的真空吸附的執(zhí)行及其解除、以及來自手上表面625a的氣體噴出。
[0216]而且，該控制單元8包括對利用相機所拍攝的圖像實施圖像處理的圖像處理部
805。圖像處理部805是通過對利用安裝于主框架2的基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241?基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243及橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244?橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246所拍攝的圖像進(jìn)行規(guī)定的圖像處理，而檢測基板SB及橡皮布BL的大致位置。而且，通過對利用下述精密對準(zhǔn)用對準(zhǔn)相機27所拍攝的圖像進(jìn)行規(guī)定的圖像處理，而更精密地檢測基板SB與橡皮布BL的位置關(guān)系。CPU801是基于這些位置檢測結(jié)果而控制上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482及對準(zhǔn)支撐機構(gòu)605，對由上平臺41保持的版PP或基板SB與由下平臺61保持的橡皮布BL進(jìn)行位置對準(zhǔn)(預(yù)對準(zhǔn)處理及精密對準(zhǔn)處理)。
[0217]接下來，對以所述方式構(gòu)成的圖案形成裝置I中的圖案形成處理進(jìn)行說明。在該圖案形成處理中，由上平臺41保持的版PP或基板SB與由下平臺61保持的橡皮布BL是隔著微小的間隙而鄰近對向配置。而且，轉(zhuǎn)印輥641 —面抵接于橡皮布BL的下表面對橡皮布BL局部地向上方推頂，一面沿橡皮布BL下表面移動。被推頂?shù)南鹌げ糂L首先局部地抵接于版PP或基板SB，伴隨輥移動，抵接部分逐漸擴大，最終與版PP或基板SB的整體抵接。由此，從版PP到橡皮布BL進(jìn)行圖案化、或從橡皮布BL到基板SB進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印。
[0218]圖7是表不圖案形成處理的流程圖。而且，圖8 (a)、圖8 (b)、圖8 (C)至圖15 (a)、圖15(b)、圖15(c)是示意性地表示處理的各階段中的裝置各部的位置關(guān)系的圖。以下，一面參照圖8(a)、圖8(b)、圖8(c)至圖15 (a)、圖15(b)、圖15(c) —面對圖案形成處理中的各部的動作進(jìn)行說明。此外，為了易于了解地表示處理的各階段中的各部的關(guān)系，有時省略非直接關(guān)系到該階段的處理的構(gòu)成、或省略對應(yīng)于這種構(gòu)成而標(biāo)注的符號的圖示。而且，在由上平臺41保持的處理對象物為版PP時與為基板SB時期間，除一部分以外動作均相同，因此使圖共通，而適當(dāng)替換版PP及基板SB。
[0219]在該圖案形成處理中，對經(jīng)初始化的圖案形成裝置1，首先搬入與應(yīng)形成的圖案對應(yīng)的版PP并設(shè)置在上平臺41 (步驟S101)，接著，將形成著利用圖案形成材料而形成的均勻的涂布層的橡皮布BL搬入并設(shè)置在下平臺61 (步驟S102)。版PP是使與圖案對應(yīng)的有效面朝下而搬入，而且，橡皮布BL是使涂布層朝上而搬入。
[0220]圖8 (a)、圖8 (b)、圖8 (C)表示將版PP或基板SB搬入至裝置并設(shè)置在上平臺41為止的過程。如圖8(a)所示，在初始狀態(tài)下，上平臺41退避到上方而其與下平臺61的間隔變大，在兩個平臺之間形成著寬敞的處理空間SP。而且，各手625退避到下平臺61的上表面的更下方。轉(zhuǎn)印輥641位于在面向下平臺61的開口窗611的位置中的最靠(-X)方向的位置，且在鉛垂方向(Z方向)位于退避到下平臺61的上表面的更下方的位置。連接于負(fù)壓供給部804的各控制閥關(guān)閉。
[0221]在該狀態(tài)下，從裝置的前面?zhèn)?、S卩(-Y)方向朝(+Y)方向，載置在外部的版用手HP上的版PP是在被預(yù)先測量出其厚度后搬入至處理空間SP。版用手HP也可為由操作員(operator)手動操作的操作治具，而且，也可為外部的搬送機器人的手。這時,通過使手625及轉(zhuǎn)印輥641退避到下方，可使搬入作業(yè)變得容易。當(dāng)將版PP定位在規(guī)定的位置時，如箭頭所示，上平臺41下降。
[0222]當(dāng)上平臺41下降到接近版PP的規(guī)定的位置時，如圖8(b)所示，設(shè)置在上平臺41的吸附墊443向前突出至上平臺41的下表面、即保持平面41a的更下方，并抵接于版PP的上表面。通過將與吸附墊443相連的控制閥打開，而利用吸附墊443吸附版PP的上表面而保持版PP。而且，在持續(xù)吸附的狀態(tài)下使吸附墊443上升，由此，版PP被從版用手HP提升。在該時間點，版用手HP向裝置外移動。
[0223]最終，如圖8(c)所示，吸附墊443的下表面上升至與保持平面41a相同的高度或略微高于其的位置，由此，以密接于上平臺41的保持平面41a的狀態(tài)保持版PP的上表面。也可為如下構(gòu)成:在上平臺41的下表面設(shè)置吸附槽或吸附孔，利用這些吸附槽或吸附孔來吸附保持從吸附墊443交接的版PP。這樣完成版PP的保持?？赏ㄟ^相同的順序，利用基板用手HS搬入基板SB。
[0224]圖9 (a)、圖9 (b)、圖9 (C)及圖10 (a)、圖10 (b)是表示在搬入版PP后，將橡皮布BL搬入并保持在下平臺61為止的過程。當(dāng)上平臺41對版PP的保持完成時，如圖9(a)所示，使上平臺41上升而再次形成寬敞的處理空間SP，并且使各手625上升至下平臺61的上表面61a的更上方。這時，使各手625的上表面625a全部成為相同的高度。
[0225]在該狀態(tài)下，如圖9(b)所示，進(jìn)行如下操作:將在上表面形成著利用圖案化形成材料而形成的涂布層PT的橡皮布BL載置在外部的橡皮布用手HB，并搬入到處理空間SP。在搬入橡皮布BL之前，先測量其厚度。理想的是，橡皮布用手HB是包括沿Y方向延伸的指部(finger)的叉(fork)型的手，以使可不干涉手625地通過它們的間隙而進(jìn)入。
[0226]通過使橡皮布用手HB在進(jìn)入后下降或使手625上升,而使手625的上表面625a抵接于橡皮布BL的下表面，如圖9 (c)所示，其后，橡皮布BL由手625支撐。通過對設(shè)置在手625上的吸附孔625b (圖4)供給負(fù)壓，可使支撐更確實。這樣一來，可將橡皮布BL被從橡皮布用手HB交接到手625，且將橡皮布用手HB排出到裝置外。
[0227]其后，如圖10(a)所示，在使各手625的上表面625a的高度一致的狀態(tài)下使手625下降，最終使手上表面625a與下平臺61的上表面61a的高度相同。由此，橡皮布BL四邊的周緣部抵接于下平臺61的上表面61a。
[0228]這時，如圖10(b)所示，對設(shè)置在下平臺上表面61a的真空吸附槽612供給負(fù)壓，而吸附保持橡皮布BL。隨之，解除手625的吸附。由此，橡皮布BL成為由下平臺61吸附保持其四邊的周緣部的狀態(tài)。在圖10(b)中，為了明確表示已解除手625的吸附保持，而使橡皮布BL與手625隔開,但實際上維持了橡皮布BL的下表面抵接于手上表面625a的狀態(tài)。
[0229]認(rèn)為，假設(shè)在該狀態(tài)下使手625隔開，則橡皮布BL會因自重而使中央部向下方彎曲，整體成為向下凸的形狀。將手625維持在與下平臺上表面61a相同的高度，由此，可抑制這種彎曲并將橡皮布BL維持為平面狀態(tài)。這樣一來，橡皮布BL成為其周緣部由下平臺61吸附保持、且中央部由手625輔助性地支撐的狀態(tài)，從而完成橡皮布BL的保持。
[0230]版PP與橡皮布BL的搬入順序也可與所述順序相反。然而，在搬入橡皮布BL之后搬入版PP的情況下，在搬入版PP時雜質(zhì)可能會掉落到橡皮布BL上而污染利用圖案形成材料所形成的涂布層PT或產(chǎn)生缺陷。如上所述，在將版PP設(shè)置到上平臺41后，將橡皮布BL設(shè)置在下平臺61，由此可將這種問題避免于未然。
[0231]返回到圖7，當(dāng)這樣將版PP及橡皮布BL分別設(shè)置在上下平臺時，接著對版PP及橡皮布BL進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)處理(步驟S103)。進(jìn)而，以兩者隔著預(yù)先設(shè)定的間隙而對向的方式，進(jìn)行間隙調(diào)整步驟(S104)。
[0232]圖11(a)、圖11(b)、圖11(c)是表示間隙調(diào)整處理及對準(zhǔn)處理的過程的圖。其中，圖11(c)所示的精密對準(zhǔn)處理是僅在下述轉(zhuǎn)印處理中需要的處理，因此對于該處理是在之后的轉(zhuǎn)印處理的說明中進(jìn)行敘述。如上所述，版PP、基板SB或橡皮布BL是從外部搬入，但在其交接時會發(fā)生位置偏移。預(yù)對準(zhǔn)處理是用來將由上平臺41保持的版PP或基板SB、及由下平臺61保持的橡皮布BL各自大致定位在適于之后的處理的位置的處理。
[0233]圖11(a)是示意性地表示用于執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)的構(gòu)成的配置的側(cè)視圖。如上所述，在本實施方式中，在裝置上部總共設(shè)置著六臺預(yù)對準(zhǔn)相機241?預(yù)對準(zhǔn)相機246。其中三臺相機241?相機243是用來檢測由上平臺41保持的版PP(或基板SB)的外緣的基板用預(yù)對準(zhǔn)相機。而且另外三臺相機244?相機246是用來檢測橡皮布BL的外緣的橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機，此外，這里，為了方便起見，將預(yù)對準(zhǔn)相機241?預(yù)對準(zhǔn)相機243稱為“基板用預(yù)對準(zhǔn)相機”，這些相機可使用于版PP的位置對準(zhǔn)及基板SB的位置對準(zhǔn)中的任一者中，而且，其處理內(nèi)容也相同。
[0234]如圖1及圖11 (a)所示，基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241、基板用預(yù)對準(zhǔn)相機242是以在X方向為大致相同位置且在Y方向相互位置不同的方式設(shè)置，從上方分別拍攝版PP或基板SB的(-X)側(cè)外緣部。上平臺41形成為略小于基板SB的平面尺寸，因此，可從上方拍攝延伸至比上平臺41的端部更靠外側(cè)的版PP(或基板SB)的(-X)側(cè)外緣部。而且，雖然在圖中未表現(xiàn)出，但在圖11(a)紙面的近前側(cè)設(shè)置著另一臺基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243，該相機243是從上方拍攝版PP (或基板SB)的(-Y)側(cè)外緣部。
[0235]另一方面，橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244、橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246是以在X方向為大致相同位置且在Y方向相互位置不同的方式設(shè)置，從上方分別拍攝載置在下平臺61的橡皮布BL的(+X)側(cè)外緣部。而且，在圖11(a)紙面的近前側(cè)設(shè)置著另一臺橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機245，該相機245是從上方拍攝橡皮布BL的(-Y)側(cè)外緣部。
[0236]根據(jù)由這些預(yù)對準(zhǔn)相機241?預(yù)對準(zhǔn)相機246所獲得的拍攝結(jié)果而分別掌握版PP(或基板SB)及橡皮布BL的位置。而且，視需要使上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482及對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605作動，由此，將版PP (或基板SB)及橡皮布BL分別定位在預(yù)先設(shè)定的目標(biāo)位置。關(guān)于基于拍攝結(jié)果的利用上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)4821、上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)4822的定位、即版PP (或基板SB)的預(yù)對準(zhǔn)處理，在下文進(jìn)行詳細(xì)敘述。
[0237]此外，在使橡皮布BL與下平臺61 —并水平移動時，優(yōu)選的是，如圖11(a)所示，各手625的上表面625a與橡皮布BL的下表面略微隔開。為了該目的，可使從氣體供給部806供給的氣體從手625的吸附孔625b噴出。該內(nèi)容在下述精密對準(zhǔn)處理中也相同。
[0238]而且，關(guān)于薄型或大型且容易發(fā)生彎曲的基板SB，為了使處理變得容易，有時例如以使板狀的支撐構(gòu)件抵接于背面的狀態(tài)對基板SB進(jìn)行處理。在這種情況下，即便支撐構(gòu)件為比基板SB更大型的構(gòu)件，只要設(shè)為例如利用透明材料構(gòu)成支撐構(gòu)件、或在支撐構(gòu)件上局部地設(shè)置透明的窗或貫通孔等容易檢測基板SB的外緣部的位置的構(gòu)成，則也可實現(xiàn)與所述相同的預(yù)對準(zhǔn)處理。[0239]接著，如圖11 (b)所示，相對于保持橡皮布BL的下平臺61，使保持版PP的上平臺41下降，使版PP與橡皮布BL的間隔G與預(yù)先規(guī)定的設(shè)定值吻合。這時，考慮到已預(yù)先測量的版PP及橡皮布BL的厚度。S卩，以在包括版PP及橡皮布BL的厚度的情況下使兩者的間隙成為規(guī)定值的方式，調(diào)整上平臺41與下平臺61的間隔。作為這里的間隙值G，例如可設(shè)為300 μ am左右。
[0240]關(guān)于版PP及橡皮布BL的厚度，除了有因制造上的尺寸偏差而造成的個體差以外，即便為相同的零件也考慮到有例如因膨脹而導(dǎo)致的厚度的變化，因此理想的是每次使用時均進(jìn)行測量。而且，關(guān)于間隙G，可定義在版PP的下表面與橡皮布BL的上表面之間，而且，也可定義在版PP的下表面與承載在橡皮布BL上的圖案形成材料的涂布層PT的上表面之間。只要在涂布階段嚴(yán)格地管理涂布層PT的厚度，則技術(shù)性上等效。
[0241]返回到圖7，當(dāng)這樣使版PP與橡皮布BL隔著間隙G而對向配置時，接著通過使轉(zhuǎn)印棍641 —面抵接于橡皮布BL的下表面一面在X方向移行，而使版PP與橡皮布BL抵接。由此，利用版PP使橡皮布BL上的圖案形成材料的涂布層PT圖案化(圖案化處理；步驟S105)。
[0242]圖12 (a)、圖12(b)、圖12(c)中表示圖案化處理的過程。具體來說，如圖12(a)所示，使轉(zhuǎn)印輥641上升至橡皮布BL的正下方位置，并且在X方向上將轉(zhuǎn)印輥641配置在轉(zhuǎn)印輥641的中心線與版PP的端部大致相同的位置、或與其相比略微向(-X)方向偏移的位置。在該狀態(tài)下，如圖12(b)所示，使轉(zhuǎn)印輥641進(jìn)一步上升并抵接于橡皮布BL的下表面，對該被抵接的位置的橡皮布BL局部地向上方推頂。由此，以規(guī)定的推擠力將版PP的下表面推擠至橡皮布BL (更嚴(yán)格來說為承載在橡皮布BL的圖案形成材料的涂布層PT)。轉(zhuǎn)印輥641在Y方向比版PP (及有效區(qū)域)長，版PP的下表面中的從Y方向上的一端至另一端的沿Y方向的細(xì)長的區(qū)域與橡皮布BL抵接。
[0243]這樣，在轉(zhuǎn)印輥641推擠橡皮布BL的狀態(tài)下，升降機構(gòu)644向(+X)方向移行，由此，使橡皮布BL的推頂位置向(+X)方向移動。這時，為了防止手625與轉(zhuǎn)印輥641接觸，如圖12(c)所示，關(guān)于與轉(zhuǎn)印輥641的X方向距離成為規(guī)定值以下的手625，使其向下方退避到至少該手625的上表面625a低于支撐框架642的下表面的位置。
[0244]由于已解除手625的吸附，因此不會發(fā)生橡皮布BL與手625的下降一并朝下方降低的情況。而且，使開始下降的時間點(timing)與轉(zhuǎn)印輥641的移行同步地適當(dāng)管理，由此，也可防止失去手625的支撐的橡皮布BL因自重而向下方垂下。
[0245]圖13 (a)、圖13 (b)、圖13 (C)中表示轉(zhuǎn)印輥641的移行過程。暫時抵接的版PP與橡皮布BL維持經(jīng)由圖案形成材料的涂布層PT而密接的狀態(tài)，因此，如圖13(a)所示，伴隨轉(zhuǎn)印輥641的移行，版PP與橡皮布BL密接的區(qū)域逐漸朝(+X)方向擴大。此時，如該圖所示，隨著轉(zhuǎn)印輥641接近而使手625依序下降。
[0246]這樣一來，最終，如圖13(b)所示，所有手625均下降，轉(zhuǎn)印輥641到達(dá)下平臺61下方的(+X)側(cè)端部附近。在該時間點，轉(zhuǎn)印輥641到達(dá)版PP的(+X)側(cè)端部的大致正下方或比其略微靠(+X)側(cè)的位置，版PP的下表面全部抵接于橡皮布BL上的涂布層PT。
[0247]在轉(zhuǎn)印輥641維持固定的高度移行的期間，橡皮布BL下表面中的受到轉(zhuǎn)印輥641推擠的區(qū)域的面積是固定的。因此，升降機構(gòu)644 —面提供固定的荷重一面使轉(zhuǎn)印輥641擠壓在橡皮布BL，由此，在版PP與橡皮布BL之間夾著圖案形成材料的涂布層PT，并且以固定的推擠力相互推擠。由此，可良好地進(jìn)行從版PP到橡皮布BL的圖案化。
[0248]此外，在圖案化時，理想的是可有效地利用版PP的表面區(qū)域整體，但在版PP的周緣部會不可避免地產(chǎn)生因損傷或搬送時與手接觸而無法有效利用的區(qū)域。如圖13(b)所示，在將除版PP的端部區(qū)域以外的中央部分設(shè)為作為版而有效地發(fā)揮功能的有效區(qū)域AR時，理想的是，至少在有效區(qū)域AR內(nèi)轉(zhuǎn)印輥641的推擠力及移行速度是固定的。為此，轉(zhuǎn)印輥641的Y方向長度必須長于該方向上的有效區(qū)域AR的長度。而且，在X方向，理想的是從比HO方向上的有效區(qū)域AR的端部更靠(-X)側(cè)位置開始轉(zhuǎn)印輥641的移行，且在至少到達(dá)(+X)方向上的有效區(qū)域AR的端部之前維持固定速度。與版PP的有效區(qū)域AR對向的橡皮布BL的表面區(qū)域成為橡皮布BL側(cè)的有效區(qū)域。
[0249]圖14表示版或基板與橡皮布的位置關(guān)系。更具體來說，該圖是從上方觀察版PP或基板SB抵接于橡皮布BL時的位置關(guān)系的俯視圖。如圖所示，橡皮布BL具有大于版PP或基板SB的平面尺寸。橡皮布BL中的在圖中標(biāo)注有點且靠近周緣部的區(qū)域Rl是在由下平臺61保持時抵接于下平臺上表面61a的區(qū)域。關(guān)于比其靠內(nèi)側(cè)的區(qū)域，是以下表面敞開的狀態(tài)，將橡皮布BL保持于下平臺61。
[0250]版PP與基板SB的尺寸大致相同，且它們的尺寸小于下平臺61的開口窗尺寸。而且，在實際的圖案形成中被有效使用的有效區(qū)域AR小于版PP或基板SB的尺寸。因此，橡皮布BL中的對應(yīng)于有效區(qū)域AR的區(qū)域是下表面敞開并面向下平臺61的開口窗611的狀態(tài)。
[0251]附有影線(hatching)的區(qū)域R2表示橡皮布BL下表面中的同時受到轉(zhuǎn)印棍641推擠的區(qū)域(推擠區(qū)域)。推擠區(qū)域R2是在輥延伸設(shè)置方向、即Y方向延伸的細(xì)長的區(qū)域，其Y方向上的兩端部分別延伸至比版PP或基板SB的端部更靠外側(cè)為止。因此，當(dāng)轉(zhuǎn)印輥641以與橡皮布BL下表面平行的狀態(tài)推擠橡皮布BL時，其推擠力在從Y方向上的有效區(qū)域AR的其中一端部至另一端部之間在Y方向上一致。
[0252]這樣一面在Y方向?qū)τ行^(qū)域AR提供均勻的推擠力一面使轉(zhuǎn)印輥641在X方向移動，由此，在整個有效區(qū)域AR內(nèi)，利用均勻的推擠力使版PP或基板SB與橡皮布BL相互推擠。由此，可防止因不均勻的推擠而造成的圖案損傷，而形成優(yōu)質(zhì)的圖案。
[0253]當(dāng)這樣使轉(zhuǎn)印輥641到達(dá)(+X)側(cè)端部時，使轉(zhuǎn)印輥641停止移行，并且如圖13(c)所示使轉(zhuǎn)印輥641退避至下方。由此，轉(zhuǎn)印輥641與橡皮布BL下表面相隔而結(jié)束圖案化處理。
[0254]返回到圖7，當(dāng)這樣結(jié)束圖案化處理時，搬出版PP及橡皮布BL(步驟S106)。圖15 (a)、圖15(b)、圖15(c)表示版及橡皮布的搬出的過程。首先，如圖15(a)所示，使在圖案化處理時下降的各手625再次上升，定位在上表面625a成為與下平臺61的上表面61a相同高度的位置。在該狀態(tài)下，解除上平臺41的吸附墊443對版PP的吸附(在利用吸附槽或吸附孔進(jìn)行吸附保持的情況下，是利用吸附槽或吸附孔進(jìn)行的吸附)。由此，解除上平臺41對版PP的保持，版PP與橡皮布BL經(jīng)由圖案形成材料的涂布層PT —體化而成的積層體殘留在下平臺61上。積層體的中央部由手625支撐。
[0255]接著，如圖15 (b)所示，使上平臺41上升而形成寬敞的處理空間SP，解除利用下平臺61的槽612所進(jìn)行的吸附，并且使手625進(jìn)一步上升并移動至下平臺61的更上方。這時，優(yōu)選的是利用手625吸附保持積層體。[0256]這樣一來，可實現(xiàn)從外部的進(jìn)出。因此，如圖15(c)所示，從外部接收橡皮布用手HB，進(jìn)行與搬入時相反的動作，由此將密接著版PP的狀態(tài)下的橡皮布BL搬出到外部。只要利用適當(dāng)?shù)膭冸x設(shè)備將以所述方式密接的版PP從橡皮布BL剝離，便可在橡皮布BL上形成規(guī)定的圖案。
[0257]接下來，對將形成在橡皮布BL上的圖案轉(zhuǎn)印至作為其最終目的物的基板SB的情況進(jìn)行說明。該步驟基本上與圖案化處理的情況相同。即，如圖7所示，首先將基板SB設(shè)置在上平臺41 (步驟S107)，接著將已形成圖案的橡皮布BL設(shè)置于下平臺61 (步驟S108)。接著，在對基板SB與橡皮布BL進(jìn)行了預(yù)對準(zhǔn)處理及間隙調(diào)整后(步驟S109、步驟SI 10)，使轉(zhuǎn)印輥641在橡皮布BL下部移行，由此將橡皮布BL上的圖案轉(zhuǎn)印至基板SB (轉(zhuǎn)印處理；步驟S112)。在轉(zhuǎn)印結(jié)束后，將一體化的橡皮布BL與基板SB搬出并結(jié)束處理(步驟S113)。這一系列的動作也與圖8(a)、圖8(b)、圖8(c)至圖15 (a)、圖15(b)、圖15(c)所示的動作相同。此外，當(dāng)在這些圖中將版PP替換為基板SB時，符號PT意味著圖案化處理后的圖案。
[0258]然而，在轉(zhuǎn)印處理中，為了將圖案適當(dāng)?shù)剞D(zhuǎn)印至基板SB的規(guī)定位置，在使基板SB與橡皮布BL抵接之前對兩者執(zhí)行更精密的位置對準(zhǔn)(精密對準(zhǔn)處理)(步驟S111)。圖11(c)表示該過程。
[0259]在圖1中省略了記載，但在該圖案形成裝置I中，設(shè)置著由從底座框架21向(+Z)方向豎立設(shè)置的支撐柱支撐的精密對準(zhǔn)相機27。精密對準(zhǔn)相機27是以其光軸鉛垂朝上的方式設(shè)置著共四臺，以便通過下平臺61的開口窗611分別對基板SB的四角進(jìn)行拍攝。
[0260]在基板SB的四角預(yù)先形成著成為位置基準(zhǔn)的對準(zhǔn)標(biāo)記(基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記)，另一方面，在橡皮布BL的與該對準(zhǔn)標(biāo)記對應(yīng)的位置，形成著橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記作為利用版PP而圖案化的圖案的一部分。在精密對準(zhǔn)相機27的同一視場內(nèi)對它們進(jìn)行拍攝，通過檢測它們的位置關(guān)系而求出兩者的位置偏移量，求出用于修正該偏移量的橡皮布BL的移動量。利用對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605，使對準(zhǔn)平臺601按所求出的移動量移動，由此，上平臺61在水平面內(nèi)移動，修正基板SB與橡皮布BL的位置偏移。
[0261]以使基板SB與橡皮布BL隔著微小的間隙G而對向的狀態(tài)，且利用同一相機拍攝形成在各者的對準(zhǔn)標(biāo)記，由此，可對基板SB與橡皮布BL進(jìn)行高精度的位置對準(zhǔn)。這就意味著，所述對準(zhǔn)處理可謂比個別地拍攝基板SB及橡皮布BL而進(jìn)行位置調(diào)整的情況下的精度更高的精密對準(zhǔn)處理。在該狀態(tài)下使兩者抵接，由此，在本實施方式中，可在基板SB的規(guī)定位置形成高精度地進(jìn)行位置對準(zhǔn)的圖案。而且，通過預(yù)先對基板SB及橡皮布BL進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)處理，可將分別形成在基板SB及橡皮布BL上的對準(zhǔn)標(biāo)記定位在精密對準(zhǔn)相機27的視場內(nèi)。
[0262]此外，在利用版PP向橡皮布BL形成圖案時，未必需要那樣精密的對準(zhǔn)處理。這是因為通過將橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記與圖案一起預(yù)先形成在版PP上，不會使形成在橡皮布BL上的圖案與橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記之間產(chǎn)生位置偏移，只要利用橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記與基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記完成精密對準(zhǔn)，則版PP與橡皮布BL的少許的位置偏移不會影響到圖案形成。就該方面而言，在圖案化處理中僅執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)處理。
[0263]以下更詳細(xì)地說明對準(zhǔn)處理。如上所述，在本實施方式中，能以使基板SB與橡皮布BL隔著微小的間隙G (例如G=300 μ m)而對向的狀態(tài)，進(jìn)行兩者間的對準(zhǔn)調(diào)整、即相對的位置對準(zhǔn)。因此，能以極高的位置精度(例如±3 μ m左右)使基板SB的位置對準(zhǔn)橡皮布BL。
[0264]圖16(a)、圖16(b)是用以說明對準(zhǔn)處理的原理的圖。如圖16(a)所示，在由上平臺41保持的基板SB的下表面、即靠近圖案的被轉(zhuǎn)印面的四角的位置，預(yù)先形成著成為位置基準(zhǔn)的適當(dāng)形狀的對準(zhǔn)標(biāo)記(基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記)AMs。另一方面，在由下平臺61保持的橡皮布BL的上表面、即圖案承載面，利用圖案形成材料而形成著適當(dāng)形狀的對準(zhǔn)標(biāo)記(橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記)AMb。更詳細(xì)來說，預(yù)先在版PP上與應(yīng)形成的圖案一并地形成對準(zhǔn)標(biāo)記AMb，當(dāng)利用版PP使橡皮布BL上的由圖案形成材料形成的涂布層PT圖案化時，對準(zhǔn)標(biāo)記AMb與圖案一并形成在橡皮布BL上。
[0265]因此，在圖案化后的橡皮布BL上，形成著應(yīng)轉(zhuǎn)印至基板SB的圖案及對準(zhǔn)標(biāo)記AMb，它們之間的位置關(guān)系被固定。因此，通過對基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs與橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記Amb進(jìn)行位置對準(zhǔn)，而間接且準(zhǔn)確地規(guī)定基板SB與應(yīng)轉(zhuǎn)印至該基板SB的圖案的相對位置。
[0266]具體來說，如圖16(a)所示，在下平臺61的開口部611的內(nèi)側(cè)，利用配置在橡皮布BL的下方的對準(zhǔn)相機27，經(jīng)由橡皮布BL而對形成在橡皮布BL的上表面的橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb、及形成在基板SB的下表面的基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs進(jìn)行拍攝。橡皮布BL例如為以石英玻璃為主要材料且具有光透過性。這時，如圖16(b)所示，使同一視場FV內(nèi)包含兩個對準(zhǔn)標(biāo)記AMs、對準(zhǔn)標(biāo)記AMb。
[0267]所拍攝的圖像由控制單元8的圖像處理部805進(jìn)行圖像處理，且檢測兩對準(zhǔn)標(biāo)記AMs、對準(zhǔn)標(biāo)記AMb的相對位置。如圖16(b)所示,通過使兩個對準(zhǔn)標(biāo)記AMs、對準(zhǔn)標(biāo)記AMb的形狀互不相同，它們的識別變得容易。而且，在將兩個對準(zhǔn)標(biāo)記AMs、對準(zhǔn)標(biāo)記AMb位于同一視場FV而得的圖像內(nèi)進(jìn)行位置檢測，由此可高精度地求出兩個對準(zhǔn)標(biāo)記AMs、對準(zhǔn)標(biāo)記AMb間的相對位置。通過對分別設(shè)置在基板SB的四角的對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行這種拍攝及位置檢測，而求出基板SB與橡皮布BL之間的位置偏移量。此外，原理上可使用基板SB及橡皮布BL各自的一部位的對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行位置對準(zhǔn)，但通過至少在各自的兩個部位以上形成對準(zhǔn)標(biāo)記且對其進(jìn)行拍攝而進(jìn)行位置對準(zhǔn)，可實現(xiàn)更高精度的位置對準(zhǔn)。
[0268]為了消除(cancel)所求出的位置偏移量，對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605使對準(zhǔn)平臺601 (圖3)在水平面內(nèi)移動。由此，下平臺61在XY Θ方向水平移動必要量，而實現(xiàn)基板SB與橡皮布BL (更準(zhǔn)確來說為橡皮布BL上的圖案)的精密的位置對準(zhǔn)。
[0269]為了高精度地進(jìn)行這種精密對準(zhǔn)，必須提高對準(zhǔn)標(biāo)記的位置檢測中的分辨率，為此必須在相對高的倍率下進(jìn)行拍攝。在高倍率的拍攝中視場FV變狹窄，因此為了將基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs與橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb位于同一視場內(nèi)，必須在精密對準(zhǔn)之前先使基板SB與橡皮布BL的相對位置在某種程度上(例如以數(shù)十μ m左右的位置精度)吻合。
[0270]然而，在來自裝置外部的基板SB及橡皮布BL的交接時間點不容易實現(xiàn)這種位置精度，即便如圖3所示設(shè)置擋塊構(gòu)件613來進(jìn)行位置限制，也有例如因各構(gòu)件的尺寸偏差而導(dǎo)致未達(dá)到所需的位置精度的情況。尤其是當(dāng)基板SB或橡皮布BL變得大型時，它們變得容易彎曲且尺寸偏差也變大，另一方面，由于重量增加，所以利用機械性的對接而進(jìn)行的位置限制在精度方面受到極限。
[0271]為了用于這種相對粗略的位置對準(zhǔn)而使對準(zhǔn)相機27的倍率及視場FV可變的情況可能會成為反而使精密對準(zhǔn)用的拍攝時的拍攝位置精度降低的原因，因此并非優(yōu)選。這是因為通過使倍率可變而容易發(fā)生光學(xué)系統(tǒng)的光軸偏移、高倍率時的光量不足及圖像失真等。因此，在本實施方式中，在精密對準(zhǔn)之前先執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)，由此，將基板SB與橡皮布BL的相對位置對準(zhǔn)至兩個對準(zhǔn)標(biāo)記AMs、對準(zhǔn)標(biāo)記AMb位于對準(zhǔn)相機27的同一視場內(nèi)的程度為止。關(guān)于對準(zhǔn)相機27的攝像光學(xué)系統(tǒng)，倍率及視場FV被固定。
[0272]圖17及圖18(a)、圖18(b)是用以說明本實施方式的預(yù)對準(zhǔn)的原理的圖。更詳細(xì)來說，圖17是表示利用預(yù)對準(zhǔn)相機的橡皮布BL的拍攝范圍的圖，圖18(a)、圖18(b)是說明基于利用預(yù)對準(zhǔn)相機所拍攝的圖像的位置對準(zhǔn)的原理的圖。
[0273]如上所述，在本實施方式中，在裝置上部總共設(shè)置著六臺預(yù)對準(zhǔn)相機241?預(yù)對準(zhǔn)相機246。其中，三臺相機241?相機243是用于檢測基板SB的外緣的基板用預(yù)對準(zhǔn)相機。而且，另外三臺相機244?相機246是用于檢測橡皮布BL的外緣的橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機。這些相機可為倍率低于精密對準(zhǔn)用對準(zhǔn)相機27的相機，這樣一來，可確保廣泛的視場。而且，關(guān)于分辨率也可為更低的分辨率，由此可抑制裝置成本的上升。
[0274]利用基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241?基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243而進(jìn)行的基板SB的位置檢測及基于該位置檢測的位置對準(zhǔn)、及利用橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244?橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246而進(jìn)行的橡皮布BL的位置檢測及基于該位置檢測的位置對準(zhǔn)在原理上是相同的。以下，以基于橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244?橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246的拍攝結(jié)果的橡皮布BL的位置對準(zhǔn)為例說明其原理。
[0275]如圖17所示，橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244?橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246分別對橡皮布BL的四邊中的(+X)側(cè)的外緣的兩個部位、及(+Y)側(cè)的外緣的一部位進(jìn)行拍攝。在圖中，區(qū)域IR1、區(qū)域IR2及區(qū)域IR3分別表示相機246、相機244及相機245的拍攝范圍。通過分別拍攝靠近橡皮布BL的角部的外緣，可提高位置對準(zhǔn)精度。
[0276]通過分別拍攝形成橡皮布BL的外緣的四邊中的、相互不平行的兩條邊的一部分，可獨立地求出X方向及Y方向的二維的橡皮布BL的位置偏移量。而且，對同一邊或相互平行的邊中的兩個部位以上進(jìn)行拍攝，由此可求出Θ方向上的橡皮布BL的傾斜量。
[0277]在圖18(a)中，拍攝范圍IR1、拍攝范圍IR2的X方向位置略微不同。該情況下，假定有可能因零件的尺寸精度等而導(dǎo)致各相機的安裝位置發(fā)生偏移，為了表示即便在包含這種相機間的若干位置偏移的狀態(tài)下，也可進(jìn)行橡皮布的位置對準(zhǔn)，而表示這種圖示。
[0278]參照圖18對基于拍攝結(jié)果的位置對準(zhǔn)的原理進(jìn)行說明。首先，假定處在無位置偏移的設(shè)計上的理想位置(目標(biāo)位置)的橡皮布BLi，如圖18(a)所示，將在利用各相機244?相機246拍攝這種橡皮布BLi的情況下的橡皮布端部的位置登錄為基準(zhǔn)值。具體來說，將從相機246的拍攝范圍IRl的一端到橡皮布BLi的(+X)側(cè)端部為止的X方向距離X10、相機244的拍攝范圍IR2中的從該拍攝范圍IR2的一端到橡皮布BLi的(+X)側(cè)端部為止的X方向距離X20、及從相機245的拍攝范圍IR3的一端到橡皮布BLi的(+Y)側(cè)端部為止的Y方向距離Y30登錄為基準(zhǔn)值。只要各相機的位置不變更，基準(zhǔn)值的登錄就無需更新。
[0279]接下來，在實際上已搬入橡皮布BL的狀態(tài)下，利用橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244?橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246分別拍攝橡皮布BL的端部。圖18(b)表不其一例，一般來說,在這樣從理想位置偏移的狀態(tài)下將橡皮布BL載置于下平臺61。求出這時的從相機246的拍攝范圍IRl的一端至橡皮布BL的(+X)側(cè)端部為止的X方向距離XI1、相機244的拍攝范圍IR2中的從該拍攝范圍IR2的一端至橡皮布BL的(+X)側(cè)端部為止的X方向距離X21、及從相機245的拍攝范圍IR3的一端至橡皮布BL的(+Y)側(cè)端部為止的Y方向距離Y31。[0280]如果橡皮布BL無位置偏移，則這些值XI1、X21、Y31分別與基準(zhǔn)值X10、基準(zhǔn)值X20、基準(zhǔn)值Y30—致，但一般來說成為不同的值。所述值距離基準(zhǔn)值的差表示橡皮布BL的偏移量的大小。即，值Y31與值Y30的差對應(yīng)于橡皮布BL的Y方向上的位置偏移量。而且，值Xll與值XlO的差、及值X21與值X20的差均對應(yīng)于橡皮布BL的X方向的位置偏移量。進(jìn)而，值(X20-X10)與值(X21-X11)的差對應(yīng)于繞Z軸、S卩Θ方向的橡皮布BL的位置偏移量(傾斜)。這樣將理想狀態(tài)下的橡皮布外緣位置登錄為基準(zhǔn)值，求出對于該位置的相對的位置偏移量，由此，對各相機的絕對的位置不要求精度。即，無需嚴(yán)格地管理相機的安裝位置，只要有可使每次搬入的位置不一致的橡皮布BL的外緣穩(wěn)定地位于視場內(nèi)的程度的位置精度即可。
[0281]根據(jù)這些值，在X方向、Y方向及Θ方向的各個方向求出橡皮布BL相對于理想位置的位置偏移量，且求出用來消除該位置偏移的橡皮布BL的水平移動量并使橡皮布BL移動，由此可對橡皮布BL進(jìn)行位置對準(zhǔn)。也可重復(fù)進(jìn)行位置檢測及移動直至將橡皮布BL定位在理想位置為止。關(guān)于由上平臺41保持的基板SB或版PP，也能以同樣的方式進(jìn)行定位。
[0282]即便在基于利用預(yù)對準(zhǔn)相機所拍攝的低倍率的圖像的位置對準(zhǔn)中，最終無法獲得所需的位置精度，也可利用所述方法充分實現(xiàn)至少將基板側(cè)、橡皮布側(cè)兩個對準(zhǔn)標(biāo)記位于對準(zhǔn)相機27的同一視場FV內(nèi)的程度的位置對準(zhǔn)。換言之，以至少將基板側(cè)、橡皮布側(cè)兩個對準(zhǔn)標(biāo)記位于對準(zhǔn)相機27的同一視場FV內(nèi)的方式預(yù)先設(shè)定橡皮布BL及基板SB的理想位置(目標(biāo)位置)，其后進(jìn)行所述的預(yù)對準(zhǔn)處理。
[0283]此外，關(guān)于基于預(yù)對準(zhǔn)相機的拍攝結(jié)果的基板SB或橡皮布BL的移動，只要為版PP (或基板SB)及橡皮布BL的搬入后且早于精密對準(zhǔn)，則可在任意的時間點執(zhí)行。在本實施方式中，在搬入版PP (或基板SB)及橡皮布BL后，在進(jìn)行間隙調(diào)整之前執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)處理。這是為了防止如下情況:在利用基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241?基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243檢測版PP或基板SB的端部時，在背后的接近位置存在橡皮布BL，因此成為干擾。另一方面，如果在執(zhí)行版PP (或基板SB)與橡皮布BL之間的間隙調(diào)整后進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)處理，則可更確實地防止在使間隙變化時可能發(fā)生的水平方向的位置偏移。
[0284]關(guān)于用于預(yù)對準(zhǔn)的基板SB的移動，是通過以下方式進(jìn)行:上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482使上平臺組件40移動，而使保持基板SB的上平臺41水平移動。另一方面，關(guān)于橡皮布BL的移動，是通過以下方式進(jìn)行:對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605使對準(zhǔn)平臺601移動而使保持橡皮布BL的下平臺61水平移動。這時，如圖11(a)所示，優(yōu)選的是各手625的上表面625a與橡皮布BL的下表面相隔。這是因為在本實施方式中升降手單元62、升降手單元63被固定在底座框架21上，當(dāng)對準(zhǔn)平臺601通過對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605的作動而水平移動時，各手625不與該對準(zhǔn)平臺601連動。
[0285]然而，有如下情況:如果為了該目的而使各手625下降，則橡皮布BL也隨之而向下方彎曲。只要在維持各手625的鉛垂方向位置的狀態(tài)下使氣體從手上表面625a的吸附孔625b噴出，便可維持橡皮布BL的水平姿勢,且可在橡皮布BL與手上表面625a之間形成微小的間隙。由此，可避免在橡皮布BL移動時摩擦手625。通過維持將橡皮布BL吸附保持在下平臺61的狀態(tài)，而防止橡皮布BL相對于下平臺61的移位。如圖11(c)所示，在精密對準(zhǔn)過程中的橡皮布BL的移動時，也可同樣地進(jìn)行。
[0286]并非使基板SB或橡皮布BL單獨移動，而是使它們在保持在上平臺41或下平臺61上的狀態(tài)下與平臺一并移動，由此可在維持它們的姿勢的狀態(tài)下移動，從而可防止因彎曲而造成的位置對準(zhǔn)精度的降低。
[0287]在這之前，對版PP (或基板SB)的預(yù)對準(zhǔn)簡單地進(jìn)行了說明，但以下，一面參照圖19 (a)、圖 19 (b)、圖 19 (c)至圖 22 (a)、圖 22 (b)、圖 22 (c)、圖 22 (d)，一面對版 PP 的預(yù)對準(zhǔn)處理進(jìn)行詳細(xì)敘述。此外，基板SB的預(yù)對準(zhǔn)處理也與以下進(jìn)行說明的版PP的預(yù)對準(zhǔn)處理相同，因此省略基板SB的預(yù)對準(zhǔn)處理的詳細(xì)說明。
[0288]圖19 (a)、圖19 (b)、圖19 (C)是示意性地表示上平臺區(qū)塊及基板用預(yù)對準(zhǔn)相機的大致構(gòu)成的圖。關(guān)于上平臺區(qū)塊4及基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241?基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243的構(gòu)成及配置是如上所述，如圖19(a)所示,支架(gantry)部包括上平臺41、增強框架42、梁狀結(jié)構(gòu)體43及支撐柱45、支撐柱46，且構(gòu)成為一面由上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482支撐一面可水平驅(qū)動。
[0289]此外，以下，為了將在X方向位置不同地設(shè)置在兩個部位的底板481彼此區(qū)分，設(shè)為以符號4811表不兩個底板481中的配置在(-X)側(cè)的一個底板，而且，以符號4812表不配置在(+X)側(cè)的一個底板。同樣地，為了將在X方向位置不同地設(shè)置在兩個部位的上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482彼此區(qū)分，設(shè)為以符號4821表示兩個上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482中的配置在(-X)側(cè)的一個支撐機構(gòu)，而且，以符號4822表不配置在(+X)側(cè)的一個支撐機構(gòu)。
[0290]圖20(a)、圖20(b)是示意性地表示(_X)側(cè)的上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)的構(gòu)成的圖。該上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)4821是沿X方向及Y方向驅(qū)動底板4811的雙軸平臺機構(gòu)。在上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)4821中，在基座構(gòu)件482a上，如圖20 (b)所示，固定有沿Y方向延伸的導(dǎo)軌482b，并且滑塊482c可在Y方向滑動自如地安裝于該導(dǎo)軌482b。而且，在滑塊482c上安裝著Y軸用滾珠螺桿支架(bracket) 482d。如圖20(a)所示，該Y軸用滾珠螺桿支架482d是沿X方向延伸設(shè)置，其(+X)側(cè)端部螺合在沿Y方向延伸的Y軸用滾珠螺桿482e。在Y軸用滾珠螺桿482e的(+Y)側(cè)端部，安裝著Y軸用馬達(dá)482f，當(dāng)Y軸用馬達(dá)482f相應(yīng)于來自馬達(dá)控制部802 (圖2)的動作指令而作動時，與此相應(yīng)地，Y軸用滾珠螺桿支架482d沿Y方向移動。Y軸移動部包括這些構(gòu)成。
[0291]而且，在Y軸用滾珠螺桿支架482d上設(shè)置著X軸移動部。該X軸移動部包括:線性導(dǎo)引件(linear guide)，使滑塊482h可在X方向滑動自如地安裝于沿X方向延伸的導(dǎo)軌482g ；X軸用滾珠螺桿482 j ；X軸用滾珠螺桿支架482k，螺合在該X軸用滾珠螺桿482 j ；以及X軸用馬達(dá)482m。在X軸移動部，以使導(dǎo)軌482g位于滑塊482h的上方的狀態(tài)將滑塊482h固定在Y軸用滾珠螺桿支架482d的(+X)側(cè)端部的上表面。而且，在導(dǎo)軌482g上安裝著X軸用滾珠螺桿支架482k。因此，如果連結(jié)于X軸用滾珠螺桿482j的(-X)側(cè)端部的X軸用馬達(dá)482m相應(yīng)于來自馬達(dá)控制部802 (圖2)的動作指令而作動，則X軸用滾珠螺桿支架482k相對于Y軸移動部在X軸方向移動。這樣一來，能以在Y軸移動部上積層著X軸移動部的形式構(gòu)成雙軸平臺機構(gòu)，且可使X軸用滾珠螺桿支架482k在X方向及Y方向移動。
[0292]而且,對X軸用滾珠螺桿支架482k經(jīng)由交叉滾輪軸承482η而安裝底板4811。因此，通過控制Y軸用馬達(dá)482f及X軸用馬達(dá)482m可將底板4811朝X方向及Y方向驅(qū)動。
[0293]圖21 (a)、圖21(b)是示意性地表示(+X)側(cè)的上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)的構(gòu)成的圖。該上平臺區(qū)塊支撐4822除如下兩個方面以外，還具有與上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)4821相同的構(gòu)成，所述兩個方面是指:在X軸移動部未設(shè)置滾珠螺桿機構(gòu)及X軸用馬達(dá)；以及代替X軸用滾珠螺桿支架482k而設(shè)置具有相同形狀的支架482p。因此，上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)4822可一面在X方向及Y方向移動自如地支撐底板4812 —面僅朝Y方向驅(qū)動該支撐底板4812。
[0294]返回到圖19(a)、圖19(b)、圖19(c)繼續(xù)說明。在本實施方式中使用的版PP及基板SB均為具有矩形形狀的板狀體，預(yù)對準(zhǔn)相機中的基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241、基板用預(yù)對準(zhǔn)相機242是與規(guī)定版PP及基板SB的形狀的四條邊El~邊E4中的(-X)側(cè)的長邊El對應(yīng)地設(shè)置并分別拍攝(-X)側(cè)的外緣的兩個部位，基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243是與(-Y)側(cè)的短邊E2對應(yīng)地設(shè)置并拍攝(-Y)側(cè)的外緣的一部位。在該圖(c)中，區(qū)域IR4、區(qū)域IR5、區(qū)域IR6分別表示相機241~相機243的拍攝范圍。這樣，通過分別拍攝靠近版PP的角部的外緣，可提聞預(yù)對準(zhǔn)中的定位精度。
[0295]在本實施方式中，分別拍攝相互不平行的兩條邊E1、邊E2的一部分的理由是為了獨立地求出版PP相對于X方向及Y方向的二維的目標(biāo)位置的位置偏移量。而且，在同一邊El拍攝兩個 部位以上的理由是為了求出Θ方向上的版PP相對于目標(biāo)位置的傾斜量，理想的是如本實施方式般利用長邊側(cè)。然而，并不限定于長邊側(cè)，也可為短邊側(cè)的邊E2、邊E4。而且，也可在相互平行的兩邊(例如邊El與邊E3、或邊E2與邊E4)的各者進(jìn)行拍攝，而求出傾斜量。
[0296]接下來，一面參照圖22 (a)、圖22 (b)、圖22 (C)、圖22 (d) 一面對版PP的預(yù)對準(zhǔn)處理進(jìn)行說明。圖22(a)、圖22(b)、圖22(c)、圖22(d)是示意性地表示版的預(yù)對準(zhǔn)處理的圖。在本實施方式中，預(yù)先將利用上平臺41保持的版PP定位在目標(biāo)位置，如圖22(a)所示，利用各相機241~相機243拍攝目標(biāo)位置的版PP，求出:
[0297]圖像IR4內(nèi)的長邊El的X方向上的位置X40 ；
[0298]圖像IR5內(nèi)的長邊El的X方向上的位置X50 ;及
[0299]圖像IR6內(nèi)的短邊E2的Y方向上的位置Y60 ；
[0300]進(jìn)而,包含位置X40、位置X50的偏移量Λ XO在內(nèi)，將這些值作為目標(biāo)位置信息記憶在控制單元8的記憶部(省略圖示)。這里，位置Χ40、位置Χ50無需一致，兩者也可偏移。而且，只要各相機241~相機243的位置不變更，這些目標(biāo)位置信息(Χ40、Χ50、Υ60、Λ Χ0)就無需更新。
[0301]接下來，當(dāng)實際搬入版PP時，控制單元8的CPU801是根據(jù)預(yù)先記憶在省略圖示的記憶部中的程序，基于相機241~相機243的拍攝結(jié)果而控制上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)4821、上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)4822，將版PP定位在目標(biāo)位置(版PP的預(yù)對準(zhǔn))。即，在版PP被交接到上平臺41并由上平臺41吸附保持的狀態(tài)下利用基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241~基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243分別拍攝版PP的端部。圖22(b)表示其一例，一般來說，是以這樣從目標(biāo)位置偏移的狀態(tài)，將版PP吸附保持在上平臺41。求出這時的利用相機241所拍攝的圖像IR4內(nèi)的長邊El的X方向上的位置Χ41、及利用相機242所拍攝的圖像IR5內(nèi)的長邊El的X方向上的位置Χ51。此外，該圖(b)中的符號Λ Xl表示位置X41、位置X51的偏移量。
[0302]這里，在不發(fā)生相對于目標(biāo)位置的位置偏移地將版PP吸附保持在上平臺41的情況下，所述位置Χ41、位置Χ51與目標(biāo)位置信息Χ40、目標(biāo)位置信息Χ50 —致且偏移量Λ Xl也與目標(biāo)位置信息Λ XO 一致，不僅如此，利用相機243所拍攝的圖像IR6內(nèi)的短邊Ε2的Y方向上的位置Υ61也與目標(biāo)位置信息Υ60 —致,但如圖22(b)所示,一般來說任一者均成為不同的值。[0303]因此,在本實施方式中，基于目標(biāo)位置信息X40、目標(biāo)位置信息X50、以及位置X41、位置X51，通過運算而求出版PP相對于目標(biāo)位置的傾斜量。而且，使Y軸用馬達(dá)482f、482f及X軸用馬達(dá)482m按該傾斜量進(jìn)行作動而使上平臺41在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)，從而修正傾斜。由此，例如圖22(c)所示，在傾斜修正后，利用相機241所拍攝的圖像IR4內(nèi)的長邊El的X方向上的位置X42、與利用相機242所拍攝的圖像IR5內(nèi)的長邊El的X方向上的位置X52的偏移量Λ Χ2是和目標(biāo)位置信息Λ XO 一致或大致一致。假設(shè)在偏移量Λ Χ2與目標(biāo)位置信息Λ XO的差異未成為規(guī)定值以內(nèi)的情況下，基于所述位置Χ42、位置Χ52，通過運算再次求出版PP相對于目標(biāo)位置的傾斜量，使Y軸用馬達(dá)482f、482f及X軸用馬達(dá)482m按該傾斜量進(jìn)行作動而使上平臺41在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)，從而修正傾斜?？赏ㄟ^重復(fù)所述處理直至偏移量Λ Χ2與目標(biāo)位置信息Λ XO 一致或大致一致并且所述差異成為規(guī)定值以內(nèi)為止，而準(zhǔn)確地修正版PP相對于目標(biāo)位置的傾斜。
[0304]當(dāng)以所述方式完成傾斜修正時，在傾斜修正后，基于利用相機241所拍攝的圖像IR4內(nèi)的長邊El的X方向上的位置Χ42(或位置Χ52)及目標(biāo)位置信息Χ40 (或Χ50)而算出X方向上的版PP的偏移量Xoff。而且，在修正傾斜后基于利用相機243所拍攝的圖像IR6內(nèi)的短邊Ε3的Y方向上的位置Υ62及目標(biāo)位置信息Υ60而算出Y方向上的版PP的偏移量Yoff。然后，使X軸用馬達(dá)482m按偏移量Xoff進(jìn)行作動，而使上平臺41在X方向偏移移動，并且使Y軸用馬達(dá)482f、482f按偏移量Yoff進(jìn)行作動，而使上平臺41在Y方向偏移移動。由此，如圖22(d)所示，將版PP定位在目標(biāo)位置，完成預(yù)對準(zhǔn)處理。此外，在假設(shè)在偏移修正后利用相機241所拍攝的圖像IR4內(nèi)的長邊El的X方向上的位置X43(或位置X53)與目標(biāo)位置信息X40(或X50)不一致而偏移量Xoff未成為規(guī)定值以內(nèi)；或在偏移修正后利用相機243所拍攝的圖像IR6內(nèi)的短邊E3的Y方向上的位置Y63與目標(biāo)位置信息Y60不一致而偏移量Yoff未成為規(guī)定值以內(nèi)的情況下,使發(fā)生偏移的一側(cè)的馬達(dá)作動而按該偏移量進(jìn)行偏移移動?？赏ㄟ^重復(fù)偏移修正直至偏移量Xoff、Yoff均成為規(guī)定值以內(nèi)為止，而準(zhǔn)確地修正版PP相對于目標(biāo)位置的偏移。以這種方式進(jìn)行版PP (或基板SB)的預(yù)對準(zhǔn)處理。
[0305]如上所述，在本實施方式中，使由下平臺61保持的橡皮布BL的上表面、及由上平臺41保持的版PP或基板SB的下表面相互擠壓而形成圖案，但在執(zhí)行該操作前，以保持在上平臺41的狀態(tài)進(jìn)行版PP或基板SB的向目標(biāo)位置的定位、即預(yù)對準(zhǔn)處理。因此，即便在利用版用手HP搬送版PP時、利用基板用手HS搬送基板SB時、將版PP或基板SB交接到上平臺41時發(fā)生位置偏移或在版PP或基板SB發(fā)生大幅度的彎曲，也可利用預(yù)對準(zhǔn)處理來消除，從而將版PP或基板SB確實地定位在目標(biāo)位置。結(jié)果，可提高圖案形成的精度。
[0306]而且，基于相機241?相機243的拍攝結(jié)果而進(jìn)行所述的傾斜修正及偏移修正，因此可將具有矩形形狀的版PP及基板SB準(zhǔn)確地定位在目標(biāo)位置。
[0307]進(jìn)而，在所述實施方式中，上平臺41的保持平面41a形成為略小于版PP及基板SB的各者的平面尺寸并吸附版PP及基板SB的中央部，以版PP及基板SB的外緣從保持平面41a伸出的狀態(tài)吸附保持版PP及基板SB。而且，相對于版PP及基板SB從與下平臺61為相反側(cè)的(+Z)側(cè)拍攝版PP及基板SB的外緣。因此，相機241?相機243可不干涉下平臺區(qū)塊地拍攝版PP及基板SB的外緣。
[0308]<第二實施方式>[0309]此外，在所述實施方式中，利用基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241?基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243及橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244?橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246分別拍攝基板SB (或版PP)及橡皮布BL的外緣部，基于其拍攝結(jié)果使上平臺41及下平臺61移動，由此進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)處理。在該情況下，基板SB與橡皮布BL的平面尺寸不同，因此，基板SB的外緣部與橡皮布BL的外緣部必須分別利用不同的相機進(jìn)行拍攝，而相機的數(shù)量變多。也可取代所述情況，而例如以如下方式，利用更少數(shù)量的相機執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)處理。
[0310]以下，對本發(fā)明的具有作為對準(zhǔn)裝置的功能的圖案形成裝置的第二實施方式進(jìn)行說明。第二實施方式的裝置是預(yù)對準(zhǔn)相機的配置及基于其拍攝結(jié)果的預(yù)對準(zhǔn)處理的原理與第一實施方式不同，另一方面，關(guān)于其他方面可設(shè)為與第一實施方式相同的構(gòu)成。因此，這里，對與第一實施方式相同的構(gòu)成標(biāo)注相同的符號并省略說明，主要對第二實施方式特有的構(gòu)成及動作進(jìn)行說明。然而，關(guān)于對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FV，為了與預(yù)對準(zhǔn)相機的拍攝范圍FV2區(qū)分而利用符號FVl表示。
[0311]在本實施方式的預(yù)對準(zhǔn)處理中，代替在第一實施方式中進(jìn)行的基板SB或橡皮布BL的外緣部的拍攝，而利用預(yù)對準(zhǔn)相機對形成在基板SB及橡皮布BL的對準(zhǔn)標(biāo)記、更具體來說為形成在基板SB的基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs及形成在橡皮布BL的橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb進(jìn)行拍攝。而且，基于其拍攝結(jié)果而使基板SB及橡皮布BL水平移動，使分別設(shè)置的對準(zhǔn)標(biāo)記移動到對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl內(nèi)。精密對準(zhǔn)處理的內(nèi)容與第一實施方式相同。
[0312]圖23(a)、圖23(b)是說明第二實施方式的裝置中的預(yù)對準(zhǔn)處理的圖。更具體來說，圖23(a)是示意性地表示第二實施方式的圖案形成裝置中的預(yù)對準(zhǔn)相機的配置的圖，圖23(b)是表示預(yù)對準(zhǔn)相機及對準(zhǔn)相機的拍攝范圍的圖。此外，在圖23(b)中表示與從下方仰視橡皮布BL的狀態(tài)對應(yīng)的座標(biāo)軸。
[0313]在本實施方式中，預(yù)對準(zhǔn)相機25設(shè)置在由下平臺61保持的橡皮布BL的下方，預(yù)對準(zhǔn)相機25是使其光軸AX2斜向上地配置。更詳細(xì)來說，
[0314]以光軸相對于橡皮布BL的下表面的法線具有角度α的傾斜的方式設(shè)置預(yù)對準(zhǔn)相機25。在該例中，光軸ΑΧ2向(+X)方向傾斜角度α。作為該角度α，適當(dāng)?shù)氖?0度至60
度左右。
[0315]另一方面，對準(zhǔn)相機27是以其光軸AXl與橡皮布BL的下表面正交的方式設(shè)置。對準(zhǔn)相機27包括作為攝像光學(xué)系統(tǒng)發(fā)揮功能的透鏡單元LU1、及例如包括電荷耦合元件(Charge Coupled Device,CCD)傳感器(sensor)或互補金屬氧化物半導(dǎo)體(ComplementaryMetal OXide Semiconductor, CMOS)傳感器等的拍攝元件IMl。透鏡單元LUl為放大光學(xué)系統(tǒng)，其倍率為預(yù)先規(guī)定的固定值。而且，預(yù)對準(zhǔn)相機25也包括透鏡單元LU2及拍攝元件頂2。
[0316]對準(zhǔn)相機27的透鏡單元LUl是例如具有10倍左右的倍率的放大光學(xué)系統(tǒng)，如圖23(b)所示，對準(zhǔn)相機27以高倍率拍攝相對狹窄的拍攝范圍FVI。另一方面，預(yù)對準(zhǔn)相機25的透鏡單元LU2具有0.5倍至I倍左右的倍率，以低倍率拍攝與對準(zhǔn)相機27相比更廣泛的拍攝范圍FV2。因此，即便拍攝元件IM1、拍攝元件IM2的分辨率為相同程度，對準(zhǔn)相機27也能以高分辨率進(jìn)行拍攝。
[0317]對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl與預(yù)對準(zhǔn)相機25的拍攝范圍FV2的相對的位置關(guān)系是預(yù)先規(guī)定的。如圖23(b)所示，優(yōu)選的是以預(yù)對準(zhǔn)相機25的拍攝范圍FV2包含對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl的方式設(shè)定兩個相機的位置。此外，理想的是對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl的大部分包含在預(yù)對準(zhǔn)相機25的拍攝范圍FV2內(nèi)，但也可為如一部分不包含在所述范圍在內(nèi)的位置關(guān)系。
[0318]由此，預(yù)對準(zhǔn)處理中的基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb是在預(yù)對準(zhǔn)相機25的拍攝范圍FV2內(nèi)移動。因此，可利用預(yù)對準(zhǔn)相機25來驗證在預(yù)對準(zhǔn)處理后對準(zhǔn)標(biāo)記移動到規(guī)定的位置的情況。而且，能以基板SB及橡皮布BL配置在靠近最終的目標(biāo)位置的位置的狀態(tài)下進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)處理。進(jìn)而，通過將利用預(yù)對準(zhǔn)相機25所拍攝的對準(zhǔn)標(biāo)記與利用對準(zhǔn)相機27所拍攝出的對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行對比，可驗證對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl與預(yù)對準(zhǔn)相機25的拍攝范圍FV2的位置關(guān)系。這些均有助于提高對準(zhǔn)標(biāo)記的位置檢測精度。
[0319]通過使預(yù)對準(zhǔn)相機25的光軸AX2設(shè)定在傾斜于橡皮布BL的下表面的方向，可使預(yù)對準(zhǔn)相機25與對準(zhǔn)相機27相互不干涉地進(jìn)行拍攝。即，可避免其中一個相機的構(gòu)成零件遮擋住另一個相機的視場。
[0320]而且，通過在相對于橡皮布BL及基板SB朝斜向配置預(yù)對準(zhǔn)相機25的狀態(tài)下進(jìn)行拍攝，與從垂直方向拍攝的情況相比，預(yù)對準(zhǔn)相機25所預(yù)估的橡皮布BL及基板SB的表面積增大，結(jié)果，拍攝范圍FV2在X方向延長。這樣的情況就對準(zhǔn)標(biāo)記的位置檢測精度的方面而言不利，但在使基板SB及橡皮布BL的大致位置吻合的預(yù)對準(zhǔn)處理中不成為問題。倒不如說，通過擴大拍攝范圍，而檢測基板側(cè)及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記的大致位置變得容易，且對基板SB及橡皮布BL的搬入時的位置偏差的容許范圍變寬，因此情況良好。
[0321]圖24(a)、圖24(b)是表示預(yù)對準(zhǔn)相機及對準(zhǔn)相機的聚焦范圍的圖。圖24(a)表示對準(zhǔn)相機27的聚焦范圍FRl。對準(zhǔn)相機27包括相對高倍率的透鏡單元LUl，且其景深相對淺。因此，鉛垂方向(Z方向)上的聚焦范圍FRI也相對狹窄，難以將隔著間隙G而對向配置的基板SB與橡皮布BL這兩者位于聚焦范圍內(nèi)。因此，有無法同時對基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs與橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb聚焦的情況。在本實施方式中，如圖24(a)所示，以將橡皮布BL的上表面位于聚焦范圍FRl內(nèi)并對橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb聚焦的方式，設(shè)定對準(zhǔn)相機27的Z方向位置。
[0322]結(jié)果，如果未對基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs聚焦，則在拍攝結(jié)果中失去特別高的空間頻率成分。作為基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs，只要使用包含大量相對低的空間頻率成分的圖形，則即便根據(jù)未聚焦的圖像也可至少對基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs的重心位置高精度地進(jìn)行檢測，且在對準(zhǔn)標(biāo)記問的位置對準(zhǔn)中不會產(chǎn)生障礙。為了實現(xiàn)所述內(nèi)容，如圖16(b)所示，例如可使基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs為實心圖形，且使橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb為中空圖形。
[0323]另一方面，關(guān)于預(yù)對準(zhǔn)相機25，由于透鏡單元LU2為低倍率，所以可使用更深的景深的相機，且如圖24(b)所示，可更擴大沿光軸方向的聚焦范圍FR2。因此，可在將設(shè)置在隔著間隙G而對向配置的基板SB與橡皮布BL的各者的基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs與橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb —并位于聚焦范圍內(nèi)的狀態(tài)下進(jìn)行拍攝。即，可在已對基板側(cè)及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記這兩者進(jìn)行聚焦?fàn)顟B(tài)下，在同一視場內(nèi)對它們進(jìn)行拍攝。因此，即便為分辨率并不那么高的相機，也可予以使用，而且，通過從斜方向的拍攝也可獲得實用上充分的位置檢測精度。
[0324]在例如使用包括倍率10倍、工作距離(working distance) 16mm的透鏡單元LUl及2 / 3英寸(inch)角尺寸的拍攝元件IMl的相機作為對準(zhǔn)相機27時，其拍攝范圍FVl為一邊小于1mm、更具體來說成為0.7mm至0.8mm左右。另一方面,在例如使用包括倍率0.5倍、景深6mm的透鏡單元LU2及I / 3英寸角尺寸的拍攝元件IM2的相機作為預(yù)對準(zhǔn)相機25,且將光軸的傾斜角α設(shè)為60度時，拍攝范圍FV2在長邊方向(X方向)成為16mm左右、在短邊方向(Y方向)成為12mm左右。而且，如果將間隙G設(shè)為300 μ m左右，則基板SB、橡皮布BL均處于聚焦范圍FR2內(nèi)的情況成為7mm角左右。認(rèn)為對從自外部搬入的基板SB及橡皮布BL檢測基板側(cè)及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記而言為充分的精度。
[0325]圖25是表示第二實施方式的對準(zhǔn)處理的流程圖。在第一實施方式的處理中，在進(jìn)行搬入至裝置的基板SB與橡皮布BL的間隙調(diào)整之前進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)處理，但在第二實施方式中必須使基板SB與橡皮布BL鄰近對向，因此在間隙調(diào)整后依序執(zhí)行預(yù)對準(zhǔn)處理及精密對準(zhǔn)處理。在圖中，步驟S202?S205的各處理步驟相當(dāng)于預(yù)對準(zhǔn)處理，步驟S206?S211的各處理步驟相當(dāng)于精密對準(zhǔn)處理。
[0326]S卩，當(dāng)利用間隙調(diào)整使基板SB與橡皮布BL隔著規(guī)定間隙G地對向配置時(步驟S201)，利用預(yù)對準(zhǔn)相機25進(jìn)行拍攝(步驟S202)，在同一視場內(nèi)拍攝基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb。這時，也假定任一個對準(zhǔn)標(biāo)記從拍攝范圍FV2偏離的案例，但利用上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482或?qū)?zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605的基板SB及橡皮布BL的可動范圍有極限，因此在這樣存在大的位置偏移的情況下也可作為誤差(eiror)進(jìn)行處理。
[0327]根據(jù)拍攝結(jié)果分別對基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb的位置進(jìn)行檢測(步驟S203)。這時，基板SB與橡皮布BL隔著間隙G而隔開，而且，由于從斜向進(jìn)行拍攝，所以在拍攝圖像中基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs的位置投影到與原本的水平方向位置不同的位置。在已對所述方面修正的情況下進(jìn)行位置檢測。該情況下的位置偏移僅表現(xiàn)為向X方向的固定量的位移，因此通過扣除相當(dāng)于該位移的程度，可容易地修正。可能會因間隙的偏差而產(chǎn)生少許的位置檢測誤差，但因之后進(jìn)行精密對準(zhǔn)處理，所以不成為問題。
[0328]當(dāng)檢測到基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb的位置時，分別算出用于使它們位于對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl內(nèi)所需的基板SB及橡皮布BL的移動量(步驟S204)，根據(jù)所求出的移動量，而使上平臺41及下平臺61移動(步驟S205)。在任一個對準(zhǔn)標(biāo)記已處在拍攝范圍FVl內(nèi)的情況下無需移動。由此,基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb均出現(xiàn)在對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl內(nèi)。
[0329]對準(zhǔn)相機27是在同一視場內(nèi)拍攝基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb (步驟S206)，根據(jù)該拍攝圖像而進(jìn)行各對準(zhǔn)標(biāo)記的位置檢測(步驟S207)。根據(jù)對準(zhǔn)標(biāo)記的位置關(guān)系可掌握基板SB與橡皮布BL的相對位置，且為了使這些位置關(guān)系為預(yù)先規(guī)定者而算出所需的橡皮布BL的移動量(步驟S208)。此處需要調(diào)整基板SB與橡皮布BL的相對的位置關(guān)系，且可為基板SB或橡皮布BL中的任一者移動。在本實施方式中，使下平臺61對應(yīng)于所求出的必要移動量而移動，由此使橡皮布BL移動(步驟S209)。
[0330]在移動后，重新進(jìn)行利用對準(zhǔn)相機27的拍攝，驗證基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs與橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb的相對位置(步驟S210)。對兩者的相對位置的誤差是否處在預(yù)先規(guī)定的適當(dāng)范圍內(nèi)進(jìn)行判斷(，步驟S211)，如果處在適當(dāng)范圍內(nèi)，則結(jié)束處理，另一方面，在并非如此的情況下，返回到步驟S208。重復(fù)循環(huán)(IOOp)處理直至位置的誤差如所述那樣位于適當(dāng)范圍內(nèi)。在對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605具有可利用一次移動而使對準(zhǔn)標(biāo)記移動到適當(dāng)范圍的程度的定位精度的情況下，可省略移動后的驗證及循環(huán)處理。
[0331]在基于以光軸AXl與橡皮布BL的下表面正交的方式配置的對準(zhǔn)相機27的拍攝結(jié)果的精密對準(zhǔn)處理中，間隙G的偏差不會給對準(zhǔn)標(biāo)記的位置檢測造成影響，因此可實現(xiàn)高精度的位置對準(zhǔn)。這時，通過預(yù)對準(zhǔn)處理而將基板側(cè)及橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs、AMb預(yù)先定位在拍攝范圍FVl內(nèi)，因此，可進(jìn)行拍攝范圍FVl狹窄的高倍率的拍攝。而且，無需使拍攝范圍可變，因此，可應(yīng)用倍率固定的攝像光學(xué)系統(tǒng)。因此，可不受在變更倍率時發(fā)生的光軸偏移或圖像的失真等的影響而進(jìn)行高分辨率的拍攝，且可由此而實現(xiàn)高精度的位置對準(zhǔn)。
[0332]在本實施方式中，在預(yù)對準(zhǔn)處理中使上平臺41及下平臺61分別移動必要量，由此使基板SB及橡皮布BL各自大致地位置對準(zhǔn)，其后，通過精密對準(zhǔn)處理使下平臺61移動必要量，由此僅使橡皮布BL移動，而更精密地與基板SB進(jìn)行相對的位置對準(zhǔn)。即，伴隨基板SB的移動的基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs的移動僅在預(yù)對準(zhǔn)處理中進(jìn)行，而且伴隨橡皮布BL的移動的橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb的移動是在預(yù)對準(zhǔn)處理及精密對準(zhǔn)處理這兩種處理中進(jìn)行。
[0333]圖26(a)、圖26(b)是表示伴隨對準(zhǔn)處理的對準(zhǔn)標(biāo)記的移動的形態(tài)的圖。如圖26(a)所示,在預(yù)對準(zhǔn)相機25的拍攝范圍FV2內(nèi)拍攝到的基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs是通過預(yù)對準(zhǔn)處理而移動到對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl內(nèi)的位置P1。另一方面，橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb是通過預(yù)對準(zhǔn)處理而移動到對準(zhǔn)相機27的拍攝范圍FVl內(nèi)的位置P2，進(jìn)而通過精密對準(zhǔn)處理而移動到最終的目標(biāo)位置P3。在該位置P3，與基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs的相對位置成為預(yù)先規(guī)定的位置。
[0334]這時，在橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb向位置P2的移動及向位置P3的移動過程中，理想的是其移動方向大致相同。即，在預(yù)對準(zhǔn)處理中，理想的是以橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb朝到達(dá)目標(biāo)位置即位置P3的路徑的中途位置或其附近位置移動的方式，使橡皮布BL移動。此外，在這些移動過程中移動方向無需完全相同，在將移動分解為X方向及Y方向成分時，在各成分中，只要兩次的移動方向相同即可。在圖26(a)的例子中，預(yù)對準(zhǔn)處理中的向位置P2的移動的X方向成分為(-X)方向。在該情況下，優(yōu)選的是使精密對準(zhǔn)處理中的向位置P3的移動的X方向成分也成為(-X)方向。關(guān)于Y方向成分也相同。其理由如下所述。
[0335]表示為比較例的圖26 (b)中表示在橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb在預(yù)對準(zhǔn)處理中朝(_X)方向及(-Y)方向移動而移動至位置P4后，在精密對準(zhǔn)處理中朝(-X)方向及(+Y)方向移動而移動至目標(biāo)位置P3的例子。這樣，就X方向及Y方向中的至少一者而言，在預(yù)對準(zhǔn)處理與精密對準(zhǔn)處理之間移動方向成為相反的情況下，可能會因移動機構(gòu)的后退而導(dǎo)致定位誤差變大。
[0336]如圖26(a)所示，使X方向、Y方向的各移動方向在預(yù)對準(zhǔn)處理與精密對準(zhǔn)處理之間相同，由此，可抑制因這種后退而導(dǎo)致的誤差，而可進(jìn)行更高精度的位置對準(zhǔn)。尤其是當(dāng)在精密對準(zhǔn)處理中省略循環(huán)處理的情況下，這樣的情況在提高精度上有效。
[0337]此外，這里，對使用一組預(yù)對準(zhǔn)相機25及對準(zhǔn)相機27的預(yù)對準(zhǔn)處理及精密對準(zhǔn)處理的原理進(jìn)行了說明，但為了獲得更高的位置對準(zhǔn)精度，更優(yōu)選的是分別設(shè)置多個所述預(yù)對準(zhǔn)相機25及對準(zhǔn)相機27，在互不相同的多個部位進(jìn)行拍攝。在本實施方式的圖案形成裝置中，將在矩形的四角分別設(shè)置著對準(zhǔn)標(biāo)記的基板SB作為處理對象物，與這些對應(yīng)地設(shè)置四臺對準(zhǔn)相機27。關(guān)于精密對準(zhǔn)處理，優(yōu)選的是使用四部位的對準(zhǔn)標(biāo)記中的三部位以上的位置檢測結(jié)果。
[0338]另一方面，從大致地位置對準(zhǔn)這一目的來看，預(yù)對準(zhǔn)相機25無需對應(yīng)于所有對準(zhǔn)標(biāo)記，例如兩臺左右即可獲得充分的精度。例如只要對應(yīng)于配置在基板SB的對角附近的兩個對準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)置兩臺預(yù)對準(zhǔn)相機25并進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)處理，即可獲得將對準(zhǔn)標(biāo)記定位在四臺對準(zhǔn)相機27的各者的拍攝范圍內(nèi)的程度的位置精度。
[0339]在這些情況下，基于對準(zhǔn)標(biāo)記的拍攝結(jié)果的基板SB及橡皮布BL的必要移動量理想的是使根據(jù)在多個部位的位置檢測結(jié)果分別求出的必要移動量平均而算出。
[0340]如上所述，在本實施方式中，在隔著微小的間隙G而對向配置的基板SB與橡皮布BL之間依序進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)處理及精密對準(zhǔn)處理，由此可實現(xiàn)兩者的高精度的位置對準(zhǔn)。而且，由以所述方式高精度地進(jìn)行位置對準(zhǔn)的狀態(tài)使基板SB與橡皮布BL密接，由此，可精度良好地將承載在橡皮布BL上的圖案轉(zhuǎn)印至基板SB的規(guī)定位置。
[0341 ] 此外，在從版PP對橡皮布BL的圖案化處理的步驟中，無法應(yīng)用所述第二實施方式的預(yù)對準(zhǔn)處理。這是因為在該時間點的橡皮布BL未形成有成為位置對準(zhǔn)的基準(zhǔn)的對準(zhǔn)標(biāo)記。因此，在圖案化處理時無法進(jìn)行版PP與橡皮布BL的位置對準(zhǔn)，但該方面不成為問題。這是因為可參照在基板SB與橡皮布BL的預(yù)對準(zhǔn)處理的階段分別形成的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置，因此不論承載在橡皮布BL上的圖案的位置如何，橡皮布BL上的圖案與基板SB的位置關(guān)系均可適當(dāng)?shù)乇３帧?br> [0342]< 其他 >
[0343]如以上的說明所述，在所述實施方式中，圖案形成裝置I為將本發(fā)明的“圖案形成裝置”及“對準(zhǔn)裝置”具體化而得的一個例子。而且，橡皮布BL相當(dāng)于本發(fā)明的“承載體”、“第一板狀體”，版PP相當(dāng)于本發(fā)明的“板狀體”、“第二板狀體”。而且，基板SB相當(dāng)于本發(fā)明的“被轉(zhuǎn)印體”、“板狀體”、“第二板狀體”。而且，橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb相當(dāng)于本發(fā)明的“第一對準(zhǔn)標(biāo)記”，另一方面，基板側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMs相當(dāng)于本發(fā)明的“第二對準(zhǔn)標(biāo)記”。
[0344]而且，在所述實施方式中，下平臺61作為本發(fā)明的“第一保持設(shè)備”而發(fā)揮功能，對準(zhǔn)平臺支撐機構(gòu)605作為本發(fā)明的“第一移動設(shè)備”而發(fā)揮功能。另一方面，上平臺41作為本發(fā)明的“第二保持設(shè)備”而發(fā)揮功能，并且其下表面41a相當(dāng)于“保持平面”，上平臺區(qū)塊支撐機構(gòu)482(4821、4822)作為本發(fā)明的“移動設(shè)備”、“第二移動設(shè)備”而發(fā)揮功能。而且，轉(zhuǎn)印輥單元64作為本發(fā)明的“推頂設(shè)備”而發(fā)揮功能。
[0345]而且，在所述實施方式中，控制單元8、基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241?基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243、橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244?橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246 —體地作為本發(fā)明的“預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備”而發(fā)揮功能，基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241?基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243具有作為“拍攝設(shè)備”、“預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部”的功能，橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機244?橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機246具有作為“預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部”的功能。而且，控制單元8及對準(zhǔn)相機27 —體地作為本發(fā)明的“精密對準(zhǔn)設(shè)備”而發(fā)揮功能，對準(zhǔn)相機27具有作為“精密對準(zhǔn)用拍攝部”、“主拍攝設(shè)備”的功能。進(jìn)而，第二實施方式的預(yù)對準(zhǔn)相機25作為本發(fā)明的“副拍攝設(shè)備”而發(fā)揮功能。
[0346]而且，在所述實施方式中，圖18(a)所示的理想的橡皮布BLi的位置相當(dāng)于本發(fā)明的“第一目標(biāo)位置”。雖然未圖示，但在將相同的想法應(yīng)用到基板SB時的理想的基板的位置相當(dāng)于本發(fā)明的“第二目標(biāo)位置”。
[0347]而且，在所述實施方式中，圖7的步驟S107?步驟S108相當(dāng)于本發(fā)明的“配置步驟”，步驟S109相當(dāng)于本發(fā)明的“預(yù)對準(zhǔn)步驟”。而且，步驟Slll相當(dāng)于本發(fā)明的“精密對準(zhǔn)步驟”。而且，步驟S112相當(dāng)于本發(fā)明的“轉(zhuǎn)印步驟”。而且，圖25所示的步驟S201相當(dāng)于本發(fā)明的“配置步驟”，另一方面，步驟S202?S205分別相當(dāng)于本發(fā)明的“預(yù)對準(zhǔn)步驟”，而且，步驟S206?S211分別相當(dāng)于本發(fā)明的“精密對準(zhǔn)步驟”。
[0348]此外，本發(fā)明并不限定于所述實施方式，只要在不脫離其意旨的范圍內(nèi)，即可除所述內(nèi)容以外進(jìn)行各種變更。例如，在所述實施方式中，分別設(shè)置三臺基板用預(yù)對準(zhǔn)相機及橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機，但并不限定于此，只要至少分別有兩臺以上即可。而且，同一相機也可兼具基板用預(yù)對準(zhǔn)相機及橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機的功能。
[0349]而且，在所述實施方式中，基板用及橡皮布用預(yù)對準(zhǔn)相機是分別對靠近基板及橡皮布的角部的外緣進(jìn)行拍攝，但拍攝位置并不限定于此。例如也可通過分別拍攝各個相互對向的兩邊或相互處于對角的關(guān)系的兩個角部，而求出基板或橡皮布的位置偏移量。而且，也可根據(jù)呈現(xiàn)在圖像中的外緣的傾斜而求出橡皮布的傾斜量。
[0350]而且，在所述實施方式中，使用在橡皮布BL上與圖案一并圖案化的橡皮布側(cè)對準(zhǔn)標(biāo)記AMb進(jìn)行精密對準(zhǔn)處理，但也可使用預(yù)先固定地形成在橡皮布BL的對準(zhǔn)標(biāo)記。然而，在該情況下，為了在基板SB的適當(dāng)位置進(jìn)行圖案形成，在從版PP向橡皮布BL的圖案化時也需要精密對準(zhǔn)。
[0351]而且，在所述實施方式的精密對準(zhǔn)處理中，通過使下平臺61水平移動而使橡皮布BL相對于基板SB移動，從而進(jìn)行位置對準(zhǔn)，但即便使基板SB與上平臺41 一并移動，技術(shù)上也為等效。而且，也可為使基板SB及橡皮布BL這兩者移動的構(gòu)成。
[0352]而且，所述實施方式為具有利用內(nèi)部開口且形成為邊框狀的下平臺61保持橡皮布BL的周緣部的構(gòu)成者，基于本發(fā)明的思想的對準(zhǔn)技術(shù)并不限定于此，例如也可對具有在平板狀的平臺載置橡皮布的構(gòu)成的圖案形成裝置應(yīng)用。
[0353]而且，例如，在所述實施方式中，利用三臺基板用預(yù)對準(zhǔn)相機241?基板用預(yù)對準(zhǔn)相機243拍攝版PP及基板SB的外緣，但相機的臺數(shù)或配設(shè)位置并不限定于所述實施方式，而且，關(guān)于拍攝的部位的個數(shù)或位置也不限定于所述實施方式，只要可對版PP及基板SB的外緣的至少一部分進(jìn)行拍攝并供預(yù)對準(zhǔn)，則為任意。
[0354]而且，在所述實施方式中，將預(yù)對準(zhǔn)分為傾斜修正及偏移修正這兩個階段執(zhí)行，但基于利用相機241?相機243而得的拍攝結(jié)果的修正方法并不限定于此，例如也可同時執(zhí)行傾斜修正及偏移修正。
[0355]而且，例如在所述實施方式中使基板SB及橡皮布BL保持為水平姿勢并對向，但本發(fā)明的對準(zhǔn)技術(shù)也可不論這些姿勢如何而進(jìn)行應(yīng)用。
[0356]而且，所述實施方式是應(yīng)用了本發(fā)明的對準(zhǔn)技術(shù)的圖案形成裝置，但本發(fā)明的應(yīng)用對象不僅限定于將圖案轉(zhuǎn)印至這種基板的裝置，也可應(yīng)用在需要使對向配置的兩片板狀體精密地位置對準(zhǔn)的各種用途中。例如在使所述專利文獻(xiàn)4中所記載的基板與標(biāo)記對向配置的情況、或例如電致發(fā)光(Electro Luminescence, EL)顯示裝置般夾隔規(guī)定的功能層而使兩片基板貼合的情況下的位置對準(zhǔn)中，可應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)思想。
[0357][產(chǎn)業(yè)上的可利用性]
[0358]本發(fā)明適宜應(yīng)用在要求使兩個物體高精度地位置對準(zhǔn)并對向的各種【技術(shù)領(lǐng)域】中。
【權(quán)利要求】
1.一種圖案形成裝置，其特征在于，包括: 第一保持設(shè)備，保持由圖案承載面承載圖案的承載體； 第二保持設(shè)備，以使被轉(zhuǎn)印面與所述承載體的所述圖案承載面對向的方式，保持包括被轉(zhuǎn)印所述圖案的所述被轉(zhuǎn)印面的被轉(zhuǎn)印體； 第一移動設(shè)備，使所述第一保持設(shè)備與所述圖案承載面平行地移動； 第二移動設(shè)備，使所述第二保持設(shè)備與所述被轉(zhuǎn)印面平行地移動； 預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備，拍攝由所述第一保持設(shè)備保持的所述承載體的外緣的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第一移動設(shè)備作動而將所述承載體定位在規(guī)定的第一目標(biāo)位置，并且拍攝由所述第二保持設(shè)備保持的所述被轉(zhuǎn)印體的外緣的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第二移動設(shè)備作動而將所述被轉(zhuǎn)印體定位在規(guī)定的第二目標(biāo)位置；以及 精密對準(zhǔn)設(shè)備，拍攝形成在定位于所述第一目標(biāo)位置的所述承載體的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及形成在定位于所述第二目標(biāo)位置的所述被轉(zhuǎn)印體的第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果使所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者作動，對所述承載體與所述被轉(zhuǎn)印體進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成裝置，其特征在于:所述精密對準(zhǔn)設(shè)備是在同一視場內(nèi)同時拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖案形成裝置，其特征在于:所述第一保持設(shè)備是保持所述承載體的周緣部，以使所述圖案承載面朝上的水平姿勢且以使比所述周緣部更靠內(nèi)側(cè)的中央部的下方敞開的狀態(tài)保持所述承載體，且 所述圖案形成裝置還包括推頂設(shè)備，所述推頂設(shè)備是通過從下方推頂所述承載體的所述中央部，而使承載于所述承載體的所述圖案抵接于所述被轉(zhuǎn)印體的所述被轉(zhuǎn)印面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成裝置，其特征在于:所述預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備包括拍攝所述承載體及所述被轉(zhuǎn)印體的外緣的預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部，另一方面，所述精密對準(zhǔn)設(shè)備包括以高于所述預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部的分辨率拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記的精密對準(zhǔn)用拍攝部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的圖案形成裝置，其特征在于:所述精密對準(zhǔn)用拍攝部包括倍率固定的攝像光學(xué)系統(tǒng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的圖案形成裝置，其特征在于:所述預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備包括多個所述預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部，多個所述預(yù)對準(zhǔn)用拍攝部分別拍攝所述承載體的外緣中的互不相同的多個部位及所述被轉(zhuǎn)印體的外緣中的互不相同的多個部位。
7.一種圖案形成裝置，其使由第一保持設(shè)備保持的承載體的主面中的可承載圖案的一面、與由第二保持設(shè)備保持的板狀體的一面相互擠壓而形成圖案；所述圖案形成裝置的特征在于，包括: 移動設(shè)備，使所述第二保持設(shè)備與所述板狀體的一面平行地移動； 拍攝設(shè)備，拍攝由所述第二保持設(shè)備保持的所述板狀體的外緣的至少一部分；以及 預(yù)對準(zhǔn)設(shè)備，在形成所述圖案前，基于所述拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果，在利用所述第二保持設(shè)備保持所述板狀體的狀態(tài)下使所述移動設(shè)備作動，將所述板狀體定位在目標(biāo)位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖案形成裝置，其特征在于:所述第二保持設(shè)備包括吸附保持所述板狀體的另一面的中央部的保持平面，且使所述板狀體的外緣從所述保持平面伸出而利用所述保持平面保持所述板狀體， 所述拍攝設(shè)備相對于所述板狀體從與所述第一保持設(shè)備為相反側(cè)的一側(cè)拍攝所述板狀體的外緣。
9.一種對準(zhǔn)裝置，其特征在于，包括: 第一保持設(shè)備，保持形成著第一對準(zhǔn)標(biāo)記且具有光透過性的第一板狀體，可使所述第一板狀體在與其主面平行的方向移動； 第二保持設(shè)備，使形成著第二對準(zhǔn)標(biāo)記的第二板狀體保持相對于所述第一板狀體平行且隔著規(guī)定的間隙而鄰近對向的狀態(tài)，可使所述第二板狀體在與其主面平行的方向移動； 主拍攝設(shè)備，相對于所述第一板狀體，以光軸與所述第一板狀體的主面正交的方式配置在與所述第二板狀體為相反側(cè)的一側(cè)，拍攝所述第一板狀體及所述第二板狀體；以及 副拍攝設(shè)備，相對于所述第一板狀體設(shè)置在與所述第二板狀體為相反側(cè)的一側(cè)，以比所述第一拍攝設(shè)備的拍攝范圍更廣泛的拍攝范圍對所述第一板狀體及所述第二板狀體進(jìn)行拍攝；且 基于所述副拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果，所述第一保持設(shè)備使所述第一板狀體移動定位在所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記處于所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍的位置，另一方面，基于所述副拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果，所述第二保持設(shè)備使所述第二板狀體移動定位在所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記處于所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍 的位置，進(jìn)而， 基于所述主拍攝設(shè)備的拍攝結(jié)果，所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者使所述第一板狀體與所述第二板狀體的相對位置變化，以使所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記相對于所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記的相對位置成為預(yù)先規(guī)定的目標(biāo)位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的對準(zhǔn)裝置，其特征在于:所述副拍攝設(shè)備的光軸與所述第一板狀體的主面斜交。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的對準(zhǔn)裝置，其特征在于:所述副拍攝設(shè)備的拍攝范圍包含所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍的至少一部分。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的對準(zhǔn)裝置，其特征在于:所述主拍攝設(shè)備包括倍率固定的放大光學(xué)系統(tǒng)。
13.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的對準(zhǔn)裝置，其特征在于:所述主拍攝設(shè)備具有高于所述副拍攝設(shè)備的分辨率。
14.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的對準(zhǔn)裝置，其特征在于:所述副拍攝設(shè)備的景深比所述主拍攝設(shè)備的景深更深，所述副拍攝設(shè)備使所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記均處于聚焦范圍而進(jìn)行拍攝。
15.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的對準(zhǔn)裝置，其特征在于:包括拍攝范圍彼此不同的多個所述主拍攝設(shè)備、以及拍攝范圍彼此不同的多個所述副拍攝設(shè)備。
16.一種圖案形成方法，其特征在于，包括: 配置步驟，利用第一保持設(shè)備保持承載圖案的承載體，并且利用第二保持設(shè)備保持被轉(zhuǎn)印所述圖案的被轉(zhuǎn)印體，使所述承載體的圖案承載面與所述被轉(zhuǎn)印體的被轉(zhuǎn)印面對向地配置； 預(yù)對準(zhǔn)步驟，拍攝所述承載體的外緣的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第一保持設(shè)備移動而將所述承載體定位在規(guī)定的第一目標(biāo)位置，并且拍攝所述被轉(zhuǎn)印體的外緣中的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第二保持設(shè)備移動而將所述被轉(zhuǎn)印體定位在規(guī)定的第二目標(biāo)位置；以及 精密對準(zhǔn)步驟，拍攝形成在所述承載體的第一對準(zhǔn)標(biāo)記及形成在所述被轉(zhuǎn)印體的第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果使所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者移動，對所述承載體與所述被轉(zhuǎn)印體進(jìn)行位置對準(zhǔn)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的圖案形成方法，其特征在于:在所述精密對準(zhǔn)步驟中，在同一視場內(nèi)同時拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的圖案形成方法，其特征在于:在所述精密對準(zhǔn)步驟中，將所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記處于進(jìn)行拍攝的拍攝部的視場內(nèi)的所述承載體的位置設(shè)為所述第一目標(biāo)位置，另一方面，將所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記處于所述拍攝部的視場內(nèi)的所述被轉(zhuǎn)印體的位置設(shè)為所述第二目標(biāo)位置。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的圖案形成方法，其特征在于:在所述預(yù)對準(zhǔn)步驟中，拍攝所述承載體的外緣中的互不相同的多個部位而求出所述承載體相對于所述第一目標(biāo)位置的第一位置偏移量，使所述第一保持設(shè)備相應(yīng)于所述第一位置偏移量進(jìn)行移動，另一方面，拍攝所述被轉(zhuǎn)印體的外緣中的互不相同的多個部位而求出所述被轉(zhuǎn)印體相對于所述第二目標(biāo)位置的第二位置偏移量，使所述第二保持設(shè)備相應(yīng)于所述第二位置偏移量進(jìn)行移動。
20.根據(jù)權(quán)利要求16至19中任一項所述的圖案形成方法，其特征在于:包括轉(zhuǎn)印步驟，所述轉(zhuǎn)印步驟是在所述精密對準(zhǔn)步驟后，使所述承載體與所述被轉(zhuǎn)印體抵接而將所述圖案從所述承載體轉(zhuǎn)印至所述被轉(zhuǎn)印體。
21.一種圖案形 成方法，其特征在于，包括: 第一步驟，在使承載體的主面中的可承載圖案的一面與板狀體的一面相互對向的狀態(tài)下，利用第一保持設(shè)備保持所述承載體，并且利用第二保持設(shè)備保持所述板狀體；以及 第二步驟，使所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者移動，使所述承載體的一面與所述板狀體的一面相互擠壓而形成圖案；且 所述第一步驟包括預(yù)對準(zhǔn)步驟，所述預(yù)對準(zhǔn)步驟是拍攝由所述第二保持設(shè)備保持的所述板狀體的外緣的至少一部分，基于其拍攝結(jié)果使所述第二保持設(shè)備在保持所述板狀體的狀態(tài)下與所述板狀體的一面平行地移動，而將所述板狀體定位在目標(biāo)位置。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的圖案形成方法，其特征在于:所述板狀體具有多邊形形狀，所述預(yù)對準(zhǔn)步驟包括: 傾斜修正步驟，拍攝作為規(guī)定所述板狀體的形狀的一條邊的第一邊上的互不相同的多個部位，基于其拍攝結(jié)果而修正所述板狀體相對于所述目標(biāo)位置的傾斜；以及 偏移修正步驟，拍攝規(guī)定所述傾斜經(jīng)修正的所述板狀體的形狀的邊中的與所述第一邊不平行的第二邊及所述第一邊，基于其拍攝結(jié)果而修正所述板狀體相對于所述目標(biāo)位置的偏移。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的圖案形成方法，其特征在于:還包括第三步驟，該第三步驟是對利用所述第二保持設(shè)備將所述板狀體保持在所述目標(biāo)位置時的所述第一邊及所述第二邊進(jìn)行拍攝，將根據(jù)其拍攝結(jié)果所獲得的與所述目標(biāo)位置有關(guān)的信息記憶為目標(biāo)位置信息， 所述傾斜修正步驟是如下的步驟:基于根據(jù)拍攝結(jié)果所獲得的與所述板狀體的位置有關(guān)的信息及所述目標(biāo)位置信息，求出所述板狀體相對于所述目標(biāo)位置的傾斜量，通過對應(yīng)于所述傾斜量的所述第二保持設(shè)備的移動，而修正所述板狀體相對于所述目標(biāo)位置的傾斜， 所述偏移修正步驟是如下的步驟:基于根據(jù)拍攝結(jié)果所獲得的與所述板狀體的位置有關(guān)的信息及所述目標(biāo)位置信息，求出所述板狀體相對于所述目標(biāo)位置的偏移量，通過對應(yīng)于所述偏移量的所述第二保持設(shè)備的移動，而修正所述板狀體相對于所述目標(biāo)位置的偏移。
24.根據(jù)權(quán)利要求21至23中任一項所述的圖案形成方法，其特征在于:所述板狀體為在一面設(shè)置著第一圖案的版， 所述第二步驟包括圖案化步驟，該圖案化步驟是在利用所述第一保持設(shè)備保持所述承載體后，不對所述第一保持設(shè)備、與通過所述預(yù)對準(zhǔn)步驟而定位在所述目標(biāo)位置的所述版進(jìn)行位置對準(zhǔn)，使所述承載體的一面與所述版的一面相互擠壓，而將所述第一圖案轉(zhuǎn)印至所述承載體的一面。
25.根據(jù)權(quán)利要求21至23中任一項所述的圖案形成方法，其特征在于:所述承載體包括第一對準(zhǔn)標(biāo)記，并且在所述承載體的所述一面設(shè)置著第二圖案，所述板狀體為包括第二對準(zhǔn)標(biāo)記的基板，所述第二步驟包括: 精密對準(zhǔn)步驟，對由所述第一保持設(shè)備保持的所述承載體的所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記、及通過所述預(yù)對準(zhǔn)步驟而定位在所述目標(biāo)位置的所述基板的所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行拍攝，基于其拍攝結(jié)果使所述第一保持設(shè)備及所述第二保持設(shè)備中的至少一者移動而對所述承載體與所述基板進(jìn)行位置對準(zhǔn)；以及 轉(zhuǎn)印步驟，在所述精密對準(zhǔn)步驟后，使所述承載體的一面與所述基板的一面相互擠壓而將所述第二圖案轉(zhuǎn)印至所述基板的一面。
26.—種對準(zhǔn)方法，其特征在于，包括: 配置步驟，使形成著第一對準(zhǔn)標(biāo)記且具有光透過性的第一板狀體、及形成著第二對準(zhǔn)標(biāo)記的第二板狀體相互平行地且隔著規(guī)定的間隙地鄰近對向配置，并且相對于所述第一板狀體，在與所述第二板狀體為相反側(cè)的一側(cè)，以光軸與所述第一板狀體的主面正交的方式配置主拍攝設(shè)備； 預(yù)對準(zhǔn)步驟，相對于所述第一板狀體，從與所述第二板狀體為相反側(cè)的一側(cè)，利用具有比所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍更廣泛的拍攝范圍的副拍攝設(shè)備，在同一視場內(nèi)拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記與所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果，將所述第一板狀體及所述第二板狀體定位在所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記均處于所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍的位置；以及 精密對準(zhǔn)步驟，利用所述主拍攝設(shè)備在同一視場內(nèi)拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記，基于其拍攝結(jié)果，使所述第一板狀體與所述第二板狀體相對移動，以使所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記相對于所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記的相對位置成為預(yù)先規(guī)定的目標(biāo)位置。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的對準(zhǔn)方法，其特征在于:使所述副拍攝設(shè)備的光軸與所述第二板狀體的主面斜交。
28.根據(jù)權(quán)利要求26或27所述的對準(zhǔn)方法，其特征在于:以包含所述主拍攝設(shè)備的拍攝范圍的至少一部分的方式設(shè)定所述副拍攝設(shè)備的拍攝范圍。
29.根據(jù)權(quán)利要求26或27所述的對準(zhǔn)方法，其特征在于:在所述預(yù)對準(zhǔn)步驟中，利用具有比所述主拍攝設(shè)備的景深更深的景深的所述副拍攝設(shè)備，使所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記均處于聚焦范圍而進(jìn)行拍攝。
30.根據(jù)權(quán)利要求26或27所述的對準(zhǔn)方法，其特征在于:關(guān)于所述第一板狀體及所述第二板狀體中的至 少一者，在所述預(yù)對準(zhǔn)步驟及所述精密對準(zhǔn)步驟中朝相同的方向移動。
【文檔編號】G03F7/00GK104007611SQ201410060525
【公開日】2014年8月27日 申請日期:2014年2月21日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月25日
【發(fā)明者】川越理史, 増市干雄, 上野博之, 上野美佳, 谷口和隆, 正司和大, 芝藤彌生, 田中哲夫, 陶山武史 申請人:大日本網(wǎng)屏制造株式會社