一種顯示基板及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種顯示基板及顯示裝置，屬于顯示【技術領域】，其可解決現有的顯示基板被擠壓造成破損，導致包括該種顯示基板的顯示裝置顯示不良的問題。本發(fā)明的顯示基板包括：顯示區(qū)和非顯示區(qū)，至少在與所述顯示區(qū)對應的區(qū)域設置有透明的支撐加強層。本發(fā)明的顯示裝置包括該顯示基板。
【專利說明】一種顯示基板及顯示裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于顯示【技術領域】，具體涉及一種顯示基板及顯示裝置。
【背景技術】
[0002]薄膜晶體管液晶顯不裝置(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,簡稱TFT-LCD)是一種主要的平板顯示裝置(Flat Panel Display，簡稱FPD)。一般的TFT-LCD包括彩膜基板和陣列基板以及處于兩塊基板之間的液晶層，在彩膜基板與陣列基板中間設置有隔墊物(PS)，以維持盒厚。
[0003]如圖1?3所示，其中，彩膜基板包括:第一基底I和設置在第一基底I上的彩色濾光層和黑矩陣3，以及設于彩色濾光層和黑矩陣3上方的第一透明電極層4。其中，通常所述彩色濾光層包括多個子像素彩膜2 (紅色子像素彩膜、綠色子像素彩膜、藍色子像素彩膜)，且子像素彩膜2和黑矩陣3的材料是由樹脂構成，故其抗壓耐受力較弱，當受到外力按壓后，很容易導致顯示時在受壓區(qū)域產生發(fā)白等畫面品質不良的問題。如果所受到的擠壓力過大，甚至使顯示裝置內部的隔墊物5破損，同樣會產生不可恢復性的發(fā)白或發(fā)藍等畫面品質不良。陣列基板包括:第二基底7，以及設于第二基底7上的薄膜晶體管8，此時當受到擠壓時，陣列基板會發(fā)生變形，此時也會造成顯示不良的情況。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術問題包括，針對現有的顯示裝置存在的上述問題，提供一種抗擠壓的顯示基板及顯示裝置。
[0005]解決本發(fā)明技術問題所采用的技術方案是一種顯示基板，其包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，至少在與所述顯示區(qū)對應的區(qū)域設置有透明的支撐加強層。
[0006]由于在本發(fā)明的顯示基板的至少顯示區(qū)中設置有支撐加強層，故其可以有效的承擔來自外界對顯示基板的壓力，避免顯示基板由于受壓而造成損壞。
[0007]優(yōu)選的是，所述顯示基板為彩膜基板，所述彩膜基板包括:第一基底和設置在所述第一基底上的彩色濾光層，所述彩色濾光層包括:多個子像素彩膜，
[0008]所述支撐加強層至少設置在所述第一基底與所述子像素彩膜之間。
[0009]進一步優(yōu)選的是，所述支撐加強層的面積不小于子像素彩膜的面積。
[0010]進一步優(yōu)選地是，所述支撐加強層的厚度與子像素彩膜的厚度之和在2.5?5um之間。
[0011]再進一步優(yōu)選地是，所述支撐加強層的厚度在I?3um之間。
[0012]進一步優(yōu)選地是，所述彩膜基板上還設置有隔墊物；其中，
[0013]所述支撐加強層還設置在所述彩膜基板上與所述隔墊物所對應的區(qū)域。
[0014]優(yōu)選的是，所述支撐加強層包括多個間隔排列的區(qū)塊，各區(qū)塊對應設置在所述子像素彩膜所在區(qū)域。
[0015]優(yōu)選的是，所述顯示基板為陣列基板，所述陣列基板包括第二基底和設置在所述第二基底上方的薄膜晶體管，其中，
[0016]所述支撐加強層設置于所述第二基底上且位于所述薄膜晶體管的最下方膜層的下方。
[0017]優(yōu)選的是，所述支撐加強層的材料為聚碳酸酯。
[0018]解決本發(fā)明技術問題所采用的技術方案是一種顯示基板的制備方法:所述顯示基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述制備方法包括:
[0019]至少在所述顯示基板的所述顯示區(qū)形成透明的支撐加強層的步驟。
[0020]優(yōu)選的是，所述顯示基板為彩膜基板，所述彩膜基板包括:第一基底和是設置在第一基底上方的彩色濾光層，所述彩色濾光層包括:多個子像素彩膜，其中，在形成透明的支撐加強層的步驟之后，還包括:
[0021]在所述支撐加強層的第一基底上形成子像素彩膜的步驟。
[0022]進一步優(yōu)選的是，所述彩膜基板上還設置有隔墊物，其中，
[0023]其中，所述在形成所述支撐加強層的第一基底上形成子像素彩膜的步驟之后，還包括形成隔墊物的步驟，所述支撐加強層還形成在所述彩膜基板上與所述隔墊物所對應的區(qū)域。
[0024]進一步優(yōu)選地是，所述支撐加強層的面積不小于子像素彩膜的面積。
[0025]優(yōu)選的是，所述顯示基板為陣列基板，所述陣列基板包括第二基底和設置在所述第二基底上方的薄膜晶體管；
[0026]所述方法在形成透明的支撐加強層的步驟之后，，還包括在形成所述支撐加強層的第二基底上形成所述薄膜晶體管的步驟。
[0027]解決本發(fā)明技術問題所采用的技術方案是一種顯示裝置，其包括上述顯示基板。
[0028]由于本發(fā)明的顯示裝置包括上述顯示基板，故其可以有效的避免由于受壓時造成的各種顯不不良。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1為現有的彩膜基板的平面示意圖；
[0030]圖2為圖1的A-A'方向剖面示意圖；
[0031]圖3為現有技術提供的顯示面板部分結構的截面示意圖；
[0032]圖4為本發(fā)明的實施例1的彩膜基板的平面示意圖；
[0033]圖5為圖4中支撐加強層的平面示意圖；
[0034]圖6為圖4的A-A'方向剖面示意圖；
[0035]圖7為本發(fā)明實施例提供的顯示面板部分結構的截面示意圖；
[0036]圖8為本發(fā)明的實施例1的彩膜基板的隔墊物所在位置處設置有支撐加強層的平面示意圖；
[0037]圖9為圖8中支撐加強層的平面示意圖；以及
[0038]圖10為本發(fā)明的實施例1的陣列基板的部分截面示意圖。
[0039]其中附圖標記為:1、第一基底；2、子像素彩膜；3、黑矩陣；4、第一透明電極層；5、隔墊物；6、支撐加強層；7、第二基底；8、薄膜晶體管。【具體實施方式】
[0040]為使本領域技術人員更好地理解本發(fā)明的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細描述。
[0041]實施例1:
[0042]本實施例提供一種顯示基板，其包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，其中，至少在所述顯示區(qū)中設置有支撐加強層且所述支撐加強層為透明結構。
[0043]由于本實施例的顯示基板至少顯示區(qū)中設置有支撐加強層其可有效承受外力的作用，避免顯示基板受壓時造成的各種畫面品質不良，且可減小由于外力擠壓時對顯示基板造成的損壞。
[0044]如圖4?7所示，優(yōu)選地，作為本實施例的一種情況，所述顯示基板為彩膜基板，其中，彩膜基板包括:第一基底I和設置在第一基底I上的彩色濾光層，該彩色濾光層包括:多個子像素彩膜2和黑矩陣3。多個子像素彩膜2間隔設置且設于多個子像素中。
[0045]其中，本實施例中的彩膜基板以包括紅色子像素彩膜、綠色子像素彩膜、藍色子像素彩膜的彩色濾光層為例，通常在彩膜基板上還可以設置黑矩陣3，黑矩陣3設置于兩兩相鄰的子像素彩膜2之間。進一步優(yōu)選地，所述支撐加強層6至少設置在所述第一基底I與所述子像素彩膜2之間。也就是說至少在紅色子像素彩膜、綠色子像素彩膜、藍色子像素彩膜所在的位置與第一基底I之間設置于支撐加強層6。通常由于子像素彩膜2的材料一般為樹脂材料，其抗壓耐受力較弱，此時設置支撐加強層6，可以有效的承擔外力對子像素彩膜2的擠壓，防止子像素彩膜2破損。將該種結構的彩膜基板應用于顯示裝置，尤其是觸控顯示裝置中，其可有效的避免由于較大外力的擠壓造成顯示裝置顯示不良的現象。
[0046]需要說明的是，由于該支撐加強層6為透明結構，故其可以為一完整的層結構。當然優(yōu)選為，多個間隔排列的區(qū)塊結構，各區(qū)塊對應設置在所述顯示基板上的各子像素彩膜所在區(qū)域。其中成矩陣式排列的結構的支撐加強層6中的每一個區(qū)塊是與子像素彩膜2所在位置對應的，也就是與子像素彩膜2的所在位置對應，每一個區(qū)塊的面積與每一個子像素彩膜2的面積相同或者略大一點(略大一點是指該區(qū)塊不僅僅在子像素彩膜2所在位置上，同時至少在黑矩陣3所對應的位置上也有)。由于支撐加強層6采用間隔設置的排列結構，故其可以更好地承受外力的作用。
[0047]如圖8和9所示，當然，上述彩膜基板還包括:設置在彩色濾光層上方的第一透明電極層4，以及間隔設置在所述第一透明電極層4上方的隔墊物5。其中，由于隔墊物5在擠壓過程中也很容易由于外力較大，造成隔墊物5破損。此時優(yōu)選地，所述支撐加強層6還包括設置在所述彩膜基板上與所述隔墊物所對應的區(qū)域。該支撐加強層6最好可以將隔墊物5包住，使得隔墊物5的抗壓能力進一步提高。
[0048]為了不影響光的透過率，本實施例中可將子像素彩膜2的厚度相應做的薄一些，使得子像素彩膜2與支撐加強層6的厚度之和控制在現有的子像素彩膜的厚度左右(現有的子像素彩膜的厚度一般在2.5?5um左右)。支撐加強層6的厚度與子像素彩膜2的厚度之和優(yōu)選在2.5?5um之間。所述支撐加強層6的厚度優(yōu)選在I?3um之間。當然可以根據具體設定。
[0049]如圖10所示，作為本實施例的另一種情況，該顯示基板為陣列基板。其中，該陣列基板包括:第二基底7和設置在第二基底7上的薄膜晶體管8。優(yōu)選地，所述支撐加強層6設置于所述第二基底7上且位于所述薄膜晶體管8的最下方膜層的下方，當然，此時的支撐加強層6不僅包括設置在顯示區(qū)對應的區(qū)域，還可以包括設置在薄膜晶體管8下方的非顯示區(qū)域。具體的說為了制備方便，當薄膜晶體管8為底柵型薄膜晶體管時，通常將支撐加強層6設置在第二基底7與柵極所在層之間，也就是在柵極所在層的下方；當薄膜晶體管8為頂柵型薄膜晶體管時，通常將支撐加強層6設置在第二基底7與有源層所在層之間，也就是在有源層所在層的下方。
[0050]由于在所述第二基底7與所述薄膜晶體管8之間設置有支撐加強層6，此時可以增強陣列基板的抗彎折能力。
[0051]需要說明的是，此時該支撐加強層6同樣可以為一完整的層結構。當然同樣優(yōu)選為，間隔設置的排列結構。采用間隔設置的排列結構是，每一個區(qū)塊與子像素彩膜2在陣列基板上的投影區(qū)域(也就是顯示區(qū))對應，每一區(qū)塊的面積可以與顯示區(qū)面積相同，也可以略大一點。
[0052]本實施例的中的所述的支撐加強層6的材料優(yōu)選為聚碳酸酯。當然也不局限于這一種材料，其他的透明且可以有支撐加強層6效果的材料也是可以的。
[0053]需要說明的是,本實施例的顯示基板應用于顯示面板中，如圖4?10所示,特別是在如圖7所示(圖4的B-B'方向剖面示意圖)可以看出，該陣列基板和彩膜基板中均設有支撐加強層6，故其該顯示面板的抗擠壓能力明顯增強。
[0054]實施例2:
[0055]本實施例提供一種顯示基板的制備方法，所述顯示基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述制備方法包括:至少在所述顯示區(qū)形成透明的支撐加強層的步驟。
[0056]具體的說:優(yōu)選地，所述顯示基板為彩膜基板，所述彩膜基板包括:第一基底和設置在第一基底上方的彩色濾光層，所述彩色濾光層包括:多個子像素彩膜，多個子像素彩膜間隔設置(可以在兩個相鄰的子像素彩膜之間設置黑矩陣，當然，黑矩陣也可以設置在陣列基板上，本實施例是以設置在兩個相鄰的子像素彩膜之間為例的，但是本發(fā)明不局限于這一種方式);
[0057]所述至少在所述顯示基板的所述顯示區(qū)形成透明的支撐加強層的步驟具體可以包括:至少在第一基底的顯示區(qū)形成透明的支撐加強層；并且在本步驟之后還可以包括:
[0058]在形成支撐加強層的第一基底上形成子像素彩膜；
[0059]在完成上步驟的第一基底上形成包括隔墊物的圖形。
[0060]在本實施例中支撐加強層優(yōu)選還形成在彩膜基板上與所述隔墊物所對應的區(qū)域。此時支撐加強層可以將隔墊物包住，使得隔墊物的抗壓能力進一步提高。
[0061]當然還可以優(yōu)選地支撐加強層的面積不小于子像素彩膜的面積。
[0062]需要說明的是，該彩膜基板可以是實施例1中所述的彩膜基板，故其抗擠壓能力有明顯的提高，在此不詳細描述。
[0063]當然還可以優(yōu)選地，所述顯示基板為陣列基板，所述陣列基板包括第二基底和設置在所述第二基底上方的薄膜晶體管；
[0064]所述至少在所述顯示基板的所述顯示區(qū)形成透明的支撐加強層的步驟具體可以包括:
[0065]至少在第二基底的顯示區(qū)形成透明的支撐加強層；[0066]在完成上述步驟的第二基底上形成所述薄膜晶體管的步驟。
[0067]需要說明的是，由于薄膜晶體管的制備為本領域技術人員所知的制備方法，在此不詳細說明了。當然該陣列基板也可以是實施例1中所述的陣列基板，故其的抗擠壓能力有明顯提聞。
[0068]實施例3:
[0069]本實施例提供一種顯示裝置，其包括上述顯示基板。該顯示裝置可以為:有機發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,簡稱0LED)面板、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數碼相框、導航儀、各種觸摸裝置等任何具有顯示功能的產品或部件。
[0070]由于本實施例的顯示裝置包括上述顯示基板(彩膜基板或陣列基板)，故其抗擠壓能力更強，可以有效的避免由于外力擠壓造成顯示不良的現象。特別是在該顯示裝置為觸控顯示裝置時，其抗擠壓能力大大增強，此時可以延長顯示裝置的使用壽命。
[0071]當然，本實施例的顯示裝置中還可以包括其他常規(guī)結構，如電源單元、顯示驅動單元等，此處不再贅述。
[0072]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種顯示基板，其包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，其特征在于，至少在與所述顯示區(qū)對應的區(qū)域設置有透明的支撐加強層。
2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為彩膜基板，所述彩膜基板包括:第一基底和設置在所述第一基底上的彩色濾光層，所述彩色濾光層包括:多個子像素彩膜， 所述支撐加強層至少設置在所述第一基底與所述子像素彩膜之間。
3.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述支撐加強層的面積不小于子像素彩膜的面積。
4.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述支撐加強層的厚度與子像素彩膜的厚度之和在2.5~5um之間。
5.根據權利要求4所述的顯示基板，其特征在于，所述支撐加強層的厚度在I~3um之間。
6.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述彩膜基板上還設置有隔墊物；其中， 所述支撐加強層還設置在所述彩膜基板上與所述隔墊物所對應的區(qū)域。
7.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述支撐加強層包括多個間隔排列的區(qū)塊，各區(qū)塊對應設置在所述子像素彩膜所在區(qū)域。
8.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為陣列基板，所述陣列基板包括第二基底和設置在所述第二基底上的薄膜晶體管，其中， 所述支撐加強層設置于所述第二基底上且位于所述薄膜晶體管的最下方膜層的下方。
9.根據權利要求1~8中任意一項所述的顯示基板，其特征在于，所述支撐加強層的材料為聚碳酸酯。
10.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，所述顯示基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述制備方法包括: 至少在所述顯示基板的所述顯示區(qū)形成透明的支撐加強層的步驟。
11.根據權利要求書10所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述顯示基板為彩膜基板，所述彩膜基板包括:第一基底和是設置在第一基底上方的彩色濾光層，所述彩色濾光層包括:多個子像素彩膜，其中，在形成透明的支撐加強層的步驟之后，還包括: 在形成所述支撐加強層的第一基底上形成子像素彩膜的步驟。
12.根據權利要求書11所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述彩膜基板上還設置有隔墊物，其中，所述在形成所述支撐加強層的第一基底上形成子像素彩膜的步驟之后，還包括形成隔墊物的步驟，所述支撐加強層還形成在所述彩膜基板上與所述隔墊物所對應的區(qū)域。
13.根據權利要求11所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述支撐加強層的面積不小于子像素彩膜的面積。
14.根據權利要求書10所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述顯示基板為陣列基板，所述陣列基板包括第二基底和設置在所述第二基底上方的薄膜晶體管； 所述方法在形成透明的支撐加強層的步驟之后，還包括:在形成所述支撐加強層的第二基底上形成所述薄膜晶體管的步驟。
15.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求書I~9中任意一項所述的顯示基板。
【文檔編號】G02F1/1339GK103760719SQ201410019339
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2014年1月15日 優(yōu)先權日:2014年1月15日
【發(fā)明者】張瑩, 李京鵬, 唐磊, 裴揚, 李鑫 申請人:北京京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司