隔墊物檢測(cè)裝置及方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種隔墊物檢測(cè)裝置及方法。該方法包括：產(chǎn)生透過(guò)帶有隔墊物的基板的X射線，接收透過(guò)基板的X射線并形成灰度圖像；利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度。本發(fā)明采用X射線成像原理對(duì)彩膜基板上的隔墊物進(jìn)行檢測(cè)，利用X射線熒光轉(zhuǎn)換裝置產(chǎn)生可見光并生成灰度圖像，對(duì)灰度圖像進(jìn)行識(shí)別處理，能準(zhǔn)確測(cè)量隔墊物的高度，并且可以檢測(cè)隔墊物的內(nèi)部及連接狀態(tài)。
【專利說(shuō)明】隔墊物檢測(cè)裝置及方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及隔墊物檢測(cè)裝置及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的發(fā)展，液晶顯示已經(jīng)頻繁應(yīng)用于各種設(shè)備中。目前，液晶顯示器是常用的平板顯示器，其中薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay,簡(jiǎn)稱TFT-1XD)是液晶顯示器中的主流產(chǎn)品。TFT-1XD通常包括對(duì)盒設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，在陣列基板和彩膜基板之間填充有液晶層。其中，在陣列基板和彩膜基板之間設(shè)置有隔墊物，隔墊物對(duì)陣列基板和彩膜基板起到支撐盒厚的作用。
[0003]隔墊物是液晶顯示器的重要部件，隔墊物的高度決定了對(duì)盒后的陣列基板和彩膜基板需注入液晶的用量。隔墊物主要分為球形隔墊物及柱狀隔墊物，其中，柱狀隔墊物因?yàn)槟芎芎玫乜刂品植济芏龋瑥亩苡行У乇ＷC液晶盒厚的均一性，成為現(xiàn)有普遍采用的方法。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中一般采用CXD圖像矩形面陣傳感器直接檢測(cè)隔墊物，測(cè)量速度比較慢，對(duì)裝置震動(dòng)要求比較高，微小的異常都會(huì)引起測(cè)量不夠準(zhǔn)確，造成液晶盒厚的異常，對(duì)于液晶旋光性及液晶屏的顯示效果都會(huì)有很大影響，并且會(huì)產(chǎn)生很多不良，如低溫起泡(Bubble)等，影響了液晶顯示器的質(zhì)量；需要采用大理石基座、下部防震臺(tái)等，對(duì)設(shè)備的安裝的要求比較高；只能進(jìn)行表面的檢測(cè)，無(wú)法檢測(cè)內(nèi)部的損傷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005](一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0006]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供簡(jiǎn)易的隔墊物檢測(cè)裝置及方法，對(duì)隔墊物進(jìn)行準(zhǔn)確的檢測(cè)。
[0007](二)技術(shù)方案
[0008]為解決上述問(wèn)題，根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種隔墊物檢測(cè)裝置，包括:X射線成像單元和圖像處理單元，其中X射線成像單元包括X射線源和X射線敏感鏡頭；
[0009]X射線源，用于產(chǎn)生透過(guò)帶有隔墊物的基板的X射線；
[0010]X射線敏感鏡頭，接收透過(guò)基板的X射線并形成灰度圖像；
[0011]圖像處理單元，利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度。
[0012]優(yōu)選地，X射線源和X射線敏感鏡頭關(guān)于基板位置相對(duì)，X射線源為X射線陣列源，X射線敏感鏡頭為X射線敏感平板探測(cè)器。
[0013]優(yōu)選地，X射線敏感鏡頭與基板之間設(shè)置有光闌。
[0014]優(yōu)選地，所述X射線成像單元為兩個(gè)，關(guān)于基板位置相對(duì)，其中任一個(gè)的X射線成像單元的X射線敏感鏡頭接收另一個(gè)X射線成像單元的X射線源透過(guò)基板的X射線，形成灰度圖像。
[0015]優(yōu)選地，所述兩個(gè)X射線成像單元可以在圓弧軌道上移動(dòng)，使得X射線入射基板的角度改變。[0016]根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種隔墊物檢測(cè)方法，包括:
[0017]產(chǎn)生透過(guò)帶有隔墊物的基板的X射線，接收透過(guò)基板的X射線并形成灰度圖像；
[0018]利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度。
[0019]優(yōu)選地，所述形成灰度圖像包括:
[0020]將同一區(qū)域的反面灰度圖像和正面灰度圖像進(jìn)行反轉(zhuǎn)復(fù)合，得到用于測(cè)量隔墊物的高度的灰度圖像。
[0021 ] 優(yōu)選地，該方法還包括:
[0022]若灰色圖像某個(gè)區(qū)域的灰度值超過(guò)設(shè)定的閾值，則改變X射線的發(fā)射角度，再次對(duì)所述基板的對(duì)應(yīng)區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)。
[0023]優(yōu)選地，所述利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度包括:
[0024]根據(jù)設(shè)定的對(duì)應(yīng)關(guān)系將灰度圖像像素的灰度值換算為隔墊物的高度值。
[0025]優(yōu)選地，所述利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度包括:
[0026]灰度圖像包括同一區(qū)域的不同深度的若干剖析圖像，從中找到隔墊物的頂和底所在的剖析圖像，兩者之間的深度之差即為隔墊物的高度。
[0027]優(yōu)選地，該方法還包括:
[0028]利用同一區(qū)域的不同深度的若干剖析圖像進(jìn)行組合形成隔墊物的立體圖像
[0029](三)有益效果
[0030]本發(fā)明采用X射線成像原理對(duì)彩膜基板上的隔墊物進(jìn)行檢測(cè)，利用X射線熒光轉(zhuǎn)換裝置產(chǎn)生可見光，并生成灰度圖像，對(duì)灰度圖像進(jìn)行識(shí)別處理，，能準(zhǔn)確測(cè)量隔墊物的高度，并且可以檢測(cè)隔墊物的內(nèi)部及連接狀態(tài)。X射線掃描時(shí)可以去除由Rubbing (摩擦)工序帶來(lái)的靜電，從而不需要單獨(dú)的去除靜電工序，提高了生產(chǎn)效率；而且可以附帶檢查基板內(nèi)部由Rubbing工序帶來(lái)的微裂痕。本發(fā)明既可以檢測(cè)柱狀隔墊物，也可以檢測(cè)球狀隔墊物。X射線檢測(cè)設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單而且檢測(cè)條件要求低，速度快。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0031]圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例一的隔墊物檢測(cè)裝置的組成示意圖；
[0032]圖2為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例二的隔墊物檢測(cè)裝置的組成示意圖；
[0033]圖3為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例二的隔墊物檢測(cè)裝置的X射線成像單元的光學(xué)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖4為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例三的隔墊物檢測(cè)方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0035]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明如下。
[0036]實(shí)施例一:
[0037]本實(shí)施例提出了一種隔墊物檢測(cè)裝置，包括:X射線成像單元和圖像處理單元，其中X射線成像單元包括X射線源和X射線敏感鏡頭；
[0038]X射線源，用于產(chǎn)生透過(guò)帶有隔墊物的基板的X射線；
[0039]X射線敏感鏡頭，接收透過(guò)基板的X射線并形成灰度圖像；
[0040]圖像處理單元，利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度。[0041]在本實(shí)施例中，X射線源為X射線陣列源，X射線敏感鏡頭為X射線敏感CCD平板探測(cè)器。具體的，如圖1所示，被X射線控制器(圖中未示出)控制的X射線陣列源11發(fā)射X射線到帶有隔墊物的基板I。X射線敏感C⑶平板探測(cè)器(Flat Panel Detector, FPD)21是一種間接獲取圖像的FPD，主要是由閃爍體或熒光體層加具有光電二極管作用的非晶硅層(amorphous Silicon, a-Si)再加TFT陣列構(gòu)成的平板檢測(cè)器組成。閃爍體或突光體層經(jīng)X射線曝光后，可以將X射線光子轉(zhuǎn)換為可見光，而后由具有光電二極管作用的非晶硅層變?yōu)閳D像電信號(hào)，經(jīng)過(guò)TFT陣列獲得數(shù)字圖像。圖像處理單元31例如可以為計(jì)算機(jī)，X射線敏感CXD平板探測(cè)器21采集到的數(shù)字灰度圖像傳送到圖像處理單元31，圖像處理單元31利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度，當(dāng)然中間還存在模數(shù)轉(zhuǎn)換等信號(hào)處理模塊。
[0042]在本實(shí)施例中，還可以包括光闌12，光闌12放置在帶有隔墊物的基板I和X射線敏感CCD平板探測(cè)器21之間，用于調(diào)節(jié)通過(guò)的X射線的強(qiáng)弱，穩(wěn)定X射線敏感CCD平板探測(cè)器21 (以下簡(jiǎn)稱CXD或X射線(XD)接收的輻射劑量。
[0043]在本實(shí)施例中，整個(gè)X射線成像單元的控制核心是PLC可編程邏輯控制器，負(fù)責(zé)各個(gè)部件協(xié)調(diào)工作。此外，PLC可編程邏輯控制器還用于與視頻信號(hào)傳輸線接口芯片配合實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)和X射線成像單元的通信過(guò)程。該通信過(guò)程用來(lái)傳遞計(jì)算機(jī)發(fā)來(lái)的命令以及把圖像傳回到計(jì)算機(jī)。
[0044]PLC可編程邏輯控制器例如包括兩片低功耗CPLD (Complex Programmable LogicDevice)復(fù)雜可編程邏輯器件，以產(chǎn)生系統(tǒng)所需的各種時(shí)序。其中第一 CPLD主要用于產(chǎn)生幀存儲(chǔ)器控制所需的地址和讀寫控制信號(hào)，第二 CPLD主要產(chǎn)生CCD需要的驅(qū)動(dòng)時(shí)序。當(dāng)然兩片CPLD之間也有一些信號(hào)用于兩者之間的通信。第二 CPLD產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)時(shí)序波形需要經(jīng)過(guò)驅(qū)動(dòng)器后才可以加到X射線CCD上，驅(qū)動(dòng)的目的主要是產(chǎn)生CCD所需的脈沖電平，同時(shí)能夠提供一定的驅(qū)動(dòng)電流。因?yàn)镃CD的各個(gè)柵級(jí)節(jié)電容都較大，而且驅(qū)動(dòng)工作頻率也較高，為了提高電荷的轉(zhuǎn)移效率以保證圖像質(zhì)量，驅(qū)動(dòng)器必須要有足夠的驅(qū)動(dòng)能力。
[0045]CCD的信號(hào)輸出到模擬前端,模擬前端主要負(fù)責(zé)對(duì)X射線CCD輸出的模擬信號(hào)進(jìn)行處理。首先輸出的模擬信號(hào)要經(jīng)過(guò)前端跟隨，然后經(jīng)過(guò)電平搬移及低噪聲放大電路，輸出符合A/D轉(zhuǎn)換器量化電平要求的信號(hào)。最后，信號(hào)進(jìn)入A/D轉(zhuǎn)換器內(nèi)進(jìn)行模數(shù)轉(zhuǎn)換。
[0046]模數(shù)轉(zhuǎn)換后的數(shù)字圖像信號(hào)，在CPLD的控制下暫存到幀存儲(chǔ)器中。當(dāng)計(jì)算機(jī)要獲取圖像時(shí)，PLC可編程邏輯控制器和視頻信號(hào)傳輸線接口芯片負(fù)責(zé)把幀存儲(chǔ)器中的圖像數(shù)據(jù)通過(guò)USB總線傳送到計(jì)算機(jī)。
[0047]在本實(shí)施例中，使用計(jì)算機(jī)的圖像處理軟件來(lái)實(shí)現(xiàn)圖像處理單元的功能。
[0048]計(jì)算機(jī)圖像處理軟件采用模塊化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，包括USB接口驅(qū)動(dòng)模塊、圖像獲取模塊、圖像處理模塊、圖像管理模塊。圖像處理軟件例如基于Windows操作系統(tǒng)平臺(tái)，可采用C++編程語(yǔ)目編制。各模塊的主要功能如下:
[0049](I)USB接口驅(qū)動(dòng)模塊:用于計(jì)算機(jī)與X射線成像單元的數(shù)據(jù)通訊。
[0050](2)圖像獲取模塊:控制X射線敏感探頭的曝光，并讀取圖像數(shù)據(jù)流，然后合成為灰度圖象，并將圖像暫時(shí)存儲(chǔ)到計(jì)算機(jī)。在該模塊中，需要選擇適合測(cè)量的帶有隔墊物的感興趣區(qū)域，具體包括:
[0051]第一步:生成包括感興趣區(qū)域的灰度圖像。
[0052]第二步:根據(jù)預(yù)設(shè)的灰度閾值對(duì)圖像進(jìn)行二值化分割，由于感興趣區(qū)域的灰度值小，背景區(qū)域灰度值大，選取的灰度閾值就應(yīng)該是兩個(gè)波峰之間的最明顯的交界值，根據(jù)灰度閾值從上一步中得到的灰度圖像中提取出感興趣區(qū)域。
[0053]第三步:采用雙層投影法在感興趣區(qū)域內(nèi)確定檢測(cè)區(qū)域，根據(jù)待測(cè)隔墊物的頂部投影圖像和底部投影圖像確定交集區(qū)域，該交集區(qū)域即為檢測(cè)區(qū)域。
[0054]第四步:在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)根據(jù)灰度特征值檢測(cè)異物，若檢測(cè)到異物，則對(duì)存在異物的圖像區(qū)域進(jìn)行標(biāo)定并結(jié)束處理過(guò)程；在檢測(cè)區(qū)域沒有檢測(cè)到異物的即說(shuō)明此感興趣區(qū)域?yàn)檫m合測(cè)量的感興趣區(qū)域。
[0055]在上述選擇方法中利用了 X射線的物理特性，采用雙層投影法，根據(jù)幾何原理解決隔墊物感興趣區(qū)域在X射線檢測(cè)設(shè)備中進(jìn)行自動(dòng)區(qū)域屏蔽和異物檢測(cè)的問(wèn)題，在輸入正確感興趣區(qū)域參數(shù)(由于隔墊物在基板上的位置由于工藝的緣故是固定的，所以可以精確得到感興趣區(qū)域的參數(shù))的情況下可以自動(dòng)判斷感興趣區(qū)域的流入位置，在感興趣區(qū)域的圖像中識(shí)別檢測(cè)區(qū)域，而且識(shí)別方法簡(jiǎn)單，處理數(shù)據(jù)量少，算法簡(jiǎn)單，有利于在感興趣區(qū)域生產(chǎn)過(guò)程中提高檢測(cè)效率，因?yàn)樵谧R(shí)別過(guò)程中涉及的都是固定的參量，根據(jù)感興趣區(qū)域圖像可以保證識(shí)別區(qū)域的高準(zhǔn)確度，從而提高感興趣區(qū)域檢測(cè)的精度。
[0056](3)圖像處理模塊:利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度等，具體方法將在實(shí)施例三中闡述。
[0057](4)圖像管理模塊:用于對(duì)圖像進(jìn)行分類管理，建立PS柱高圖像數(shù)據(jù)庫(kù)。便于時(shí)間序列圖像的搜索、瀏覽和對(duì)比，并將報(bào)告保存成電子文檔供查閱。
[0058]實(shí)施例二
[0059]本實(shí)施例的隔墊物檢測(cè)裝置與實(shí)施例一的不同之處在于X射線成像單元，即裝置的機(jī)械結(jié)構(gòu)和X射線成像單元的光學(xué)結(jié)構(gòu)。本實(shí)施例的X射線成像單元為兩個(gè)，關(guān)于基板位置相對(duì)，其中任一個(gè)的X射線成像單元的X射線敏感鏡頭接收另一個(gè)X射線成像單元的X射線源透過(guò)基板的X射線，形成灰度圖像。并且兩個(gè)X射線成像單元可以在圓弧軌道上移動(dòng)，使得X射線入射基板的角度改變。本實(shí)施例的隔墊物檢測(cè)裝置的具體結(jié)構(gòu)如圖2所示。一對(duì)X射線成像單元301安裝在圓弧軌道302上，并且可以在圓弧軌道302上移動(dòng)，但是始終相對(duì)設(shè)置成一條直線，以便于成像。圓弧軌道302被夾臂303夾持，夾臂303通過(guò)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)304連接到滾珠絲杠305。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)304轉(zhuǎn)動(dòng)夾臂303從而帶動(dòng)圓弧軌道302旋轉(zhuǎn)或者平移。滾珠絲杠305可以上下移動(dòng)從而帶動(dòng)夾臂303和圓弧軌道302上下移動(dòng)。滾珠絲杠305安裝到立架306上，立架306安裝到基座307。基板201放置到檢測(cè)搬送機(jī)械臂308上，檢測(cè)搬送機(jī)械臂308連接到滾珠絲杠309，圓弧軌道309也可上下移動(dòng)帶動(dòng)機(jī)械臂308和基板201—起移動(dòng)。滾珠絲杠309安裝到立架310上，立架310也放置到基座307上。滾珠絲杠和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的動(dòng)作可以通過(guò)步進(jìn)電機(jī)(圖中未示出)實(shí)現(xiàn)。
[0060]本實(shí)施例的X射線成像單元的光學(xué)結(jié)構(gòu)如圖3所示，包括射線源101、柱面透鏡102、高透三棱鏡103、鏡頭驅(qū)動(dòng)裝置105、X射線轉(zhuǎn)換屏106和CXD圖像矩形面陣傳感器107。射線源101發(fā)射的X射線經(jīng)柱面透鏡102調(diào)整為水平方向后被高透三棱鏡103反射到基板201上，透過(guò)基板201的X射線入射到對(duì)置的X射線成像單元，穿過(guò)其高透三棱鏡后被X射線轉(zhuǎn)換屏106轉(zhuǎn)換成可見光圖像，每一點(diǎn)出射的可見光強(qiáng)度與入射的X射線輻射劑量成正比，X射線轉(zhuǎn)換屏106直接貼在CCD的光敏面上，X射線轉(zhuǎn)換屏106出射的可見光直接被CCD的光敏面接收，形成灰度圖像?；叶葓D像經(jīng)模數(shù)轉(zhuǎn)換后傳送到圖像處理單元(圖中未示出)進(jìn)行處理，測(cè)量隔墊物的高度或進(jìn)行其他分析，本實(shí)施例的圖像處理單元與實(shí)施例一的圖像處理單元基本類似。
[0061]實(shí)施例一和實(shí)施例二公開的隔墊物檢測(cè)裝置采用X射線成像原理對(duì)彩膜基板上的隔墊物進(jìn)行檢測(cè)，利用X射線熒光轉(zhuǎn)換裝置產(chǎn)生可見光并生成灰度圖像，對(duì)灰度圖像進(jìn)行識(shí)別處理，能準(zhǔn)確測(cè)量隔墊物的高度，并且可以檢測(cè)隔墊物的內(nèi)部及連接狀態(tài)；x射線掃描時(shí)可以去除由Rubbing工序帶來(lái)的靜電，從而不需要單獨(dú)的去除靜電工序，提高了生產(chǎn)效率；而且可以附帶檢查基板內(nèi)部由Rubbing工序帶來(lái)的微裂痕；既可以檢測(cè)柱狀隔墊物，也可以檢測(cè)球狀隔墊物；X射線檢測(cè)設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單而且檢測(cè)條件要求低，速度快。
[0062]實(shí)施例二提供的隔墊物檢測(cè)裝置可以通過(guò)將對(duì)置的X射線成像單元所成的同一位置的正反灰度圖像進(jìn)行翻轉(zhuǎn)復(fù)合，排除由于信號(hào)出錯(cuò)帶來(lái)的偽像，這是因?yàn)檎椿叶葓D像中的一個(gè)出現(xiàn)偽像時(shí)，另一個(gè)不會(huì)出現(xiàn)，因此復(fù)合時(shí)就可以判斷出錯(cuò)，從而排除偽像。同時(shí)，實(shí)施例二公開的隔墊物檢測(cè)裝置可以通過(guò)將對(duì)置的X射線成像單元變換角度進(jìn)行檢測(cè)，排除異物帶來(lái)的干擾。
[0063]實(shí)施例三
[0064]本實(shí)施例提供了一種隔墊物檢測(cè)方法，如圖4的流程圖所示，包括:
[0065]S1:產(chǎn)生透過(guò)帶有隔墊物的基板的X射線，接收透過(guò)基板的X射線并形成灰度圖像；
[0066]S2:利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度。
[0067]步驟SI中，形成灰度圖像可以是將同一區(qū)域的反面灰度圖像和正面灰度圖像進(jìn)行反轉(zhuǎn)復(fù)合，得到用于測(cè)量隔墊物的高度的灰度圖像。例如通過(guò)實(shí)施例二的隔墊物檢測(cè)裝置的對(duì)置X射線成像單元就可以得到同一區(qū)域的反面灰度圖像和正面灰度圖像，從而可以將其中一個(gè)翻轉(zhuǎn)，并與另一個(gè)圖像復(fù)合。這樣可以排除因?yàn)樾盘?hào)錯(cuò)誤帶來(lái)的偽像。另外，若灰色圖像某個(gè)區(qū)域的灰度值超過(guò)設(shè)定的閾值，說(shuō)明存在BM、電極等成像障礙，此時(shí)可以改變X射線的發(fā)射角度，再次對(duì)基板對(duì)應(yīng)區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)。另外，也可采用實(shí)施例一中介紹的方法選定合適的具有隔墊物的感興趣區(qū)域，形成包括一個(gè)感興趣區(qū)域的灰度圖像以便于步驟S2的測(cè)量。
[0068]步驟S2中，利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度可以有兩種方式，一種是根據(jù)設(shè)定的對(duì)應(yīng)關(guān)系將灰度圖像像素的灰度值換算為高度值，這種對(duì)應(yīng)關(guān)系可以通過(guò)多次試驗(yàn)預(yù)先測(cè)定，從而進(jìn)行設(shè)置；一種是使灰度圖像包括同一區(qū)域的不同深度的若干剖析圖像，從中找到隔墊物的頂和底所在的剖析圖像，兩者之間的深度之差即為隔墊物的高度，這可以通過(guò)調(diào)節(jié)透鏡的焦距得到同一區(qū)域的不同深度的若干剖析圖像，然后通過(guò)二值化來(lái)識(shí)別圖像，顯然隔墊物的頂之上和底之下的剖析圖像不會(huì)有隔墊物的影像，從而可以得到隔墊物的頂和底所在的剖析圖像，焦距和成像深度之間的比例關(guān)系可以預(yù)先測(cè)定，因而很容易得到頂和底之間的深度差。同時(shí)還可以通過(guò)剖析圖像進(jìn)行組合形成隔墊物的立體圖像，從而可以分析其外廓是否符合設(shè)計(jì)要求。
[0069]當(dāng)然，除了利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度之外，實(shí)施例三的隔墊物檢測(cè)方法還可以通過(guò)形成的灰度圖像檢測(cè)隔墊物內(nèi)部的缺陷或玻璃基板內(nèi)部的微小裂痕?？梢詫⒃摲椒☉?yīng)用在Rubbing (摩擦)工序前后，不僅可以實(shí)時(shí)的檢測(cè)出Rubbing前后的隔墊物的高度變化,而且可以去除由Rubbing (摩擦)工序帶來(lái)的靜電，從而不需要單獨(dú)的去除靜電工序，提高了生產(chǎn)效率；既可以檢測(cè)柱狀隔墊物，也可以檢測(cè)球狀隔墊物。
[0070] 以上實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本發(fā)明，而并非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【權(quán)利要求】
1.一種隔墊物檢測(cè)裝置，其特征在于，包括:X射線成像單元和圖像處理單元，其中X射線成像單元包括X射線源和X射線敏感鏡頭； X射線源，用于產(chǎn)生透過(guò)帶有隔墊物的基板的X射線； X射線敏感鏡頭，接收透過(guò)基板的X射線并形成灰度圖像； 圖像處理單元，利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度。
2.權(quán)利要求1所述的隔墊物檢測(cè)裝置，其特征在于，X射線源和X射線敏感鏡頭關(guān)于基板位置相對(duì)，X射線源為X射線陣列源，X射線敏感鏡頭為X射線敏感平板探測(cè)器。
3.權(quán)利要求2所述的隔墊物檢測(cè)裝置，其特征在于，X射線敏感鏡頭與基板之間設(shè)置有光闌。
4.權(quán)利要求1所述的隔墊物檢測(cè)裝置，其特征在于，所述X射線成像單元為兩個(gè)，關(guān)于基板位置相對(duì)，其中任一個(gè)的X射線成像單元的X射線敏感鏡頭接收另一個(gè)X射線成像單元的X射線源透過(guò)基板的X射線，形成灰度圖像。
5.權(quán)利要求4所述的隔墊物檢測(cè)裝置，其特征在于，所述兩個(gè)X射線成像單元可以在圓弧軌道上移動(dòng)，使得X射線入射基板的角度改變。
6.一種隔墊物檢測(cè)方法，其特征在于，包括: 產(chǎn)生透過(guò)帶有隔墊物的基板的X射線，接收透過(guò)基板的X射線并形成灰度圖像； 利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度。
7.權(quán)利要求6所述的隔墊物檢測(cè)方法，其特征在于，所述形成灰度圖像包括: 將同一區(qū)域的反面灰度圖像和正面灰度圖像進(jìn)行反轉(zhuǎn)復(fù)合，得到用于測(cè)量隔墊物的高度的灰度圖像。
8.權(quán)利要求6所述的隔墊物檢測(cè)方法，其特征在于，該方法還包括: 若灰色圖像某個(gè)區(qū)域的灰度值超過(guò)設(shè)定的閾值，則改變X射線的發(fā)射角度，再次對(duì)所述基板的對(duì)應(yīng)區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)。
9.權(quán)利要求6-8任一項(xiàng)所述的隔墊物檢測(cè)方法，其特征在于，所述利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度包括: 根據(jù)設(shè)定的對(duì)應(yīng)關(guān)系將灰度圖像像素的灰度值換算為隔墊物的高度值。
10.權(quán)利要求6-8任一項(xiàng)所述的隔墊物檢測(cè)方法，所述利用灰度圖像測(cè)量隔墊物的高度包括: 灰度圖像包括同一區(qū)域的不同深度的若干剖析圖像，從中找到隔墊物的頂和底所在的剖析圖像，兩者之間的深度之差即為隔墊物的高度。
11.權(quán)利要求6-8任一項(xiàng)所述的隔墊物檢測(cè)方法，該方法還包括: 利用同一區(qū)域的不同深度的若干剖析圖像進(jìn)行組合形成隔墊物的立體圖像。
【文檔編號(hào)】G02F1/13GK103698917SQ201310736246
【公開日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年12月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月26日
【發(fā)明者】井楊坤, 李桂, 張宏遠(yuǎn), 劉衛(wèi)衛(wèi) 申請(qǐng)人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司