一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)、方法和光刻的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，包括至少三個(gè)光譜共焦位移傳感器，用于采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)；信號(hào)處理電路，用于根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器采集的所述間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理，輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與所述掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。本發(fā)明同時(shí)公開了非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦方法以及具有所述調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)的光刻機(jī)。本發(fā)明取代了現(xiàn)有非接觸式調(diào)焦調(diào)平裝置中復(fù)雜的光學(xué)結(jié)構(gòu)部件，降低了復(fù)雜性，容易實(shí)現(xiàn)。
【專利說明】一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)、方法和光刻機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及微光學(xué)微電子設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是利用光譜共焦位移傳感器進(jìn)行接近式光刻機(jī)工件臺(tái)上的掩膜版與樣片間隙的非接觸準(zhǔn)確測(cè)量以實(shí)現(xiàn)調(diào)平及調(diào)焦功能的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)、方法和光刻機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻機(jī)是目前微電子、微光學(xué)行業(yè)必不可少的一種重要制造設(shè)備，而在掩膜版與涂覆光刻膠的樣片之間實(shí)現(xiàn)精密的調(diào)平且保持一定的間隙是將掩膜版圖案高質(zhì)量復(fù)制到樣片上的重要保證。目前的接近接觸式調(diào)焦調(diào)平裝置的基本原理為通過球碗氣浮機(jī)構(gòu)，利用升降機(jī)構(gòu)使樣片上升，當(dāng)樣片與掩膜版接觸后，利用球碗氣浮機(jī)構(gòu)的萬向轉(zhuǎn)動(dòng)功能，使樣片與掩膜版緊貼來實(shí)現(xiàn)掩膜版與樣片的調(diào)平，然后鎖定氣浮機(jī)構(gòu)，再利用升降機(jī)構(gòu)讓樣片下降一定的距離，由此在樣片與掩膜版之間保持一定的間隙來實(shí)現(xiàn)調(diào)焦。該調(diào)平調(diào)焦方式執(zhí)行速度快，無需對(duì)樣片進(jìn)行位置伺服控制，執(zhí)行機(jī)構(gòu)較為簡(jiǎn)單，但是由于掩膜版與樣片之間有一個(gè)接觸動(dòng)作，從而由于涂覆光刻膠后樣片的灰塵等雜質(zhì)以及光刻膠會(huì)污染掩膜版從而降低掩膜版的使用壽命，也降低了樣品的合格率，不適用于大規(guī)模制造。
[0003]為了提高樣片合格率，大規(guī)模制造，在主流光刻機(jī)設(shè)備中，通常采用非接觸式調(diào)焦調(diào)平裝置，該裝置在調(diào)焦調(diào)平過程中，樣片與掩膜版不接觸，其原理基本上是在樣片一端將一束光源大傾角斜入射到樣片上，在樣片另一端采用PSD、CCD等傳感器探測(cè)入射到樣片上的光斑，當(dāng)樣片發(fā)生傾斜和高度變化時(shí)，PSD、CCD等探測(cè)器將接收到誤差信號(hào)，利用調(diào)平調(diào)焦驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)樣片進(jìn)行位置伺服控制，對(duì)誤差信號(hào)進(jìn)行控制，從而實(shí)現(xiàn)樣片的調(diào)平與調(diào)焦。該調(diào)平調(diào)焦機(jī)構(gòu)控制精度高，但光學(xué)系統(tǒng)復(fù)雜，體積較大，且安裝要求精度高，還需對(duì)樣片進(jìn)行位置標(biāo)定，因此系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)復(fù)雜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是針對(duì)目前光刻機(jī)領(lǐng)域非接觸式調(diào)焦調(diào)平裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜，提出了一種系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單小巧、易實(shí)現(xiàn)的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)、方法和光刻機(jī)。
[0005]本發(fā)明提供的一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，包括:
至少三個(gè)光譜共焦位移傳感器，用于采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)。
[0006]信號(hào)處理電路，用于根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器采集的所述間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理，輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與所述掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述承片機(jī)構(gòu)包括用于安裝樣片的承片臺(tái)、分別連接在所述承片臺(tái)下方左右兩側(cè)用于對(duì)所述承片臺(tái)進(jìn)行二維傾斜調(diào)整實(shí)現(xiàn)調(diào)平控制的傾斜控制電機(jī)，所述傾斜控制電機(jī)通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元與所述信號(hào)處理電路電連接。[0008]優(yōu)選的，所述傾斜控制電機(jī)為伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)或壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述升降機(jī)構(gòu)包括連接于所述承片機(jī)構(gòu)下方的升降臺(tái)、設(shè)置在所述升降臺(tái)下方用于控制升降臺(tái)高度從而調(diào)整所述承片機(jī)構(gòu)的高度實(shí)現(xiàn)調(diào)焦控制的升降控制電機(jī)，所述升降控制電機(jī)通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元與所述信號(hào)處理電路連接。
[0010]優(yōu)選的，所述升降控制電機(jī)為伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)或壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述光譜共焦位移傳感器通過光纖信號(hào)輸出線連接位移信號(hào)采集模塊，所述位移信號(hào)采集模塊與所述信號(hào)處理電路電連接。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述光譜共焦位移傳感器為3個(gè)，3個(gè)光譜共焦位移傳感器位于所述掩膜版的上方且在同一平面呈三角形分布。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述光譜共焦位移傳感器為4個(gè)，4個(gè)光譜共焦位移傳感器位于所述掩膜版的上方且呈在同一平面四邊形分布。
[0014]本發(fā)明還提供一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦方法，包括如下步驟:
步驟一、采用至少三個(gè)光譜共焦位移傳感器采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)；
步驟二、根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器輸出的間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理后輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。
[0015]同時(shí)本發(fā)明還提供一種非接觸式光刻機(jī)，包括上述各個(gè)實(shí)施例中的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果為:
本發(fā)明采用光譜共焦位移傳感器采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)，根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器輸出的間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理后輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)對(duì)樣片進(jìn)行調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預(yù)定工作距離內(nèi)，實(shí)現(xiàn)了精確間隙測(cè)量和反饋控制，利用光譜共焦位移傳感器取代了現(xiàn)有非接觸式調(diào)焦調(diào)平裝置中復(fù)雜的光學(xué)結(jié)構(gòu)部件，降低了系統(tǒng)復(fù)雜性，成本低且無需對(duì)樣片進(jìn)行位置標(biāo)定，安裝精度要求低，容易實(shí)現(xiàn)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是本發(fā)明的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2是本發(fā)明的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦方法流程圖。
[0019]附圖標(biāo)記:101、102和103為光譜共焦位移傳感器；12_光纖信號(hào)輸出線；3-掩膜夾；4_掩膜版；5_光刻膠層；6-樣品；7_承片臺(tái)；8_升降臺(tái)；81_升降控制電機(jī)，9和10為傾斜控制電機(jī)；11-電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元；13-信號(hào)處理電路；14_位移信號(hào)采集模塊。
【具體實(shí)施方式】
[0020]圖1為本發(fā)明的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)示意圖，在本實(shí)施例中以3個(gè)光譜共焦位移傳感器為例進(jìn)行說明，該非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)包括三個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)，3個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)位于所述掩膜版4的上方且在同一平面呈三角形分布。光譜共焦位移傳感器(101、102、103)的下端與掩膜版4具有一定間隔，具體設(shè)置時(shí)掩膜版4的下表面與光譜共焦位移傳感器(101、102、103)下端的距離應(yīng)大于光譜共焦位移傳感器的最短量程，這樣使所述掩膜版4的下表面和樣片6表面光刻膠層5之間的距離在光譜共焦位移傳感器的量程內(nèi)，所述掩膜版4安裝在光刻機(jī)的掩膜夾3上，所述掩膜夾3位于掩膜版4上方并緊密貼合。3個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)通過光纖信號(hào)輸出線12連接位移信號(hào)采集模塊14，所述位移信號(hào)采集模塊14與所述信號(hào)處理電路13電連接。眾所周知的，光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)包括用于安裝樣片5的承片臺(tái)7和分別連接在所述承片臺(tái)7下方左右兩側(cè)用于對(duì)所述承片臺(tái)7進(jìn)行二維傾斜調(diào)整實(shí)現(xiàn)調(diào)平控制的傾斜控制電機(jī)(9、10)，涂覆光刻膠層5的樣片6位于承片臺(tái)7上方并緊密貼合，傾斜控制電機(jī)(9、10)來控制承片臺(tái)7的XY方向的傾斜，所述傾斜控制電機(jī)(9、10)通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元11與所述信號(hào)處理電路13電連接。所述傾斜控制電機(jī)(9、10)為優(yōu)選為伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)或壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。光刻機(jī)的升降機(jī)構(gòu)包括連接于所述承片機(jī)構(gòu)下方的升降臺(tái)8、設(shè)置在所述升降臺(tái)8下方用于控制升降臺(tái)8高度從而調(diào)整所述承片機(jī)構(gòu)的高度實(shí)現(xiàn)調(diào)焦控制的升降控制電機(jī)81，升降臺(tái)8緊固于所述承片臺(tái)7的下方，所述升降控制電機(jī)81通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元11與所述信號(hào)處理電路13電連接。所述升降控制電機(jī)81也采用伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)或壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。
[0021]其中3個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)采集光刻機(jī)的掩膜版4下表面與位于光刻機(jī)上的樣片6表面的光刻膠層5的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)并輸出到位移信號(hào)米集模塊14。位移信號(hào)采集模塊14將3個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)采集到的間隙距離數(shù)據(jù)輸入到信號(hào)處理電路13中，信號(hào)處理電路13根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器(101、102、103)采集的所述間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理，輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片6的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片6表面的光刻膠層5的上表面與所述掩膜版4的下表面之間的間隙距離d保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。具體的，在工作時(shí)，先移開三個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)，翻開掩膜夾3，安放涂覆光刻膠層5的樣片6在承片臺(tái)7上，根據(jù)掩膜版4厚度控制升降臺(tái)8將樣片6下降到安全高度，安放掩膜版4到掩膜夾3上，合上掩膜夾3，移動(dòng)三個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)到掩膜夾3上方，即三個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)位于掩膜版3的上方，三個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)采集測(cè)量掩膜版下表面三點(diǎn)位置A1、A2、A3以及一一對(duì)應(yīng)的到光刻膠層5上表面的三點(diǎn)位置B1、B2、B3之間的距離，以掩膜版下表面位置作為平面基準(zhǔn)，得到三個(gè)不同點(diǎn)位置之間的間隙距離分別為Λ I=Bl-Al, Δ2=Β2-Α2, Λ 3=Β3_Α3，設(shè)光刻機(jī)工作時(shí)要求的間隙為D，則三個(gè)不同點(diǎn)位置的間隙誤差為ΛΙ-D，A2-D, Λ 3-D，信號(hào)處理電路13對(duì)該誤差信號(hào)進(jìn)行處理輸出校正信號(hào)到電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元11，由電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元11控制傾斜控制電機(jī)(9、10)和升降控制電機(jī)81分別對(duì)承片臺(tái)7、升降臺(tái)8進(jìn)行控制使三個(gè)間隙誤差控制在光刻機(jī)工作的容許誤差內(nèi)。
[0022]本發(fā)明采用光譜共焦位移傳感器取代了現(xiàn)有非接觸式調(diào)焦調(diào)平裝置中復(fù)雜的光學(xué)結(jié)構(gòu)部件，降低了系統(tǒng)復(fù)雜性，光譜共焦位移傳感器可測(cè)量多層透明物體間距從而可實(shí)現(xiàn)掩膜版、光刻膠層和樣片各層距離的精確測(cè)量。三角形分布安裝的光譜共焦位移傳感器將采集到三個(gè)點(diǎn)位置的掩膜版4下表面與光刻膠層5上表面的間隙距離數(shù)據(jù)送入信號(hào)處理電路13中，以掩膜版4下表面作為測(cè)量平面基準(zhǔn)，修正三個(gè)間隙距離誤差，由信號(hào)處理電路13進(jìn)行處理后，通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元11將數(shù)據(jù)輸送到傾斜控制電機(jī)(9、10)和升降控制電機(jī)81控制調(diào)整所述承片臺(tái)7，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片6的調(diào)平與調(diào)焦反饋控制，使三個(gè)間隙距離數(shù)據(jù)值控制到工作范圍內(nèi)，然后光刻機(jī)對(duì)樣片6進(jìn)行曝光。利用掩膜版4下表面作為基準(zhǔn)測(cè)量樣片光刻膠層與掩膜板的間隙距離可降低光譜共焦位移傳感器的安裝要求。與其他接近接觸式光刻機(jī)相比，該系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單小巧，降低了系統(tǒng)復(fù)雜性，且無需對(duì)樣片進(jìn)行位置標(biāo)定，容易實(shí)現(xiàn)。在調(diào)平調(diào)焦過程中由于樣片與掩膜版無需接觸，可提高掩膜版使用壽命以及樣片光刻質(zhì)量。
[0023]需要說明的是，上述圖1所示的實(shí)施方式是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，其中的位移傳感器信號(hào)采集模塊14也可以刪除，三個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)直接與所述信號(hào)電路處理13連接，這些均在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。且在本發(fā)明的其他實(shí)施方式中，所述光譜共焦位移傳感器可以為4個(gè)，4個(gè)光譜共焦位移傳感器位于所述掩膜版的上方且在同一平面呈四邊形分布，當(dāng)然所述光譜共焦位移傳感器也可以多于4個(gè)，本發(fā)明對(duì)光譜共焦位移傳感器的個(gè)數(shù)不作限定，這些均在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
[0024]圖2為本發(fā)明的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦方法流程圖，該方法以圖1所示的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)為基礎(chǔ)實(shí)現(xiàn)，具體包括如下步驟:
S1、采用至少三個(gè)光譜共焦位移傳感器采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)。
[0025]本方法中優(yōu)選采用3個(gè)光譜共焦位移傳感器，3個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)位于光刻機(jī)的掩膜版4的上方且在同一平面呈三角形分布，3個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)米集光刻機(jī)的掩膜版4下表面與位于光刻機(jī)上的樣片6表面的光刻膠層5的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)并輸出到位移傳感器信號(hào)采集模塊14。位移傳感器信號(hào)采集模塊14將3個(gè)光譜共焦位移傳感器(101、102、103)采集到的間隙距離數(shù)據(jù)輸入到信號(hào)處理電路13中。
[0026]S2、信號(hào)處理電路13根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器輸出的間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理后輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與掩膜版的下表面之間的間隙距離d保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。具體請(qǐng)參考前述非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)中的相關(guān)描述，這里不再詳述。
[0027]本發(fā)明另一實(shí)施例還提供一種非接觸式光刻機(jī)(圖未示)，包括上述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)。采用該系統(tǒng)的非接觸式光刻機(jī)與其他接近接觸式光刻機(jī)相比，取代了現(xiàn)有非接觸式調(diào)焦調(diào)平裝置中復(fù)雜的光學(xué)結(jié)構(gòu)部件，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單小巧，降低了復(fù)雜性，且無需對(duì)樣片進(jìn)行位置標(biāo)定，容易實(shí)現(xiàn)。
[0028]上面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了詳細(xì)說明，但本發(fā)明并不限制于上述實(shí)施方式，在不脫離本申請(qǐng)的權(quán)利要求的精神和范圍情況下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以作出各種修改或改型。
【權(quán)利要求】
1.一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，包括: 至少三個(gè)光譜共焦位移傳感器，用于采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)； 信號(hào)處理電路，用于根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器采集的所述間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理，輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與所述掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述承片機(jī)構(gòu)包括用于安裝樣片的承片臺(tái)、分別連接在所述承片臺(tái)下方左右兩側(cè)用于對(duì)所述承片臺(tái)進(jìn)行二維傾斜調(diào)整實(shí)現(xiàn)調(diào)平控制的傾斜控制電機(jī)，所述傾斜控制電機(jī)通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元與所述信號(hào)處理電路電連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述傾斜控制電機(jī)為伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)或壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)包括連接于所述承片機(jī)構(gòu)下方的升降臺(tái)、設(shè)置在所述升降臺(tái)下方用于控制升降臺(tái)高度從而調(diào)整所述承片機(jī)構(gòu)的高度實(shí)現(xiàn)調(diào)焦控制的升降控制電機(jī)，所述升降控制電機(jī)通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制單元與所述信號(hào)處理電路連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述升降控制電機(jī)為伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)或壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述光譜共焦位移傳感器通過光纖信號(hào)輸出線連接位移信號(hào)采集模塊，所述位移信號(hào)采集模塊與所述信號(hào)處理電路電連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述光譜共焦位移傳感器為3個(gè)，3個(gè)光譜共焦位移傳感器位于所述掩膜版的上方且在同一平面呈三角形分布。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，其特征在于，所述光譜共焦位移傳感器為4個(gè)，4個(gè)光譜共焦位移傳感器位于所述掩膜版的上方且呈在同一平面呈四邊形分布。
9.一種非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦方法，其特征在于，包括如下步驟: 步驟一、采用至少三個(gè)光譜共焦位移傳感器采集光刻機(jī)的掩膜版下表面與位于光刻機(jī)上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)； 步驟二、根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器輸出的間隙距離數(shù)據(jù)計(jì)算處理后輸出控制信號(hào)到光刻機(jī)的承片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預(yù)定工作距離內(nèi)。
10.一種非接觸式光刻機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的非接觸式光刻機(jī)調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)。
【文檔編號(hào)】G03F7/207GK103631098SQ201310716930
【公開日】2014年3月12日 申請(qǐng)日期:2013年12月23日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月23日
【發(fā)明者】楊若夫, 敖明武 申請(qǐng)人:成都虹博宇光電科技有限公司