專利名稱：接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及接近接觸式光刻機(jī)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種應(yīng)用于接近接觸式光刻 機(jī)中對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)的找平機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
基片涂膠面與掩模版圖形面找平機(jī)構(gòu)是光刻機(jī)的核心部件對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)中的關(guān)鍵 機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)直接體現(xiàn)光刻機(jī)的研制、生產(chǎn)、制造、裝配等技術(shù)水平，是光刻機(jī)的核心技術(shù)。 國外光刻機(jī)的找平機(jī)構(gòu)都是自行研制的，在世界范圍內(nèi)沒有單獨(dú)生產(chǎn)制造商銷售，無從購 買。國內(nèi)光刻機(jī)目前配置的找平機(jī)構(gòu)，都采用傳統(tǒng)的半球碗找平技術(shù)，由于凸凹兩個(gè)半球 碗相對(duì)運(yùn)動(dòng)摩擦力大，磨損快，不能保證找平的一致性。另外，因?yàn)檎移綍r(shí)兩個(gè)半球碗相對(duì) 運(yùn)動(dòng)摩擦力大，要實(shí)現(xiàn)找平，基片涂膠面與掩模版圖形面接觸力就要很大，容易造成膠面損 傷、薄基片碎裂、掩模版變形大、損傷掩模版等問題，嚴(yán)重影響曝光質(zhì)量?；磕z面與掩模 版圖形面的找平成為國產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)瓶頸，研制開發(fā)易于找平，找平力小的，在找平過程 中不損傷膠面的找平機(jī)構(gòu)是非常必要的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，容易找平，且 找平力小，而且找平時(shí)不損壞掩模版和基片涂膠面，同時(shí)，結(jié)構(gòu)簡單，性能穩(wěn)定可靠，使用方 便，應(yīng)用范圍廣。本發(fā)明裝置的主要技術(shù)方案是一種接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，其 特征在于采用連接板作為力的傳遞件，在連接板上圓周上設(shè)有三個(gè)孔，有3個(gè)上調(diào)平螺釘 通過上述的三個(gè)孔和缸體上的螺紋孔連接，連接板和缸體具有間隙；在連接板下表面設(shè)置 三個(gè)點(diǎn)，由三個(gè)頂柱接觸支撐，三個(gè)頂柱在圓周上均布，并裝在缸體上與頂柱滑動(dòng)配合的孔 中；在三個(gè)頂柱的下面設(shè)有、彈性氣囊，彈性氣囊設(shè)置在與上述孔相聯(lián)通的環(huán)形孔道中，用 壓蓋把彈性氣囊固定在缸體上；在缸體內(nèi)相對(duì)于三個(gè)頂柱方向，設(shè)置三個(gè)汽缸，三個(gè)汽缸為 聯(lián)通式，三個(gè)汽缸中有三個(gè)鎖緊活塞可同時(shí)鎖定三個(gè)頂柱；三個(gè)汽缸和彈性氣囊均可與空 壓裝置聯(lián)通。所述的彈性氣囊呈環(huán)形為佳，設(shè)有環(huán)形孔道與頂柱滑動(dòng)配合的孔相連通，彈性氣 囊設(shè)于該環(huán)形孔道中，實(shí)現(xiàn)找平力的傳遞和調(diào)整。所述的接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，其特征在于設(shè)有連接板(7)的上 下導(dǎo)向機(jī)構(gòu)較好，以使其更加精確。所述的導(dǎo)向機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)可為缸體的外面設(shè)有支承環(huán)，支承環(huán)上安裝有三組均布 的導(dǎo)向滾動(dòng)軸承，滾動(dòng)軸承靠緊連接板的兩個(gè)垂直平面和一個(gè)90° V形槽，滾動(dòng)軸承與連 接板為點(diǎn)或線接觸。所述的導(dǎo)向機(jī)構(gòu)也可為其他結(jié)構(gòu)。所述的缸體的外側(cè)，缸體上的螺紋孔相對(duì)，設(shè)有3個(gè)橫向螺紋孔，有三個(gè)緊定螺釘可鎖定上調(diào)平螺釘。以便更加可靠鎖緊，確保精度。本發(fā)明的積極效果是顯著的利用該裝置可以有效解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題， 該接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，容易找平，且找平力小，而且找平時(shí)不損壞掩模 版和基片涂膠面，同時(shí)，結(jié)構(gòu)簡單，性能穩(wěn)定可靠，使用方便，應(yīng)用范圍廣。以下結(jié)合一個(gè)較好的實(shí)施例及其附圖作詳述，但本實(shí)施例不能作為對(duì)本發(fā)明的限定。


圖1是該實(shí)施例的主視圖(或圖2的A-A剖視圖)。圖2是圖1的俯視圖。圖3是圖2的B-B剖視圖。圖中標(biāo)號(hào)說明1-缸體，2-壓蓋，3-彈性氣囊，4-頂柱，5-鎖緊活塞，6-活塞環(huán)， 7-連接板，8-上調(diào)平螺釘，9-鎖定螺釘，10-軸，11-支座，12-滾動(dòng)軸承，13-隔圈，14-支承 環(huán)。
具體實(shí)施例方式參見圖1 圖3，該接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，采用連接板7作為力 的傳遞件，在連接板7上圓周上設(shè)有三個(gè)孔，有3個(gè)上調(diào)平螺釘8通過上述的三個(gè)孔和缸體 1上的螺紋孔連接，連接板7和缸體1具有間隙；在連接板7下表面設(shè)置三個(gè)點(diǎn)，由三個(gè)頂 柱4接觸支撐，三個(gè)頂柱4在圓周上均布，并裝在缸體1上與頂柱4滑動(dòng)配合的孔中；在三 個(gè)頂柱4的下面設(shè)有彈性氣囊3，所述的彈性氣囊3呈環(huán)形，設(shè)有環(huán)形孔道與頂柱4滑動(dòng)配 合的孔相連通，彈性氣囊3設(shè)于該環(huán)形孔道中。用壓蓋2把彈性氣囊3固定在缸體1上；在 缸體1內(nèi)相對(duì)于三個(gè)頂柱4方向，設(shè)置三個(gè)汽缸，三個(gè)汽缸為聯(lián)通式，三個(gè)汽缸中有三個(gè)鎖 緊活塞5可同時(shí)鎖定三個(gè)頂柱4 ；三個(gè)汽缸和彈性氣囊3均可與空壓裝置聯(lián)通。設(shè)有連接板 7的上下導(dǎo)向機(jī)構(gòu)。導(dǎo)向機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)為缸體1的外面設(shè)有支承環(huán)14，支承環(huán)14上安裝有 三組均布的導(dǎo)向滾動(dòng)軸承12，滾動(dòng)軸承12靠緊連接板7的兩個(gè)垂直平面和一個(gè)90° V形 槽，滾動(dòng)軸承12與連接板7為點(diǎn)或線接觸。缸體1的外側(cè)，缸體1上的螺紋孔相對(duì)，設(shè)有3 個(gè)橫向螺紋孔，有三個(gè)緊定螺釘9可鎖定上調(diào)平螺釘8。下面再對(duì)其作進(jìn)一步說明其工作原理初始狀態(tài)時(shí)本機(jī)構(gòu)處于靜止?fàn)顟B(tài)，采用 質(zhì)壁均勻的彈性氣囊3作為彈性元件，彈性氣囊3內(nèi)充有0. 2MPa的壓縮空氣作為動(dòng)力源， 由壓蓋2把彈性氣囊3固定在缸體1的環(huán)形槽里，使彈性氣囊3成環(huán)形彈性氣囊；缸體1設(shè) 計(jì)時(shí)為了實(shí)現(xiàn)三點(diǎn)找平及找平記憶，在缸體1的軸向加工出三個(gè)安裝頂柱4的孔，三個(gè)孔在 圓周上成120°均布，并與安裝彈性氣囊的環(huán)形槽貫通，使三個(gè)孔的中心在X-Y平面內(nèi)垂直 彈性氣囊3的軸線，三個(gè)孔的中心在Z向平面內(nèi)與彈性氣囊3的軸線重合，這樣將三個(gè)頂柱 4安裝在缸體1里，頂柱4的下端面與彈性氣囊3接觸，壓入鋼珠的上端與連接板7的下表 面接觸，三個(gè)頂柱4在缸體1里成120°均布，并在同一個(gè)圓周上，作用于同一個(gè)彈性氣囊3 上。由于頂柱4與缸體1采用H7/g6小間隙配合，頂柱4受力后能夠在缸體1內(nèi)沿Z向垂 直運(yùn)動(dòng)靈活，確保力的準(zhǔn)確傳遞。三個(gè)頂柱4與連接板7成點(diǎn)接觸，符合三點(diǎn)確定一個(gè)平面 的數(shù)理知識(shí)，實(shí)現(xiàn)了三點(diǎn)支持。找平原理；因?yàn)檫B接板7上表面承載吸盤和基片，基片的涂膠面以掩模版的圖形面為找平基準(zhǔn)，所以三點(diǎn)確定的平面要與對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)的設(shè)計(jì)找平基準(zhǔn) (掩模版下表面)平行，使基片上表面與掩模版下表面的隨機(jī)楔形角角度變得比較小，找平 力也變得比較小，易于找平。為了保證連接板7上表面與設(shè)計(jì)找平基準(zhǔn)的平行精度要求，在 三個(gè)頂柱4與連接板7接觸點(diǎn)的圓周上均布三個(gè)上調(diào)平8，每個(gè)上調(diào)平螺釘8與頂柱4圓周 夾角成30° ；上調(diào)平螺釘8與缸體1螺紋連接，與連接板7只在上下端面上有接觸，在圓周 上無任何接觸點(diǎn)，以免影響找平，通過旋轉(zhuǎn)上調(diào)平螺釘8使連接板7與找平基準(zhǔn)平行，平行 度誤差控制在0. 005-0. Olmm范圍內(nèi)，由于平行度誤差調(diào)整，使連接板7在Z向下降一個(gè)設(shè) 定高度值，連接板7通過頂柱4對(duì)彈性氣囊3有一個(gè)向下的作用力，因彈性氣囊內(nèi)有0. 2MPa 的壓縮空氣，所以彈性氣囊3通過頂柱4對(duì)連接板7有一個(gè)向上的反作用力，大小相等方向 相反，作用線與Z向平行。由于對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)制造、安裝誤差的存在，連接板7的上表面與設(shè) 計(jì)找平基準(zhǔn)達(dá)平行度誤差要求時(shí)，三個(gè)上調(diào)平螺釘8垂直向下的位移是不相等的，三個(gè)頂 柱4對(duì)彈性氣囊3的作用力在調(diào)節(jié)過程中不相等，調(diào)節(jié)過程完成后，由于彈性氣囊3是一個(gè) 整體，內(nèi)有壓縮空氣，彈性氣囊3在與頂柱4接觸部位周邊發(fā)生彈性變形，根據(jù)帕斯卡定律 彈性氣囊3對(duì)三個(gè)頂柱4的反作用力是相等的，因此，連接板7受三個(gè)頂柱4的反作用力也 是相等的，處于力的平衡狀態(tài)，具有三個(gè)獨(dú)立彈簧無法比擬的優(yōu)點(diǎn)。彈簧彈力F = kx，k為 彈性系數(shù)，χ為位移量，當(dāng)k彈性系數(shù)不變時(shí)，三個(gè)頂柱4的χ位移量在連接板7與設(shè)計(jì)找平 基準(zhǔn)平行時(shí)一定不相等，三個(gè)頂柱4對(duì)連接板7的反作用力不相等，在找平過程中對(duì)掩模版 的找平力隨基片與掩模版的下表面的楔形誤差變化而變化，不利于找平，找平力大，找平效 果差，找平后掩模版受力不均勻，并且對(duì)彈簧的制造、檢測精度要求都很高。當(dāng)連接板7調(diào) 平后，為防止反復(fù)壓縮連接板7上下運(yùn)動(dòng)，使三個(gè)上調(diào)平螺釘8出現(xiàn)不同程度松動(dòng)，改變調(diào) 平狀態(tài)，不能滿足三點(diǎn)確定的平面與對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)的找平基準(zhǔn)(掩模版圖形面)平行度誤差 要求，在缸體1的徑向相對(duì)于三個(gè)上調(diào)平螺釘8的部位安裝平端鎖定螺釘9，對(duì)上調(diào)平螺釘 8施加一個(gè)鎖緊力，既不損壞上調(diào)平螺釘8的螺紋，又防止上調(diào)平螺釘8的松動(dòng)，有效保證了 調(diào)平狀態(tài)，提高了機(jī)構(gòu)穩(wěn)定性，經(jīng)100萬次壓縮彈性試驗(yàn)連接板7的調(diào)平狀態(tài)無變化，滿足 三點(diǎn)確定的平面與對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)的找平基準(zhǔn)(掩模版圖形面)平行度誤差要求。在工作狀態(tài) 時(shí)本機(jī)構(gòu)隨對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)Z向抬升機(jī)構(gòu)作向上垂直運(yùn)動(dòng)，進(jìn)行基片的涂膠面以掩模版的圖形 面找半過程，由于基片的涂膠面與掩模版的圖形面之間存在一個(gè)楔形角，這個(gè)楔形角角度 很小，并且形成的楔形角是隨機(jī)的，當(dāng)基片上的高點(diǎn)與掩模版接觸時(shí)，連接板7局部受力， 使其中一個(gè)或兩個(gè)頂柱4受力向下運(yùn)動(dòng)，將力傳遞到彈性氣囊3上，彈性氣囊3吸收力發(fā)生 彈性變形實(shí)現(xiàn)基片與掩模版軟接觸，薄基片此時(shí)不會(huì)損壞，隨著接觸找平運(yùn)動(dòng)的繼續(xù)，當(dāng)基 片的涂膠面與掩模版的圖形面完全接觸找平的瞬間，三個(gè)頂柱4在Z向都有不同程度的下 降，由于頂柱4的底部都作用在同一個(gè)環(huán)形彈性氣囊3上，彈性氣囊3在受力部位周邊發(fā)生 彈性變形，根據(jù)帕斯卡定理和牛頓定理，彈性氣囊3內(nèi)的壓力重新平衡，對(duì)三個(gè)頂柱4的反 作用力使基片的涂膠面與掩模版的圖形面緊密接觸，Z向抬升機(jī)構(gòu)停止向上的垂直運(yùn)動(dòng)，楔 形角被消除，三個(gè)頂柱受到力相等，掩模版受力均勻。由于彈性氣囊3發(fā)生的彈性變形，使 找平力變小，掩模版的變形也變小，延長掩模版的使用壽命，彈性氣囊3的反作用力使基片 的涂膠面與掩模版的圖形面緊密接觸找平達(dá)到接近接觸式光刻機(jī)找平要求。為了保持記憶 找平狀態(tài)，缸體1內(nèi)0. 5MPa的壓縮空氣推動(dòng)三個(gè)徑向均布與頂柱4相對(duì)應(yīng)的鎖緊活塞5壓 緊頂柱4，每個(gè)鎖緊活塞5上都帶有0型密封圈，此鎖緊活塞5與缸體1配合，完全按照氣缸式活塞結(jié)構(gòu)原理設(shè)計(jì)，滿足使用要求。本機(jī)構(gòu)經(jīng)反復(fù)找平試驗(yàn)，彈性氣囊3內(nèi)壓力為0. 2MPa 時(shí)對(duì)4〃、3〃基片找平比較理想，彈性氣囊3內(nèi)的壓力為0.3MPa時(shí)對(duì)2"基片找平比較理 想；彈性氣囊3內(nèi)的壓力設(shè)置過高，使找平力變得過大，找平后掩模版變形比較大，縮短了 掩模版的使用壽命，更容易擠碎薄基片，嚴(yán)重影響細(xì)線條曝光質(zhì)量，造成基片的廢品。彈性 氣囊3內(nèi)的壓力設(shè)置過低，使找平力變得過小，基片的上表面與掩模版的下表面不能完全 接觸找平；如要基片的涂膠面與掩模版的圖形面完全接觸找平，使對(duì)三個(gè)頂柱4在Z向下降 位移要求比較大，容易壓傷彈性氣囊3，縮短了彈性氣囊3的使用壽命，同樣嚴(yán)重影響細(xì)線 條曝光質(zhì)量，更容易造成基片的廢品。每組導(dǎo)向裝置用軸10和隔圈將兩對(duì)滾動(dòng)軸承12固定在支座11上，兩對(duì)滾動(dòng)軸承 12無軸向位移，兩對(duì)滾動(dòng)軸承12的公共中心相對(duì)于支座11底面平行，垂直距離精度要求 高，保證三組導(dǎo)向裝置中兩對(duì)滾動(dòng)軸承12的公共中心相對(duì)于支座11底面中心高相等。三 組導(dǎo)向裝置均布在支承環(huán)14的同一個(gè)水平面，每組導(dǎo)向裝置與鄰近的頂柱4相對(duì)于對(duì)準(zhǔn)工 作臺(tái)中心夾角為30°，與鄰近的上調(diào)平螺釘8相對(duì)于對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)中心夾角為60°，使連接 板7受力對(duì)稱。其中兩組導(dǎo)向裝置的滾動(dòng)軸承12靠緊連接板的兩個(gè)垂直平面，另一組導(dǎo)向 裝置的滾動(dòng)軸承12靠緊連接板的90° V型面，限制連接板7作Z向的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和X-Y的平 面運(yùn)動(dòng)，各個(gè)接觸點(diǎn)在同一個(gè)截面上，雖然滾動(dòng)軸承12靠緊連接板7的兩個(gè)垂直平面和一 個(gè)90° V型面，但滾動(dòng)軸承12與連接板7的接觸都是點(diǎn)或線接觸，又是滾動(dòng)摩擦，摩擦系數(shù) 0. 002，產(chǎn)生的摩擦力相對(duì)于找平力來說可以忽略不計(jì)，不會(huì)對(duì)找平產(chǎn)生影響。由于三組導(dǎo) 向裝置在同一個(gè)水平截面內(nèi)同時(shí)對(duì)連接板7施加徑向力，使連接板7無論在靜止?fàn)顟B(tài)，還是 運(yùn)動(dòng)狀態(tài)，特別是在找平過程中，基片與掩模版之間存在一個(gè)隨機(jī)楔形角，當(dāng)基片上的高點(diǎn) 與掩模版接觸時(shí)和繼續(xù)進(jìn)行接觸找平的過程中，使基片涂膠面對(duì)掩模版的圖形面無繞Z向 的旋轉(zhuǎn)和X-Y的平面運(yùn)動(dòng)，始終保持Z向移動(dòng)，起到保護(hù)基片涂膠面、掩模版的圖形面的作 用，使本機(jī)構(gòu)工作穩(wěn)定性更加得到提高。接近接觸式光刻機(jī)主要工作是將掩模版的圖形復(fù)印到基片的涂膠面上，圖形復(fù)印 時(shí)要求基片涂膠面與掩模版圖形面完全緊密接觸，才能在基片涂膠面上獲得滿意的掩模版 上的圖形，否則，復(fù)印到基片上的圖形與掩模版上的圖形偏移值比較大，造成廢品。由于對(duì) 準(zhǔn)工作臺(tái)零件的制造誤差和裝配誤差，以及基片的平面度誤差，使基片涂膠面與掩模版圖 形面存在一個(gè)楔形角，為了消除這個(gè)楔形角，對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)中設(shè)計(jì)了找平機(jī)構(gòu)，要求基片的涂 膠面以掩模版的圖形面為找平基準(zhǔn)，進(jìn)行接觸、找平，在接觸、找平過程中要求基片的涂膠 面只能有Z向垂直位移，不能有Z向旋轉(zhuǎn)和X-Y平面運(yùn)動(dòng)，否則就會(huì)損壞基片的涂膠面和掩 模版圖形面。在接觸、找平過程中，基片涂膠面上的高點(diǎn)與掩模版圖形面接觸，會(huì)將局部的找平 力傳遞到連接板7上，缸體1上均布的三個(gè)頂柱4，此時(shí)其中一個(gè)或兩個(gè)頂柱4將找平力傳 遞到缸體1里支撐頂柱4的彈性氣囊3上，彈性氣囊3受力發(fā)生彈性變形，使受力的頂柱4 發(fā)生Z向向下的垂直位移，實(shí)現(xiàn)基片與掩模版的軟接觸，保護(hù)薄基片不被擠碎；隨著接觸找 平過程的繼續(xù)，掩模版圖形面與基片涂膠面的楔形角越來越小，直到楔形角為0。在此過程 中，連接板7不斷地將變化的找平力通過三個(gè)頂柱4傳遞到彈性氣囊3上，根據(jù)帕斯卡、牛 頓定理，彈性氣囊3內(nèi)的壓力隨著三個(gè)頂柱4受力變化，彈性氣囊3與頂柱4接觸面也不斷 地發(fā)生彈性變形吸收力，同時(shí)彈性氣囊3不斷地調(diào)整對(duì)三個(gè)頂柱4的反作用力，實(shí)現(xiàn)力的重新平衡，使找平機(jī)構(gòu)容易找平，找平力小，找平時(shí)不損壞掩模版，掩模版變形量小；掩模版的 圖形面與基片的涂膠面完全緊密接觸完成找平。缸體1內(nèi)采用氣缸式活塞結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)鎖緊活 塞5，鎖緊找平后的頂柱4，保持了找平狀態(tài)。為了防止在找平過程中連接板7有Z向旋轉(zhuǎn) 和X-Y平面運(yùn)動(dòng)，破壞基片涂膠面，在支承環(huán)14上安裝三組均布的導(dǎo)向裝置，用滾動(dòng)軸承12 靠緊連接板7的兩個(gè)垂直平面和90° V形槽，滾動(dòng)軸承12與連接板7是點(diǎn)或線接觸，又是 滾動(dòng)摩擦，摩擦系數(shù)0. 002，產(chǎn)生的摩擦力相對(duì)于找平力來說可以忽略不計(jì)，不會(huì)對(duì)找平產(chǎn) 生影響。該三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)簡單，穩(wěn)定可靠，維修方便。本發(fā)明的三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu)采用彈性氣囊3作為彈性體，安裝在缸體1里；采用安裝在 缸體1里三個(gè)頂柱4支撐連接板7實(shí)現(xiàn)三點(diǎn)找平結(jié)構(gòu)，由于彈性氣囊3彈性作用通過三個(gè) 頂柱4對(duì)連接板7施加力，用三個(gè)上調(diào)平螺釘8釘調(diào)平連接板7與找平基準(zhǔn)平行，用三個(gè)緊 定螺釘9鎖緊上調(diào)平螺釘8，保證連接板7的初始狀態(tài)不變。為了保持記憶找平狀態(tài)，在缸 體1內(nèi)相對(duì)于三個(gè)頂柱4方向，內(nèi)置三個(gè)鎖緊活塞5鎖緊三個(gè)頂柱4，在支承環(huán)14上相對(duì)于 三個(gè)頂柱4、三個(gè)上調(diào)平螺釘8有位置要求的三個(gè)均布導(dǎo)向裝置，只允許連接板7Z向運(yùn)動(dòng)， 限制連接板7Z向旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和X-Y向平面運(yùn)動(dòng)。經(jīng)試用，效果很好。
權(quán)利要求
1.一種接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，其特征在于采用連接板(7)作為力的 傳遞件，在連接板(7)上圓周上設(shè)有三個(gè)孔，有3個(gè)上調(diào)平螺釘(8)通過上述的三個(gè)孔和缸 體(1)上的螺紋孔連接，連接板(7)和缸體(1)具有間隙；在連接板(7)下表面設(shè)置三個(gè) 點(diǎn)，由三個(gè)頂柱(4)接觸支撐，三個(gè)頂柱(4)在圓周上均布，并裝在缸體(1)上與頂柱(4) 滑動(dòng)配合的孔中；在三個(gè)頂柱(4)的下面設(shè)有彈性氣囊(3)，彈性氣囊( 設(shè)置在與上述孔 相聯(lián)通的孔道中，用壓蓋( 把彈性氣囊C3)固定在缸體(1)上；在缸體(1)內(nèi)相對(duì)于三個(gè) 頂柱(4)方向，設(shè)置三個(gè)汽缸，三個(gè)汽缸為聯(lián)通式，三個(gè)汽缸中有三個(gè)鎖緊活塞( 可同時(shí) 鎖定三個(gè)頂柱；三個(gè)汽缸和彈性氣囊( 均可與空壓裝置聯(lián)通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的 彈性氣囊( 呈環(huán)形，設(shè)有環(huán)形孔道與頂柱(4)滑動(dòng)配合的孔相連通，彈性氣囊( 設(shè)于該 環(huán)形孔道中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的 導(dǎo)向機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)為紅體⑴的外面設(shè)有支承環(huán)(14)，支承環(huán)(14)上安裝有三組均布的導(dǎo) 向滾動(dòng)軸承(12)，滾動(dòng)軸承(1 靠緊連接板(7)的兩個(gè)垂直平面和一個(gè)90° V形槽，滾動(dòng) 軸承(12)與連接板(7)為點(diǎn)或線接觸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的 缸體(1)的外側(cè)，缸體(1)上的螺紋孔相對(duì)，設(shè)有3個(gè)橫向螺紋孔，有三個(gè)緊定螺釘(9)可 鎖定上調(diào)平螺釘(8)。
全文摘要
本發(fā)明提供了接近接觸式光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)找平機(jī)構(gòu)，涉及接近接觸式光刻機(jī)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。在連接板上圓周上設(shè)有三個(gè)孔，有3個(gè)上調(diào)平螺釘通過上述的三個(gè)孔和缸體上的螺紋孔連接，連接板和缸體具有間隙；連接板由三個(gè)頂柱接觸支撐，三個(gè)頂柱圓周均布并裝在缸體上與頂柱滑動(dòng)配合的孔中；在三個(gè)頂柱的下面設(shè)有彈性氣囊，彈性氣囊設(shè)置在與上述孔相聯(lián)通的環(huán)形孔道中，用壓蓋固定在缸體上；缸體內(nèi)設(shè)置三個(gè)汽缸，為聯(lián)通式，有三個(gè)鎖緊活塞可同時(shí)鎖定三個(gè)頂柱；三個(gè)汽缸和彈性氣囊均與空壓裝置聯(lián)通。本發(fā)明效果顯著，容易找平，且找平力小，而且找平時(shí)不損壞掩模版和基片涂膠面，同時(shí)，結(jié)構(gòu)簡單，性能穩(wěn)定可靠，使用方便。應(yīng)用范圍廣。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102135731SQ20111000154
公開日2011年7月27日 申請(qǐng)日期2011年1月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月6日
發(fā)明者劉玄博, 周占福, 甄萬財(cái) 申請(qǐng)人:中國電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所