一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及微電子專(zhuān)用設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)。
【背景技術(shù)】
[0002]在接觸式光刻設(shè)備中，掩膜板直接與光刻膠層接觸，曝光出來(lái)的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當(dāng)，設(shè)備簡(jiǎn)單，接觸的越緊密，分辨率越高。但是由于掩模和涂了膠的基片接觸容易損傷掩模板，從而導(dǎo)致掩模板的使用壽命較短(只能使用5?25次)。并導(dǎo)致曝光圖形累積缺陷。另外接觸的越緊密，掩膜和材料的損傷就越大。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為了避免樣片與掩模板直接接觸而導(dǎo)致掩模板損傷，實(shí)現(xiàn)掩模板壽命長(zhǎng)，圖形缺陷少，本實(shí)用新型的目的是提供一套應(yīng)用于接近式間隙光刻機(jī)樣片與掩模板調(diào)平后接近式間隙曝光工件臺(tái)，即掩膜板與光刻膠基底層保留一個(gè)微小的縫隙。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，包括掩模架、掩模板、旋轉(zhuǎn)銅圈、滑塊、鋼球、樣片、承片臺(tái)、柔性鉸鏈、三點(diǎn)彈性支撐結(jié)構(gòu)、氣缸、升降驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)、正壓輸入端、負(fù)壓輸入端、電控閥門(mén)、驅(qū)動(dòng)控制電路板、主控制器和限位裝置；
[0005]所述掩模板位于掩模架上方并固接；所述掩模架上表面由真空槽，用于吸緊掩模板，內(nèi)腔設(shè)置有滑塊導(dǎo)向槽，用于滑塊導(dǎo)向；所述滑塊、鋼球以及旋轉(zhuǎn)銅圈嵌入在掩模架內(nèi)腔中，鋼球鑲嵌在滑塊端部，旋轉(zhuǎn)銅圈上設(shè)置有3處滑槽，旋轉(zhuǎn)銅圈旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)滑塊徑向伸縮運(yùn)動(dòng)；所述承片臺(tái)設(shè)置有真空槽，用于吸住樣片；所述三點(diǎn)彈性支撐結(jié)構(gòu)與承片臺(tái)通過(guò)柔性鉸鏈連接，用于樣片調(diào)平；所述氣缸包括驅(qū)動(dòng)氣缸和鎖緊氣缸，用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)銅圈和鎖緊三點(diǎn)彈性支撐結(jié)構(gòu)；所述升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置有限位裝置，用于停止升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)；所述正壓輸出端通過(guò)電控閥門(mén)分別與鎖緊氣缸和驅(qū)動(dòng)氣缸連接；所述負(fù)壓輸入端通過(guò)電控閥門(mén)分別于掩模架和承片臺(tái)連接；所述驅(qū)動(dòng)控制板分別與電控閥門(mén)和主控制器連接。
[0006]其中，所述掩模架為水平基準(zhǔn)面，通過(guò)負(fù)壓將掩模板固定于掩模架上方；掩模架內(nèi)腔中三處徑向滑塊導(dǎo)向槽之間以120°夾角均勻分布。
[0007]其中，所述旋轉(zhuǎn)銅圈3處滑槽之間以120°夾角均勻分布。
[0008]其中，所述滑塊端部鑲有鋼球的一端具有一定的恢復(fù)彈性變形的能力，三個(gè)鋼球等直徑，鋼球最上端與掩模面的距離為0.5mm。
[0009]所述承片臺(tái)上表面設(shè)有真空槽，通過(guò)負(fù)壓將樣片固定于承片臺(tái)上方。
[0010]其中，所述升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可選用電機(jī)、氣缸或其他具有相似功能的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述電控閥門(mén)、驅(qū)動(dòng)氣缸、鎖緊氣缸、升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)作都由主控器驅(qū)動(dòng)控制。
[0011]其中，所述控制器可選用微控制器、單片機(jī)或其他具有相似功能的控制模塊。
[0012]本實(shí)用新型具有以下有益效果:
[0013]1、本實(shí)用新型所述接近式間隙曝光工件臺(tái)工作時(shí)，樣片不與掩模接觸，可有效避免樣片損傷掩模板，因而減少了曝光圖形缺陷的概率。
[0014]2、本實(shí)用新型所述接近式間隙曝光工件臺(tái)工作時(shí)，僅用一個(gè)驅(qū)動(dòng)氣缸同時(shí)同步驅(qū)動(dòng)三個(gè)滑塊伸縮運(yùn)動(dòng)，統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊。
[0015]3、本實(shí)用新型所述接近式間隙曝光工件臺(tái)工作時(shí)，能實(shí)現(xiàn)自動(dòng)完成樣片與掩模板非接觸調(diào)平，并使樣片與掩模板之間保持要求的曝光間隙r，系統(tǒng)的工作效率高。
【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)原理圖；
[0017]圖2為掩膜架內(nèi)部的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖中，1-掩模板；2-掩模架；3-滑塊；4-旋轉(zhuǎn)銅圈；5_鋼球；6-樣片；7_承片臺(tái)；8-三點(diǎn)彈性支撐機(jī)構(gòu)；9_鎖緊氣缸；10_升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；11_主控制器；12_控制電路板；13-正壓輸入端；14_負(fù)壓輸入端；15_電控閥門(mén)；16_限位機(jī)構(gòu)；17_驅(qū)動(dòng)氣缸；
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖通過(guò)實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明。
[0020]如圖1所示，一種光刻機(jī)的接近式間隙曝光工件臺(tái)，它包括掩模板1、掩模架2、滑塊3、旋轉(zhuǎn)銅圈4、鋼球5、樣片6、承片臺(tái)7、三點(diǎn)彈性支撐機(jī)構(gòu)8、鎖緊氣缸9、升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)10、主控制器11、控制電路板12、正壓輸入端13、負(fù)壓輸入端14、電控閥門(mén)15、限位機(jī)構(gòu)16、驅(qū)動(dòng)氣缸17。升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)10可選用電機(jī)、氣缸或其他具有相似功能的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，主控制器11可選用微控制器、單片機(jī)或其他具有相似功能的控制模塊。
[0021]所述掩模板I位于掩模架2上方并固接；所述掩模架2上表面由真空槽，用于吸緊掩模1，內(nèi)腔設(shè)置有滑塊3導(dǎo)向槽，用于滑塊3導(dǎo)向；所述滑塊3、鋼球5以及旋轉(zhuǎn)銅圈4嵌入在掩模架2內(nèi)腔中，鋼球5鑲嵌在滑塊3端部，旋轉(zhuǎn)銅圈4上設(shè)置有3處滑槽，用于帶動(dòng)滑塊3運(yùn)動(dòng)；所述承片臺(tái)7設(shè)置有真空槽，用于吸緊樣片6 ;所述三點(diǎn)彈性支撐結(jié)構(gòu)8與承片臺(tái)7通過(guò)柔性鉸鏈連接，用于樣片6調(diào)平；所述氣缸包括驅(qū)動(dòng)氣缸17和鎖緊氣缸9，用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)銅圈4和鎖緊三點(diǎn)彈性支撐結(jié)構(gòu)8 ;所述升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)10設(shè)置有限位機(jī)構(gòu)16，用于停止升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)10運(yùn)動(dòng)；所述正壓輸入端13通過(guò)電控閥門(mén)15分別與鎖緊氣缸9和驅(qū)動(dòng)氣缸17連接；所述負(fù)壓輸入端14通過(guò)電控閥門(mén)15分別于掩模架2和承片臺(tái)7連接；所述驅(qū)動(dòng)控制板12分別與電控閥門(mén)15和主控制器11連接；
[0022]所述掩模架2為水平基準(zhǔn)面，通過(guò)負(fù)壓將掩模板I固定于掩模架2上方；掩模架2內(nèi)腔中三處滑徑向塊導(dǎo)向槽之間以120°夾角均勻分布。所述旋轉(zhuǎn)銅圈4選用材料銅或者其他耐磨性材料，3處滑槽之間以120°夾角均勻分布。所述滑塊3端部鑲有鋼球的一端具有一定的恢復(fù)彈性變形的能力，可以采用鈹青銅或者其他具有一定彈性和耐磨的材料代替，三個(gè)鋼球5等直徑，鋼球5最上端與掩模面的距離為0.5mm或者在彈性變形范圍內(nèi)的其他值。所述承片臺(tái)