納米壓印對準裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種納米壓印對準裝置，包括視覺觀察機構(gòu)，其還包括：分別用于固定被測物的第一、第二平臺，其設(shè)置于上述視覺觀察機構(gòu)下方，第一平臺安裝于一平臺座上，第二平臺連接一球軸機構(gòu)、通過該球軸機構(gòu)進行多方向多角度的擺動；該球軸機構(gòu)的下方還設(shè)置有用于驅(qū)動上述第二平臺多個方向運動的多個驅(qū)動機構(gòu)。本發(fā)明的裝置相比于現(xiàn)有技術(shù)可以實現(xiàn)模板與基片更好地緊密擠壓和固定，從而更優(yōu)地實現(xiàn)對微納圖案的重復有序壓印。
【專利說明】納米壓印對準裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種對準裝置，特別涉及一種納米壓印對準裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]微納米壓印技術(shù)及設(shè)備是實現(xiàn)廉價、快速的微納圖案化的核心技術(shù)及設(shè)備，其在科研應(yīng)用及各種大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用方面都具有重大的市場前景。要實現(xiàn)對微納圖案的重復有序壓印，即在已有圖案的基底上再進行圖案壓印制作，需要所使用的壓印設(shè)備具有對準機構(gòu)及功能。
[0003]目前已有的微結(jié)構(gòu)圖案對準機構(gòu)，是應(yīng)用于光刻機之上的對準機構(gòu)，相比于光刻機的對準裝置，納米壓印設(shè)備的對準裝置的不同在于:實現(xiàn)模板與基片對準后，模板與基片需要相互緊密擠壓并固定(相互鎖定，不能再有相對移動)，然后送入壓印腔進行壓印操作；而光刻機的對準機構(gòu)是在實現(xiàn)兩個片子調(diào)整對準后僅需要模板與基片貼住即可，且不用再移動。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的就是針對上述問題，提供一種可以實現(xiàn)模板與基片更好地緊密擠壓和固定的納米壓印對準裝置。
[0005]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了以下技術(shù)方案:納米壓印對準裝置，包括視覺觀察機構(gòu)，其還包括:
分別用于固定被測物的第一、第二平臺，其設(shè)置于上述視覺觀察機構(gòu)下方，第一平臺安裝于一平臺座上，第二平臺連接一球軸機構(gòu)、通過該球軸機構(gòu)進行多方向多角度的擺動；該球軸機構(gòu)的下方還設(shè)置有用于驅(qū)動上述第二平臺多個方向運動的多個驅(qū)動機構(gòu)。
[0006]優(yōu)選地,上述的球軸機構(gòu)包括柱體以及安裝于該柱體上并在該柱體上自由轉(zhuǎn)動的球體，該球體還連接上述的第二平臺。
[0007]優(yōu)選地，上述的平臺座上設(shè)置有滑軌，上述第一平臺的一側(cè)滑動連接于該滑軌內(nèi)。
[0008]優(yōu)選地，上述的多個驅(qū)動機構(gòu)包括從上至下依次設(shè)置的旋轉(zhuǎn)運動驅(qū)動機構(gòu)、XY軸運動驅(qū)動機構(gòu)和Z軸運動驅(qū)動機構(gòu)。
[0009]優(yōu)選地，上述的第二平臺上還設(shè)置有夾緊機構(gòu)。
[0010]采用以上技術(shù)方案的有益效果在于:本發(fā)明將一個平臺安裝在一個平臺座上，另一個平臺連接在一球軸機構(gòu)上，并在球軸機構(gòu)下方設(shè)置多個驅(qū)動機構(gòu)，通過球軸機構(gòu)進行的多方向多角度的擺動，使得模板和基片(即模板和基片)可以被調(diào)整平行，然后再通過多個驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動作用和視覺觀察機構(gòu)，使得模板和基片無限接近，并將其上的十字靶標對齊。因此，利用上述技術(shù)方案，本發(fā)明的裝置相比于現(xiàn)有技術(shù)可以實現(xiàn)模板與基片更好地緊密擠壓和固定，從而更優(yōu)地實現(xiàn)對微納圖案的重復有序壓印。
【專利附圖】

【附圖說明】[0011]圖1是本發(fā)明的納米壓印對準裝置的主視圖。
[0012]圖2是本發(fā)明的納米壓印對準裝置的右視圖。
[0013]圖3是本發(fā)明的納米壓印對準裝置的立體圖。
[0014]圖4是本發(fā)明的納米壓印對準裝置的球軸的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]其中，1.視覺觀察機構(gòu)11.顯微鏡12.C⑶相機13.顯微鏡光源14.顯微鏡安裝座2.第一平臺3.第二平臺4.平臺座41.滑軌5.球軸機構(gòu)51.柱體52.球體6.旋轉(zhuǎn)運動驅(qū)動機構(gòu)7.XY軸運動驅(qū)動機構(gòu)8.Z軸運動驅(qū)動機構(gòu)9.夾緊機構(gòu)。
【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖詳細說明本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。
[0017]如圖1-3所示，本發(fā)明的納米壓印對準裝置的第一種實施方式中，其包括:視覺觀察機構(gòu)I，該視覺觀察機構(gòu)I具體可以包括顯微鏡11、(XD相機12、顯微鏡光源13和顯微鏡安裝座14，其作用是觀察模板和基片的中心是否對齊，視覺觀察機構(gòu)I其實并不限于采用如上的部件，其為現(xiàn)有技術(shù)中可以獲知的，在此不再贅述；分別用于固定被測物的兩個平臺，即第一平臺2和第二平臺3，它們都設(shè)置于視覺觀察機構(gòu)I的下方，其中，第一平臺2安裝于一平臺座4上,第二平臺3連接一球軸機構(gòu)5、通過該球軸機構(gòu)5進行多方向多角度的擺動；該球軸機構(gòu)5的下方還設(shè)置有用于驅(qū)動上述平臺多個方向運動的多個驅(qū)動機構(gòu)，該驅(qū)動機構(gòu)可以根據(jù)需要進行調(diào)整并安裝，如驅(qū)動第二平臺3上下運動、左右運動等的驅(qū)動機構(gòu)。通過球軸機構(gòu)5進行的多方向多角度的擺動，使得置于第一平臺2和第二平臺3上的模板和基片可以被調(diào)整平行，然后再通過多個驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動作用和視覺觀察機構(gòu)，使得模板和基片無限接近，并將其上的十字靶標對齊。因此，通過該技術(shù)方案，本裝置相比于現(xiàn)有技術(shù)可以實現(xiàn)模板與基片更好地緊密擠壓和固定，從而更優(yōu)地實現(xiàn)對微納圖案的重復有序壓印。
[0018]如圖1和圖4所示，本發(fā)明的納米壓印對準裝置的第二種實施方式中，上述的球軸機構(gòu)5包括柱體51以及安裝于該柱體51上并在該柱體51上自由轉(zhuǎn)動的球體52,該球體52還連接第二平臺3。通過球體52在柱體51上的自由轉(zhuǎn)動的作用，即可以快速地實現(xiàn)對第二平臺3的調(diào)整，實現(xiàn)模板和基片之間平行度的調(diào)整。
[0019]如圖1-3所示，本發(fā)明的納米壓印對準裝置的第三種實施方式中，上述的平臺座4上設(shè)置有滑軌41，第一平臺2的一側(cè)滑動連接于該滑軌41內(nèi)，從而可以實現(xiàn)第一平臺2在一個方向上的調(diào)整。
[0020]如圖1-3所示，本發(fā)明的納米壓印對準裝置的第四種實施方式中，上述的多個驅(qū)動機構(gòu)包括從上至下依次設(shè)置的旋轉(zhuǎn)運動驅(qū)動機構(gòu)6、XY軸運動驅(qū)動機構(gòu)7和Z軸運動驅(qū)動機構(gòu)8，這個次序的設(shè)置可以方便工作人員對第二平臺3的調(diào)整，即從下開始先通過Z軸運動驅(qū)動機構(gòu)8使得模板和基片無限接近，然后再通過上面的旋轉(zhuǎn)運動驅(qū)動機構(gòu)6和XY軸運動驅(qū)動機構(gòu)7來對齊十字靶標。其中，各個驅(qū)動機構(gòu)可以采用絲杠螺母等部件來手動調(diào)節(jié)，也可以采用其他如電機等的驅(qū)動方式。
[0021]如圖1-2所示，本發(fā)明的納米壓印對準裝置的第五種實施方式中，上述的第二平臺3上還設(shè)置有夾緊機構(gòu)9，該夾緊機構(gòu)9可以包括有多個可來回滑動的壓塊，這些壓塊可以安裝在第二平臺3上的支架上。當然，除了壓塊，也可以設(shè)置壓桿等多種方式。設(shè)置夾緊機構(gòu)9，可以在完成對模板和基片的找平和對準工序后，對其兩者直接進行夾緊，然后就可以迅速地送入壓印腔進行壓印。
[0022]下面介紹本發(fā)明優(yōu)選方式下的工作過程:將模板置于第一平臺2，一般是通過加真空將基片固定在第一平臺2上，基片則一般通過同樣的方式固定于第二平臺3上，隨后通過Z軸運動驅(qū)動機構(gòu)8驅(qū)動球軸機構(gòu)5朝向第一平臺2的方向運動，使得第二平臺3上的基片與第一平臺2上的模板相擠壓，球軸自身會自適應(yīng)到一個位置(即兩個平臺平行的位置)，這時鎖定球軸機構(gòu)5 (可以是通過設(shè)置于球軸機構(gòu)5內(nèi)的螺釘?shù)攘慵斁o球軸)，即實現(xiàn)了模板和基片的找平，隨后再通過旋轉(zhuǎn)運動驅(qū)動機構(gòu)6和XY軸運動驅(qū)動機構(gòu)7分別驅(qū)動第二平臺2旋轉(zhuǎn)和沿著XY軸運動來實現(xiàn)基片和模板的靶標的對準，在實現(xiàn)對準調(diào)節(jié)后，基片與模板緊貼，這時夾緊機構(gòu)9下落，將基片與模板夾緊，這時操作完成，整個機構(gòu)可以送人壓印腔進行壓印。
[0023]以上所述的僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.納米壓印對準裝置，包括視覺觀察機構(gòu)，其特征在于:還包括: 分別用于固定被測物的第一、第二平臺，其設(shè)置于所述視覺 觀察機構(gòu)下方，第一平臺安裝于一平臺座上，第二平臺連接一球軸機構(gòu)、通過所述球軸機構(gòu)進行多方向多角度的擺動； 所述球軸機構(gòu)的下方還設(shè)置有用于驅(qū)動所述第二平臺多個方向運動的多個驅(qū)動機構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印對準裝置，其特征在于:所述球軸機構(gòu)包括柱體以及安裝于所述柱體上并在所述柱體上自由轉(zhuǎn)動的球體，所述球體還連接所述第二平臺。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印對準裝置，其特征在于:所述平臺座上設(shè)置有滑軌，所述第一平臺的一側(cè)滑動連接于所述滑軌內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印對準裝置，其特征在于:所述多個驅(qū)動機構(gòu)包括從上至下依次設(shè)置的旋轉(zhuǎn)運動驅(qū)動機構(gòu)、XY軸運動驅(qū)動機構(gòu)和Z軸運動驅(qū)動機構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印對準裝置，其特征在于:所述第二平臺上還設(shè)置有夾緊機構(gòu)。
【文檔編號】G03F9/00GK103529661SQ201310523254
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年10月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月30日
【發(fā)明者】史曉華, 劉曉成 申請人:蘇州光舵微納科技有限公司