電子照相感光體及圖像形成裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供能夠減少圖像不均、黑斑以及起霧等圖像缺陷并且電穩(wěn)定性高的電子照相感光體。根據(jù)本發(fā)明，提供一種電子照相感光體，在導(dǎo)電性支撐體上具有中間層和感光層的電子照相感光體中，上述中間層含有:用第一反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的第一氧化鈦粒子，用與第一反應(yīng)性有機硅化合物不同的第二反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的氧化鈦粒子，以及粘合劑樹脂。第一反應(yīng)性有機硅化合物是聚甲基氫硅氧烷，第二反應(yīng)性有機硅化合物是下述通式（1）表示的反應(yīng)性有機硅化合物，R-Si-（X）3（1），通式（1）中，R表示含有甲基丙烯酰氧基和丙烯酰氧基作為取代基的碳原子數(shù)1～10的烷基，X表示碳原子數(shù)1～4的烷氧基。
【專利說明】電子照相感光體及圖像形成裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電子照相方式的圖像形成方法中使用的電子照相感光體、以及具備該電子照相感光體的圖像形成裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，對電子照相方式的復(fù)印機、打印機等圖像形成裝置要求更進(jìn)一步的高畫質(zhì)化。作為高畫質(zhì)化的要求，具體而言，可舉出改善頁內(nèi)或頁間的濃度不均等。圖像形成裝置中，伴隨形成的圖像的高畫質(zhì)化且高分辨率化，檢測性也提高，所以產(chǎn)生濃度不均的情況也不斷增加。為了改善濃度不均，以往對圖像形成裝置采取各種對策，進(jìn)行了持續(xù)的研究。
[0003]另外，近年廣泛使用的帶負(fù)電型的具有層疊結(jié)構(gòu)的電子照相感光體(以下，簡稱為感光體)通常在導(dǎo)電性支撐體上層疊有中間層和在電荷產(chǎn)生層上形成電荷輸送層而成的感光層。這樣的帶負(fù)電型的具有層疊結(jié)構(gòu)的電子照相感光體中，其表面帶負(fù)電后，曝光，則在電荷產(chǎn)生層中產(chǎn)生電荷，其中負(fù)電荷(電子)經(jīng)由中間層向?qū)щ娦灾误w移動，另一方面，空穴(電洞)經(jīng)由電荷輸送層向電子照相感光體表面移動，中和該表面的負(fù)電荷而形成靜電潛像。因此，對于中間層，要求具有電子輸送性(使電荷產(chǎn)生層中產(chǎn)生的電子迅速移動到導(dǎo)電性支撐體)和空穴阻擋性(抑制空穴從導(dǎo)電性支撐體向感光層的注入)。
[0004]為了發(fā)揮這樣的中間層的作用，已知有使中間層含有特定的金屬氧化物粒子的技術(shù)。由此，嘗試了提高中間層的功能，同時減少以濃度不均為代表的圖像缺陷。
[0005]例如，作為減少圖像缺陷的以往的嘗試，已知有底涂層中使用利用聚甲基氫硅氧烷進(jìn)行表面處理的氧化鈦粒子，感光層中含有酞菁氧鈦作為電荷產(chǎn)生層的現(xiàn)有技術(shù)(下述專利文獻(xiàn)I)。專利文獻(xiàn)I中公開了，通過使用經(jīng)特定的表面處理的氧化鈦粒子和特定的電荷產(chǎn)生物質(zhì)，從而特別是在從高溫高濕到低溫低濕的環(huán)境下，提高圖像特性和電特性，提高分散液的保存穩(wěn)定性。
[0006]另外，作為減少高溫高濕下的起霧等圖像缺陷的其它嘗試，已知有將含有氧化鈦的中間層控制在特定的反射吸光度范圍的現(xiàn)有技術(shù)(下述專利文獻(xiàn)2)。專利文獻(xiàn)2中記載了以有機硅化合物覆蓋氧化鈦來使用，記載了由此能夠提高氧化鈦的吸水性和分散性。
[0007]另外，作為減少起霧和黑斑等圖像缺陷的其它的現(xiàn)有技術(shù)的嘗試，已知有中間層含有N型半導(dǎo)體性微粒和粘合劑樹脂而構(gòu)成，N型半導(dǎo)體性微粒被多次表面處理并且最后的表面處理是利用反應(yīng)性有機硅化合物的表面處理的電子照相感光體(下述專利文獻(xiàn)3)。
[0008]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0009]專利文獻(xiàn)
[0010]專利文獻(xiàn)1:日本特開2005-134924號公報
[0011]專利文獻(xiàn)2:日本特開2007-094226號公報
[0012]專利文獻(xiàn)3:日本特開2002-236381號公報

【發(fā)明內(nèi)容】
[0013]已知上述的濃度不均與電子照相感光體的電穩(wěn)定性有關(guān)系。隨著電子照相感光體的長期使用，表面的電位緩緩上升，其導(dǎo)致濃度不均。作為中間層的對策，為了改善濃度不均，考慮單純提高中間層的電子輸送性。然而，若僅提高中間層的電子輸送性，則無法充分抑制空穴從導(dǎo)電性支撐體向感光層的注入，即得不到充分的空穴阻擋性。另外，電子照相感光體中發(fā)生由于熱激發(fā)而產(chǎn)生的載流子的泄露，由此，存在電子照相感光體的表面電位部分降低，產(chǎn)生黑斑、起霧等圖像缺陷的問題。
[0014]這樣，黑斑、起霧等圖像缺陷的減少與電子照相感光體的電穩(wěn)定性具有消長的關(guān)系?？紤]到該點，可知上述的現(xiàn)有技術(shù)中，即使對減少圖像缺陷有效，電穩(wěn)定性也不充分，另夕卜，考慮到電穩(wěn)定性，圖像缺陷的減少方面就不充分。尤其近年來對形成的圖像要求越來越高的畫質(zhì)，隨著高畫質(zhì)化，電子照相感光體的電穩(wěn)定性變得重要。
[0015]本發(fā)明是在上述的背景下而完成的，其目的是提供一種抑制了形成的圖像中的黑斑、起霧之類的圖像缺陷的產(chǎn)生并且長期使用也能維持電穩(wěn)定性改善濃度不均的電子照相感光體，以及使用了該電子照相感光體的圖像形成裝置。
[0016]本發(fā)明的上述目的是通過形成以下的構(gòu)成而實現(xiàn)的。
[0017]1.一種電子照相感光體，其特征在于，是在導(dǎo)電性支撐體上具有中間層和感光層的電子照相感光體，
[0018]上述中間層含有用第一反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的第一氧化鈦粒子、用與第一反應(yīng)性有機硅化合物不同的第二反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的第二氧化鈦粒子、以及粘合劑樹脂，
[0019]第一反應(yīng)性有機硅化合物是聚甲基氫硅氧烷，
[0020]第二反應(yīng)性有機硅化合物是下述通式(I)表示的反應(yīng)性有機硅化合物，
[0021]R-S1- (X) 3 (I)
[0022]通式(I)中，R表示含有甲基丙烯酰氧基和丙烯酰氧基作為取代基的碳原子數(shù)I?10的燒基，X表不碳原子數(shù)I?4的燒氧基。
[0023]2.如上述I所述的電子照相感光體，其特征在于，上述第一氧化鈦粒子是用無機氧化物進(jìn)行表面處理，再用上述第一反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的粒子。
[0024]3.如上述I或2所述的電子照相感光體，其特征在于，上述第二反應(yīng)性有機硅化合物是3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的至少一方。
[0025]4.如上述3所述的電子照相感光體，其特征在于，上述第二反應(yīng)性有機硅化合物
是3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。
[0026]5.如上述I或2所述的電子照相感光體，其特征在于，上述無機氧化物是二氧化硅和氧化鋁中的至少一方。
[0027]6.如上述I或2所述的電子照相感光體，其特征在于，上述粘合劑樹脂是聚酰胺樹脂。
[0028]7.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備上述I或2所述的電子照相感光體。
[0029]本發(fā)明的電子照相感光體通過在中間層含有用相互不同的反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理的第一和第二氧化鈦粒子，從而能夠抑制形成的圖像的黑斑和起霧等圖像缺陷，并且能夠長期維持電子照相感光體的電穩(wěn)定性，能夠改善濃度不均?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0030]圖1是表示本發(fā)明的圖像形成裝置的一個實施方式的示意剖視圖。
[0031]圖2是表示實施例中的用于圖像評價的圖表的圖。
[0032]符號說明
[0033]100圖像形成裝置
[0034]110Y、110M、110C、110Bk 圖像形成單元
[0035]111Υ、111M、111C、11 IBk 電子照相感光體
[0036]113Y、113M、113C、113Bk 帶電機構(gòu)
[0037]115Y、115M、115C、115Bk 曝光機構(gòu)
[0038]117Y、117M、117C、117Bk 顯影機構(gòu)
[0039]119Y、119M、119C、119Bk 清潔機構(gòu)
[0040]130無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體單元
[0041]131無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體
[0042]133Y、133M、133C、133Bk —次轉(zhuǎn)印輥(轉(zhuǎn)印機構(gòu))
[0043]135清潔機構(gòu)
`[0044]137A、137B、137C、137D 輥
[0045]150送紙搬運機構(gòu)
[0046]170定影機構(gòu)
[0047]200處理盒
[0048]201筐體
[0049]203R.203L支撐導(dǎo)軌
[0050]211送紙盒
[0051]213A,213B,213C,213D 中間輥
[0052]215電阻輥
[0053]217二次轉(zhuǎn)印輥(轉(zhuǎn)印機構(gòu))
[0054]219排紙輥
[0055]221排紙托盤
[0056]D電子照相感光體的旋轉(zhuǎn)軸向
[0057]P轉(zhuǎn)印材料
[0058]SC原稿圖像讀取裝置
【具體實施方式】
[0059]以下，對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0060]<電子照相感光體的構(gòu)成>
[0061](電子照相感光體的層構(gòu)成)
[0062]本發(fā)明的電子照相感光體是帶負(fù)電型的電子照相感光體，是在導(dǎo)電性支撐體上具有中間層、在該中間層上層疊感光層而成的感光體。
[0063]在本發(fā)明的電子照相感光體中，感光層具有通過曝光產(chǎn)生電荷的功能和將產(chǎn)生的電荷(空穴)輸送到感光體表面的功能。感光層可以具有在同一個層進(jìn)行電荷產(chǎn)生功能和電荷輸送功能的單層結(jié)構(gòu)，也可以具有在不同的層進(jìn)行電荷產(chǎn)生功能和電荷輸送功能的層疊結(jié)構(gòu)。但是，為了抑制反復(fù)使用所致的殘留電位的增加，優(yōu)選具有電荷產(chǎn)生層與電荷輸送層的層疊結(jié)構(gòu)。另外，本發(fā)明的電子照相感光體可以在感光層上進(jìn)一步形成保護層。
[0064]本發(fā)明的電子照相感光體的層構(gòu)成沒有特別限定，作為具體例，可舉出下述(I)和
(2)的層構(gòu)成。即，(I)在導(dǎo)電性支撐體上具有中間層，在該中間層上層疊按含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層和含有電荷輸送物質(zhì)的電荷輸送層的順序進(jìn)行層疊的層疊結(jié)構(gòu)的感光層，上述電荷輸送層成為最表面層的層構(gòu)成，(2)在導(dǎo)電性支撐體上具有中間層，在該中間層上層疊含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)和電荷輸送物質(zhì)的單層結(jié)構(gòu)的感光層，上述感光層(單層)成為最表面層的層構(gòu)成。
[0065]在本發(fā)明中，電子照相感光體優(yōu)選是由有機化合物來發(fā)揮對于電子照相感光體的構(gòu)成必不可少的電荷產(chǎn)生功能和電荷輸送功能中的至少一種功能而構(gòu)成的感光體。本發(fā)明的電子照相感光體中包含具有由公知的有機電荷產(chǎn)生物質(zhì)或者有機電荷輸送物質(zhì)構(gòu)成的感光層的感光體、具有由高分子配位體構(gòu)成電荷產(chǎn)生功能和電荷輸送功能的感光層的感光體等公知的所有電子照相感光體。
[0066]以下，對本發(fā)明的電子照相感光體是上述(I)的優(yōu)選的層構(gòu)成的情況進(jìn)行說明。上述(I)的層構(gòu)成的電子照相感光體中，在導(dǎo)電性支撐體上，隔著中間層形成按電荷產(chǎn)生層和電荷輸送層的順序進(jìn)行層疊而成的感光層。該電子照相感光體的表面帶負(fù)電后，曝光，則在電荷產(chǎn)生層中產(chǎn)生電荷。電荷產(chǎn)生層中產(chǎn)生的電荷中，負(fù)電荷(電子)經(jīng)由中間層向?qū)щ娦灾误w移動，空穴經(jīng)由電荷輸送層向電子照相感光體表面移動而中和電子照相感光體表面的負(fù)電荷，由此在電子照相感光體表面形成靜電潛像。在本發(fā)明中，其特征在于，中間層含有用相互不同的反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理的第一和第二氧化鈦粒子。由此，在中間層中，能夠確保電子輸送性并且抑制不規(guī)則電子和空穴的注入，能夠在抑制黑斑、起霧等圖像缺陷的產(chǎn)生的同時提高電子照相感光體的電穩(wěn)定性。
[0067]接下來，對構(gòu)成本發(fā)明的感光體的導(dǎo)電性支撐體、中間層、具備電荷產(chǎn)生層和電荷輸送層的感光層，以及對構(gòu)成各層的部件進(jìn)行說明。
[0068](導(dǎo)電性支撐體)
[0069]作為構(gòu)成本發(fā)明的電子照相感光體的導(dǎo)電性支撐體，只要是圓筒狀或者片狀且具有導(dǎo)電性則可以是任一種，例如可舉出將鋁、銅、鉻、鎳、鋅以及不銹鋼等的金屬成型為鼓或片狀的支撐體，將鋁、銅等金屬箔層壓于塑料膜而成的支撐體，將鋁、氧化銦以及氧化錫等蒸鍍在塑料膜上而成的支撐體，將導(dǎo)電性物質(zhì)單獨或與粘合劑樹脂一起進(jìn)行涂布而設(shè)置導(dǎo)電層的金屬、塑料膜以及紙等。
[0070](中間層)
[0071]在本發(fā)明的電子照相感光體中，在導(dǎo)電性支撐體與感光層之間，設(shè)置中間層，所述中間層含有用第一反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理的第一氧化鈦粒子、用與第一反應(yīng)性有機硅化合物不同的第二反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理的第二氧化鈦粒子、以及粘合劑樹脂。
[0072]作為本發(fā)明的電子照相感光體能夠兼顧圖像缺陷的抑制和電穩(wěn)定性的理由，詳細(xì)原因還不明確，但可推測如下。可推測通過使中間層含有用相互不同的第一和第二反應(yīng)性有機硅化合物分別進(jìn)行表面處理的第一和第二氧化鈦粒子，能夠控制粘合劑樹脂與氧化鈦粒子的取向性、即相互的位置關(guān)系。混合第一和第二氧化鈦粒子形成中間層時，雖然認(rèn)為在中間層剛剛形成后第一和第二氧化鈦粒子均勻地分散在中間層中，但推測它們在干燥工序中相互移動，各自不均地存在于完成的中間層中。推測經(jīng)相互不同的表面處理的氧化鈦粒子存在在中間層中擔(dān)當(dāng)相互不同的功能的部分，推測通過它們不均地存在，從而能夠有效地抑制來自電荷產(chǎn)生層的空穴(載流子)的注入，抑制黑斑和起霧等圖像缺陷，并且，有助于中間層整體的電子輸送性的維持，對電穩(wěn)定性的維持和圖像不均的抑制帶來效果。然而，上述的機理是推測的，并不限定本發(fā)明。
[0073]如果第一氧化鈦粒子和第二氧化鈦粒子是通過本發(fā)明人等的實驗分別利用第一和第二反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成，就可得到本發(fā)明的效果。作為可用作本發(fā)明中表面處理劑的第一反應(yīng)性有機硅化合物，是聚甲基氫硅氧烷，作為第二反應(yīng)性有機硅化合物，是下述通式(I)表示的硅烷化合物。
[0074]R-S1- (X) 3 (I)
[0075]通式(I)中，R表示含有甲基丙烯酰氧基和丙烯酰氧基作為取代基的碳原子數(shù)I?10的燒基，X表不碳原子數(shù)I?4的燒氧基。
[0076]更具體而言，作為第二反應(yīng)性有機硅化合物，例如可舉出3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、2-甲基丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丁基三甲氧基硅烷等烷氧基硅烷等。它們可作為第二反應(yīng)性有機硅化合物而含有二種以上。
[0077]聚甲基氫硅氧烷是包含甲基氫硅氧烷單元-(HSi (CH3)O)-的結(jié)構(gòu)單元的聚硅氧烷，優(yōu)選是與除此之外的其它硅氧烷結(jié)構(gòu)單元的共聚物。作為其它的硅氧烷單元，可舉出二甲基硅氧烷單元、甲基乙基硅氧烷單元、甲基苯基硅氧烷單元及二乙基硅氧烷單元等，可以含有2種以上。包含甲基氫硅氧烷單元的聚合物的分子量為1000?20000時，表面處理效果好，其結(jié)果，對黑斑等圖像缺陷的抑制有貢獻(xiàn)，因而優(yōu)選。
[0078]其中，為了易于實現(xiàn)本發(fā)明的所期望的效果，所以第二反應(yīng)性有硅化合物特別優(yōu)選3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的至少一方，更優(yōu)選3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。
[0079]第一和第二氧化鈦粒子可進(jìn)一步實施其它的表面處理。作為其它的表面處理，有利用無機氧化物的表面處理劑的無機處理和利用除反應(yīng)性有機硅化合物以外的有機化合物的表面處理劑的有機處理。
[0080]作為成為表面處理劑的無機氧化物，例如，可舉出氧化鋁、二氧化硅、氧化鋯、它們的水合物等無機氧化物。其中，為了更易于實現(xiàn)本發(fā)明的所期望的效果，所以特別優(yōu)選氧化鋁、二氧化硅、氧化鋁和二氧化硅的組合。它們可以單獨使用或組合二種以上使用。
[0081]作為利用其它有機化合物的表面處理，可舉出利用有機鈦化合物的表面處理。作為有機鈦化合物，可使用烷氧基鈦(即，鈦醇鹽)、鈦聚合物、鈦酰化物、鈦螯合物、鈦酸四丁酯、四辛基鈦酸酯、異丙基三異硬脂酰鈦酸酯、異丙基十三烷基苯磺酰鈦酸酯以及雙(二辛基焦磷酸酯)氧基乙酸酯鈦酸酯等。
[0082]在本發(fā)明中，特別是作為第一和第二氧化鈦粒子的一方，優(yōu)選使用對經(jīng)無機處理的氧化鈦粒子進(jìn)一步用第一或者第二反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的粒子。通過對氧化鈦粒子進(jìn)行表面處理，能夠覆蓋存在于氧化鈦粒子表面的活性羥基抑制不需要的活性，特別是在無機處理的基礎(chǔ)上進(jìn)行有機處理，由此能夠更可靠地覆蓋表面的活性羥基，能夠大幅減少其活性。特別地，優(yōu)選在二氧化硅和/或氧化鋁處理后實施利用聚硅氧烷化合物的表面處理的組合，更優(yōu)選實施了這樣的表面處理的氧化鈦粒子和上述的僅實施了利用硅烷化合物的表面處理的氧化鈦粒子的組合。如果為這樣的粒子的組合，則易于實現(xiàn)本發(fā)明的所期望的效果。
[0083]中間層中含有的氧化鈦粒子是否經(jīng)過表面處理可以利用透射型、能量分散型X射線分析法(TEM-EDX)、波長分散型熒光X射線分析(WDX)進(jìn)行制造工序的確認(rèn)、或者中間層中所含的氧化鈦粒子的表面的無機分析來確認(rèn)。
[0084]本發(fā)明中，如果在中間層中存在第一和第二氧化鈦粒子兩者，則可得到所期望的效果，所以第一和第二氧化鈦粒子的配合比沒有特別限制。然而，優(yōu)選第一氧化鈦粒子和第二氧化鈦粒子的配合比是第一氧化鈦粒子:第二氧化鈦粒子(體積比)為20:80~70:30,更優(yōu)選為30:70~70:30。如果為上述的范圍，則能夠更可靠地得到本發(fā)明的圖像缺陷抑制和電穩(wěn)定性維持的效果。
[0085]第一和第二氧化鈦粒子均優(yōu)選數(shù)均一次粒徑為5~IOOnm,更優(yōu)選為10~50nm。若氧化鈦粒子的數(shù)均一次粒徑為上述的范圍內(nèi)，則電子輸送性適宜，不損害分散性，所以能夠充分地抑制黑斑、起霧等圖像缺陷的產(chǎn)生，并且，能夠充分地抑制濃度不均的產(chǎn)生。作為構(gòu)成第一和第二氧化鈦粒子的氧化鈦粒子，從成本方面等考慮，優(yōu)選使用相同的粒子、相同粒徑的粒子。然而，也可以使用不同粒徑的粒子。
[0086]本發(fā)明中，氧化鈦粒子的數(shù)均一次粒徑可通過如下方式進(jìn)行測定。即，用倍率100000倍觀察氧化鈦粒子的TEM (透射型電子顯微鏡)圖像，作為一次粒子隨機選擇100個粒子。利用圖像解析測定這些一次粒子的費雷特方向平均直徑，求出它們的平均值作為“數(shù)均一次粒徑”。
[0087]利用第一和第二反應(yīng)性有機硅化合物的氧化鈦粒子表面處理可利用公知的方法進(jìn)行，沒有特別限定，可采用濕式處理或干式處理。作為干式處理，可以對利用攪拌等使氧化鈦粒子分散成云狀而成的物質(zhì)噴霧用乙醇等溶解了的反應(yīng)性有機硅化合物溶液，或與氣化的反應(yīng)性有機硅化合物溶液接觸并使其附著。另外，作為利用濕式處理的表面處理方法，例如可以在使反應(yīng)性有機硅化合物溶解或分散于有機溶劑而成的溶液中，添加氧化鈦粒子進(jìn)行混合、攪拌，或者使氧化鈦粒子分散于溶液中，向其中滴加反應(yīng)性有機硅化合物使其附著，利用珠磨機等進(jìn)行濕式碎解處理。其后，可以通過利用減壓蒸餾等從得到的溶液中除去溶劑，對得到的氧化鈦粒子進(jìn)行退火處理(燒結(jié))而進(jìn)行。其中，由于制造工序更簡便，所以優(yōu)選為濕式處理。
[0088]作為用于制備反應(yīng)性有機硅化合物溶液的溶劑，優(yōu)選為有機溶劑，可舉出苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類溶劑、四氫呋喃、二惡烷等醚系溶劑。
[0089]上述的混合?攪拌只要適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行到使氧化鈦粒子充分分散即可。上述的碎解處理時的溫度優(yōu)選為15~100°C左右，更優(yōu)選為20~50°C。碎解處理時間優(yōu)選為0.5~10小時，更優(yōu)選為I~5小時。另外，燒結(jié)溫度例如可以為100~220°C，優(yōu)選為110~150°C。燒結(jié)時間優(yōu)選為0.5~10小時，更優(yōu)選為I~5小時。然而，這些條件為一個例子，有時因處理裝置而變動，所以可不在上述的范圍內(nèi)實施。
[0090]在濕式的表面處理方法中，第一和第二反應(yīng)性有機硅化合物的使用量根據(jù)其種類而不同，所以無法一概規(guī)定，優(yōu)選適當(dāng)?shù)剡x擇而進(jìn)行表面處理。然而，相對于未處理氧化鈦粒子100質(zhì)量份,優(yōu)選使用反應(yīng)性有機娃化合物0.1?20質(zhì)量份、更優(yōu)選為I?15質(zhì)量份。溶劑的添加量優(yōu)選相對于未處理金屬氧化物粒子100質(zhì)量份為100?600質(zhì)量份、更優(yōu)選為200?500質(zhì)量份。
[0091]反應(yīng)性有機硅化合物的使用量如果為上述下限值以上，則可對未處理氧化鈦粒子進(jìn)行充分的表面處理，所以能夠維持中間層的空穴阻擋性，能夠維持電穩(wěn)定性，并且能夠充分地抑制黑斑、起霧等圖像缺陷的產(chǎn)生。另一方面，如果使用量為上述上限值以下，則能夠防止由于反應(yīng)性有機硅化合物彼此反應(yīng)導(dǎo)致在氧化鈦粒子的表面未附著均勻的被膜而容易發(fā)生泄露。
[0092]另外，第一和第二氧化鈦粒子的一方優(yōu)選在使用了反應(yīng)性有機硅化合物的表面處理前實施無機處理。進(jìn)行無機處理時，可使用以下的方法。即，使氧化鈦粒子分散于水等溶劑中，進(jìn)行攪拌使其懸浮。只要能對粒子表面整體進(jìn)行表面處理，分散液的濃度就沒有特別限制，優(yōu)選使氧化鈦粒子的濃度為0.1?20質(zhì)量％。向該懸浮液中添加氫氧化鈉等使pH優(yōu)選為8.0以上。接著，對于二氧化硅處理而言是向分散液中添加硅酸鹽溶液等前體溶液，對于氧化鋁處理而言是向分散液中添加鋁酸溶液等前體溶液，優(yōu)選升溫至60?100°C。作為無機表面處理劑的添加量，相對于氧化鈦粒子，優(yōu)選無機氧化物為I?20質(zhì)量％。其后，可以經(jīng)0.5?5小時滴加酸進(jìn)行中和使得pH成為酸性，過濾得到的完成表面處理的氧化鈦粒子，并清洗、干燥而完成。然而，上述的處理方法為一個例子，也可以不使用這些條件。
[0093]實施了利用無機氧化物的表面處理的氧化鈦粒子可以使用實施了 二氧化硅、氧化鋁處理的氧化鈦粒子等市售品。作為市售品，例如可舉出T-805 (NIPPON AER0SIL公司制)、STT-30A、STT-65S-S (Titan Kogyo 公司制)、TAF-500T、TAF-1500T (Fuji TitaniumIndustry 公司制)、MT-100S、MT-100T、MT-100SA、MT_500SA (TAYCA 公司制)、IT-S (石原產(chǎn)業(yè)公司制)等。
[0094]另外，本發(fā)明的電子照相感光體只要含有上述的第一和第二氧化鈦粒子，就能夠?qū)崿F(xiàn)所期望的效果，可以在中間層含有其它的金屬氧化物粒子。其它的金屬氧化物粒子沒有特別限制，也可以進(jìn)一步含有經(jīng)與第一和第二氧化鈦粒子不同的表面處理的氧化鈦粒子。作為這樣的其它的金屬氧化物粒子，例如可使用氧化鋅、氧化鋁、二氧化硅(氧化硅)、氧化錫、氧化銻、氧化銦、氧化鉍、氧化鎂、氧化鉛、氧化鉭、氧化釔、氧化鈷、氧化銅、氧化錳、氧化硒、氧化鐵、氧化鋯、氧化鍺、氧化鈮、氧化鑰、氧化釩等金屬氧化物粒子，摻雜了錫的氧化銦，摻雜了銻的氧化錫和氧化鋯等微粒。這些金屬氧化物粒子可單獨使用或組合二種以上使用。
[0095](粘合劑樹脂)
[0096]作為構(gòu)成中間層的粘合劑樹脂(以下，也稱為中間層用粘合劑樹脂)，例如可舉出聚酰胺樹脂、氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、酪蛋白、聚乙烯醇樹脂、聚氨酯樹脂、硝化纖維素、乙烯丙烯酸共聚物及明膠等。其中，將后述的用于形成電荷產(chǎn)生層的涂布液涂布在中間層上時，從抑制該中間層溶解的觀點等考慮，優(yōu)選聚酰胺樹脂。另外，經(jīng)上述的表面處理的第一和第二氧化鈦粒子優(yōu)選分散在醇系溶劑中，所以更優(yōu)選甲氧基羥甲基化聚酰胺樹脂等的醇可溶性聚酰胺樹脂。
[0097]中間層的膜厚優(yōu)選為0.5~15μπι、更優(yōu)選為I~7μπι。如果中間層的膜厚為
0.5 μ m以上，則能夠可靠地覆蓋導(dǎo)電性支撐體表面整體，能夠充分地阻擋來自導(dǎo)電性支撐體的空穴的注入，能夠充分地抑制黑斑、起霧等圖像缺陷的產(chǎn)生。另一方面，如果中間層的膜厚為15μπι以下，則電阻小，可得到充分的電子輸送性，由此能夠在維持電穩(wěn)定性的同時能夠充分地抑制濃度不均的產(chǎn)生。
[0098](感光層)
[0099]構(gòu)成本發(fā)明的感光體的感光層除了是將電荷產(chǎn)生功能和電荷輸送功能賦予到一個層的單層結(jié)構(gòu)之外，更優(yōu)選使感光層的功能分離成電荷產(chǎn)生層(CGL)和電荷輸送層(CTL)的層構(gòu)成。這樣，通過形成功能分離型的層構(gòu)成，能夠較小地抑制伴隨反復(fù)使用的殘留電位的上升，除此之外，具有易于符合目的地控制各種電子照相特性的優(yōu)點。帶負(fù)電性感光體采用在中間層上設(shè)置電荷產(chǎn)生層，在其上設(shè)置電荷輸送層的構(gòu)成，帶正電性感光體采用在中間層上設(shè)置電荷輸送層，在其上設(shè)置電荷產(chǎn)生層的構(gòu)成。優(yōu)選的感光層的層構(gòu)成是具有上述功能分離結(jié)構(gòu)的帶負(fù)電性感光體。
[0100]以下，作為感光層的優(yōu)選的具體例，對功能分離型的帶負(fù)電性感光體的感光層、SP層疊了電荷產(chǎn)生層和電荷輸 送層而成的感光層進(jìn)行說明。
[0101](電荷產(chǎn)生層)
[0102]本發(fā)明中形成的電荷產(chǎn)生層優(yōu)選含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)和電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂。并且，優(yōu)選涂布使電荷產(chǎn)生物質(zhì)分散在粘合劑樹脂溶液中而成的涂布液而形成的。
[0103]電荷產(chǎn)生物質(zhì)是蘇丹紅、寶石藍(lán)(夕' ^ 7 > —)等偶氮原料、芘醌、蒽嵌蒽醌等醌顏料、喹啉菁顏料、茈顏料、靛藍(lán)以及硫靛藍(lán)等靛藍(lán)顏料、酞菁顏料等，并不限于此。優(yōu)選為酞菁氧鈦顏料。這些電荷產(chǎn)生物質(zhì)可單獨或組合二種以上使用。
[0104]電荷產(chǎn)生物質(zhì)從上述中根據(jù)對曝光用光源的振蕩波長的靈敏度進(jìn)行選擇即可，為了提高數(shù)字復(fù)印機中的對曝光用光源的振蕩波長的靈敏度，優(yōu)選為酞菁顏料。作為酞菁顏料，為了提高對曝光用光源的振蕩波長例如波長780nm的靈敏度，優(yōu)選使用Y型酞菁氧鈦顏料，或者酞菁氧鈦顏料和丁二醇加成酞菁氧鈦顏料、特別是2，3- 丁二醇加成酞菁氧鈦顏料的混合物。
[0105](電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂)
[0106]作為電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂，可使用公知的樹脂，例如可舉出聚苯乙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、丙烯酸樹脂、甲基丙烯樹脂、氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、聚酯樹脂、醇酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、有機硅樹脂、三聚氰胺樹脂、以及含有這些樹脂中2個以上的共聚物樹脂(例如，氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐共聚物樹脂)以及聚乙烯基咔唑樹脂等，并不限于這些。優(yōu)選為聚乙烯醇縮丁醛樹脂。作為粘合劑樹脂的重均分子量，沒有特別限制，優(yōu)選為10000~150000，進(jìn)一步優(yōu)選為15000~100000。
[0107]電荷產(chǎn)生物質(zhì)相對于電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂的混合比例優(yōu)選相對于電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂100質(zhì)量份為20~600質(zhì)量份電荷產(chǎn)生物質(zhì)，更優(yōu)選為50~500質(zhì)量份。如果電荷產(chǎn)生物質(zhì)的含量為上述的范圍內(nèi)，能夠利用曝光產(chǎn)生充分的電荷，能夠確保感光層(電荷產(chǎn)生層)的充分的靈敏度，且能夠防止伴隨反復(fù)使用的殘留電位的增加。[0108]電荷產(chǎn)生層的膜厚根據(jù)電荷產(chǎn)生物質(zhì)的特性、粘合劑樹脂的特性以及混合比例等而不同，優(yōu)選為0.01?5 μ m,更優(yōu)選為0.05?3 μ m。
[0109](電荷輸送層)
[0110]本發(fā)明中形成的電荷輸送層優(yōu)選含有電荷(空穴)輸送物質(zhì)和電荷輸送層用粘合劑樹脂而構(gòu)成。電荷輸送層優(yōu)選使電荷輸送物質(zhì)溶解在粘合劑樹脂溶液中進(jìn)行涂布而形成。
[0111]電荷輸送物質(zhì)可使用公知的化合物，例如可舉出以下的化合物。即，是三芳基胺衍生物、酰腙化合物、苯乙烯化合物、聯(lián)苯胺化合物、丁二烯化合物、咔唑衍生物、P惡唑衍
生物、P惡二唑衍生物、噻唑衍生物、噻二唑衍生物、三唑衍生物、咪唑衍生物、咪唑啉酮衍生
物、咪唑啉衍生物、雙咪唑啉衍生物、吡唑啉化合物、口惡唑酮衍生物、苯并咪唑衍生物、喹唑
啉衍生物、苯并呋喃衍生物、吖啶衍生物、吩嗪衍生物、氨基芪衍生物、苯二胺衍生物、芪衍生物、聚-N-乙烯基咔唑、聚-1-乙烯基芘以及聚-9-乙烯基蒽等。這些化合物可單獨或混合2種以上使用。其中，優(yōu)選為三芳基胺衍生物。
[0112]另外，電荷輸送層用粘合劑樹脂可使用公知的樹脂，例如，有以下的樹脂。即可舉出聚酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯酸樹脂、氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹月旨、環(huán)氧樹脂、聚氨脂、酚醛樹脂、醇酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、有機硅樹脂、三聚氰胺樹脂、苯乙烯-丙烯腈共聚物樹脂、聚甲基丙烯酸酯樹脂、苯乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物樹脂等。這些可以單獨或使用二種以上。其中，從吸水率低、能使電荷輸送物質(zhì)良好分散的觀點出發(fā)，優(yōu)選為聚碳酸酯樹脂。
[0113]電荷輸送層可根據(jù)需要例如含有抗氧化劑等的其它成分。
[0114]電荷輸送物質(zhì)的含量優(yōu)選相對于電荷輸送層用粘合劑樹脂100質(zhì)量份為10?200質(zhì)量份，更優(yōu)選為20?100質(zhì)量份。若電荷輸送物質(zhì)的含量為上述的范圍內(nèi)，則能夠充分確保電荷輸送性，所以能夠?qū)㈦姾僧a(chǎn)生層中產(chǎn)生的電荷充分地輸送到電子照相感光體表面，并且能夠防止伴隨反復(fù)使用的殘留電位的增加。
[0115]電荷輸送層的厚度根據(jù)電荷輸送物質(zhì)、粘合劑樹脂的特性以及它們的混合比等而不同，優(yōu)選為10?40 μ m。
[0116]〔保護層〕
[0117]本發(fā)明的電子照相感光體可以在上述感光層上進(jìn)一步具有保護層。保護層發(fā)揮保護感光體遠(yuǎn)離外部環(huán)境、沖擊的作用。形成保護層的情況下，該保護層優(yōu)選由無機粒子和粘合劑樹脂(以下，稱為“保護層用粘合劑樹脂”)構(gòu)成，根據(jù)需要可以含有抗氧化劑、潤滑劑等其它成分。
[0118]作為保護層中含有的無機粒子，可優(yōu)選使用二氧化硅、氧化鋁、鈦酸鍶、氧化鋅、氧化鈦、氧化錫、氧化銻、氧化銦、氧化鉍、摻雜了錫的氧化銦、摻雜了銻或鉭的氧化錫、氧化鋯等粒子。特別優(yōu)選表面疏水化的疏水性二氧化硅、疏水性氧化鋁、疏水性氧化鋯、微粉末燒
結(jié)二氧化硅等。
[0119]無機粒子優(yōu)選數(shù)均一次粒徑為I?300nm,特別優(yōu)選為5?lOOnm。
[0120]無機粒子的數(shù)均一次粒徑是利用透射型電子顯微鏡擴大至10000倍，隨機地將300個粒子作為一次粒子觀察，利用圖像解析作為費雷特直徑的數(shù)平均直徑計算測定值而得到的值。
[0121]保護層用粘合劑樹脂可以是熱塑性樹脂也可以是熱固化性樹脂。例如可舉出聚乙烯醇縮丁醛樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、聚酯樹脂、醇酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、有機硅樹脂、三聚氰胺樹脂等。
[0122]作為保護層中含有的潤滑劑，例如可舉出樹脂微粉末(例如，氟類樹脂、聚烯烴系樹脂、有機硅樹脂、三聚氰胺樹脂、脲樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂等)、金屬氧化物微粉未(例如，氧化鈦、氧化鋁、氧化錫等)、固體潤滑劑(例如，聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚偏氟乙烯、硬脂酸鋅、硬脂酸鋁等)、有機硅油(例如，二甲基有機硅油、甲基苯基有機硅油、聚甲基氫硅氧烷、環(huán)狀二甲基聚硅氧烷、烷基改性有機硅油、聚醚改性有機硅油、醇改性有機硅油、氟改性有機硅油、氨基改性有機硅油、巰基改性硅油、環(huán)氧基改性有機硅油、羧基改性有機硅油、高級脂肪酸改性有機硅油等)、氟類樹脂粉體(例如，四氟化乙烯樹脂粉體、三氟化氯乙烯樹脂粉體、六氟化乙烯丙烯樹脂粉體、氟乙烯樹脂粉體、偏氟乙烯樹脂粉體、氟化二氯化乙烯樹脂粉體及它們的共聚物等)、聚烯烴系樹脂粉體(例如，聚乙烯樹脂粉體、聚丙烯樹脂粉體、聚丁烯樹脂粉體、聚己烯樹脂粉體等均聚物樹脂粉體、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-丁烯共聚物等共聚物樹脂粉體、這些與己烯等的三元共聚物、進(jìn)而它們的熱變性物之類的聚烯烴系樹脂粉體等)等。
[0123]作為上述潤滑劑而使用的樹脂的分子量、粉體的粒徑可適當(dāng)?shù)剡x擇。樹脂的粒徑特別優(yōu)選為0.Ιμπι?ΙΟμπι。為了將這些潤滑劑均勻地分散，所以可以在保護層用粘合劑樹脂中進(jìn)一步添加分散劑。
[0124](電子照相感光體的制造方法)
[0125]作為本發(fā)明的電子照相感光體的制造方法沒有特別限制，可以制備可形成中間層、電荷產(chǎn)生層以及電荷輸送層、或者單層的感光層、根據(jù)需要的保護層的各層的涂布液，利用公知的涂布方法在導(dǎo)電性支撐體上依次涂布上述涂布液，使其干燥而依次形成各層。作為涂布方法，具體而言，可舉出浸潰涂布法、噴霧涂布法、旋涂法、微珠涂布法、刮刀涂布法、光束涂布法(H — A =—卜法)、圓形量限制型涂布法(使用了滑動料斗型涂布裝置的涂布方法)等。圓形量限制型涂布法例如在日本特開昭58-189061號公報等中詳細(xì)記載。
[0126](中間層的形成)
[0127]為了形成中間層，沒有特別限制，例如可使用以下的方法。首先，使粘合劑樹脂溶解或分散在溶劑中，接著，在該分散液中添加利用上述的第一和第二反應(yīng)性有機硅化合物分別進(jìn)行表面處理而成的第一和第二氧化鈦粒子，分散至均一為止，制備分散液。其后，靜置該分散液一晝夜左右，過濾，制備中間層形成用涂布液。接著，利用上述方法將該涂布液涂布在導(dǎo)電性支撐體上，使其干燥而形成中間層。
[0128]涂布液形成時的粘合劑樹脂濃度可以根據(jù)中間層的膜厚、涂布方式進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。優(yōu)選相對于粘合劑樹脂100質(zhì)量份為100?3000質(zhì)量份溶劑，更優(yōu)選為500?2000質(zhì)量份。第一和第二的金屬氧化物粒子濃度優(yōu)選相對于粘合劑樹脂100質(zhì)量份為合計200?600質(zhì)量份，更優(yōu)選為200?500質(zhì)量份。應(yīng)予說明，該涂布液中的成分比是最終完成的中間層中的成分比。為了更可靠地發(fā)揮本發(fā)明的所期望的的效果，優(yōu)選利用體積比控制中間層的成分。即，優(yōu)選合計的氧化鈦粒子與樹脂的體積比、氧化鈦粒子:樹脂為5/10?11/10。
[0129]作為可用于中間層的形成的溶劑，優(yōu)選使金屬氧化物粒子良好地分散且溶解以聚酰胺樹脂為代表的粘合劑樹脂的溶劑。具體而言，從顯示對作為粘合劑樹脂所優(yōu)選的聚酰胺樹脂具有良好的溶解性和涂布性的觀點出發(fā)，優(yōu)選乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、叔丁醇、仲丁醇等碳原子數(shù)2?4的醇類。另外，為了提高保存性、無機微粒的分散性，對于上述溶劑可并用以下這樣的助溶劑。作為可得到優(yōu)選的效果的助溶劑，例如可舉出甲醇、芐醇、甲苯、環(huán)己酮、四氫呋喃等。
[0130]作為導(dǎo)電性微粒、金屬氧化物粒子等的分散方法，可舉出超聲波分散機、珠磨機、球磨機、砂磨機以及均質(zhì)混合器等，但不限于這些。另外，中間層用的涂布液通過在涂布前過濾異物、凝集物而能夠防止圖像缺陷的產(chǎn)生。
[0131]中間層用涂布液的涂布膜的干燥方法可根據(jù)溶劑的種類、形成的膜厚適當(dāng)?shù)剡x擇公知的干燥方法，特別優(yōu)選為熱干燥。干燥條件例如可在100?150°C熱干燥10?60分鐘。
[0132](電荷產(chǎn)生層的形成)
[0133]為了形成電荷產(chǎn)生層，在用溶劑溶解電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂的溶液中，添加電荷產(chǎn)生物質(zhì)，使用分散機等使其分散而制備涂布液。接著，優(yōu)選用上述的涂布方法將涂布液涂布成一定的膜厚，將涂布膜干燥制成電荷產(chǎn)生層。另外，即使在形成含有電荷產(chǎn)生物質(zhì)和電荷輸送物質(zhì)的單層的感光層的情況下，也能夠利用與形成電荷產(chǎn)生層的方法相同的方法來形成感光層。
[0134]電荷產(chǎn)生層涂布液中的電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂濃度可以按照成為適合涂布的方式適當(dāng)?shù)剡x擇，優(yōu)選相對于電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂100質(zhì)量份，溶劑為100?5000質(zhì)量份。電荷產(chǎn)生物質(zhì)濃度相對于電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂100質(zhì)量份，優(yōu)選為80?400質(zhì)量份。
[0135]作為用于溶解涂布電荷產(chǎn)生層中使用的電荷產(chǎn)生層用粘合劑樹脂的溶劑，例如可舉出甲苯、二甲苯、甲基乙基酮、環(huán)己酮、環(huán)己烷、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、丙醇、
丁醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、四氫呋喃、1-二樣烷、I,3- 二氧戊環(huán)、4-甲氧基-4-甲
基-2-戊酮吡啶以及二乙基胺等，并不限于這些。這些有機溶劑可單獨使用，也可組合二種以上使用。更優(yōu)選為甲基乙基酮和環(huán)己酮。
[0136]另外，電荷產(chǎn)生層用的涂布液可通過在涂布前過濾異物、凝結(jié)物而防止圖像缺陷的產(chǎn)生。涂布方法也可采用上述中間層中的方法。
[0137](電荷輸送層的形成)
[0138]為了形成電荷輸送層，在用溶劑溶解電荷輸送層用粘合劑樹脂的溶液中，溶解電荷輸送物質(zhì)而制備涂布液。接著，優(yōu)選用上述涂布方法將涂布液涂布成一定的膜厚，對涂布膜進(jìn)行干燥制成電荷輸送層。
[0139]電荷輸送層涂布液中的電荷輸送層用粘合劑樹脂濃度可以以成為適合上述的涂布方法的粘度的方式適當(dāng)?shù)剡x擇，優(yōu)選相對于電荷輸送層用粘合劑樹脂100質(zhì)量份，溶劑為100?1000質(zhì)量份，更優(yōu)選為400?800質(zhì)量份。電荷輸送物質(zhì)濃度相對于粘合劑樹脂100質(zhì)量份，優(yōu)選為30?150質(zhì)量份，更優(yōu)選為60?90質(zhì)量份。
[0140]另外，電荷輸送層用的涂布液可通過在涂布前過濾異物、凝結(jié)物而防止圖像缺陷的產(chǎn)生。涂布方法也可采用與上述的中間層相同的方法。
[0141](保護層)[0142]保護層的形成方法也可采用與上述中間層等相同的方法?？梢允剐纬杀Ｗo層的成分分散或溶解在溶劑中制備涂布液，用上述的涂布方法以成為所希望的厚度的方式涂布涂布液，使其干燥形成保護層。
[0143](圖像形成裝置)
[0144]本發(fā)明的圖像形成裝置至少具有本發(fā)明的電子照相感光體。
[0145]圖1是表示本發(fā)明的圖像形成裝置的構(gòu)成的一個例子的示意剖視圖。該圖像形成裝置100是串聯(lián)型彩色圖像形成裝置，具有4組圖像形成單元110Y、110M、110C、IIOBk,無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體單元130，送紙搬運機構(gòu)150，和定影機構(gòu)170。在圖像形成裝置100的主體的上部配置有原稿圖像讀取裝置SC。
[0146]圖像形成單元110Y、110M、110C、110Bk是沿垂直方向并列配置。圖像形成單元110Y、110M、110C、I IOBk具有作為第I像擔(dān)載體的電子照相感光體111Y、111M、111C、11 IBk,在其周圍沿鼓的旋轉(zhuǎn)方向依次配置的帶電機構(gòu)113Y、113M、113C、113Bk，曝光機構(gòu)115Y、115M、115C、115Bk，顯影機構(gòu) 117Y、117M、117C、117Bk，清潔機構(gòu) 119Y、119M、119C、119Bk。這樣，在電子照相感光體lllY、lllM、lllC、lllBk上，可分別形成黃色(Y)、洋紅色(M)、青色(C)以及黑色(Bk)的調(diào)色劑圖像。對于圖像形成單元110Y、110M、110C、110Bk而言，除了形成于電子照相感光體lllY、lllM、lllC、lllBk的調(diào)色劑圖像的顏色不同以外，由于是相同的構(gòu)成，所以以下用圖像形成單元IlOY的例子進(jìn)行說明。
[0147]電子照相感光體IllY是本發(fā)明的電子照相感光體，在構(gòu)成該電子照相感光體的中間層中，含有利用第一和第二反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的第一和第二氧化鈦粒子。
[0148]帶電機構(gòu)113Y是對電子照相感光體IllY給予相同的電位的機構(gòu)。在本實施方式中，作為帶電機構(gòu)113Y，優(yōu)選使用電暈放電型的帶電器。
[0149]曝光機構(gòu)115Y具有下述功能，即在利用帶電機構(gòu)113Y給予了相同的電位的電子照相感光體IllY上，根據(jù)圖像信號(黃色的圖像信號)進(jìn)行曝光，形成與黃色的圖像對應(yīng)的靜電潛像。曝光機構(gòu)115Y可以是由沿電子照相感光體IllY的軸向呈陣列狀排列發(fā)光元件的LED和成像元件構(gòu)成的機構(gòu)、或激光光學(xué)系統(tǒng)等。
[0150]曝光光源優(yōu)選振蕩波長在使用的電荷產(chǎn)生物質(zhì)的最大吸光度的5成以上的范圍的半導(dǎo)體激光器或者發(fā)光二極管。例如，作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)，使用2，3-丁二醇加成酞菁氧鈦和非加成的酞菁氧鈦的混合物的情況下，優(yōu)選為650?800nm。使用這些曝光光源，將寫入的掃描方向的曝光點直徑限制在10?100 ym，在感光體上進(jìn)行數(shù)字曝光，由此可形成600dpi (dp1:每2.54cm的點數(shù))?2400dpi或其以上的高分辨率的電子照相圖像。
[0151]曝光點直徑表示曝光束的強度為峰值強度的1/e2以上的區(qū)域的、主掃描方向的曝光束的長度(Ld:長度以最大位置測定)。
[0152]顯影機構(gòu)117Y是向電子照相感光體IllY供給調(diào)色劑，能夠?qū)⒃陔娮诱障喔泄怏wIllY的表面上形成的靜電潛像顯影。
[0153]清潔機構(gòu)119Y可具有與電子照相感光體IllY的表面壓接的輥、葉片。
[0154]無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體單元130可設(shè)置成與電子照相感光體111Y、111M、111C、IllBk抵接。無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體單元130具有作為第2像擔(dān)載體的無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131，與該無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131抵接地配置的一次轉(zhuǎn)印輥133Y、133M、133C、133Bk，和該無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131的清潔機構(gòu)135。
[0155]無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131被多個輥137A、137B、137C、137D卷繞且可回轉(zhuǎn)地支撐。
[0156]在該圖像形成裝置100中，上述的電子照相感光體111Y、顯影機構(gòu)117Y、以及清潔機構(gòu)119Y等可以是一體地結(jié)合、能夠在裝置主體自由裝卸地構(gòu)成的處理盒(圖像形成單元)?；蚩梢允菍⑦x自帶電機構(gòu)113Y、曝光機構(gòu)115Y、顯影機構(gòu)117Y、一次轉(zhuǎn)印輥133Y以及清潔機構(gòu)119Y中的一個以上的部件和電子照相感光體IllY構(gòu)成一體的處理盒(圖像形成單元)。
[0157]處理盒200具有:筐體201，收容在其中的電子照相感光體111Y、帶電機構(gòu)113Y、顯影機構(gòu)117Y以及清潔機構(gòu)119Y，和無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體單元130。另外，在裝置主體中，作為將處理盒200引導(dǎo)至裝置主體內(nèi)的機構(gòu)設(shè)置有支撐導(dǎo)軌203L、203R。由此，能夠?qū)⑻幚砗性谘b置主體上裝卸。這些處理盒200可成為能夠在裝置主體上自由裝卸地構(gòu)成的單一的圖像形成單元。[0158]送紙搬運機構(gòu)150設(shè)置成將送紙盒211內(nèi)的轉(zhuǎn)印材料P經(jīng)多個中間輥213A、213B、213C、213D以及電阻輥215，可搬運至二次轉(zhuǎn)印輥217。
[0159]定影機構(gòu)170對由二次轉(zhuǎn)印輥217轉(zhuǎn)印的彩色圖像進(jìn)行定影處理。排紙輥219設(shè)置成夾持定影處理了的轉(zhuǎn)印材料P，可載置于在圖像形成裝置外部設(shè)置的排紙托盤221上。
[0160]在這樣構(gòu)成的圖像形成裝置100中，利用圖像形成單元110Y、110M、110C、I IOBk形成圖像。具體而言，利用帶電機構(gòu)113Y、113M、113C、113Bk對電子照相感光體111Y、111M、IllCUllBk的表面電暈放電使其帶負(fù)電。接著，利用曝光機構(gòu)115Y、115M、115C、115Bk，基于圖像信號對電子照相感光體lllY、lllM、lllC、lllBk的表面曝光，形成靜電潛像。接著，利用顯影機構(gòu)117Y、117M、117C、117Bk，對電子照相感光體111Y、111M、111C、IllBk的表面賦予調(diào)色劑，進(jìn)行顯影。
[0161]接著，使一次轉(zhuǎn)印輥(一次轉(zhuǎn)印機構(gòu))133￥、13311、133(:、13381^與轉(zhuǎn)動的無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131抵接。由此，使在電子照相感光體111Y、111M、111C、11 IBk上分別形成的各色的圖像在回轉(zhuǎn)的無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131上依次轉(zhuǎn)印，轉(zhuǎn)印彩色圖像(一次轉(zhuǎn)印)。圖像形成處理中，一次轉(zhuǎn)印輥133Bk通常與電子照相感光體IllBk抵接。另一方面，其它的一次轉(zhuǎn)印輥133Y、133M、133C僅在彩色圖像形成時分別與對應(yīng)的電子照相感光體111Y、111M、IllC抵接。
[0162]而且，使一次轉(zhuǎn)印輥133Y、133M、133C、133Bk與無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131分離后，利用清潔機構(gòu)119Y、119M、119C、119Bk除去殘留在電子照相感光體111Y、111M、111C、IllBk的表面的調(diào)色劑。而且，為下次的圖像形成做準(zhǔn)備，根據(jù)需要利用除電機構(gòu)(未圖示)對電子照相感光體111Y、111M、111C、11 IBk的表面進(jìn)行除電后，利用帶電機構(gòu)113Y、113M、113C、113Bk帶負(fù)電。
[0163]另一方面，利用送紙搬運機構(gòu)150對收容在送紙盒211內(nèi)的轉(zhuǎn)印材料P (例如普通紙、透明片等擔(dān)載最終圖像的支撐體)送紙，經(jīng)多個中間輥213A、213B、213C、213D、電阻輥215搬運至二次轉(zhuǎn)印輥(二次轉(zhuǎn)印機構(gòu))217。而且，使二次轉(zhuǎn)印輥217與回轉(zhuǎn)的無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131抵接，在轉(zhuǎn)印材料P上一并轉(zhuǎn)印彩色圖像(二次轉(zhuǎn)印)。二次轉(zhuǎn)印輥217僅在轉(zhuǎn)印材料P上進(jìn)行二次轉(zhuǎn)印時，與無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131抵接。其后，使一并轉(zhuǎn)印了彩色圖像的轉(zhuǎn)印材料P在無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131的曲率高的部位分離。[0164]利用定影機構(gòu)170對這樣一并轉(zhuǎn)印了彩色圖像的轉(zhuǎn)印材料P進(jìn)行定影處理后，用排紙輥219夾持地載置于裝置外的排紙托盤221上。另外，使一并轉(zhuǎn)印了彩色圖像的轉(zhuǎn)印材料P從無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131分離后,用清潔機構(gòu)135除去無端帶狀中間轉(zhuǎn)印體131上的殘留調(diào)色劑。
[0165]如上所述，本實施方式的圖像形成裝置100中含有的電子照相感光體111Y、111M、IllCUllBk的中間層含有第一和第二氧化鈦粒子，所以具有充分的電子輸送性，能夠抑制感光體表面的殘存電位的增加，能夠減少圖像的濃度不均。另外，電子照相感光體111Y、111M、111C、11 IBk的中間層具有高的空穴阻擋性，所以能夠減少來自導(dǎo)電性支撐體的不必要的空穴的注入、來自電荷產(chǎn)生層的不必要的熱激發(fā)載流子的移動，能夠抑制黑斑、起霧等的圖像缺陷。
[0166]以下，通過實施例和比較例具體說明本發(fā)明。但是，本發(fā)明并不限于這些實施例。
[0167](實施例)
[0168]以下，舉出實施例詳細(xì)說明本發(fā)明，本發(fā)明并不僅限于以下的實施例。應(yīng)予說明，下述實施例和比較例中所述的“份”表示“質(zhì)量份”。
[0169](表面處理氧化鈦粒子的制作)
[0170](表面處理氧化鈦粒子I的制作)
[0171]將對數(shù)均一次粒徑35nm的金紅石型氧化鈦實施了二氧化硅、氧化鋁處理的無機處理氧化鈦(MT-500SA ；TAYCA (株)制)500質(zhì)量份、聚甲基氫硅氧烷(MHPS ； (KF9901信越化學(xué)工業(yè)(株)制))13質(zhì)量份、甲苯1500份攪拌混合后，利用珠磨機在磨機滯留時間25分鐘、溫度35°C進(jìn)行濕式碎解處理。從濕式碎解處理而得到的漿料中，利用減壓蒸餾分離除去甲苯。對得到的干燥物在120°C實施2小時、MHPS的燒結(jié)。其后，利用球磨機進(jìn)行粉碎，得到表面處理氧化鈦粒子I。
[0172](表面處理氧化鈦粒子3的制作)
[0173]在表面處理氧化鈦粒子I的制成中，將MHPS13質(zhì)量份變更為3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KBM-503 ;信越化學(xué)工業(yè)(株)制)65質(zhì)量份，除此之外，與表面處理氧化鈦粒子I同樣地，得到表面處理氧化鈦粒子3。
[0174](表面處理氧化鈦粒子4的制作)
[0175]將對數(shù)均一次粒徑15nm的金紅石型氧化鈦實施了二氧化硅、氧化鋁處理的無機處理氧化鈦(MT-100SA ；TAYCA (株)制)500質(zhì)量份、MHPS30質(zhì)量份和甲苯1300質(zhì)量份攪拌混合后，利用珠磨機在磨機滯留時間40分鐘、溫度35°C的條件下進(jìn)行濕式碎解處理。從濕式碎解處理而得到的漿料中，利用減壓蒸餾分離除去甲苯。對得到的干燥物在120°C進(jìn)行2小時、MHPS的燒結(jié)。其后，利用球磨機進(jìn)行粉碎，得到表面處理氧化鈦粒子4。
[0176](表面處理氧化鈦粒子5的制作)
[0177]在表面處理氧化鈦粒子4的制作中，將MHPS30質(zhì)量份變更為3_甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KBM-503 ;信越化學(xué)工業(yè)(株)制)95質(zhì)量份，除此之外，與表面處理氧化鈦粒子4同樣地，得到表面處理氧化鈦粒子5。
[0178](表面處理氧化鈦粒子6的制作)
[0179]將數(shù)均一次粒徑35nm的金紅石型氧化鈦500質(zhì)量份與甲苯2000質(zhì)量份進(jìn)行攪拌混合，添加MHPS13質(zhì)量份，在50°C攪拌3小時。其后，采用減壓蒸餾餾去甲苯，在130°C進(jìn)行3小時燒結(jié)。其后，利用球磨機進(jìn)行粉碎，得到表面處理氧化鈦粒子6。
[0180](表面處理氧化鈦粒子7的制作)
[0181]將數(shù)均一次粒徑15nm的金紅石型氧化鈦500質(zhì)量份、MHPS30質(zhì)量份和甲苯1300質(zhì)量份進(jìn)行攪拌混合后，利用珠磨機在磨機滯留時間40分鐘、溫度35°C的條件下進(jìn)行濕式碎解處理。從濕式碎解處理而得到的漿料中，利用減壓蒸餾分離除去甲苯。對得到的干燥物在120°C進(jìn)行2小時、MHPS的燒結(jié)。其后，利用球磨機進(jìn)行粉碎，得到表面處理氧化鈦粒子7ο
[0182](表面處理氧化鈦粒子8的制作)
[0183]在表面處理氧化鈦粒子7的制作中，將MHPS30質(zhì)量份變更為3_甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KBM-503 ;信越化學(xué)工業(yè)(株)制)100質(zhì)量份，除此之外，與表面處理氧化鈦粒子7同樣地，得到表面處理氧化鈦粒子8。
[0184](表面處理氧化鈦粒子9的制作)
[0185]在表面處理氧化鈦粒子7的制作中，將MHPS30質(zhì)量份變更為對苯乙烯基三甲氧基硅烷100質(zhì)量份，除此之外，與表面處理氧化鈦粒子7同樣地，得到表面處理氧化鈦粒子9。
[0186](表面處理氧化鈦粒子10的制作)
[0187]在表面處理氧化鈦粒子7的制作中，將MHPS30質(zhì)量份變更為3_丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷90質(zhì)量份，除此之外，與表面處理氧化鈦粒子7同樣地，得到表面處理氧化鈦粒子10。
[0188](表面處理氧化鈦粒子11的制作)
[0189]使數(shù)均一次粒徑35nm的氧化鈦粒子(TAYCA公司制MT-500B) 70質(zhì)量份分散在水1000質(zhì)量份中，進(jìn)行攪拌使其懸浮。在得到的氧化鈦粒子的水性懸浮液5L中，添加氫氧化鈉制成PH9.0以上。接著，添加175ml (SiO2相對于氧化鈦粒子為10質(zhì)量％的量)的200g/I的硅酸鈉水溶液,升溫至80°C后，經(jīng)3小時滴加硫酸，中和成pH6.5。過濾得到的溶液后，清洗，在250°C干燥2小時，得到二氧化硅處理氧化鈦粒子11。接著，將二氧化硅處理氧化鈦粒子500質(zhì)量份、聚甲基氫硅氧烷(MHPS ;(KF9901信越化學(xué)工業(yè)(株〉制))13質(zhì)量份和甲苯1500質(zhì)量份進(jìn)行攪拌混合后，利用珠磨機在磨機滯留時間25分鐘、溫度35°C進(jìn)行濕式碎解處理。從經(jīng)濕式碎解處理而得到的漿料中，利用減壓蒸餾分離除去甲苯。對得到的干燥物，在120°C進(jìn)行2小時、MHPS的燒結(jié)。其后，利用球磨機粉碎，完成表面處理氧化鈦粒子11。
[0190](表面處理氧化鈦粒子12的制作)
[0191]將數(shù)均一次粒徑30nm的銳鈦礦型氧化鈦500質(zhì)量份、MHPS15質(zhì)量份和甲苯1800質(zhì)量份進(jìn)行攪拌混合后，利用珠磨機在磨機滯留時間60分鐘、溫度35°C的條件下進(jìn)行濕式碎解處理。從經(jīng)濕式碎解處理而得到的漿料中，利用減壓蒸餾分離除去甲苯。對得到的干燥物，在120°C進(jìn)行2小時、MHPS的燒結(jié)。其后，利用球磨機粉碎，得到表面處理氧化鈦粒子12。
[0192](表面處理氧化鈦粒子13的制作)
[0193]在表面處理氧化鈦粒子7的制作中，將MHPS30質(zhì)量份變更為烯丙基三甲氧基硅烷(東京化成工業(yè)(株)制)80質(zhì)量份，除此之外，與表面處理氧化鈦粒子7同樣地，得到表面處理氧化鈦粒子13。
[0194](表面處理氧化鈦粒子14的制作)[0195]在表面處理氧化鈦粒子I的制作中，將MHPS13質(zhì)量份變更為羧基改性有機硅油〔X-22 - 3701E ;信越化學(xué)工業(yè)(株)制)100質(zhì)量份，除此之外，與表面處理氧化鈦粒子I同樣地，得到表面處理氧化鈦粒子14。
[0196]對于如上述那樣得到的表面處理氧化鈦粒子I~12，匯總在下述表1中。應(yīng)予說明，對于粒子比重，使用氣相置換法進(jìn)行測定。
[0197](表1)
[0198]表1表面處理氧化鈦粒子
[0199]
【權(quán)利要求】
1.一種電子照相感光體，其特征在于，是在導(dǎo)電性支撐體上具有中間層和感光層的電子照相感光體， 所述中間層含有用第一反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的第一氧化鈦粒子、用與第一反應(yīng)性有機硅化合物不同的第二反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的第二氧化鈦粒子、以及粘合劑樹脂， 第一反應(yīng)性有機硅化合物是聚甲基氫硅氧烷， 第二反應(yīng)性有機硅化合物是下述通式(I)表示的反應(yīng)性有機硅化合物， R-S1- (X)3 Cl) 通式(I)中，R表示含有甲基丙烯酰氧基和丙烯酰氧基作為取代基的碳原子數(shù)I?10的燒基，X表不碳原子數(shù)I?4的燒氧基。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其特征在于，所述第一氧化鈦粒子是用無機氧化物進(jìn)行表面處理，再用所述第一反應(yīng)性有機硅化合物進(jìn)行表面處理而成的粒子。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子照相感光體，其特征在于，所述第二反應(yīng)性有機硅化合物是3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的至少一方。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子照相感光體，其特征在于，所述第二反應(yīng)性有機硅化合物是3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子照相感光體，其特征在于，所述無機氧化物是二氧化硅和氧化鋁中的至少一方。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子照相感光體，其特征在于，所述粘合劑樹脂是聚酰胺樹脂。
7.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備權(quán)利要求1或2所述的電子照相感光體。
【文檔編號】G03G5/00GK103576472SQ201310337215
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年8月5日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月6日
【發(fā)明者】濱口進(jìn)一, 崎村友男, 松崎真優(yōu)子, 中原大志 申請人:柯尼卡美能達(dá)株式會社