專利名稱：一種光阻涂布裝置及其涂布方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器制造領(lǐng)域，尤其涉及一種光阻涂布裝置及其涂布方法。
背景技術(shù)：
在液晶顯示器IXD的制造過程中，需要使用光阻涂布裝置在玻璃基板上涂上一定厚度的光阻(photo resist).請參照圖1和圖2所示，現(xiàn)有的光阻涂布裝置包括噴嘴I’，該噴嘴I’包括相對設(shè)置的第一噴嘴分體11’、第二噴嘴分體12’以及將第一噴嘴分體11’和第二噴嘴分體12’安裝固定的頂板13’，第一噴嘴分體11’和第二噴嘴分體12’之間形成狹縫10’，狹縫10’的底部為光阻吐出口 100’(如圖2所示的陰影部分即為光阻)，第一噴嘴分體11’和第二噴嘴分體12’的底部分別形成椎體。在第一噴嘴分體11’的操作面111’的中部設(shè)有光阻注入管112’，在光阻注入管112’的上方還設(shè)有排泡管113’，此外，在操作面111’的兩側(cè)也分別設(shè)有排泡管113’，排泡管113’用于將光阻注入時(shí)可能產(chǎn)生的氣泡排出。光阻注入管112’和排泡管113’均貫穿第一噴嘴分體11’，與狹縫10’連通。在光阻注入管112’與狹縫10’相接處，設(shè)有空腔110’，設(shè)在第一噴嘴分體11’中部的排泡管113’也與該空腔110’連通。再請參照圖3所示，為光阻涂布時(shí)狹縫10’區(qū)域光阻流動狀況示意圖。光阻流動方向如圖中箭頭所示。當(dāng)進(jìn)行涂布時(shí)，來自光阻注入泵(Pump)的光阻通過光阻注入管112’注入，在涂布開始階段，光阻注入泵處于加速狀態(tài)，光阻流速受泵力作用也處于加速狀態(tài)，在光阻注入管112’附近壓力較大，光阻向兩側(cè)流動，光阻充滿整個光阻注入?yún)^(qū)，光阻注入?yún)^(qū)呈錐形分布。光阻滲透區(qū)位于狹縫10’底部，光阻通過光阻吐出口 100’吐出，涂布到基板上。上述光阻涂布裝置 及方式的缺陷在于，由于在中部注入光阻，在光阻注入管112’附近壓力較大，經(jīng)過光阻滲透區(qū)吐出(例如從圖1、圖3所示C處周圍吐出)的光阻量相對較大，而兩側(cè)由于壓差關(guān)系，壓力較小，經(jīng)過光阻滲透區(qū)吐出(例如從圖1、圖3所示A、B處周圍吐出)的光阻量相對較小，造成的后果就是，使涂布到基板上的光阻均勻度較差，降低了涂布品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種提高光阻涂布均勻度和品質(zhì)的光阻涂布裝置及其涂布方法。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種光阻涂布裝置，包括:噴嘴，所述噴嘴包括相對設(shè)置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設(shè)有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通，在所述第一噴嘴分體的操作面上還設(shè)有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側(cè)，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通。
其中，所述第二光阻注入管的口徑小于所述第一光阻注入管。其中，所述第二光阻注入管上設(shè)有控制閥，用于控制所述第二光阻注入管內(nèi)光阻的流量。其中，所述第一光阻注入管和第二光阻注入管均連接到光阻注入泵上。其中，所述第一光阻注入管和第二光阻注入管的上方均分別設(shè)有用于排出氣泡的排泡管。其中，在所述第一光阻注入管與所述狹縫連通處，設(shè)有第一空腔，設(shè)在所述第一光阻注入管上方的排泡管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述第一空腔連通。其中，在所述第二光阻注入管與所述狹縫連通處，設(shè)有第二空腔，設(shè)在所述第二光阻注入管上方的排泡管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述第二空腔連通。本發(fā)明還提供一種光阻涂布裝置的涂布方法，所述光阻涂布裝置包括噴嘴，所述噴嘴包括相對設(shè)置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設(shè)有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通；在所述第一噴嘴分體的操作面上還設(shè)有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側(cè)，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通；所述第一光阻注入管和第二光阻注入管均連接到光阻注入泵上；所述第二光阻注入管上設(shè)有控制閥，用于控制所述第二光阻注入管內(nèi)光阻的流量；所述涂布方法包括:
在光阻注入泵的加速階段，同時(shí)通過所述第一光阻注入管和第二光阻注入管注入光
阻；
在光阻注入泵的穩(wěn)定階段·，逐漸閉合所述第二光阻注入管上的控制閥直至所述控制閥完全關(guān)閉；
在光阻注入泵的減速階段，關(guān)閉所述控制閥。其中，在光阻注入泵的加速階段，控制所述第二光阻注入管內(nèi)光阻的流量，使通過所述第二光阻注入管注入的光阻量小于通過所述第一光阻注入管注入的光阻量。本發(fā)明所提供的光阻涂布裝置及其涂布方法，通過增設(shè)第二光阻注入管，增加了狹縫兩側(cè)的光阻注入量，彌補(bǔ)因中部與兩側(cè)的壓力差帶來的相應(yīng)注入光阻量的較大差距，使得從光阻滲透區(qū)經(jīng)由光阻吐出口吐出的光阻量，不管是在中間位置，還是兩側(cè)位置均能保持大體一致，從而確保光阻涂布到基板上的均勻度，提高涂布品質(zhì)。


為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1是現(xiàn)有光阻涂布裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是現(xiàn)有光阻涂布裝置在中部位置的側(cè)面剖視示意圖。圖3是現(xiàn)有光阻涂布裝置在光阻涂布時(shí)狹縫10’區(qū)域的光阻流動狀況示意圖。圖4是本發(fā)明實(shí)施例一光阻涂布裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5是本發(fā)明實(shí)施例一光阻涂布裝置在中部位置的側(cè)面剖視示意圖。圖6是本發(fā)明實(shí)施例一光阻涂布裝置在兩側(cè)位置的側(cè)面剖視示意圖。圖7是本發(fā)明實(shí)施例一光阻涂布裝置在光阻涂布時(shí)狹縫10區(qū)域的光阻流動狀況示意圖。圖8是本發(fā)明實(shí)施例一光阻涂布裝置與現(xiàn)有光阻涂布裝置在涂布加速階段吐出光阻量分布的對比示意圖。圖9是本發(fā)明實(shí)施例一光阻涂布裝置的控制閥開度時(shí)序示意圖。圖10是本發(fā)明實(shí)施例二光阻涂布裝置的涂布方法的流程示意圖。
具體實(shí)施例方式下面參考附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行描述。請參照圖4所示，本發(fā)明實(shí)施例一提供一種光阻涂布裝置，包括噴嘴1，該噴嘴I包括相對設(shè)置的第一噴嘴分體11、第二噴嘴分體12以及將第一噴嘴分體11和第二噴嘴分體12安裝固定的頂板13，第一噴嘴分體11和第二噴嘴分體12之間形成狹縫10，狹縫10的底部為光阻吐出口 100，第一噴嘴分體11和第二噴嘴分體12的底部分別形成椎體。在第一噴嘴分體11的操作面111的中部設(shè)有第一光阻注入管112，在第一噴嘴分體11的操作面111上，還設(shè)有兩個第二光阻注入管114，分別位于第一光阻注入管112的兩側(cè)。在第一光阻注入管112和第二光阻注入管114的上方分別設(shè)有排泡管113，用于將光阻注入時(shí)可能產(chǎn)生的氣泡排出。第一光阻注入管112和第二光阻注入管114均連接到光阻注入泵(未圖示)上。

請?jiān)賲⒄請D5及圖6所示，第一光阻注入管112和設(shè)置在其上方排泡管113均貫穿第一噴嘴分體11，與狹縫10連通。在第一光阻注入管112與狹縫10連通處，設(shè)有第一空腔110，設(shè)在第一光阻注入管112上方的排泡管113也與該第一空腔110連通。第二光阻注入管114和設(shè)置在其上方的排泡管113均貫穿第一噴嘴分體11，與狹縫10連通。在第二光阻注入管114與狹縫10連通處，設(shè)有第二空腔115，設(shè)在第二光阻注入管114上方的排泡管113也與該第二空腔115連通。第一空腔110和第二空腔115的作用在于，為分別從第一光阻注入管112和第二光阻注入管114注入的光阻提供存儲空間。圖5及圖6中陰影部分即為光阻。如圖7所示，為光阻涂布時(shí)狹縫10區(qū)域光阻流動狀況示意圖。光阻流動方向如圖中箭頭所示。當(dāng)進(jìn)行涂布時(shí)，來自光阻注入泵(Pump)的光阻通過第一光阻注入管112注入，在涂布開始階段，光阻注入泵處于加速狀態(tài)，光阻流速受泵力作用也處于加速狀態(tài)，在光阻注入管112附近壓力較大，光阻從狹縫10中部向兩側(cè)流動，直至充滿整個光阻注入?yún)^(qū)。如前面有關(guān)現(xiàn)有技術(shù)的介紹，如果僅僅在中部注入光阻，由于中部與兩側(cè)的壓力差，導(dǎo)致狹縫兩側(cè)的光阻吐出量較少，影響涂布的均勻度，因此本實(shí)施例的改進(jìn)之一是增設(shè)了兩側(cè)的第二光阻注入管114，在涂布開始階段，光阻也同時(shí)通過第二光阻注入管114注入，到達(dá)狹縫10的兩側(cè)。增設(shè)第二光阻注入管114的好處在于，增加了狹縫10兩側(cè)的光阻注入量，彌補(bǔ)因中部與兩側(cè)的壓力差帶來的相應(yīng)注入光阻量的較大差距，使得從光阻滲透區(qū)經(jīng)由光阻吐出口 100吐出的光阻量，不管是在中間位置(圖7中C處)，還是兩側(cè)位置(圖7中A、B處)均能保持大體一致，從而確保光阻涂布到基板上的均勻度，提高涂布品質(zhì)。從實(shí)際效果來看，如圖8所示，其中，淺色曲線Cl為現(xiàn)有光阻涂布裝置在光阻注入泵加速階段，從光阻滲透區(qū)吐出的光阻量分布狀況，可以看出，兩側(cè)的光阻量大大低于中間位置的光阻量。深色曲線C2為本實(shí)施例的光阻涂布裝置在光阻注入泵加速階段，從光阻滲透區(qū)吐出的光阻量分布狀況，可以看出，由于增設(shè)第二光阻注入管114，補(bǔ)充了兩側(cè)的光阻注入量，其與中間位置的光阻量差距已大大縮小。當(dāng)然，由于注入兩側(cè)位置的光阻還有部分系由中間位置流動而來，如欲實(shí)現(xiàn)從中間位置到兩側(cè)位置的光阻吐出量相同，則由增設(shè)的第二光阻注入管114所注入的光阻量須小于從第一光阻注入管112所注入的光阻量。因此本實(shí)施例中，第二光阻注入管114的口徑小于第一光阻注入管112的口徑。應(yīng)當(dāng)說明的是，上述的說明均是針對在涂布時(shí)，光阻注入泵處于加速階段的狀況。實(shí)際上，經(jīng)過加速階段，光阻注入泵將進(jìn)入穩(wěn)定階段，即保持勻速，光阻亦為勻速運(yùn)動，中間位置(圖7中C處)和兩側(cè)位置(圖7中A、B處)沒有壓力差，光阻吐出量無差異。這樣，在中部注入的光阻量，與從中部流動到兩側(cè)的光阻量也能維持大體相同。所以，繼續(xù)通過第二光阻注入管114來補(bǔ)充兩側(cè)的光阻注入量，就沒有太大必要。反而可能導(dǎo)致兩側(cè)光阻注入量增加過多，與中部位置的差距再次擴(kuò)大，影響穩(wěn)定階段涂布的均勻度。當(dāng)光阻注入泵繼續(xù)進(jìn)入到減速階段時(shí)，光阻流動減速，受到與流動方向相反力的作用，中間位置的第一光阻注入管112附近受力作用較大，兩側(cè)由于壓差關(guān)系，受力較小，兩側(cè)的光阻吐出量將大于中間位置吐出量。在這種情況下，更無需通過第二光阻注入管114來補(bǔ)充兩側(cè)的光阻注入量。也就是說，以光阻注入泵的工作狀態(tài)來劃分，在加速階段，需通過第二光阻注入管114來補(bǔ)充兩側(cè)的光阻注入量；到了穩(wěn)定階段和減速階段，不再需要通過第二光阻注入管114來補(bǔ)充兩側(cè)的光阻注入量，應(yīng)關(guān)閉第二光阻注入管114。由此，本實(shí)施例的又一改進(jìn)在于，在第二光阻注入管114上設(shè)置控制閥116，用于控制第二光阻注入管114內(nèi)光阻流量。控制閥116的開閉速度可以根據(jù)實(shí)際需要調(diào)整。請參照圖9所示，為本實(shí)施例的控制閥116開度時(shí)序示意圖。在光阻注入泵加速階段，控制閥116開啟，通過第二光阻注入管114來補(bǔ)充兩側(cè)的光阻注入量；進(jìn)入光阻注入泵穩(wěn)定階段，控制閥116逐漸閉合直至完全關(guān)閉，不再通過第二光阻注入管114來補(bǔ)充兩側(cè)的光阻注入量。通過前述方式，在光阻注入泵的全部工作階段都可以保證光阻吐出量的均衡和一致性。

請?jiān)賲⒄請D10所示，本發(fā)明實(shí)施例二提供一種光阻涂布裝置的涂布方法，該光阻涂布裝置與本發(fā)明實(shí)施例一相同，此處不再贅述。該涂布方法包括:
步驟SI，在光阻注入泵的加速階段，同時(shí)通過第一光阻注入管112和第二光阻注入管114向狹縫10注入光阻；
步驟S2，在光阻注入泵的穩(wěn)定階段，逐漸閉合第二光阻注入管112上的控制閥116直至控制閥116完全關(guān)閉；
步驟S3，在光阻注入泵的減速階段，關(guān)閉控制閥116。如前所述，由于在光阻注入泵的加速階段，注入兩側(cè)位置的光阻還有部分系由中間位置流動而來，如欲實(shí)現(xiàn)從中間位置到兩側(cè)位置的光阻吐出量相同，則須步驟SlOl進(jìn)一步包括:控制第二光阻注入管114內(nèi)光阻的流量，使通過第二光阻注入管114注入的光阻量小于通過第一光阻注入管112注入的光阻量。本發(fā)明所提供的光阻涂布裝置及其涂布方法，通過增設(shè)第二光阻注入管，增加了狹縫兩側(cè)的光阻注入量，彌補(bǔ)因中部與兩側(cè)的壓力差帶來的相應(yīng)注入光阻量的較大差距，使得從光阻滲透區(qū)經(jīng)由光阻吐出口吐出的光阻量，不管是在中間位置，還是兩側(cè)位置均能保持大體一致，從而確保光阻涂布到基板上的均勻度，提高涂布品質(zhì)。以上所揭露的僅為本發(fā)明較佳實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，因此依本發(fā)明 權(quán)利要求所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
1.一種光阻涂布裝置，包括:噴嘴，所述噴嘴包括相對設(shè)置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設(shè)有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通，其特征在于， 在所述第一噴嘴分體的操作面上還設(shè)有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側(cè)，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述第二光阻注入管的口徑小于所述第一光阻注入管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述第二光阻注入管上設(shè)有控制閥，用于控制所述第二光阻注入管內(nèi)光阻的流量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述第一光阻注入管和第二光阻注入管均連接到光阻注入泵上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述第一光阻注入管和第二光阻注入管的上方均分別設(shè)有用于排出氣泡的排泡管。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光阻涂布裝置，其特征在于，在所述第一光阻注入管與所述狹縫連通處，設(shè)有第一空腔，設(shè)在所述第一光阻注入管上方的排泡管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述第一空腔連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光阻涂布裝置，其特征在于，在所述第二光阻注入管與所述狹縫連通處，設(shè)有第二空腔，設(shè)在所述第二光阻注入管上方的排泡管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述第二空腔連通。
8.一種光阻 涂布裝置的涂布方法，所述光阻涂布裝置包括噴嘴，所述噴嘴包括相對設(shè)置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設(shè)有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通；在所述第一噴嘴分體的操作面上還設(shè)有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側(cè)，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通；所述第一光阻注入管和第二光阻注入管均連接到光阻注入泵上；所述第二光阻注入管上設(shè)有控制閥，用于控制所述第二光阻注入管內(nèi)光阻的流量；所述涂布方法包括: 在光阻注入泵的加速階段，同時(shí)通過所述第一光阻注入管和第二光阻注入管向所述狹縫注入光阻； 在光阻注入泵的穩(wěn)定階段，逐漸閉合所述第二光阻注入管上的控制閥直至所述控制閥完全關(guān)閉； 在光阻注入泵的減速階段，關(guān)閉所述控制閥。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂布方法，其特征在于，在光阻注入泵的加速階段，控制所述第二光阻注入管內(nèi)光阻的流量，使通過所述第二光阻注入管注入的光阻量小于通過所述第一光阻注入管注入的光阻量。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光阻涂布裝置及其涂布方法，其中光阻涂布裝置包括噴嘴，所述噴嘴包括相對設(shè)置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設(shè)有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通，在所述第一噴嘴分體的操作面上還設(shè)有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側(cè)，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通。通過增設(shè)第二光阻注入管，增加了狹縫兩側(cè)的光阻注入量，使得吐出的光阻量保持大體一致，從而確保光阻涂布到基板上的均勻度，提高涂布品質(zhì)。
文檔編號G03F7/16GK103246165SQ20131014736
公開日2013年8月14日 申請日期2013年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月25日
發(fā)明者徐彬, 柯智勝 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司