專利名稱：彩色濾光陣列基板及其制備方法和顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種彩色濾光陣列基板及其制備方法和
顯示裝置。
背景技術(shù)：
反射式顯示器具有不傷害眼睛、無(wú)需背光源、穩(wěn)態(tài)顯示和節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)，因此具有廣泛的應(yīng)用前景。圖1是一種現(xiàn)有的反射式液晶面板的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖1所示，該反射式液晶面板包括相對(duì)設(shè)置的第一顯示基板和第二顯示基板，以及填充于上述兩塊顯示基板之間的液晶層150。其中一側(cè)的顯示基板包括第一透明基板110、彩色濾光層、黑矩陣121、平坦層130、公共電極層140，通常被稱為彩膜基板，用來(lái)為液晶面板提供顏色；另一側(cè)的顯示基板包括第二透明基板180、形成在第二透明基板180上的大量矩陣式排列的薄膜晶體管(圖中未示出)、反射層160、像素電極層170和信號(hào)線(包括柵線和數(shù)據(jù)線，圖中未示出)，通常被稱為陣列基板，用來(lái)控制液晶的偏轉(zhuǎn)以獲得不同的灰度。其中，所述彩色濾光層包括多個(gè)設(shè)置在所述黑矩陣121開口區(qū)域的紅色濾光片122、綠色濾光片123和藍(lán)色濾光片124。所述像素電極層170中包括多個(gè)像素電極，所述像素電極對(duì)應(yīng)于所述紅色濾光片122、綠色濾光片123和藍(lán)色濾光片124的投影區(qū)域進(jìn)行設(shè)置。當(dāng)上述反射式液晶面板運(yùn)作時(shí)，外界光線從第一透明基板110 —側(cè)入射后依次穿透彩色濾光層、平坦層130和公共電極層140，之后再入射至液晶層150。此時(shí)，像素電極層170上的像素電極能產(chǎn)生像素電壓，使像素電極層170與公共電極層140之間形成電場(chǎng)。液晶層的液晶分子受到電場(chǎng)的驅(qū)使而轉(zhuǎn)動(dòng)，從而控制從外界入射的光線對(duì)液晶層的穿透。如此，液晶層150能允許光線通過或是阻擋光線通過。當(dāng)液晶層150允許外界入射的光線通過時(shí)，此光線會(huì)入射至反射層160，并且被反射層160反射。被反射層160反射的光線會(huì)依序穿透液晶層150、公共電極層140、平坦層130、彩色濾光層和第一透明基板110。最后，光線從反射式液晶面板出來(lái)，促使彩色影像得以顯示。圖2是現(xiàn)有的反射式液晶面板的反射光路圖，如圖2所示，顯示裝置兩側(cè)的光線經(jīng)過圖1所示的反射層后仍然從兩側(cè)反射出去，進(jìn)入不到前方有效顯示區(qū)域內(nèi)，光的利用率較低。同時(shí)，現(xiàn)有的反射式液晶面板比普通的液晶面板多設(shè)置有所述反射層，從而增加了液晶面板的厚度，不符合液晶面板窄薄化的發(fā)展趨勢(shì)。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是:如何提供一種彩色濾光陣列基板及其制備方法和顯示裝置，以降低反射式液晶面板及顯示裝置的厚度。
(二)技術(shù)方案本發(fā)明提供一種彩色濾光陣列基板，包括陣列基板，還包括形成于所述陣列基板上的黑矩陣、彩色濾光層和反射層；所述黑矩陣具有限制亞像素區(qū)域的開口 ；所述彩色濾光層和所述反射層位于所述亞像素區(qū)域，且所述反射層位于所述彩色濾光層靠近所述陣列基板的一側(cè)。其中，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域?yàn)槠矫?，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的靠近所述黑矩陣的兩邊區(qū)域均為向上凸起的斜面。其中，所述斜面與所述平面之間的夾角范圍為30至45度。其中，所述反射層的最大厚度大于所述彩色濾光層的最大厚度的一半，并且小于所述彩色濾光層的最大厚度。其中，所述反射層的平面的寬度為所述反射層整體寬度的2/3至5/6。其中，還包括形成于所述黑矩陣和所述彩色濾光層遠(yuǎn)離所述陣列基板一側(cè)的平坦層。本發(fā)明還提供一種顯示裝置，其包括所述的彩色濾光陣列基板。本發(fā)明還提供一種彩色濾光陣列基板的制備方法，包括步驟:形成陣列基板；在陣列基板上形成具有限制亞像素區(qū)域的開口的黑矩陣圖形；在陣列基板上形成位于亞像素區(qū)域的反射層圖形和彩色濾光層圖形，且反射層位于彩色濾光層靠近陣列基板的一側(cè)。其中，所述在陣列基板上形成位于亞像素區(qū)域的反射層圖形的步驟具體包括:在陣列基板上形成反射層薄膜；采用半色調(diào)或灰色調(diào)掩膜板通過構(gòu)圖工藝形成反射層圖形，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域?yàn)槠矫?，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的靠近所述黑矩陣的兩邊區(qū)域均為向上凸起的斜面。其中，所述的制備方法，還包括步驟:在所述黑矩陣和所述彩色濾光層遠(yuǎn)離所述陣列基板的一側(cè)形成平坦層。(三)有益效果本發(fā)明所述彩色濾光陣列基板及其制備方法和顯示裝置，將反射層嵌設(shè)于黑矩陣開口的亞像素區(qū)域內(nèi)，即將反射層與黑矩陣同層設(shè)置，從而避免了單獨(dú)設(shè)置反射層，可以有效降低反射式液晶面板及顯示裝置的厚度，有利于反射式液晶面板及顯示裝置的窄薄化設(shè)計(jì)。同時(shí)，通過將反射層朝向彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域設(shè)計(jì)為平面，將反射層朝向彩色濾光層一側(cè)的靠近黑矩陣的兩邊區(qū)域設(shè)計(jì)為向上凸起的斜面，可以使反射式液晶面板及顯示裝置前面和側(cè)面入射的光線幾乎全部被反射進(jìn)入到前方有效顯示區(qū)域的人眼正常的視角范圍，提高了反射式液晶面板及顯示裝置的整體光利用率。


圖1是一種現(xiàn)有的反射式液晶面板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是現(xiàn)有的反射式液晶面板的反射光路圖3是本發(fā)明實(shí)施例1所述彩色濾光陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本發(fā)明實(shí)施例2所述彩色濾光陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是本發(fā)明實(shí)施例2的反射層的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是本發(fā)明實(shí)施例2的彩色濾光陣列基板的反射光路圖；圖7a 7e為本發(fā)明實(shí)施例3所述彩色濾光陣列基板的制備工藝流程圖；圖8a Se為本發(fā)明實(shí)施例4所述彩色濾光陣列基板的制備工藝流程圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。實(shí)施例1圖3是本發(fā)明實(shí)施例1所述彩色濾光陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖3所示，所述彩色濾光陣列基板包括:陣列基板310，以及設(shè)置在所述陣列基板310上的黑矩陣320、彩色濾光層和反射層330。其中，本實(shí)施例所述陣列基板310包括:襯底基板和形成于所述襯底基板上的柵線、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管和與所述薄膜晶體管連接的像素電極。另外，對(duì)于不同顯示類型或者設(shè)計(jì)要求的陣列基板，還可以包括例如公共電極、取向?qū)拥冉Y(jié)構(gòu)。所述襯底基板可以采用玻璃、石英、塑料等透明基板。所述黑矩陣320具有限制亞像素區(qū)域的開口，所述彩色濾光層和所述反射層330位于所述亞像素區(qū)域，且所述反射層330位于所述彩色濾光層靠近所述陣列基板310的一側(cè)。所述亞像素區(qū)域至少分為3種，分別是紅色亞像素區(qū)域、綠色亞像素區(qū)域和藍(lán)色亞像素區(qū)域；相應(yīng)地，所述彩色濾光層也對(duì)應(yīng)至少分為紅色濾光層341、綠色濾光層342和藍(lán)色濾光層343。也就是說(shuō)，所述紅色亞像素區(qū)域的上部設(shè)置有所述紅色濾光層341，所述綠色亞像素區(qū)域的上部設(shè)置有綠色濾光層342，所述藍(lán)色亞像素區(qū)域的上部設(shè)置有藍(lán)色濾光層343，在所述紅色亞像素區(qū)域、綠色亞像素區(qū)域和藍(lán)色亞像素區(qū)域的下部均設(shè)置有所述反射層330。另外，根據(jù)不同的設(shè)計(jì)要求，所述亞像素區(qū)域還可能包括透明色亞像素區(qū)域、黃色亞像素區(qū)域等，當(dāng)包括這些亞像素區(qū)域時(shí)，也會(huì)對(duì)應(yīng)設(shè)置相應(yīng)的彩色濾光層。具體地，所述反射層330的厚度大于所述彩色濾光層的厚度的一半，并且小于所述彩色濾光層的厚度。比如，當(dāng)彩色濾光層的厚度為2微米時(shí)，所述反射層330的厚度為I至2微米。另外，所述彩色濾光陣列基板還可以包括平坦層350，所述平坦層350形成于所述黑矩陣320和所述彩色濾光層遠(yuǎn)離所述陣列基板310 —側(cè)之上，其可以用于保護(hù)所述黑矩陣320和所述彩色濾光層，同時(shí)，也可以令所述黑矩陣320和所述彩色濾光層的上表面平坦，便于后續(xù)加工工藝的實(shí)施。應(yīng)用所述彩色濾光陣列基板的反射式液晶面板工作原理如下:外界光線從透明基板(圖中未示出，其位于液晶層之上，與彩色濾光陣列基板相對(duì)設(shè)置)入射至液晶層(圖中未示出，其位于平坦層350之上)，陣列基板310上的像素電極產(chǎn)生像素電壓，使像素電極層與公共電極層(圖中未示出)之間形成電場(chǎng)。液晶層的液晶分子受到電場(chǎng)的驅(qū)使而轉(zhuǎn)動(dòng)，從而控制從外界入射的光線對(duì)液晶層的穿透。如此，液晶層能允許光線通過或是阻擋光線通過。當(dāng)液晶層允許外界入射的光線通過時(shí)，此光線在穿透平坦層350和彩色濾光層后，到達(dá)反射層330，并且被反射層330反射。被反射層330反射的光線會(huì)穿透彩色濾光層、平坦層350、液晶層和透明基板。最后，光線從反射式液晶面板出來(lái)，促使彩色影像得以顯
/Jn ο通過上述設(shè)置，本發(fā)明的彩色濾光陣列基板將反射層嵌設(shè)于黑矩陣開口限制的亞像素區(qū)域內(nèi)，即將反射層與黑矩陣同層設(shè)置，從而避免了單獨(dú)設(shè)置反射層，可以有效降低反射式液晶面板的厚度。實(shí)施例2圖4是本發(fā)明實(shí)施例2所述的彩色濾光陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖，圖5是本發(fā)明實(shí)施例2的反射層的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖4和5所示，本實(shí)施例所述彩色濾光陣列基板與上一實(shí)施例基本相同，其不同之處僅在于，本實(shí)施例中，所述反射層430朝向所述彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域?yàn)槠矫?31，所述反射層430朝向所述彩色濾光層一側(cè)的靠近所述黑矩陣420的兩邊區(qū)域均為向上凸起的斜面432。一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述斜面432與所述平面431之間的夾角范圍為30至45度。另一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述反射層430的平面431的寬度L為所述反射層430整體寬度的2/3至5/6。另外，本實(shí)施例中，所述反射層430的最大厚度(即所述斜面432的頂點(diǎn)處的厚度)大于所述彩色濾光層的最大厚度(所述彩色濾光層的下表面為平面處對(duì)應(yīng)的厚度)的一半，并且小于所述彩色濾光層的最大厚度。圖6是本發(fā)明實(shí)施例2的彩色濾光陣列基板的反射光路圖，如圖6所示，本實(shí)施例中所述反射層430的中間區(qū)域的平面431可將從反射式液晶面板前面入射的光線反射至前方有效顯示區(qū)域；同時(shí)，所述反射層430的兩邊區(qū)域的斜面432，可將從反射式液晶面板兩側(cè)入射的光線也反射至前方有效顯示區(qū)域。具體地，當(dāng)反射式液晶面板正對(duì)發(fā)光源(如太陽(yáng)，室內(nèi)燈泡)，以反射光源直接射向屏幕的平行光為主，而以反射由周圍環(huán)境物體造成的漫反射的光線為輔，平行光直接由反射層430的中間區(qū)域的平面431反射，漫反射的光線是各個(gè)方向的，而漫反射光線中由反射式液晶面板兩側(cè)進(jìn)入屏幕的即可由反射層430的兩邊區(qū)域的斜面432反射進(jìn)入人的視角范圍，從而提高光的利用率；當(dāng)屏幕不是正對(duì)發(fā)光源(如太陽(yáng)，室內(nèi)燈泡)或者背對(duì)發(fā)光源時(shí)，即沒有了直接射向屏幕的平行光，則主要以反射周圍環(huán)境物體造成的漫反射的光線為主，這時(shí)漫反射光線中由反射式液晶面板兩側(cè)進(jìn)入屏幕的光線，以及發(fā)光源的光線從反射式液晶面板兩側(cè)進(jìn)入屏幕的光線即可由反射層430的兩邊區(qū)域的斜面432反射進(jìn)入人的視角范圍，從而提聞光的利用率。這樣從反射式液晶面板前面和側(cè)面入射的光線幾乎全部被反射進(jìn)入到前方有效顯示區(qū)域的人眼正常的視角范圍，提高了反射式液晶面板的整體光利用率。實(shí)施例3圖7a 7e為本發(fā)明實(shí)施例3所述彩色濾光陣列基板的制備工藝流程圖，參見圖7a 7e，本發(fā)明實(shí)施例所述彩色濾光陣列基板的制備方法包括步驟:SlOO:形成陣列基板310，參見圖7a。所述陣列基板310包括:襯底基板和形成于所述襯底基板上的柵線、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管和與所述薄膜晶體管連接的像素電極。另外，對(duì)于不同顯示類型或者設(shè)計(jì)要求的陣列基板，還可以包括例如公共電極、取向?qū)拥冉Y(jié)構(gòu)。所述襯底基板可以采用玻璃、石英、塑料等透明基板。所述陣列基板310的詳細(xì)制備過程非本發(fā)明重點(diǎn)，可以采用現(xiàn)有技術(shù)制備陣列基板的方法，在此不再贅述。S200:在陣列基板310上形成具有限制亞像素區(qū)域的開口的黑矩陣圖形，參見圖7b 0該步驟可以具體為在所述陣列基板310上涂覆一層黑矩陣所用光阻劑，然后通過刻有圖形的掩模板曝光并顯影，得到具有限制亞像素區(qū)域的開口的黑矩陣320的圖形。所述黑矩陣320開口的區(qū)域?yàn)閬喯袼貐^(qū)域。另外，黑矩陣還可以采用遮光金屬比如鉻來(lái)制備，此種情況下，因鉻金屬不具備感光性質(zhì)，在形成鉻金屬薄膜之后，需要先涂覆光刻膠，通過掩膜板曝光并顯影，然后再進(jìn)行刻蝕，最后剝離光刻膠，得到黑矩陣320的圖形。S300:在陣列基板310上形成位于亞像素區(qū)域的反射層圖形和彩色濾光層圖形，且反射層330位于彩色濾光層靠近陣列基板310的一側(cè)。所述步驟S300進(jìn)一步包括以下步驟:S310:在所述亞像素區(qū)域內(nèi)的陣列基板310上形成反射層圖形，參見圖7c。該步驟S310可以具體為，在陣列基板310上形成一層反射層薄膜；然后在反射層薄膜上面涂覆一層光刻膠；接著采用掩膜板進(jìn)行曝光，使光刻膠形成光刻膠去除區(qū)域和光刻膠保留區(qū)域，光刻膠保留區(qū)域?qū)?yīng)亞像素區(qū)域，光刻膠去除區(qū)域?qū)?yīng)于黑矩陣區(qū)域；再進(jìn)行顯影處理，光刻膠保留區(qū)域的光刻膠被保留，光刻膠去除區(qū)域的光刻膠被去除；通過刻蝕工藝刻蝕掉光刻膠去除區(qū)域的反射層薄膜，形成反射層330的圖形，最后剝離剩余的光刻膠。其中，形成薄膜通常有沉積、涂敷、濺射等多種方式，在此不做限定。S320:在所述反射層330的圖形的上方形成彩色濾光層圖形，參見圖7d。本實(shí)施例中，所述亞像素區(qū)域包括:紅色亞像素區(qū)域、綠色亞像素區(qū)域和藍(lán)色亞像素區(qū)域。在所述反射層圖形的上方形成彩色濾光層圖形，具體包括:S321:在所述紅色亞像素區(qū)域的反射層圖形的上方形成紅色濾光層薄膜，利用掩膜板進(jìn)行曝光并顯影，得到紅色濾光層341。S322:在所述綠色亞像素區(qū)域的反射層圖形的上方形成綠色濾光層薄膜，利用掩膜板進(jìn)行曝光并顯影，得到綠色濾光層342。S323:在所述藍(lán)色亞像素區(qū)域的反射層圖形的上方形成藍(lán)色濾光層薄膜，利用掩膜板進(jìn)行曝光并顯影，得到藍(lán)色濾光層343。其中需要說(shuō)明的是，不同顏色濾光層的制作順序沒有特別的限制，可以自行確定。另外，還可以在亞像素區(qū)域內(nèi)的陣列基板310上先后形成反射層薄膜和彩色濾光層薄膜后統(tǒng)一進(jìn)行曝光并顯影，然后通過刻蝕工藝，同時(shí)得到所述反射層圖形和彩色濾光層圖形。其中，所述反射層薄膜的厚度一般大于用于形成所述彩色濾光層圖形的彩色濾光層薄膜厚度的一半，不超過彩色濾光層薄膜的厚度。如彩色濾光層薄膜厚度為2 μ m，則濺射的反射層薄膜的厚度為1-2 μ m。此外，彩色濾光陣列基板的制備方法還可以包括步驟:S400:在所述黑矩陣320和所述彩色濾光層遠(yuǎn)離所述陣列基板310的一側(cè)形成平坦層350，參見圖7e。需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中，所述步驟S200并不一定在步驟S300之前執(zhí)行，其可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用在步驟S300之后完成，具體的可以在步驟310之后進(jìn)行，也可以在步驟320之后進(jìn)行，更具體的還可以在完成任意顏色的濾光層之后進(jìn)行。本實(shí)施例所述方法可以用于制備實(shí)施例1所述的彩色濾光陣列基板，采用該方法制備的彩色濾光陣列基板，將反射層嵌設(shè)于黑矩陣之間的亞像素區(qū)域內(nèi)，即將反射層與黑矩陣同層設(shè)置，從而避免了單獨(dú)設(shè)置反射層，可以有效降低反射式液晶面板的厚度。實(shí)施例4圖8a Se為本發(fā)明實(shí)施例4所述彩色濾光陣列基板的制備工藝流程圖，參見圖8a 8e,本實(shí)施例所述方法與上一實(shí)施例所述方法基本相同，其不同之處僅在于,本實(shí)施例中，在所述亞像素區(qū)域內(nèi)的陣列基板上形成反射層圖形的步驟與上一實(shí)施例的步驟S310不同。在陣列基板上形成位于亞像素區(qū)域的反射層圖形的步驟包括:在陣列基板上形成反射層薄膜；采用半色調(diào)或灰色調(diào)掩膜板通過構(gòu)圖工藝形成反射層圖形，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域?yàn)槠矫?，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的靠近所述黑矩陣的兩邊區(qū)域均為向上凸起的斜面。需要說(shuō)明的是，形成薄膜通常有沉積、涂敷、濺射等多種方式，在此不做限定。另夕卜，構(gòu)圖工藝通常包括光刻膠涂覆、曝光、顯影、刻蝕、光刻膠剝離等工藝；對(duì)于需要制作圖案的薄膜，如果薄膜材料本身具備感光性質(zhì)，構(gòu)圖工藝可以省略光刻膠涂覆和光刻膠剝離工藝；并且，對(duì)于在同一薄膜上形成不同厚度的圖案，構(gòu)圖工藝還可以根據(jù)需要包括灰化等工藝。具體的，參見圖Sc，本實(shí)施例中，在所述亞像素區(qū)域內(nèi)的陣列基板上形成反射層圖形，可以具體為，在陣列基板410上形成一層反射層薄膜；然后在反射層薄膜上面涂覆一層光刻膠；接著采用半色調(diào)或灰色調(diào)掩膜板進(jìn)行曝光，使光刻膠形成光刻膠完全去除區(qū)域、光刻膠完全保留區(qū)域和光刻膠半保留區(qū)域，光刻膠完全保留區(qū)域?qū)?yīng)亞像素區(qū)域的中間區(qū)域，光刻膠半保留區(qū)域?qū)?yīng)亞像素區(qū)域靠近黑矩陣的兩邊區(qū)域，光刻膠完全去除區(qū)域?qū)?yīng)黑矩陣區(qū)域；再進(jìn)行顯影處理，光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠的厚度沒有變化，光刻膠半保留區(qū)域的光刻膠厚度減少，光刻膠完全去除區(qū)域的光刻膠被完全去除；通過第一次刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠完全去除區(qū)域的反射層薄膜；通過灰化工藝去除光刻膠半保留區(qū)域的光刻膠，暴露出該區(qū)域的反射層薄膜；再通過第二次刻蝕工藝刻蝕掉光刻膠半保留區(qū)域的反射層膜層，形成反射層430的圖形，最后剝離剩余的光刻膠。其中，制得的反射層430朝向所述彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域?yàn)槠矫?，所述反射?30朝向所述彩色濾光層一側(cè)的靠近所述黑矩陣420的兩邊區(qū)域均為向上凸起的斜面。在反射層430的圖形的上方形成彩色濾光層(至少包括紅色濾光層441、綠色濾光層442和藍(lán)色濾光層443)圖形的具體方法與實(shí)施例三相同，在此不再贅述。此外，彩色濾光陣列基板的制備方法還可以包括步驟:在所述黑矩陣420和所述彩色濾光層遠(yuǎn)離所述陣列基板410的一側(cè)形成平坦層450，參見圖8e。本實(shí)施例所述方法可以用于制備實(shí)施例2所述的彩色濾光陣列基板，采用該方法制備的彩色濾光陣列基板應(yīng)用于反射式液晶面板時(shí)，從反射式液晶面板前面和側(cè)面入射的光線幾乎全部被反射進(jìn)入到前方有效顯示區(qū)域的人眼正常的視角范圍，提高了反射式液晶面板的整體光利用率。實(shí)施例5本發(fā)明還提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述實(shí)施例1或2所述的彩色濾光陣列基板，所述顯示裝置可以為:液晶面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。通過采用上述彩色濾光陣列基板，本發(fā)明的顯示裝置更加的窄薄化，體積更加小巧；同時(shí)，當(dāng)采用實(shí)施例2所述的彩色濾光陣列基板時(shí)，還可以令顯示裝置前面和側(cè)面入射的光線幾乎全部被反射進(jìn)入到前方有效顯示區(qū)域的人眼正常的視角范圍，提高了顯示裝置的整體光利用率，便于該顯示裝置在光線較暗的環(huán)境下運(yùn)行。本發(fā)明實(shí)施例提供的彩色濾光陣列基板及其制備方法和顯示裝置，將反射層嵌設(shè)于黑矩陣之間的亞像素區(qū)域內(nèi)，即將反射層與黑矩陣同層設(shè)置，從而避免了單獨(dú)設(shè)置反射層，可以有效降低反射式液晶面板及顯示裝置的厚度，有利于反射式液晶面板及顯示裝置的窄薄化設(shè)計(jì)。同時(shí)，通過將反射層朝向彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域設(shè)計(jì)為平面，將反射層朝向彩色濾光層一側(cè)的靠近黑矩陣的兩邊區(qū)域設(shè)計(jì)為向上凸起的斜面，可以使反射式液晶面板及顯示裝置前面和側(cè)面入射的光線幾乎全部被反射進(jìn)入到前方有效顯示區(qū)域的人眼正常的視角范圍，提高了反射式液晶面板及顯示裝置的整體光利用率。以上實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本發(fā)明，而并非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種彩色濾光陣列基板，包括陣列基板，其特征在于，還包括形成于所述陣列基板上的黑矩陣、彩色濾光層和反射層； 所述黑矩陣具有限制亞像素區(qū)域的開口； 所述彩色濾光層和所述反射層位于所述亞像素區(qū)域，且所述反射層位于所述彩色濾光層靠近所述陣列基板的一側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域?yàn)槠矫?，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的靠近所述黑矩陣的兩邊區(qū)域均為向上凸起的斜面。
3.如權(quán)利要求2所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于，所述斜面與所述平面之間的夾角范圍為30至45度。
4.如權(quán)利要求2所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于，所述反射層的最大厚度大于所述彩色濾光層的最大厚度的一半，并且小于所述彩色濾光層的最大厚度。
5.如權(quán)利要求2所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于，所述反射層的平面的寬度為所述反射層整體寬度的2/3至5/6。
6.如權(quán)利要求1-5任一所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于，還包括形成于所述黑矩陣和所述彩色濾光層遠(yuǎn)離所述陣列基板一側(cè)的平坦層。
7.—種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的彩色濾光陣列基板。
8.一種彩色濾光陣列基板的制備方法，其特征在于，包括步驟: 形成陣列基板； 在陣列基板上形成具有限制亞像素區(qū)域的開口的黑矩陣圖形； 在陣列基板上形成位于亞像素區(qū)域的反射層圖形和彩色濾光層圖形，且反射層位于彩色濾光層靠近陣列基板的一側(cè)。
9.如權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述在陣列基板上形成位于亞像素區(qū)域的反射層圖形的步驟具體包括: 在陣列基板上形成反射層薄膜； 采用半色調(diào)或灰色調(diào)掩膜板通過構(gòu)圖工藝形成反射層圖形，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的中間區(qū)域?yàn)槠矫?，所述反射層朝向所述彩色濾光層一側(cè)的靠近所述黑矩陣的兩邊區(qū)域均為向上凸起的斜面。
10.如權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，還包括步驟: 在所述黑矩陣和所述彩色濾光層遠(yuǎn)離所述陣列基板的一側(cè)形成平坦層。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種彩色濾光陣列基板及其制備方法和顯示裝置，涉及液晶顯示領(lǐng)域。所述彩色濾光陣列基板，包括陣列基板，還包括形成于陣列基板上的黑矩陣、彩色濾光層和反射層；黑矩陣具有限制亞像素區(qū)域的開口；彩色濾光層和反射層位于亞像素區(qū)域，且反射層位于彩色濾光層靠近陣列基板的一側(cè)。所述彩色濾光陣列基板及其制備方法和顯示裝置，可以有效降低反射式液晶面板及顯示裝置的厚度，有利于反射式液晶面板及顯示裝置的窄薄化設(shè)計(jì)。同時(shí)，可以使反射式液晶面板及顯示裝置前面和側(cè)面入射的光線幾乎全部被反射進(jìn)入到前方有效顯示區(qū)域的人眼正常的視角范圍，提高了反射式液晶面板及顯示裝置的整體光利用率。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK103185981SQ20131008457
公開日2013年7月3日 申請(qǐng)日期2013年3月15日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月15日
發(fā)明者劉宸, 陸金波, 王雪嵐 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司