用于在機(jī)顯影的平版印版前體的制作方法
【專利摘要】在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體具有硫酸陽極化含鋁基底，其中已經(jīng)使用酸性或堿性處理擴(kuò)大了所述氧化層孔。在所述擴(kuò)大的孔上，施加親水涂層，所述涂層包含具有羧酸側(cè)鏈的非交聯(lián)的親水聚合物。該特定基底為在機(jī)顯影和印刷提供改進(jìn)的粘附性和印刷耐久性。
【專利說明】用于在機(jī)顯影的平版印版前體
發(fā)明領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及獨特的鋁基底和含有基底的平版印版前體的制備。本發(fā)明還涉及用于制備基底和前體的方法，并且涉及使用它們制備平版印版的方法。
[0002]發(fā)明背景
[0003]在傳統(tǒng)或“濕”平版印刷中，在親水表面上生成被稱作圖像區(qū)的受墨區(qū)。當(dāng)用水潤濕該表面并施加油墨時，未水區(qū)留住水并拒墨，受:墨區(qū)接受:油墨并拒水。油墨被轉(zhuǎn)移到要在其上復(fù)制圖像的材料表面上。例如，油墨可首先被轉(zhuǎn)移至中間橡皮布，繼而用于轉(zhuǎn)移油墨至要在其上再產(chǎn)生圖像的材料表面上。
[0004]可用于制備平版印版的可成像元件通常包含施加在基底的親水表面上的一個或多個可成像層?？沙上駥影煞稚⒃诤线m的粘合劑中的一種或更多種輻射敏感組分?？蛇x地，該輻射敏感組分也可以是粘合劑材料。在成像后，通過合適的顯影劑除去可成像層的成像區(qū)或非成像區(qū)，露出下方的基底親水表面。如果除去成像區(qū)，該元件被視為陽圖制版。相反，如果除去非成像區(qū)，該元件被視為陰圖制版。在每種情況下，留下的可成像層區(qū)域(即圖像區(qū))是受墨的，通過顯影法露出的親水表面區(qū)接受水和水溶液，通常為潤版液，并拒墨。
[0005]直接數(shù)字或熱成像由于它們對環(huán)境光的穩(wěn)定性而在印刷工業(yè)中越來越重要。已經(jīng)將用于制備平版印版的可成像元件設(shè)計為對熱或紅外輻射敏感，并且可使用熱頭或更通常地，紅外激光二極管曝光，所述可成像元件與響應(yīng)來自計算機(jī)中的圖像數(shù)字拷貝的信號使印版記錄機(jī)(platesetter)成像。這種“計算機(jī)直接制版”技術(shù)已普遍替代使用掩膜使元件成像的以前的技術(shù)。
[0006]這些成像技術(shù)要求使用堿性顯影劑除去成像層的曝光區(qū)(陽圖制版)或非曝光區(qū)(陰圖制版)。在將陽圖制版平版印版前體設(shè)計用于IR成像的某些情況下，包含紅外輻射敏感吸收化合物(例如IR染料)的組合物抑制并且其它溶解抑制劑使得所述涂層在堿性顯影劑中不可溶并僅在IR-曝光區(qū)可溶解。
[0007]與平版印版的類型無關(guān)，通常使用金屬基底，例如包含鋁或各種金屬組合物的鋁合金的基底進(jìn)行平版印刷。通常通過表面?；瘜⒔饘倨谋砻娲植诨员愦_保對布置于其上的層，通常為可成像層的良好粘附性，并且改進(jìn)在印刷期間非成像區(qū)中的保水率。此類鋁載體可成像元件有時是本領(lǐng)域已知的平版印版(planographic printing plate)或平版印版(lithographic printing plate)的前體。
[0008]各種鋁載體材料和制備它們的方法描述于美國專利5，076，899 (Sakaki等)和
5,518, 589 (Matsura 等)中。
[0009]一般而言，為了制備平版印版前體的含鋁基底，原料鋁的連續(xù)卷通常取自通過脫脂部分的未卷曲部分以從鋁卷除去油和碎片，堿蝕刻部分，第一沖洗部分，可包括機(jī)械或電化學(xué)?；騼烧叩牧；糠郑诙_洗部分，粒化后酸性或堿-蝕刻部分，第三沖洗部分，使用適合的酸(例如硫酸)以提供陽極氧化物涂層的陽極化部分，第四沖洗部分，“后處理”部分，最終或第五沖洗部分，和干燥部分，之后再卷曲或傳送至涂層位置用于可成像層制劑的應(yīng)用。
[0010]在陽極化部分中，處理鋁卷以在它的表面上形成氧化鋁層，使它表現(xiàn)出在印刷工藝期間所必需的高度的機(jī)械耐磨性。該氧化鋁層已在某種程度上親水，這對于具有對水的高親和力和拒絕印刷油墨是重要的。然而，氧化層的反應(yīng)性使得可與可成像元件中的可成像層的組分相互作用。氧化鋁層可部分或完全覆蓋鋁基底表面。
[0011]當(dāng)硫酸被用于提供氧化鋁層時，與使用磷酸陽極化基底時相比，所得到的基底可表現(xiàn)出對上覆輻射敏感組合物更差的粘附性。據(jù)認(rèn)為，粘附性的差異可能是由不同陽極孔徑引起的，所述不同陽極孔徑是由陽極化中使用的不同酸產(chǎn)生的。即，硫酸陽極化可在氧化層中產(chǎn)生更小的孔。
[0012]日本公開申請11-65096(Fujifilm)描述了提供其中在鋁載體上形成陽極氧化層的光敏平版印版前體的方法，所述陽極氧化物孔具有20nm或更小的直徑。陰圖制版光敏層被直接施加于該氧化層。
[0013]美國專利申請公開2002/0033108 (Akiyama等)描述了在招載體上形成氧化物層，以將氧化物孔的平均大小控制在6nm至40nm的范圍內(nèi)。受水底膠層可被施加在氧化層之上。
[0014]美國專利7，078，153 (Hotta)描述了在它的氧化物表面中具有預(yù)定的空位率和微孔(空位)的載體。
[0015]陽極化后，通常用適合的聚合物“后處理”基底以永久性地密封氧化物孔，使得輻射敏感可成像層中的組分不會進(jìn)入孔，并且進(jìn)一步改進(jìn)基底表面的親水性，使它在印刷操作期間更好地拒絕平版油墨。
[0016]通常使用的后處理工藝可包括氧化鋁與聚(乙烯基膦酸)，或磷酸鈉和氟化鈉的混合物的反應(yīng)，以在基底上形成交聯(lián)的親水層。為了確定是否發(fā)生孔密封，可將基底浸于水性染料溶液中并沖洗。如果基底上看不到染料，則孔已經(jīng)被適當(dāng)密封。
[0017]可能需要忽略必須用水性染料溶液評價的硫酸陽極化含鋁基底的該后處理步驟。
[0018]非常重要的是輻射敏感性可成像層對下面的基底具有良好的粘附性。但是也有必要在顯影期間具有迅速且完全的曝光(陽圖制版)和非曝光(陰圖制版)區(qū)的去除。這兩個重要要求經(jīng)常彼此妨礙。要符合兩個要求是非常困難的，特別是當(dāng)進(jìn)行在機(jī)顯影時，其中需要對剩余成像層的良好粘附性以經(jīng)受住使用成千上萬的印刷版次并且應(yīng)當(dāng)在50個印刷版次內(nèi)完成可成像層的完全去除。
[0019]特別當(dāng)將硫酸陽極化基底用于在機(jī)可顯影的平版印版前體時，需要改進(jìn)這兩項要求。
[0020]發(fā)明概述
[0021]本發(fā)明提供在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體，其包含基底和布置在所述基底上的至少一種在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感的可成像層，所述陰圖制版輻射敏感可成像層包含自由基聚合型化合物、輻射吸收劑、在照射時生成自由基的化合物，以及促進(jìn)在機(jī)顯影性的聚合物粘合劑，
[0022]所述基底包含?；伊蛩彡枠O化的含鋁載體，已經(jīng)用堿性或酸性擴(kuò)孔溶液處理了所述載體以為它的外表面提供柱狀孔，使得柱狀孔在它們的最外表面的直徑是柱狀孔的平均直徑的至少90%，[0023]所述基底進(jìn)一步包含直接布置在所述?；?、硫酸陽極化，并且經(jīng)處理的含鋁載體上的親水層，所述親水層包含具有羧酸側(cè)鏈的非交聯(lián)的親水聚合物。
[0024]本發(fā)明還提供一種制備平版印版的方法，其包括:
[0025]成圖像曝光本發(fā)明的所述平版印版前體以提供曝光的前體，所述曝光的前體具有在所述陰圖制版輻射敏感可成像層中的曝光區(qū)和非曝光區(qū)，以及
[0026]使用平版印刷油墨、潤版液，或平版印刷油墨和潤版液兩者來處理在機(jī)曝光的前體以除去非曝光區(qū)，以提供平版印版。
[0027]本發(fā)明的方法的一些實施方案被進(jìn)一步定義，其中:
[0028]所述非交聯(lián)的親水聚合物以至少0.001 g/m2以及直至和包括0.4g/m2的干燥覆蓋度存在于所述前體中，
[0029]前體是紅外輻射敏感的并且包含紅外輻射吸收劑，
[0030]前體中的親水聚合物具有被中和至至少lmol%以及直至和包括60mol%的程度的羧酸側(cè)鏈，
[0031]前體的粒化且硫酸陽極化的含鋁載體具有柱狀孔，所述柱狀孔具有至少20nm以及直至和包括40nm的平均直徑，
[0032]所述前體的所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含聚合物粘合劑，所述聚合物粘合劑具有聚(環(huán)氧烷)側(cè)鏈，以及任選的氰基或苯基側(cè)基，
[0033]前體的在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含二芳基碘鎗硼酸鹽和花青紅外輻射敏感染料，并且
[0034]在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層為前體的最外層。
[0035]本發(fā)明提供許多優(yōu)勢。使用?；伊蛩彡枠O化的含鋁基底代替成本更高的磷酸陽極化來制備平版印版前體。改進(jìn)了輻射敏感可成像層對硫酸陽極化基底的粘附性，特別是對于在機(jī)顯影，使得可印刷成千上萬的版次。然而，輻射敏感性可成像層的適合的部分在顯影期間，例如在在機(jī)顯影期間的幾個印刷版次內(nèi)被迅速除去。因此，有可能在顯影期間迅速去除可成像層并保持在機(jī)印刷耐久性。此外，本發(fā)明避免典型的后處理工藝的需求，以便在擴(kuò)孔操作之前或之后密封氧化物孔。
[0036]在本發(fā)明的實踐中已經(jīng)通過本文描述的擴(kuò)孔操作實現(xiàn)了這些優(yōu)勢，從而在應(yīng)用輻射敏感性可成像層制劑之前擴(kuò)大氧化物孔。擴(kuò)孔后，基底涂布有相對薄的親水層(其可能是非輻射敏感的)，所述親水層包含特定類型的具有羧酸側(cè)鏈的聚合物。
[0037]發(fā)明詳述
[0038]定義
[0039]除非上下文另有說明，當(dāng)在本文使用時，術(shù)語“平版印版前體”、“在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體”，和“陰圖制版平版印版前體”意指本發(fā)明的實施方案的參考。
[0040]術(shù)語“載體”在本文中用于指含鋁材料(卷、薄片、箔，或其它形式)，然后處理所述含鋁材料以制備“基底”，所述“基底”是指各種層涂布于其上的親水制品。
[0041]術(shù)語“后處理”是指用水溶液處理?；谊枠O化的含鋁載體，以用陽極化基底上的夾層涂布它。在本發(fā)明的實踐中擴(kuò)孔工藝之前或之后未使用該“后處理”。
[0042]此外，除非上下文另有說明，本文描述的各種組分(例如平版印版前體中各種層的組分或擴(kuò)孔溶液的組分)是指那些組分的一種或更多種。因此，單數(shù)形式“一(a)”、“一(an ) ”，或“該(the ) ”不一定僅指單一組分，而是也可包括復(fù)數(shù)指示物。
[0043]本申請中未明確定義的術(shù)語應(yīng)被理解為具有本領(lǐng)域技術(shù)人員通?？山邮艿暮x。如果術(shù)語的解釋會使它在該上下文中無意義或基本上無意義，應(yīng)當(dāng)從標(biāo)準(zhǔn)詞典理解所述術(shù)語的定義。
[0044]除非另外指出，百分比是指組合物或?qū)拥母稍镏亓浚?，或溶液的固體％。
[0045]如本文所使用，術(shù)語“輻射吸收劑”是指對特定輻射波長敏感并且可在布置化合物的層內(nèi)將光子轉(zhuǎn)化為熱的化合物。
[0046]如本文所使用，術(shù)語“紅外”是指具有至少700nm和更高λ _的輻射。在大多數(shù)情況下，術(shù)語“紅外”用于指本文定義為至少700nm以及直至和包括1400nm的電磁光譜的“近紅外”區(qū)。
[0047]為了弄清與聚合物相關(guān)的任何術(shù)語的定義，應(yīng)參考國際理論和應(yīng)用化學(xué)協(xié)會("IUPAC")，PureAppl.Chem.68，2287-2311 (1996)出版的 “Glossary of Basic Terms inPolymer Science”。但是，應(yīng)該以本文中明確闡述的任何定義為準(zhǔn)。
[0048]除非另行指明，術(shù)語“聚合物”和“聚合物的”是指包括低聚物在內(nèi)的高和低分子量聚合物，并包括均聚物和共聚物。
[0049]術(shù)語“共聚物”是指衍生自沿著聚合物骨架隨機(jī)次序的兩種或更多種不同單體的聚合物。也就是說，它們包含具有不同化學(xué)結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。
[0050]術(shù)語“骨架”是指多個側(cè)基可連接至其上的聚合物中的原子鏈。這種骨架的實例是由一個或更多個烯鍵式不飽和可聚合單體的聚合獲得的“全碳”骨架。但是，其它骨架可包括雜原子，其中通過縮合反應(yīng)或一些其它方式形成該聚合物。
[0051]基底
[0052]本發(fā)明中使用的基底通常作為粒化且硫酸陽極化的含鋁載體，S卩，其中鋁為占優(yōu)勢的組分而被初始提供。因此，?；伊蛩彡枠O化的載體可由純鋁、含有少量(直至10重量％)的其它元素例如猛、娃、鐵、鈦、銅、鎂、鉻、鋅、秘、鎳，或錯的招合金組成，或為純招或鋁合金薄片被層壓或沉積于其上的聚合物膜或紙(例如，鋁薄片和聚酯膜的層合物)。通常，使用?；募冧X或鋁合金。載體可為任何有用形式或形狀，包括連續(xù)卷、薄片，和圈。
[0053]可以改變所得基底的厚度，但應(yīng)該足以承受來自印刷的磨損并且足夠薄以包裹印刷表單。通常，基底具有至少100 μ m以及直至和包括600 μ m的厚度。
[0054]一般而言，用于制備基底的載體具有所需的拉伸強(qiáng)度、彈性、結(jié)晶性、電導(dǎo)率，以及平版領(lǐng)域中的其它常規(guī)物理性能，可使用已知處理例如熱處理、冷或熱制造工藝，或平版基底的鋁合金制造領(lǐng)域的其它常規(guī)方法來實現(xiàn)所述性質(zhì)。
[0055]可將基底制備為連續(xù)卷或隨后可被切成所需的薄片的卷狀帶。
[0056]根據(jù)本發(fā)明，在擴(kuò)孔處理和親水層應(yīng)用前，使用適合的已知程序通常將載體的含鋁表面清潔、?；?例如電化學(xué)?；?，和硫酸陽極化。例如，通常將用表面活性劑、有機(jī)溶齊U，或堿性水溶液的脫脂處理用于除去來自含鋁載體的表面的油和油脂。然后，可使用公知的技術(shù)將表面粗糙化(或?；?，例如機(jī)械粗糙化、電化學(xué)粗糙化，或其組合(多粒化)。如例如美國專利7，049，048 (Hunter等)中所描述，可以適合的方式進(jìn)行電化學(xué)?；?br> [0057]在一些實施方案中，可使用美國專利申請公開
[0058]2008/0003411 (Hunter等)中描述的程序和化學(xué)將含鋁載體的表面電化學(xué)?；?。在這些程序中，粗糙化含鋁載體經(jīng)受交流電，優(yōu)選在含有適合的強(qiáng)酸例如鹽酸、硝酸，或其混合物電解質(zhì)溶液中。在?；に囍兴玫慕涣麟娍删哂腥魏嗡璧牟ㄐ?，所述波形在正電壓和負(fù)電壓之間變換，包括但不限于，矩形波、梯形波或正弦波。在至少50A/dm2并且直至和包括200A/dm2的電流密度下進(jìn)行此類?；?。
[0059]然后可蝕刻該電化學(xué)?；d體，以除去至少IOOmg鋁/m2。蝕刻可通過將金屬片浸入強(qiáng)酸性溶液或具有至少13的pH的強(qiáng)堿性溶液和30mS/cm至90mS/cm的電導(dǎo)率來進(jìn)行。需要除去足量的鋁金屬以便改變它的光密度，所述光密度直接涉及鋁薄片的表面上的“污物(smut) ”水平。
[0060]然后在穿過硫酸溶液(5-30%)的交流電中，在至少20°C以及直至和包括60°C的溫度下至少5秒以及直至和包括250秒，此類電化學(xué)?；X載體可被陽極化以在金屬表面上形成氧化層。在本發(fā)明的實踐中，未將磷酸用于陽極化。通常，進(jìn)行硫酸陽極化以提供至少0.3g/m2以及通常至少lg/m2以及直至和包括10g/m2，或直至和包括5g/m2的氧化鋁層。硫酸陽極化的條件通常是本領(lǐng)域熟知的，例如在美國專利7，078，153 (Hotta)中。
[0061]該陽極化處理在氧化鋁層中產(chǎn)生孔。氧化鋁層的空位可在至少20%以及直至和包括70%之間變化，如下列公式所定義:
[0062]空位=(1-(氧化物涂層的密度/3.98)) XlOO
[0063]所形成的氧化鋁層通常具有細(xì)凹部分，有時稱為“微孔”或“孔”，所述“微孔”或“孔”可能均勻地分布在層表面之上。通常通過適當(dāng)?shù)剡x擇硫酸陽極化處理的條件來控制密度(或空位)。在橫斷面的微觀圖像上看，孔在氧化鋁層內(nèi)可以柱出現(xiàn)。這些柱狀孔在它們被處理以擴(kuò)大在最外表面的平均直徑前可具有低于20nm的平均直徑，或大多數(shù)柱狀孔在它們被處理前具有至少5nm以及直至和包括20nm的平均直徑。
[0064]然后，處理電化學(xué)?；伊蛩彡枠O化的含鋁載體以擴(kuò)大氧化鋁層中的孔(“擴(kuò)孔處理”)，使得柱狀孔在它們的最外表面的直徑(即，最接近最外層表面)為至少90%，并且更通常為至少92%，以及甚至超過柱狀孔的平均直徑的100%?？墒褂脠霭l(fā)射掃描電子顯微鏡來測量柱狀孔的平均直徑。一旦確定該平均直徑，有可能確定在最外表面的直徑是否為使用類似測量技術(shù)的該平均直徑值的至少90%。因此，盡管美國專利申請公開2002/0033108 (上述)中描述的工藝控制平均孔直徑，它無法提供用于控制最外孔表面的孔直徑的工藝，使得它為平均孔直徑的至少90%。此外，根據(jù)該公開中的教導(dǎo)使用已知方法包括堿金屬硅酸鹽的使用將孔密封。
[0065]使用堿性或酸性擴(kuò)孔溶液擴(kuò)大柱狀孔，以除去至少10重量％以及直至和包括80重量％，通常至少10重量％以及直至和包括60重量％,或更可能至少20重量％以及直至和包括50重量％的原氧化鋁層。因此可使用堿性溶液來完成擴(kuò)孔，所述堿性溶液含有氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰，或氫氧化物的混合物，具有至少11以及直至和包括13的pH，或更可能具有至少11.5以及直至和包括12.5的pH，和至少0.15g/l以及直至和包括1.5g/l的氫氧化物(例如氫氧化鈉)濃度。堿性或酸性擴(kuò)孔溶液通常具有至少0.8mS/cm以及直至和包括8.2mS/cm的電導(dǎo)率。
[0066]可選地，酸性溶液含有在至少10g/l以及直至和包括500g/l或更可能至少20g/I以及直至和包括100g/l的濃度下的無機(jī)酸例如硫酸、磷酸、鹽酸、硝酸，或這些酸的混合物。[0067]特別有用的擴(kuò)孔溶液包含氫氧化鈉、氫氧化鉀、硫酸、鹽酸、硝酸，或磷酸。
[0068]用酸性或堿性溶液擴(kuò)孔處理可通過接觸電化學(xué)?；伊蛩彡枠O化的載體來進(jìn)行，例如通過浸入溶液至少3秒以及直至和包括300秒，以及通常至少10秒以及直至和包括120秒，以提供具有至少20nm以及直至和包括40nm的平均直徑的柱狀孔。處理溫度為至少0°C以及直至和包括110°C或通常至少20°C以及直至和包括70°C。
[0069]一旦用擴(kuò)孔溶液處理電化學(xué)?；伊蛩彡枠O化的含鋁載體，在使用可含有適合的涂層溶劑的親水層制劑所得到的基底之上形成親水層。未使用已知后處理工藝或用還含有無機(jī)氟化物(PF)的磷酸鹽溶液處理來制備基底，所述后處理工藝使用聚(乙烯基膦酸)或乙烯基膦酸共聚物，硅酸鹽、糊精、氟化鈣鋯，或六氟硅酸的涂層。
[0070]相反，施加于基底的親水層包含一個或更多個直鏈或支鏈、非交聯(lián)的親水聚合物，各聚合物均具有羧酸側(cè)鏈(側(cè)基)。這些非交聯(lián)的親水聚合物通常是該親水層中存在的僅有聚合物，并且可以這樣的量施加它們:所述量提供至少0.001g/m2以及直至和包括0.4g/m2，或更通常為至少0.01g/m2以及直至和包括0.3g/m2的干燥覆蓋度。非交聯(lián)的親水聚合物上的酸性側(cè)鏈可被中和，或至少一些側(cè)鏈被中和(“部分中和”)。一般而言，非交聯(lián)的親水聚合物具有羧酸側(cè)鏈，所述羧酸側(cè)鏈被中和至基于羧酸側(cè)鏈的總摩爾數(shù)至少lmol%以及直至和包括60mol%的程度。更通常，側(cè)鏈的部分中和為至少10mol%以及直至和包括50mol%?？赏ㄟ^使用氫氧化物或胺例如堿性金屬氫氧化物、堿土金屬氫氧化物、無機(jī)胺，或有機(jī)胺，和已知反應(yīng)條件處理聚合物來實現(xiàn)中和。在大多數(shù)實施方案中，親水層是非輻射敏感性的，這表明不是有意設(shè)計為吸收任何波長的輻射的量以便影響在本發(fā)明的實踐中的成像或顯影作用。
[0071]一種或更多種非交聯(lián)的親水聚合物以基于親水層的總固體至少50重量％以及直至和包括100重量％，或通常至少70重量％以及直至和包括100重量％的量存在于親水層中。
[0072]基底上提供的親水層是“可釋放層”，這表明使用以下印刷測試，至少80重量％(或通常至少90重量％)的親水層在150個版次后，或更可能在500個版次后是可移除的:
[0073]測試:使干燥涂布的親水層(0.22g/m2)與FusionK G品紅色平版印刷油墨(DIC，Tokyo, Japan)以及NA108W潤版液(I重量％, DIC, Tokyo, Japan)和異丙醇(I重量％)的混合物作為潤版液在Roland-200K印刷(Man-Ro I and, Germany)上持續(xù)至少150個版次接觸。
[0074]可用于本發(fā)明的實踐中的代表性非交聯(lián)的親水聚合物包括但不限于包含具有至少部分中和羧酸側(cè)鏈的重復(fù)單元的均聚物和共聚物。此類重復(fù)單元可來自烯鍵式不飽和的可聚合的單體，例如分子中具有羧基基團(tuán)的(甲基)丙烯酸、檸康酸、馬來酸酐、馬來酸、(甲基)丙烯酸酯，和對于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的其它單體?？蛇x地，可形成含有烷基酯側(cè)基的聚合物，并且這些烷基酯側(cè)基可與堿性化合物反應(yīng)以形成羧酸基團(tuán)，然后所述羧酸基團(tuán)可被至少部分中和。
[0075]非交聯(lián)的親水聚合物也可具有不含羧酸側(cè)基的其它重復(fù)單元，所述重復(fù)單元可來自以下中的一種或更多種:聚(氧乙烯)(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、2_(甲基)丙烯酰胺2-甲基丙烷磺酸及其鹽、聚(氧乙烯)烷基醚(甲基)丙烯酸酯、乙烯基膦酸及其鹽、酸性磷氧乙基(甲基)丙烯酸酯及其鹽、酸性磷氧丙基(甲基)丙烯酸酯及其鹽、酸性磷氧聚氧化亞乙基二醇(甲基)丙烯酸酯及其鹽、酸性磷氧聚氧化亞丙基二醇(甲基)丙烯酸酯及其鹽、乙烯醇、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咪唑、羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、羧酸乙基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基咪唑、乙烯基己內(nèi)酰胺，以及(3-丙烯酰胺丙基)三甲基氯化銨。
[0076]非交聯(lián)的親水聚合物也可在側(cè)鏈中具有包含烯鍵式不飽和的雙鍵重復(fù)單元，只要此類鍵的水平不會導(dǎo)致顯著交聯(lián)?？捎糜跒榇祟悅?cè)鏈提供重復(fù)單元的單體描述于例如日本公開申請 JP2001-312068 和 JP2005-14294 中。
[0077]可用于本發(fā)明中的非交聯(lián)的親水聚合物可來自兩種或更多種烯鍵式不飽和的可聚合的單體，所述單體使用已知反應(yīng)條件聚合以沿著聚合物鏈以隨機(jī)次序提供重復(fù)單元。
[0078]在此類非交聯(lián)的親水聚合物中，具有羧酸側(cè)基(或中和羧酸側(cè)基)的重復(fù)單元可包含至少lmol%以及直至和包括50mol%的所有重復(fù)單元,或通常至少lmol%以及直至和包括30mol%的所有重復(fù)單元。
[0079]可用于本發(fā)明中的非交聯(lián)的親水聚合物是非交聯(lián)的，這表明交聯(lián)的鍵或可交聯(lián)的基團(tuán)不是故意被引入聚合物鏈或側(cè)基。非交聯(lián)的親水聚合物通常具有至少1，000以及直至和包括200，000的重均分子量，如通過凝膠滲透色譜法所測定，并且具有至少50°C以及直至和包括350°C的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，如使用標(biāo)準(zhǔn)差示掃描量熱法所測量。
[0080]親水層也可包含一種或更多種無機(jī)磷酸或無機(jī)磷酸前體。這些化合物可以基于非交聯(lián)的親水層總固體至少0.1重量％以及直至和包括4重量％的量，并且通常以至少0.3重量％以及直至和包括3重量％的量存在于親水層中。術(shù)語“無機(jī)磷酸”意在包括已知的正磷酸(H3P04)以及具有式HO-(P020H)xH的無機(jī)多磷酸，其中X是分子中磷酸單元的個數(shù)。此類化合物可以是水解后形成正磷酸的無機(jī)磷酸前體。其它有用的無機(jī)磷酸前體包括焦磷酸、偏磷酸，和磷酸酐。
[0081]使用各種技術(shù)，通過凹版印刷輥涂布、逆轉(zhuǎn)輥涂布、狹縫擠壓涂布，或噴涂，親水層可被施加于以及直接布置于含鋁基底上，所述技術(shù)包括親水層制劑的涂層，或基底可被浸于親水層制劑適合的時間。親水層制劑的溶劑包括但不限于水、水混溶性醇、丙酮、水混溶性醚，及其混合物。水是親水層制劑的最有用的溶劑。
[0082]在一些實施方案中，親水層制劑基本上由一種或多種非交聯(lián)的親水聚合物以及一種或多種無機(jī)磷酸或無機(jī)磷酸前體組成。這表明，沒有親水聚合物制劑所必需的其它組分。然而，在其它實施方案中，親水制劑和所得到的親水層的任選的添加劑可包括一種或更多種表面活性劑。在另外的其它實施方案中，親水層制劑基本上由一種或更多種非交聯(lián)的親水聚合物以及任選地一種或更多種表面活性劑組成。如下所示，可直接在親水層上形成陰圖制版輻射敏感可成像層。
[0083]基底的背面(非成像面)可以用抗靜電劑或滑移層或無光層涂布以改進(jìn)該可成像元件的操作和“觸感”。
[0084]陰圖制版平版印版前體
[0085]可通過將如下所述的在機(jī)可顯影陰圖制版輻射敏感組合物適當(dāng)?shù)貞?yīng)用到本文描述的基底，以形成包含自由基聚合型化合物、輻射吸收劑(例如紅外輻射吸收劑)，和在輻射時生成自由基的化合物的在機(jī)陰圖制版輻射敏感性可成像層，來形成本發(fā)明的實施方案。通常僅存在包含輻射敏感組合物的單個可成像層并且它可以是元件中的最外層。
[0086]在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體通?？砂ù龠M(jìn)成像前體的在機(jī)顯影性的一種或更多種聚合物粘合劑。此類聚合物粘合劑包括但不限于，通?？山宦?lián)的并且通常實際上形成膜的那些(可溶于涂層溶劑)，但是其它聚合物粘合劑可至少部分作為離散微粒存在(未團(tuán)聚)。此類聚合物可作為具有至少10以及直至和包括500nm，并且通常至少100以及直至和包括450nm的平均粒度的離散微粒存在，并且它們通常均勻地分布在層內(nèi)。粒狀聚合物粘合劑在室溫下作為離散微粒存在，例如在水性分散體中。此類聚合物粘合劑通常具有至少5，000和通常至少20，000以及直至和包括100，000,或至少30，000以及直至和包括80，000的分子量(Mn)，如通過凝膠滲透色譜法所測定。
[0087]例如，有用的顆粒聚合物粘合劑可包括聚合物乳液或具有疏水骨架的聚合物的分散體，其直接或間接連接懸掛的聚(環(huán)氧烷)側(cè)鏈(例如至少10個亞烷基二醇單元)，任選氰基或苯基側(cè)基，或兩種類型的側(cè)鏈和側(cè)基至所述疏水骨架上，所述疏水骨架描述于例如美國專利 6，582，882 (Pappas 等)、6，899，994(Huang 等)、7，005，234(Hoshi 等)，和7，368，215 (Munnelly等)，以及美國專利申請公開2005/0003285 (Hayashi等)中。更特別地，此類聚合物粘合劑包括但不限于具有疏水和親水片段兩者的接枝共聚物、具有聚乙烯氧化物(PEO)片段的嵌段和接枝共聚物、具有側(cè)面聚(環(huán)氧烷)片段和氰基基團(tuán)的聚合物、以隨機(jī)方式排列以形成聚合物骨架的重復(fù)單元，以及可具有各種親水基團(tuán)的各種親水聚合物粘合劑，所述未水基團(tuán)例如輕基、竣基、輕乙基、輕丙基、氣基、氣基乙基、氣基丙基、竣甲基、亞硫基(sulfono)，或本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的其它基團(tuán)。
[0088]可選地，顆粒聚合物粘合劑也可具有包含多個(至少兩個)聚氨酯部分的骨架。此類聚合物粘合劑通常具有至少2，000和通常至少100，000以及直至和包括500，000，或至少100，000以及直至和包括300，000的分子量(Mn)，如通過動態(tài)光散射所測定。
[0089]其它有用的聚合物粘合劑為粒狀聚(氨酯-丙烯酸)雜化物，所述粒狀聚(氨酯-丙烯酸)雜化物分布(通常均勻地)在整個可成像層。每種這些雜化物具有至少50，000以及直至和包括500，000的分子量和具有至少IOnm以及直至和包括10，OOOnm (通常至少30nm以及直至和包括500nm或至少30nm以及直至和包括150nm)的平均粒度的微粒。這些雜化物實際上可以是“芳族”或“脂肪”性的，這取決于它們的生產(chǎn)中使用的特定反應(yīng)物。也可使用兩種或更多種聚(聚氨酯-丙烯酸)雜化物微粒的摻混物。某些聚(氨酯-丙烯酸)雜化物為從 Air Products and Chemicals, Inc.(Allentown, PA)以分散體商購獲得，
例如，作為聚(氨酯-丙烯酸)雜化物微粒的Hybridur? 540，560，570，580，870，878，880
聚合物分散體。這些分散體通常包括在適合的水性介質(zhì)中至少30%固體的聚(氨酯-丙烯酸)雜化物微粒，水性介質(zhì)也可包括商業(yè)表面活性劑、抗發(fā)泡劑、分散劑、抗腐蝕劑，以及任選的顏料和水混溶性有機(jī)溶劑。這些聚合物粘合劑通常以輻射敏感組合物的至少5重量％以及直至和包括70重量％的量存在。
[0090]一些其它有用的聚合物粘合劑具有如美國專利7，332，253 (Tao等)中所描述的烯丙基酯側(cè)基。此類聚合物也可包括氰基側(cè)基或具有來自多種其它單體的重復(fù)單元，如所述專利的第8列，第31行至第10列，第3行中所描述。
[0091]另外的其它有用的聚合物粘合劑具有連接到聚合物骨架的一個或更多個烯鍵式不飽和的側(cè)基(反應(yīng)性乙烯基基團(tuán))。此類反應(yīng)性基團(tuán)能夠在自由基存在下經(jīng)歷聚合或交聯(lián)?？捎锰?碳直鍵或通過沒有特別限制的連接基團(tuán)將側(cè)基直接連接到聚合物骨架。反應(yīng)性乙烯基基團(tuán)可被至少一種以下基團(tuán)取代:鹵素原子、羧基基團(tuán)、硝基基團(tuán)、氰基基團(tuán)、酰胺基團(tuán)，或烷基、芳基、烷氧基，或芳氧基基團(tuán)，以及特別地一種或更多種烷基。在一些實施方案中，反應(yīng)性乙烯基基團(tuán)通過如例如美國專利6，569，603 (Furukawa等)中所描述的亞苯基基團(tuán)連接于聚合物骨架。其它有用的聚合物粘合劑的側(cè)基具有乙烯基基團(tuán)，所述側(cè)基描述于例如通過引用并入的EPl, 182，033A1 (Fujimaki等)和美國專利4，874，686 (Urabe等)、7，729，255 (Tao 等)、6，916，595 (Fujimaki 等)，和 7，041，416 (Wakata 等)，特別是對于EPl, 182，033A1中記錄的通式(1)至(3)。
[0092]在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感組合物(和可成像層)包括一種或更多種自由基聚合型組分，所述自由基聚合型組分均含有可使用自由基引發(fā)聚合的一種或更多種自由基聚合型基團(tuán)。例如，此類自由基聚合型組分可含有一種或更多種自由基可聚合的單體或低聚物，所述自由基可聚合的單體或低聚物具有一種或更多種加成可聚合的烯鍵式不飽和的基團(tuán)、可交聯(lián)的烯鍵式不飽和的基團(tuán)、開環(huán)可聚合的基團(tuán)、疊氮基基團(tuán)、芳基重氮鹽基團(tuán)、芳基重氮磺酸鹽基團(tuán)，或其組合。類似地，也可使用具有此類自由基聚合型基團(tuán)的可交聯(lián)的聚合物。低聚物或預(yù)聚物，可使用例如聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，丙烯酸環(huán)氧酯和甲基丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，和不飽和的聚酯樹脂。在一些實施方案中，自由基聚合型組分包含羧基基團(tuán)。
[0093]自由基聚合型化合物包括具有多個可聚合的基團(tuán)的脲氨酯(甲基)丙烯酸酯或聚氨酯(甲基)丙烯酸酯。例如，自由基聚合型組分可通過使基于六亞甲基二異氰酸酯
的 DESMODUR'4 NlOO 脂肪聚異氰酸酯樹脂(Bayer Corp.，Milford, Conn.)與羥乙
基丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯反應(yīng)來制備。有用的自由基聚合型化合物包括獲自KowaAmerican的NK酯A_DPH(六丙烯酸雙季戍四醇),和Sartomer399 (五丙烯酸二季戍四醇酯)、Sartomer355 ( 二 -三輕甲基丙烷四丙烯酸酯)、Sartomer295 (季戍四醇四丙烯酸酯)，以及獲自SartomerCompany, Inc的Sartomer415[乙氧基化(20)三輕甲基丙烷三丙稀Ife酷]。
[0094]許多其它自由基聚合型組分是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的，并且描述于相當(dāng)多的文獻(xiàn)中，所述文獻(xiàn)包括Photoreactive Polymers:TheScience and Technology of Resists.AReiser, Wiley, NewYork, 1989,第 102-177 頁，由 Β.M.Monroe 在 Radiation Curing: Scienceand Technology 中，S.P.Pappas, Ed.，Plenum, NewYork, 1992,第 399-440 頁，以及見“Polymer Imaging”由 A.B.Cohen和 P.Walker, ^ Imaging Processes and Material 中,J.M.Sturge 等(編輯)，VanNostrandReinhold, NewYork, 1989,第 226-262 頁。例如，有用的自由基聚合型組分還描述于EP1，182，033A1 (Fujimaki等)中，開始于段落[0170]，并且描述于美國專利 6，309，792 (Hauck 等)、6，569，603 (Furukawa)，和 6，893，797 (Munnelly 等)中。其它有用的自由基聚合性組分包括美國專利申請公開2009/0142695 (Baumann等)中所描述的那些，所述自由基聚合性組分包括IH-四唑基團(tuán)。
[0095]除了上述自由基聚合型組分以外，或替代上述自由基聚合型組分，在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感組合物可包括聚合物材料，所述聚合物材料包括連接于骨架的側(cè)鏈，所述骨架的側(cè)鏈包括一種或更多種自由基聚合型基團(tuán)(例如烯鍵式不飽和的基團(tuán))，所述可聚合(交聯(lián)的)的自由基聚合型基團(tuán)響應(yīng)于自由基由生產(chǎn)的引發(fā)劑組合物(下述)。每個分子中可能有至少兩個這些側(cè)鏈。自由基聚合型基團(tuán)(或烯鍵式不飽和的基團(tuán))可以是連接于聚合物骨架的脂肪或芳族丙烯酸酯側(cè)鏈的部分。通常，每個分子中有至少2個以及直至和包括20個此類基團(tuán)。
[0096]此類自由基聚合型聚合物也可包含親水基團(tuán)包括但不限于，羧基、磺基，或磷基，直接連接于骨架或作為除自由基聚合型側(cè)鏈以外的側(cè)鏈的部分連接。
[0097]在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感組合物還包括引發(fā)劑組合物，所述組合物包括一種或更多種引發(fā)劑，所述引發(fā)劑能夠生成足以在組合物曝光于成像紅外輻射時引發(fā)所有各種自由基聚合型組分的聚合的自由基。引發(fā)劑組合物通常響應(yīng)于，例如，紅外光譜區(qū)中的電磁輻射，其對應(yīng)于至少700nm以及直至和包括1400nm的寬光譜范圍，以及通常至少700nm以及直至和包括1250nm的輻射?？蛇x地，引發(fā)劑組合物可響應(yīng)于至少250以及直至和包括450nm以及通常至少300nm以及直至和包括450nm的紫外區(qū)中的曝光福射。
[0098]更通常地，引發(fā)劑組合物包括一種或更多種電子受體以及能夠提供電子、氫原子，或烴基團(tuán)的一種或更多種共引發(fā)劑。
[0099]一般而言，輻射敏感組合物的適合的引發(fā)劑組合物包含引發(fā)劑，所述引發(fā)劑包括但不限于，芳族磺酰鹵、三鹵代甲基砜、酰亞胺(例如N-苯甲酰氧基鄰苯二甲酰亞胺)、重氮磺酸鹽、9，10- 二氫蒽衍生物、N-芳基、S-芳基，或具有至少2個羧基基團(tuán)的O-芳基聚羧酸，所述羧基基團(tuán)的至少一個鍵合到芳基部分(例如苯胺二乙酸及其衍生物以及描述于West等的美國專利5，629，354中的其它“共引發(fā)劑”)的氮、氧，或硫原子，肟醚和肟酯(例如來自安息香的那些)，α-羥基或α-氨基苯乙酮、三鹵素甲基-芳基砜、安息香醚和酯、過氧化物(例如過氧化苯甲酰)、氫過氧化物(例如枯基過氧化氫)、偶氮化合物(例如偶氮雙-異丁腈)、如描述于例如美國專利4，565，769 (Dueber等)中的2，4，5-三芳基咪唑基二聚體(也稱為六芳基雙咪唑，或“ΗΑΒΙ’”)，三鹵代甲基取代的三嗪，含硼的化合物(例如四芳基硼酸鹽和烷基三芳基硼酸鹽)和有機(jī)硼酸鹽例如美國專利6，562，543 (Ogata等)中所描述的那些，以及鎗鹽(例如銨鹽、二芳基碘鎗鹽、三芳基锍鹽、芳基重氮鹽，和N-烷氧基吡啶鹽)。
[0100]六芳基雙咪唑、鎗化合物，和硫醇化合物以及兩種或其更多種的混合物是所需的共引發(fā)劑或自由基產(chǎn)生劑，并且尤其六芳基雙咪唑及其與硫醇化合物的混合物是有用的。適合的六芳基雙咪唑還描述于美國專利4，565，769 (Dueber等)和3，445，232 (Shirey)中，并且可根據(jù)已知方法，例如三芳基咪唑的氧化二聚化來制備。
[0101]IR輻射敏感組合物的有用的引發(fā)劑組合物包括鎗化合物，包括銨、锍、碘鎗，和鱗化合物，特別是結(jié)合花青紅外輻射敏感染料。有用的碘鎗陽離子是本領(lǐng)域熟知的，包括但不限于，美國專利申請公開 2002/0068241 (Oohashi 等)、W02004/101280 (Munnelly 等)，以及美國專利 5, 086, 086 (Brown-ffensley 等)、5，965, 319 (Kobayashi),和 6, 051, 366 (Baumann等)。例如，有用的碘鎗陽離子包括帶正電荷的碘鎗、(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]-部分和適合的帶負(fù)電荷的抗衡離子。
[0102]因此，碘鎗陽離子可作為一種或更多種碘鎗鹽的部分來提供，并且特別在與花青紅外輻射敏感染料組合中，碘鎗陽離子可作為還含有適合的含硼的陰離子的碘鎗硼酸鹽來提供。例如，碘鎗陽離子和含硼的陰離子可作為取代或未取代的二芳基碘鎗鹽的部分提供，所述二芳基碘鎗鹽為美國專利7，524，614(Tao等)的第6_8列中描述的結(jié)構(gòu)(I)和(II)的組合。
[0103]有用的IR輻射敏感引發(fā)劑組合物可包含一種或更多種二芳基碘鎗硼酸鹽化合物?？捎糜诒景l(fā)明的代表性碘鎗硼酸鹽化合物包括但不限于，4-辛氧基苯基苯基碘鎗四苯基硼酸鹽、[4-[(2_羥基十四烷基)-氧基]苯基]苯基碘鎗四苯基硼酸鹽、雙(4-叔丁基苯基)碘鎗四苯基硼酸鹽、4-甲基苯基-4 ’ -己基苯基碘鎗四苯基硼酸鹽、4-甲基苯基-4 ’ -環(huán)己基苯基碘鎗四苯基硼酸鹽、雙(叔丁基苯基)碘鎗四(五氟苯基)硼酸鹽、4-己基苯基-苯基碘鎗四苯基硼酸鹽、4-甲基苯基-4’ -環(huán)己基-苯基碘鎗正丁基三苯基硼酸鹽、4-環(huán)己基苯基-苯基碘鎗四苯基硼酸鹽、2-甲基-4-叔丁基苯基-4’ -甲基苯基碘鎗四苯基硼酸鹽、4-甲基苯基-4’-戊基苯基碘鎗四[3，5-雙(三氟甲基)苯基]硼酸鹽、4-甲氧基苯基-4’-環(huán)己基-苯基碘鎗四(戊氟苯基)硼酸鹽、4-甲基苯基-4’-十二烷基苯基碘鎗四(4-氟苯基)硼酸鹽、雙(十二烷基苯基)_碘鎗四(五氟苯基)_硼酸鹽，和雙(4-叔丁基苯基)碘鎗四(1-咪唑基)硼酸鹽。有用的化合物包括雙(4-叔丁基苯基)-碘鎗四苯基硼酸鹽、4-甲基苯基-4’ -己基苯基碘鎗四苯基硼酸鹽、2-甲基-4-叔丁基苯基-4’ -甲基苯基碘鎗四苯基硼酸鹽，和4-甲基苯基-4’ -環(huán)己基苯基碘鎗四苯基硼酸鹽。兩種或更多種這些化合物的混合物也可被用于引發(fā)劑組合物。
[0104]在機(jī)可顯影、陰圖制版可成像層可包含輻射敏感成像組合物，所述輻射敏感成像組合物包括一種或更多種紅外輻射吸收劑或一種或更多種UV敏化劑。一種或更多種紅外輻射吸收劑或敏化劑的總量為基于可成像層總固體至少I重量％以及直至和包括30重量％,或通常至少5重量％以及直至和包括20重量％。
[0105]在一些實施方案中，在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感組合物含有UV敏化劑，其中生成游離基的化合物是UV輻射敏感的(即至少150nm以及直至和包括475nm)，從而促進(jìn)光聚合。在一些其它實施方案中，輻射敏感性組合物被敏化為至少375nm以及直至和包括475nm的范圍內(nèi)的“紫外”輻射。此類組合物的有用的敏化劑包括某些吡喃鎗和硫代吡喃鎗染料以及3-香豆素酮。對于此類光譜靈敏度，一些其它有用的敏化劑描述于例如描述了有用的雙噁唑衍生物和類似物的6，908, 726 (Korionoff等)、W02004/074929 (Baumann等)中，以及美國專利申請公開2006/0063101和2006/0234155 (兩者均為Baumann等的)中。
[0106]另外的其它有用的敏化劑是具有W02006/053689 (Strehmel等)中定義的結(jié)構(gòu)(I)單元的低聚或聚合化合物，其具有適合的芳族或雜芳族單元，雜芳族單元提供兩個雜原子之間的共軛體系。
[0107]其它有用的“紫外可見輻射敏化劑是W02004/074929 (Baumann等)中描述的化合物。這些化合物包含用間隔基部分連接的相同或不同的芳族雜環(huán)基團(tuán)，所述間隔基部分包含至少一個與芳族雜環(huán)基團(tuán)共軛的碳-碳雙鍵，并且更詳細(xì)地通過提到的公布的式(I)表不。
[0108]對于紫外區(qū)的敏化其它有用的敏化劑為2，4，5-三芳基噁唑衍生物，如W02004/074930 (Baumann等)中所述。這些化合物可被單獨使用或與上述共引發(fā)劑一起使用。有用的2，4，5-三芳基噁唑衍生物可由結(jié)構(gòu)G-(Ar1)3表示，其中Ar1是環(huán)中具有6至12個碳原子的相同或不同、取代或未取代的碳環(huán)芳基基團(tuán)，而G是呋喃或噁唑環(huán)，或由結(jié)構(gòu)G-(Ar1)2表示，其中G是噁二唑環(huán)。Ar1基團(tuán)可被一個或多個以下基團(tuán)取代:鹵素、取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基、取代或未取代的芳基、氨基(伯、仲，或叔)，或取代或未取代的烷氧基或芳氧基基團(tuán)。因此，芳基基團(tuán)可分別被R’ 1至1?’ 3基團(tuán)中的一個或更多個取代，所述基團(tuán)獨立地為氫或具有I至20個碳原子的取代或未取代的烷基(例如甲基、乙基、異丙基、正己基、芐基，和甲氧基甲基基團(tuán))、環(huán)中具有6至10個碳原子的取代或未取代的碳環(huán)芳基基團(tuán)(例如苯基、萘基、4-甲氧基苯基，和3-甲基苯基基團(tuán))、環(huán)中具有5至10個碳原子的取代或未取代的環(huán)烷基基團(tuán)、_N(R’ 4) (R’ 5)基團(tuán)，或- OR’ 6基團(tuán)，其中R’ 4至R’ 6獨立地代表如上文所定義的取代或未取代的烷基或芳基基團(tuán)。R’工至R’ 3中至少一個是_N(R’ 4) (R’ 5)基團(tuán)，其中R’ 4和1?’ 5是相同或不同的烷基基團(tuán)。各Ar1基團(tuán)的有用的取代基包括相同或不同的伯胺、仲胺，和叔胺。
[0109]又一種類型的有用的紫外輻射敏化劑包括由結(jié)構(gòu)Ar1-G-Ar2表示的化合物，其中Ar1和Ar2是相同或不同的環(huán)中具有6至12個碳原子的取代或未取代的芳基基團(tuán)，或Ar2可以是亞芳基-G-Ar1或亞芳基-G-Ar2基團(tuán)，并且G是呋喃、噁唑，或噁二唑環(huán)。Ar1與上文所定義相同，而Ar2可以是與Ar1相同或不同的芳基基團(tuán)?！皝喎蓟笨梢允茿r1定義的任何芳基基團(tuán)，但是具有被除去以使它們實際上為二價的氫原子。
[0110]一些有用的紅外輻射吸收劑對紅外輻射(通常為至少700nm以及直至和包括1400nm)和可見輻射(通常為至少450nm以及直至和包括700nm)兩者敏感。這些化合物還具有四芳基戊二烯發(fā)色團(tuán)。此類發(fā)色團(tuán)通常包括在鏈上具有5個碳原子的戊二烯連接基團(tuán)，在連接基團(tuán)的各端兩個取代或未取代的芳基基團(tuán)連接其上。這些芳基基團(tuán)可被相同或不同叔胺基團(tuán)取代。戊二烯連接基團(tuán)也可被一個或更多個基團(tuán)在氫原子的位置取代，或兩個或更多個氫原子可被原子代替以在連接基團(tuán)中形成環(huán)，只要它們是鏈上可替代的碳-碳單鍵和碳-碳雙鍵。美國專利7，429，445 (Munnelly等)中提供了此類化合物的其它詳情。
[0111]其它有用的紅外輻射吸收劑包括但不限于，偶氮染料、方酸菁染料、克酮酸(croconate)染料、三芳基胺染料、硫代偶氮鐵(thioazolium)染料、吲哚鐵染料、氧雜菁染料、噁唑鎗染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚菁染料、吲哚三碳菁染料、氧雜三碳菁染料、硫菁(thiocyanine)染料、硫代三碳菁染料、隱花青染料、萘酞菁染料、聚苯胺染料、聚批咯染料、聚噻吩染料、硫代批喃并亞芳基(chalcogenopyry1aryIidene)和二硫代吡喃并-多次甲基染料、氧吲嗪染料、吡喃鎗染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亞胺染料、次甲基染料、芳基次甲基染料、方酸染料、噁唑染料、克酮素(croconine)染料、卟啉染料和前述染料類型的任何取代或離子形式。適合的染料還描述于美國專利 5，208，135 (Patel 等)、6，153，356 (Urano 等)、6，264，920 (Achilefu 等)、6，309，792 (Hauck 等)、6，569，603 (上述)、6，787，281 (Tao 等)、7，135，271 (Kawaushi 等)，和EP1，182，033A2(上述)中。紅外輻射吸收N-烷基硫酸鹽花青染料描述于例如美國專利7，018，775 (Tao)中。W02004/101280 (Munnelly 等人)的段落[0026]中的式顯示一類合適的花青染料的一般描述。
[0112]除了低分子量IR-吸收染料以外，也可使用具有與聚合物鍵合的IR染料發(fā)色團(tuán)的IR-吸收染料。此外，也可使用IR染料陽離子，即，陽離子是染料鹽的IR吸收部分，其與側(cè)鏈上包含羧基、磺基、膦基，或膦?；木酆衔镫x子相互作用。
[0113]近紅外吸收花青染料也可用，并例如在美國專利6，309, 792(上述)、6，264，920 (Achi Iefu 等人)、6，153，356(上述)以及 5，496，903 (Watanabe 等人)中描述。合適的染料可以使用常規(guī)方法和原材料形成或獲自各種商業(yè)來源，包括AmericanDyeSource (BaieDjUrfe, Quebec, Canada)和FEW Chemicals (Germany)。在美國專利4，973, 572 (DeBoer)中描述了近紅外二極管激光束的其它有用染料。
[0114]有用的IR-輻射敏感性組合物描述于例如美國專利7，452，638 (Yu等)，和美國專利申請公開 2008/0254387 (Yu 等)、2008/0311520 (Yu 等)、2009/0263746 (Ray 等)，和2010/0021844(Yu 等)中。
[0115]可成像層也可包括具有至少200以及直至和包括4000的分子量的聚(亞烷基二醇)或其醚或酯?？沙上駥涌蛇M(jìn)一步包括基于可成像層的總干燥重量直至和包括20重量％的量的聚(乙烯醇)、聚(乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯基咪唑)，或聚酯。
[0116]可成像層的其它添加劑包括顏色顯影劑或酸性化合物。作為顏色顯影劑，我們意在包括單體酚類化合物、有機(jī)酸或其金屬鹽，羥基苯甲酸酯、酸性粘土，和例如在美國專利申請公開2005/0170282 (Inno等)中描述的其它化合物?？沙上駥右部梢猿Ｒ?guī)的量包括多種任選的化合物，包括但不限于分散劑、潤濕劑、殺生物劑、增塑劑、針對可涂布性或其它性質(zhì)的表面活性劑、增粘劑、pH調(diào)節(jié)劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑、顯影助劑、流變改性劑或其組合，或平版印刷領(lǐng)域中常用的任何其它附加物。可成像層還任選地包括具有通常大于250的分子量的磷酸鹽(甲基)丙烯酸酯，如美國專利7，429，445 (Munnelly等)中所述。
[0117]使用任何適合的設(shè)備和程序，例如旋涂、刮刀涂布、凹版印刷涂布、口模式涂布、狹縫涂布、棒涂布、繞線棒涂布、輥涂布，或擠出料斗涂布，在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感組合物可作為溶液或涂層液體中的分散體被施加于基底。也可通過噴涂到適合的載體(例如在機(jī)印刷筒)上來施加輻射敏感組合物。通常，施加并干燥輻射敏感組合物以形成可成像層。
[0118]前體可具有布置在可成像層之上的水溶性或水分散性外涂層(有時還稱為“氧不滲透性頂涂層”或“氧阻隔層”)。頂涂層可以是最外層。此類外涂層可包含一種或更多種水溶性聚(乙烯醇)，所述外涂層具有至少90%的皂化度以及通常具有至少0.1以及直至和包括2g/m2的干燥涂層重量，其中水溶性聚(乙烯醇)包含干燥外涂層重量的至少60%以及直至和包括99%。
[0119]外涂層可進(jìn)一步包含第二水溶性聚合物，所述聚合物不是以2至38重量％的量存在的聚(乙烯醇)，并且此類第二水溶性聚合物可以是聚(乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯亞胺)、聚(乙烯基咪唑)、聚(乙烯基己內(nèi)酯)，或來自乙烯基吡咯烷酮、乙烯亞胺、乙烯基己內(nèi)酯，和乙烯基咪唑，以及乙烯基乙酰胺的兩種或更多種的無規(guī)共聚物。
[0120]可選地，外涂層可主要由兩種或更多種乙烯基吡咯烷酮、乙烯亞胺和乙烯基咪唑，以及此類聚合物的混合物使用一種或更多種聚合物粘合劑例如聚(乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯亞胺)、聚(乙烯基咪唑)，和無規(guī)共聚物形成。制劑也可包括陽離子、陰離子，以及非離子潤濕劑或表面活性劑、流動性改進(jìn)劑或增稠劑、消泡劑、著色劑、微粒例如氧化鋁和二氧化娃，以及殺生物劑。關(guān)于此類附錄的詳情提供于W099/06890 (Pappas等)中，所述專利通過引用并入。然而，在大多數(shù)實施方案中，在前體中不期望或不存在水溶性或水分散性外涂層，并且在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層是最外層。
[0121]此類生產(chǎn)方法的說明為在適合的有機(jī)溶劑或其混合物[例如甲基乙基酮(2-丁酮)、甲醇、乙醇、1-甲氧基-2-丙醇、異丙醇、丙酮、Y-丁內(nèi)酯、正丙醇、四氫呋喃，其它本領(lǐng)域已知的有機(jī)溶劑，及其混合物]中混合特定成像化學(xué)需要的各種組分，將所得到的溶液施加至基底，并通過在適合的干燥條件下蒸發(fā)來除去溶劑。一些代表性涂層溶劑和可成像層制劑描述于下面的發(fā)明實施例中。適當(dāng)干燥后，可成像層的涂層重量通常為至少0.1g/Hi2以及直至和包括5g/m2或至少0.5g/m2以及直至和包括3.5g/m2。
[0122]層也可存在于可成像層下以增強(qiáng)顯影性或充當(dāng)熱絕緣層。
[0123]一旦將各種層在本文描述的基底上施加并且干燥，在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體可被包在不透水性材料內(nèi)，所述不透水性材料基本上抑制水分轉(zhuǎn)移至元件和從元件轉(zhuǎn)移以及“熱調(diào)節(jié)”，如美國專利7，175，969 (上述)中所述。
[0124]這些平版印版前體可被作為本領(lǐng)域已知的適合的包裝和容器內(nèi)的前體的堆疊貯藏和傳輸。
[0125]成像條件
[0126]在使用期間，將在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體曝光于適合的來源的曝光輻射(這取決于在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射-對敏感組合物中存在的輻射吸收劑)，以提供在至少150nm以及直至和包括475nm的波長下或在至少700nm以及直至和包括1400nm的紅外范圍內(nèi)的特定靈敏度。在一些實施方案中，使用至少350nm以及直至和包括450nm的范圍，或在至少750nm以及直至和包括1250nm的范圍內(nèi)的輻射進(jìn)行成圖像曝光。
[0127]例如，可使用來自來自生成紅外輻射的激光器(或此類激光器的陣列)的成像或曝光輻射進(jìn)行成像。如果需要，也可使用成像輻射在多個波長下在相同時間進(jìn)行成像。由于二極管激光器系統(tǒng)的可靠性和低成本維護(hù)，用于曝光在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體的激光器通常為二極管激光器，但是也可以使用其它激光器，例如氣態(tài)或固態(tài)激光器。用于激光成像的功率、強(qiáng)度和曝光時間的組合是本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的。
[0128]所述成像裝置可設(shè)置成平床式記錄器或設(shè)置成鼓式記錄器，所述在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體被安裝于轉(zhuǎn)鼓的內(nèi)或外圓筒表面上。有用的成像裝置的實例可作為獲自EastmanKodakCompany的Kodak Trendsetter印版記錄機(jī)模型獲
得，其含有發(fā)射波長830nm的近紅外輻射的激光二極管。其它合適的成像源包括在1064nm波長下運(yùn)行的Crescent42T印版記錄機(jī)和ScreenPlateRite4300系列(可獲自GerberScientific, Chicago, IL)或 8600 系列印版記錄機(jī)(可獲自 Screen, Chicago, IL)，所述印版記錄機(jī)在810nm的波長下操作。
[0129]根據(jù)可成像層的靈敏度，用紅外輻射成像通?？稍谥辽?0mJ/cm2以及直至和包括500mJ/cm2,以及通常至少50mJ/cm2以及直至和包括300mJ/cm2的成像能量下進(jìn)行。用這些印版記錄機(jī)，任何成像參數(shù)例如Magnus800印版記錄機(jī)(EastmanKodakCompany)的“表面深度”參數(shù)或PlateRite4300印版記錄機(jī)(DainipponScreenCompany)的“焦點”參數(shù),均通過觀察逐步成像工藝中曝光區(qū)和非曝光區(qū)之間對比的差值來確定。通過使用例如逐步成像平版印版前體，有可能縮短印刷運(yùn)行，并且所獲得的印刷品還可被用于測定此類成像參數(shù)。
[0130] 有用的UV和“紫外”成像裝置包括Prosetter(來自HeidelbergerDruckmaschinen, Germany), LuxelV-8(來自 FUJI, Japan), Python(Highwater, UK),MakoNews, Mako2> Mako4 或 Mako8 (來自 ECRM, US), Micra (來自 Screen, Japan), Polaris
和 Advantage (來自 AGFA, Belgium), Laserjet (來自 Krause, Germany),和 AndlOlTiedaA750M(來自 Lithotech, Germany),圖像輸出機(jī)。
[0131]光譜的UV至可見光區(qū)，以及特別地UV區(qū)(例如至少150nm以及直至和包括475nm)中的成像福射通?？墒褂弥辽?.0lmJ/cm2以及直至和包括0.5mJ/cm2,以及通常至少0.02mJ/cm2以及直至和包括0.lmj/cm2的能量進(jìn)行。例如，可能期望的是在至少0.5kff/cm2以及直至和包括50kW/cm2以及通常至少5kW/cm2以及直至和包括30kW/cm2范圍內(nèi)的功率密度對UV/可見輻射敏感可成像元件成像，這取決于能量的來源(紫外激光器或激態(tài)原子來源)。
[0132]盡管在實施本發(fā)明中期望激光成像，但可以通過以依圖像方式提供熱能的任何其它手段提供熱成像。例如，可以如例如美國專利5，488，025(Martin等人)中所述，使用溫阻頭(熱印刷頭)以所謂的“熱印刷”實現(xiàn)成像。熱印刷頭可商購得到(例如，F(xiàn)ujitsuThermalHeadFTP-040MCS001和 TDKThermalHeadF415HH7_1089)。
[0133]顯影和印刷
[0134]成像后，當(dāng)開始印刷時在機(jī)處理成像平版印版前體。用成像陰圖制版前體進(jìn)行此類工藝，其持續(xù)時間足以除去成像可成像層的非曝光區(qū)以露出本發(fā)明的基底的親水表面，但是沒有長到足以除去顯著量的已經(jīng)被硬化的曝光區(qū)。露出的親水基底表面拒墨，而曝光區(qū)受墨。因此，印刷機(jī)溶液中待除去的非曝光區(qū)“可溶解”或“可移除”，因為在所述印刷機(jī)溶液中它們比將保留的區(qū)域更容易被除去、溶解，或分散。術(shù)語“可溶解”也指“可分散”。該工藝也可除去非曝光區(qū)中基底上的上述親水層。
[0135]在機(jī)安裝成像平版印版前體，其中在制造初始印刷版次時通過合適的潤版液、平版印刷油墨或兩者的組合除去可成像層中的非曝光區(qū)。水性潤版液的典型成分包括PH緩沖劑、脫敏劑、表面活性劑和潤濕劑、濕潤劑、低沸點溶劑、殺生物劑、防沫劑和螯合劑。潤版液的代表性實例是 Varn Litho Etchl42ff+Varn PAR (alcohol sub)(可獲自 VarnInternational, Addison, IL)。
[0136]非成像區(qū)，S卩，通過成像和顯影步驟露出親水基底的表面吸收潤版液，而通過成像層的成像(曝光)區(qū)吸收油墨。然后，油墨被轉(zhuǎn)移至適合的接收材料(例如布料、紙張、金屬、玻璃或塑料)以在其上提供圖像的所需版次。如果需要，可將中間“橡皮布”輥用于將油墨由成像前體轉(zhuǎn)移至接收材料。如果需要，可在版次之間使用常規(guī)清潔裝置清潔成像前體。
[0137]本發(fā)明提供至少以下實施方案及其組合，但是如技術(shù)人員根據(jù)本公開的教導(dǎo)應(yīng)理解，特征的其它組合被認(rèn)為在本發(fā)明內(nèi):
[0138]1.一種在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體，其包含基底和布置在所述基底上的至少一種在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層，所述陰圖制版輻射敏感可成像層包含自由基聚合型化合物、輻射吸收劑、在照射時生成自由基的化合物，以及促進(jìn)在機(jī)顯影性的聚合物粘合劑，
[0139]所述基底包含粒狀且硫酸陽極化的含鋁載體，已經(jīng)用堿性或酸性擴(kuò)孔溶液處理了所述載體以為其外表面提供柱狀孔，使得所述柱狀孔在它們的最外表面的直徑是所述柱狀孔的平均直徑的至少90%，
[0140]所述基底進(jìn)一步包含直接布置在所述粒狀、硫酸陽極化，并且經(jīng)處理的含鋁載體上的親水層，所述親水層包含具有羧酸側(cè)鏈的非交聯(lián)的親水聚合物。[0141]2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述非交聯(lián)的親水聚合物以至少0.001g/m2以及直至和包括0.4g/m2的干燥覆蓋度存在。
[0142]3.根據(jù)實施方式I或2所述的前體，其具有在機(jī)可顯影、陰圖制版，紅外輻射敏感可成像層，所述在機(jī)可顯影、陰圖制版，紅外輻射敏感可成像層包含自由基聚合型化合物、紅外輻射吸收劑，以及在用紅外輻射來照射時生成自由基的化合物。
[0143]4.根據(jù)實施方式I或2所述的前體，其具有在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層，所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含自由基聚合型化合物、具有至少250nm以及直至和包括450nm的λ max的福射吸收劑，以及在用具有至少250nm以及直至和包括450nm的λ max福射來照射時生成自由基的化合物。
[0144]5.根據(jù)實施方式I至4中任一個所述的前體，其中所述非交聯(lián)的親水聚合物具有被中和至至少lmol%以及直至和包括60mol%的程度的羧酸側(cè)鏈。
[0145]6.根據(jù)實施方式I至5中任一個所述的前體，其中所述非交聯(lián)的親水聚合物以至少0.01g/m2以及直至和包括0.3g/m2的干燥覆蓋度存在。
[0146]7.根據(jù)實施方式I至6中任一個所述的前體，其中所述粒狀且硫酸陽極化的含鋁載體具有柱狀孔，所述柱狀孔具有至少20nm以及直至和包括40nm的平均直徑。
[0147]8.根據(jù)實施方式I至7中任一個所述的前體，其中所述粒狀且硫酸陽極化的含鋁載體已被電化學(xué)?；?。
[0148]9.根據(jù)實施方式I至8中任一個所述的前體，其中所述親水層進(jìn)一步包含無機(jī)磷酸或無機(jī)磷酸前體。
[0149]10.根據(jù)實施方式I至9中任一個所述的前體，其中所述親水層是非輻射敏感親水層。
[0150]11.根據(jù)實施方式I至10中任一個所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含至少部分作為離散微粒存在的聚合物粘合劑。
[0151]12.根據(jù)實施方式I至3和5至11中任一個所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層是紅外輻射敏感的并且包含聚合物粘合劑，所述聚合物粘合劑具有聚(環(huán)氧烷)側(cè)鏈，以及任選的氰基或苯基側(cè)基。
[0152]13.根據(jù)實施方式I至3和5至11中任一個所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含鎗鹽和花青紅外輻射敏感染料。
[0153]14.根據(jù)實施方式I至3和5至11中任一個所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含二芳基碘鎗硼酸鹽和花青紅外輻射敏感染料。
[0154]15.根據(jù)實施方式I至14中任一個所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層為所述前體的所述最外層。
[0155]16.根據(jù)實施方式I至15中任一個所述的前體，其中所述親水層是可釋放層。
[0156]17.一種制備平版印版的方法，其包括:
[0157]成圖像曝光實施方式I至16中任一個所述平版印版前體以提供曝光的前體，所述曝光的前體具有在所述陰圖制版輻射敏感可成像層中的曝光區(qū)和非曝光區(qū)，以及
[0158]使用平版印刷油墨、潤版液，或平版印刷油墨和潤版液兩者在機(jī)處理所述曝光的前體以除去非曝光區(qū)，以提供平版印版。
[0159]18.根據(jù)實施方式17所述的方法，其中使用紅外輻射進(jìn)行成圖像曝光。[0160]19.根據(jù)實施方式17或18所述的方法，其包括用所述工藝除去所述基底上可成像層和親水層的非曝光區(qū)。
[0161]以下實施例被提供以闡明本發(fā)明的實踐而且并非旨在以任何方式限制。在實施例的制備和評價中使用以下材料:
_2] 無親水層的G2載體:
[0163]制備無親水層的電化學(xué)?；?、硫酸陽極化的鋁載體(Ra=0.4ym，OD=0.3，以及2.7g/m2的氧化物重量)。Ra是載體表面的平均粗糙度，而OD是載體的光密度。使用已知測量技術(shù)和裝置來測量兩種參數(shù)。
[0164]Pffl 載體:
[0165]在40°C下，用0.3重量％氫氧化鈉溶液處理所示的G2載體17秒用于擴(kuò)孔。將所得到的基底用去離子水洗滌，并在100°C下干燥60秒。
[0166]Pff2 載體:
[0167]在40°C下，用0.25重量％的氫氧化鈉和1.06重量％的碳酸鈉的堿性溶液處理所示的G2載體17秒。將所得到的基底用去離子水洗滌，并在100°C下干燥60秒。
[0168]Pff3 載體:
[0169]在45°C下，用I重量％的鹽酸的酸溶液處理所示的G2載體17秒。將所得到的基底用去離子水洗滌，并在100°C下干燥60秒。
[0170]Pff4 載體:
[0171]在45°C下，用1.0重量％的鹽酸的酸溶液進(jìn)一步處理所示的G2載體17秒。將所得到的基底用去離子水洗滌，并在100°C下干燥60秒。
[0172]以下表1總結(jié)了各種載體:
[0173]表1
[0174]
【權(quán)利要求】
1.一種在機(jī)可顯影、陰圖制版平版印版前體，其包含基底和布置在所述基底上的至少一種在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層，所述陰圖制版輻射敏感可成像層包含自由基聚合型化合物、輻射吸收劑、在照射時生成自由基的化合物，以及促進(jìn)在機(jī)顯影性的聚合物粘合劑， 所述基底包含粒狀且硫酸陽極化的含鋁載體，已經(jīng)用堿性或酸性擴(kuò)孔溶液處理了所述載體以為其外表面提供柱狀孔，使得所述柱狀孔在它們的最外表面的直徑是所述柱狀孔的平均直徑的至少90%， 所述基底進(jìn)一步包含直接布置在所述粒狀、硫酸陽極化，并且經(jīng)處理的含鋁載體上的親水層，所述親水層包含具有羧酸側(cè)鏈的非交聯(lián)的親水聚合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述非交聯(lián)的親水聚合物以至少0.001 g/m2以及直至和包括0.4 g/m2的干燥覆蓋度存在。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其具有在機(jī)可顯影、陰圖制版，紅外輻射敏感可成像層，所述在機(jī)可顯影、陰圖制版，紅外輻射敏感可成像層包含自由基聚合型化合物、紅外輻射吸收劑，以及在用紅外輻射來照射時生成自由基的化合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其具有在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層，所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含自由基聚合型化合物、具有至少250 nm以及直至和包括450 nm的λ max的輻射吸收劑，以及在用具有至少250 nm以及直至和包括450nm的λ max福射來照射時生成自由基的化合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述非交聯(lián)的親水聚合物具有被中和至至少Imo I %以及直至和包括60 mo I %的程度的羧酸側(cè)鏈。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述非交聯(lián)的親水聚合物以至少0.01 g/m2以及直至和包括0.3 g/m2的干燥覆蓋度存在。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述粒狀且硫酸陽極化的含鋁載體具有柱狀孔，所述柱狀孔具有至少20 nm以及直至和包括40 nm的平均直徑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述粒狀且硫酸陽極化的含鋁載體已被電化學(xué)粒化。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述親水層進(jìn)一步包含無機(jī)磷酸或無機(jī)磷酸前體。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述親水層是非輻射敏感親水層。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含至少部分作為離散微粒存在的聚合物粘合劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層是紅外輻射敏感的并且包含聚合物粘合劑，所述聚合物粘合劑具有聚(環(huán)氧烷)側(cè)鏈，以及任選的氰基或苯基側(cè)基。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含鎗鹽和花青紅外輻射敏感染料。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含二芳基碘鎗硼酸鹽和花青紅外輻射敏感染料。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層為所述前體的所述最外層。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前體，其中所述親水層是可釋放層。
17.一種制備平版印版的方法，其包括: 成圖像曝光權(quán)利要求1的所述平版印版前體以提供曝光的前體，所述曝光的前體具有在所述陰圖制版輻射敏感可成像層中的曝光區(qū)和非曝光區(qū)，以及 使用平版印刷油墨、潤版液，或平版印刷油墨和潤版液兩者在機(jī)處理所述曝光的前體以除去非曝光區(qū)，以提供平版印版。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中使用紅外輻射進(jìn)行成圖像曝光。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中: 所述非交聯(lián)的親水聚合物以至少0.0Ol g/m2以及直至和包括0.4 g/m2的干燥覆蓋度存在于所述前體中， 所述前體是紅外輻射敏感的并且包含紅外輻射吸收劑， 所述前體中的所述親水聚合物具有被中和至至少I mol %以及直至和包括60 mo I %的程度的羧酸側(cè)鏈， 所述前體的所述粒狀且硫酸陽極化的含鋁載體具有柱狀孔，所述柱狀孔具有至少20nm以及直至和包括40 nm的平均直徑， 所述前體的所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含聚合物粘合劑，所述聚合物粘合劑具有聚(環(huán)氧烷)側(cè)鏈，以及任選的氰基或苯基側(cè)基， 所述前體的所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層包含二芳基碘鎗硼酸鹽和花青紅外輻射敏感染料，并且 所述在機(jī)可顯影、陰圖制版輻射敏感可成像層為所述前體的所述最外層。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其包括用所述工藝除去所述基底上可成像層和親水層的非曝光區(qū)。
【文檔編號】G03F7/30GK103917919SQ201280042411
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2012年8月21日 優(yōu)先權(quán)日:2011年8月31日
【發(fā)明者】K.哈亞施 申請人:伊斯曼柯達(dá)公司