液晶顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供在進(jìn)行用于形成水平取向膜的光取向處理時(shí)，在相互相鄰的曝光區(qū)域重疊的接縫部分使顯示不均勻難以產(chǎn)生的液晶顯示裝置的制造方法。本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法，具有對(duì)在一對(duì)基板中的至少一個(gè)基板上涂敷的光取向膜材料進(jìn)行照射偏振光的光取向處理，形成水平取向膜的工序，該光取向處理通過(guò)在一個(gè)基板面上對(duì)多個(gè)區(qū)域進(jìn)行曝光來(lái)進(jìn)行，該進(jìn)行曝光的多個(gè)區(qū)域中相鄰的兩個(gè)區(qū)域具有重疊部分，對(duì)該重疊部分的該偏振光的照射量，均處于從該相鄰的兩個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域向該相鄰的兩個(gè)區(qū)域中的另一個(gè)區(qū)域側(cè)逐漸減少的關(guān)系，該相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分具有20mm以上的寬度。
【專利說(shuō)明】液晶顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示裝置的制造方法。更詳細(xì)而言，涉及在通過(guò)光取向處理形成的水平取向膜上形成用于改善特性的聚合物層的液晶顯示裝置的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置(LCD:Liquid Crystal Display)為通過(guò)控制具有雙折射性的液晶分子的取向來(lái)控制光的透射/遮斷(顯示的開/關(guān))的顯示裝置。作為L(zhǎng)CD的顯示方式，可列舉使具有負(fù)的介電常數(shù)各向異性的液晶分子相對(duì)于基板面垂直取向的垂直取向(VA:Vertical Alignment)模式、使具有正或負(fù)的介電常數(shù)各向異性的液晶分子相對(duì)于基板面水平取向并對(duì)液晶層施加橫向電場(chǎng)的面內(nèi)開關(guān)(IPS:1n-Plane Switching)模式和條紋狀電場(chǎng)開關(guān)(FFS:Fringe Field Switching)模式等。
[0003]其中，使用具有負(fù)的介電常數(shù)各向異性的液晶分子、并設(shè)置有堤岸(肋)或電極的除去部(狹縫)作為取向限制用構(gòu)造物的MVA (Mult1-domain Vertical Alignment:多疇垂直取向)模式，即使不對(duì)取向膜實(shí)施摩擦處理，也能夠?qū)⑹┘与妷簳r(shí)的液晶取向方位控制為多個(gè)方位，視角特性優(yōu)異。但是，在以往的MVA-LCD中，有突起上方或狹縫上方成為液晶分子的取向分割的邊界，白顯示時(shí)的透射率降低，在顯示中看到暗線的情況，因此，有改善的余地。
[0004]對(duì)此，作為得到高亮度并且能夠高速響應(yīng)的LCD的方法，提出了采用使用聚合物的取向穩(wěn)定化技術(shù)(以下也稱為PS(Polymer Sustained:聚合物穩(wěn)定)技術(shù))(例如參照專利文獻(xiàn)I?8)。其中，在使用聚合物的預(yù)傾角賦予技術(shù)(以下也稱為PSA(Polymer SustainedAlignment:聚合物穩(wěn)定取向)技術(shù))中，將混合有具有聚合性的單體、低聚物等聚合性成分的液晶組合物封入基板間，在對(duì)基板間施加電壓使液晶分子傾斜的狀態(tài)下使單體聚合，形成聚合物。由此，能夠得到即使在解除了電壓施加之后，也以規(guī)定的預(yù)傾角傾斜的液晶分子，能夠?qū)⒁壕Х肿拥娜∠蚍轿灰?guī)定為一定方向。作為單體，可以選擇利用熱、光(紫外線)等進(jìn)行聚合的材料。另外，也有在液晶組合物中混入用于引發(fā)單體的聚合反應(yīng)的聚合引發(fā)劑的情況(例如參照專利文獻(xiàn)4)。
[0005]作為使用聚合性單體的其他液晶顯示元件，可以列舉例如TOLC (PolymerDispersed Liquid Crystal:聚合物分散液晶)和PNLC(Polymer Network Liquid Crystal:聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶)(例如參照專利文獻(xiàn)9)。這些液晶顯示元件具備在液晶中加入聚合性單體、通過(guò)照射紫外線等而形成的聚合物，利用液晶與聚合物的折射率匹配不匹配來(lái)進(jìn)行光散射的開關(guān)。另外，作為其他液晶顯示元件，還可以列舉高分子穩(wěn)定化強(qiáng)介電性(FLC(Ferroelectrics Liquid Crystal:強(qiáng)介電性液晶))液晶相(例如參照專利文獻(xiàn)10)、高分子穩(wěn)定化OCB (Optically Compensated Bend:光學(xué)補(bǔ)償彎曲)(例如參照非專利文獻(xiàn)I)等。
[0006]另一方面，作為得到優(yōu)異的視角特性的技術(shù)，近年來(lái)，研究了即使不對(duì)取向膜實(shí)施摩擦處理也能夠?qū)⑹┘与妷簳r(shí)的液晶取向方位控制為多個(gè)方位、能夠得到優(yōu)異的視角特性的光取向技術(shù)。光取向技術(shù)是使用對(duì)光具有活性的材料作為取向膜的材料，通過(guò)對(duì)形成的膜照射紫外線等光線而使取向膜產(chǎn)生取向限制力的技術(shù)(例如參照專利文獻(xiàn)11)。
[0007]另外，研究了在使用光取向技術(shù)的情況下，通過(guò)在一個(gè)像素區(qū)域內(nèi)形成液晶分子的取向方向不同的2個(gè)以上的區(qū)域(疇)來(lái)實(shí)現(xiàn)視角特性優(yōu)異的顯示的VATN模式的液晶顯示裝置(例如參照專利文獻(xiàn)12)。在專利文獻(xiàn)12中，著眼于特別是在液晶顯示裝置為大型的情況下，無(wú)法通過(guò)一次工序進(jìn)行全部曝光這一點(diǎn)，公開了將對(duì)一個(gè)基板的曝光區(qū)域分成多個(gè)區(qū)域、并且在作為這些區(qū)域間的接縫的部分調(diào)節(jié)曝光量的方法。
[0008]另外，最近，研究發(fā)表了對(duì)將光取向技術(shù)與上述使用聚合物的高分子穩(wěn)定化技術(shù)組合時(shí)的遲滯的產(chǎn)生進(jìn)行抑制的方法(例如參照非專利文獻(xiàn)2和3)。在非專利文獻(xiàn)2和3中，研究了在對(duì)一個(gè)基板進(jìn)行了摩擦處理、并對(duì)另一個(gè)基板進(jìn)行了光取向處理的IPS模式單元中，調(diào)整與液晶混合的單體的濃度。
[0009]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0010]專利文獻(xiàn)
[0011]專利文獻(xiàn)1:日本特許第4175826號(hào)說(shuō)明書
[0012]專利文獻(xiàn)2:日本特許第4237977號(hào)說(shuō)明書
[0013]專利文獻(xiàn)3:日本特開2005-181582號(hào)公報(bào)
[0014]專利文獻(xiàn)4:日本特開2004-286984號(hào)公報(bào)
[0015]專利文獻(xiàn)5:日本特開2009-102639號(hào)公報(bào)
[0016]專利文獻(xiàn)6:日本特開2009-132718號(hào)公報(bào)
[0017]專利文獻(xiàn)7:日本特開2010-33093號(hào)公報(bào)
[0018]專利文獻(xiàn)8:美國(guó)專利第6177972號(hào)說(shuō)明書
[0019]專利文獻(xiàn)9:日本特開2004-70185號(hào)公報(bào)
[0020]專利文獻(xiàn)10:日本特開2007-92000號(hào)公報(bào)
[0021]專利文獻(xiàn)11:國(guó)際公開第2006/043485號(hào)
[0022]專利文獻(xiàn)12:國(guó)際公開第2007/086474號(hào)
[0023]非專利文獻(xiàn)
[0024]非專利文獻(xiàn)I:H.Kikuchi, et al., Nature Materials, I, 64-68，2002
[0025]非專利文獻(xiàn)2:長(zhǎng)竹他、液晶討論會(huì)2010予稿集、「高分子安定化技術(shù)&用P &光配向LCD Θ t ^ f V V ^特性改善Q研究」、2010.9 (長(zhǎng)竹等，液晶討論會(huì)2010預(yù)稿集，“使用高分子穩(wěn)定化技術(shù)的光取向LCD的遲滯特性改善的研究”，2010.9)
[0026]非專利文獻(xiàn)3:Y.Nagatake, et al, ITE and SID, “Hysteresis Red uction inEO Characteristics of Photo-Aligned IPS-LCDs with Polym er-Surface-StabilizedMethod”，IDW’ 10，89-92，LCT p2_5，2010.12

【發(fā)明內(nèi)容】

[0027]發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0028]如專利文獻(xiàn)12中也表明的那樣，在對(duì)大型基板實(shí)現(xiàn)光取向處理的情況下，從光源尺寸和裝置尺寸的觀點(diǎn)出發(fā)，需要將一個(gè)基板分割成多個(gè)曝光區(qū)域進(jìn)行處理。但是，本發(fā)明人進(jìn)行了研究發(fā)現(xiàn)，在為了形成水平取向膜而進(jìn)行分割曝光的情況下，僅應(yīng)用以往的在形成垂直取向膜時(shí)對(duì)作為多個(gè)曝光區(qū)域的接縫的部分的曝光量進(jìn)行調(diào)節(jié)的方法，有無(wú)法充分消除接縫部分的不均勻的情況。
[0029]本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)狀而做出的，其目的是提供在進(jìn)行用于形成水平取向膜的光取向處理時(shí)，在相互相鄰的曝光區(qū)域重疊的接縫部分使顯示不均勻難以產(chǎn)生的液晶顯示裝置的制造方法。
[0030]用于解決技術(shù)問(wèn)題的手段
[0031]本發(fā)明人對(duì)在將曝光區(qū)域分成多個(gè)區(qū)域進(jìn)行光取向處理來(lái)形成水平取向膜的情況下，用于將該多個(gè)曝光區(qū)域間的接縫消除的條件進(jìn)行了各種研究，著眼于需要考慮曝光裝置的偏光板設(shè)置精度的極限和偏光板在液晶顯示面板上的貼合精度的極限而計(jì)算出最佳值這一點(diǎn)。
[0032]本發(fā)明人進(jìn)行了潛心研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在將曝光區(qū)域分為多個(gè)區(qū)域并且在各區(qū)域設(shè)置有接縫時(shí)，通過(guò)使該接縫寬度為20mm以上，能夠使接縫部分的顯示不均勻難以被看到。以下對(duì)該研究結(jié)果進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0033]圖1是表示對(duì)涂敷有水平取向膜材料的基板面進(jìn)行光取向處理的工序的立體示意圖。在設(shè)置接縫區(qū)域并進(jìn)行光取向處理的情況下，例如，如圖1所示，優(yōu)選從光源11通過(guò)偏光板12和照度調(diào)整板13向基板14的表面射出光。從光源11射出的光在通過(guò)偏光板12時(shí)成為偏振光，進(jìn)一步由照度調(diào)整板13調(diào)整照射到基板14面上的光的照射強(qiáng)度。照度調(diào)整板是能夠根據(jù)區(qū)域的不同使透射的光的強(qiáng)度變化的部件，在兩端部實(shí)施了使透射的光的強(qiáng)度降低的措施(以下也稱為灰色調(diào)區(qū)域)?；疑{(diào)區(qū)域例如通過(guò)實(shí)施使狹縫的數(shù)量減少、使狹縫的面積減小、使遮光部件的膜厚變薄等措施而構(gòu)成為:隨著向照度調(diào)整板13的末端去，透射的光的強(qiáng)度變小?；疑{(diào)區(qū)域配置成與作為相鄰的曝光區(qū)域的接縫的部分重疊。具體而言，圖1中由a線和b線包圍的區(qū)域是作為接縫的區(qū)域，并且是與灰色調(diào)區(qū)域重疊的區(qū)域。
[0034]圖2和圖3是表不曝光區(qū)域中的光的照射強(qiáng)度的不意圖和曲線圖。圖2表不第一次曝光，圖3表不第二次曝光。圖2和圖3所不的范圍表不相同區(qū)域，圖2中的雙向箭頭表示的范圍是第一次曝光區(qū)域，圖3中的雙向箭頭表示的范圍是第二次曝光區(qū)域。在此，假定光源和基板中的一方或雙方向一個(gè)方向移動(dòng)的掃描曝光。圖中用粗箭頭表不的方向?yàn)閽呙璺较颉?br> [0035]如圖2的曲線圖所示，在第一次曝光中，接縫區(qū)域的照射強(qiáng)度隨著從a點(diǎn)接近b點(diǎn)而逐漸減小，如圖3的曲線圖所示，在第二次曝光中，照射強(qiáng)度被調(diào)整為隨著從a點(diǎn)接近b點(diǎn)而逐漸增加。從照度調(diào)整板的沒(méi)有形成灰色調(diào)區(qū)域的區(qū)域透射的光的強(qiáng)度是均勻的。a點(diǎn)與b點(diǎn)之間的照射強(qiáng)度的變化量遵循正弦函數(shù)。通過(guò)這樣，不會(huì)產(chǎn)生照射強(qiáng)度的變化明顯的點(diǎn)，難以表現(xiàn)出顯示不均勻。
[0036]首先，假定圖4所示的測(cè)試畫面進(jìn)行研究。第一次曝光的區(qū)域?yàn)門l，第二次曝光的區(qū)域?yàn)門2。Tl與T2部分重疊，Tl與T2重疊的區(qū)域(圖4中由兩條虛線包圍的區(qū)域)為接縫區(qū)域。`
[0037]進(jìn)行設(shè)定使得Tl和T2中亮度相互不同。另外，設(shè)接縫區(qū)域的寬度為L(zhǎng)mm。設(shè)位置P的亮度T的值由下述公式表示，設(shè)Tl與T2相互重疊的區(qū)域(接縫區(qū)域)的亮度平滑地變化。
[0038]T (P) = (T2-T1) / (T2 + Tl) X2Xsin ((P / L) X90° )[0039]P表示O?L的范圍的任意值。
[0040]采用正弦函數(shù)的理由是因?yàn)?，兩端的微分系?shù)為O并且T (P)單調(diào)遞增，因此能夠使亮度平滑地變化。將基于這樣的測(cè)試畫面的圖像模擬地顯示在32英寸液晶電視機(jī)上進(jìn)行試驗(yàn)。
[0041 ] 具體而言，讓36名試驗(yàn)對(duì)象觀察通過(guò)使Tl和T2的值分別變化而使L的值變化的各顯示畫面，驗(yàn)證能夠識(shí)別出Tl與T2的邊界的人數(shù)為何種程度，以60%為閾值來(lái)判斷良好(不能識(shí)別出)還是不良(能夠識(shí)別出)。
[0042]圖5是表示進(jìn)行上述驗(yàn)證的結(jié)果的曲線圖。根據(jù)上述驗(yàn)證的結(jié)果知道，當(dāng)接縫寬度為20mm時(shí)需要將變化率抑制為3.8%以下，當(dāng)接縫寬度為45mm時(shí)需要將變化率抑制為
8.7%以下，當(dāng)接縫寬度為77mm時(shí)需要將變化率抑制為16.2%以下。將這些結(jié)果畫在圖中，并將各點(diǎn)彼此連接，結(jié)果得到圖5中的曲線。即，根據(jù)圖5中的曲線能夠得到識(shí)別極限的接縫寬度與變化率的關(guān)系，上述曲線的上側(cè)的范圍表示不良，下側(cè)的范圍表示良好。
[0043]圖6是表示取向方向與偏光板的軸方向之間的角度偏差與對(duì)比度的關(guān)系的曲線圖。圖7是表示根據(jù)圖6計(jì)算出的基于取向方向與偏光板軸方向之間的角度偏差的對(duì)比度的變化率(％)的曲線圖。本發(fā)明人進(jìn)行了研究發(fā)現(xiàn)，曝光裝置的偏光板的軸方向設(shè)置精度的極限為±0.1°。另外，偏光板在液晶顯示器上的貼合精度的極限為±0.1°。因此，需要假定取向方向與偏光板的軸方向之間的角度偏差為±0.2°的情況。根據(jù)圖7,取向方向與偏光板的軸方向之間的角度偏差為0.2°時(shí)的對(duì)比度的變化率為3.8%。因此可知，為了使顯示不均勻充分減少所需要的照射區(qū)域的接縫部分的重疊寬度為20mm以上。這樣，本發(fā)明人想到能夠很好地解決上述技術(shù)問(wèn)題，從而實(shí)現(xiàn)了本發(fā)明。
[0044]S卩，本發(fā)明的一個(gè)方面提供一種液晶顯示裝置的制造方法，其具有對(duì)在一對(duì)基板中的至少一個(gè)基板上涂敷的光取向膜材料進(jìn)行照射偏振光的光取向處理，形成水平取向膜的工序，該光取向處理通過(guò)在一個(gè)基板面上對(duì)多個(gè)區(qū)域進(jìn)行曝光來(lái)進(jìn)行，該進(jìn)行曝光的多個(gè)區(qū)域中相鄰的兩個(gè)區(qū)域具有重疊部分，對(duì)該重疊部分的該偏振光的照射量，均處于從該相鄰的兩個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域向該相鄰的兩個(gè)區(qū)域中的另一個(gè)區(qū)域側(cè)逐漸減少的關(guān)系，該相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分具有20mm以上的寬度。
[0045]作為上述液晶顯示裝置的制造方法的構(gòu)成要素，只要包含這樣的構(gòu)成要素作為必須構(gòu)成要素，就不由其他構(gòu)成要素特別限定。以下，對(duì)上述液晶顯示裝置的制造方法及其優(yōu)選方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。此外，將2個(gè)以上的在以下記載的上述液晶顯示裝置的制造方法的各個(gè)優(yōu)選方法組合而得到的方法也是上述液晶顯示裝置的制造方法的優(yōu)選方法。
[0046]上述液晶顯示裝置的制造方法，具有對(duì)在一對(duì)基板中的至少一個(gè)基板上涂敷的光取向膜材料進(jìn)行照射偏振光的光取向處理，形成水平取向膜的工序。優(yōu)選在一對(duì)基板中的兩個(gè)基板上涂敷水平取向膜材料。光取向膜是具有通過(guò)偏振光或非偏振光的照射使膜產(chǎn)生各向異性、并對(duì)液晶產(chǎn)生取向限制力的性質(zhì)的高分子膜。在本發(fā)明中，作為光取向處理中使用的光，使用偏振光。光取向膜材料使用通過(guò)光的照射而活化的材料。
[0047]上述光取向膜材料優(yōu)選包含選自三聯(lián)苯衍生物、萘衍生物、菲衍生物、并四苯衍生物、螺吡喃衍生物、螺萘嵌間二氮雜苯衍生物、紫羅堿衍生物、二芳基乙烯衍生物、蒽醌衍生物、偶氮苯衍生物、肉桂酰衍生物、查耳酮衍生物、肉桂酸酯衍生物、香豆素衍生物、芪衍生物和蒽衍生物中的至少一種化學(xué)結(jié)構(gòu)。此外,這些衍生物中含有的苯環(huán)也可以為雜環(huán)。在此“衍生物”是指:用特定的原子或官能團(tuán)取代而得到的產(chǎn)物；和I價(jià)或2價(jià)以上的官能團(tuán)被導(dǎo)入到分子結(jié)構(gòu)中而得到的產(chǎn)物。這些衍生物可以存在于聚合物主鏈的分子結(jié)構(gòu)中，也可以存在于聚合物側(cè)鏈的分子結(jié)構(gòu)中，可以為單體或低聚物。在光取向膜材料中包含這些具有光活性官能團(tuán)的單體或低聚物(優(yōu)選3重量％以上)的情況下，構(gòu)成光取向膜的聚合物自身可以為非光活性的。構(gòu)成光取向膜的聚合物，從耐熱性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選聚硅氧烷、聚酰胺酸或聚酰亞胺。
[0048]上述光取向膜材料，只要具有上述的性質(zhì)，可以是單一的高分子，也可以是還包含其他分子的混合物。例如，可以為在含有能夠進(jìn)行光取向的官能團(tuán)的高分子中包含添加劑等其他低分子或非光活性的其他高分子的方式。例如，可以為在非光活性的高分子中混合有包含能夠進(jìn)行光取向的官能團(tuán)的添加劑的方式。光取向膜材料可以選擇發(fā)生光分解反應(yīng)、光異構(gòu)化反應(yīng)或光二聚化反應(yīng)的材料。與光分解反應(yīng)相比，光異構(gòu)化反應(yīng)和光二聚化反應(yīng)通常能夠在長(zhǎng)波長(zhǎng)并且以少的照射量實(shí)現(xiàn)取向，因此，量產(chǎn)性優(yōu)異。
[0049]S卩，形成上述光取向膜的材料優(yōu)選具有光異構(gòu)化型、光二聚化型或這兩種類型的官能團(tuán)。發(fā)生光異構(gòu)化反應(yīng)或光二聚化反應(yīng)的代表性的材料為偶氮苯衍生物、肉桂酰衍生物、查耳酮衍生物、肉桂酸酯衍生物、香豆素衍生物、二芳基乙烯衍生物、芪衍生物和蒽衍生物。發(fā)生光分解反應(yīng)的代表性的材料為具有環(huán)丁烷骨架的材料。這些光反應(yīng)性官能團(tuán)中包含的苯環(huán)也可以為雜環(huán)。
[0050]另外，上述光異構(gòu)化型或光二聚化型的材料更優(yōu)選為肉桂酸酯基或其衍生物。肉桂酸酯基在進(jìn)行光取向處理時(shí)反應(yīng)性特別優(yōu)異。
[0051]通過(guò)對(duì)上述光取向膜材料進(jìn)行光照射的工序形成的取向膜是水平取向膜。水平取向膜是指使接近的液晶分子相對(duì)于該水平取向膜面實(shí)質(zhì)上水平地取向的膜。水平取向膜的取向限制力主要由光取向膜材料(光官能團(tuán))的種類決定，能夠通過(guò)光的種類、光的照射時(shí)間、光的照射強(qiáng)度、光官能團(tuán)的種類等來(lái)調(diào)節(jié)液晶分子的取向方位、預(yù)傾角的大小等。作為通過(guò)上述液晶顯示裝置的制造方法制作的液晶顯示裝置的例子，可以列舉IPS型、FFS型、OCB 型、TN (Twisted Nematic:扭轉(zhuǎn)向列)型、STN (Super Twisted Nematic:超扭轉(zhuǎn)向列)型、FLC 型、AFLC (Ant1-Ferroelectric:反強(qiáng)介電性液晶)型、PDLC 型和 PNLC (PolymerNetwork Liquid Crystal:聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶)型。優(yōu)選為IPS型或FFS型，因?yàn)槟軌蛲ㄟ^(guò)從基板正面照射I次偏振光而實(shí)現(xiàn)期望的取向，所以工藝簡(jiǎn)單，量產(chǎn)性優(yōu)異。
[0052]上述取向類型也適合于為了改善視野角特性而在上述一對(duì)基板中的至少一個(gè)基板上形成有多疇結(jié)構(gòu)的方式。多疇結(jié)構(gòu)是指在不施加電壓時(shí)和/或施加電壓時(shí)，存在液晶分子的取向方式(例如OCB中的彎曲方向、TN和STN中的扭轉(zhuǎn)方向)或取向方向的不同的多個(gè)區(qū)域的結(jié)構(gòu)。為了實(shí)現(xiàn)多疇結(jié)構(gòu)，需要積極地進(jìn)行將電極圖案化為適當(dāng)形態(tài)的處理或在對(duì)光活性材料的光照射時(shí)使用光掩模等的處理或這兩者的處理。
[0053]上述光取向處理通過(guò)在一個(gè)基板面上對(duì)多個(gè)區(qū)域進(jìn)行曝光來(lái)進(jìn)行，該進(jìn)行曝光的多個(gè)區(qū)域中相鄰的兩個(gè)區(qū)域具有重疊部分，對(duì)該重疊部分的該偏振光的照射量，均處于從該相鄰的兩個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域向該相鄰的兩個(gè)區(qū)域中的另一個(gè)區(qū)域側(cè)逐漸減少的關(guān)系。在上述驗(yàn)證試驗(yàn)中采用了正弦函數(shù)，但是趨勢(shì)是相同的，在本發(fā)明中，只要上述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分的各偏振光的照射量的趨勢(shì)滿足上述條件，例如，也可以為上述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分的照射量的變化率滿足一次函數(shù)的情況。但是，從得到更平滑的變化這一點(diǎn)出發(fā)，上述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分的照射量的變化率優(yōu)選滿足正弦函數(shù)。通過(guò)這樣，不會(huì)產(chǎn)生照射強(qiáng)度的變化明顯的點(diǎn)，難以表現(xiàn)出顯示不均勻。
[0054]上述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分具有20mm以上的寬度。如上所述，通過(guò)設(shè)為這樣的條件，即使對(duì)水平取向膜進(jìn)行在一部分設(shè)置重疊部位并進(jìn)行多次曝光的接續(xù)曝光，也難以看到接縫區(qū)域的顯示不均勻。從防止顯示不均勻的觀點(diǎn)出發(fā)，上述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分的寬度越大，能夠得到越良好的結(jié)果。
[0055]上述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分優(yōu)選具有65mm以下的寬度。如上所述(由圖5可知)，當(dāng)僅考慮使接縫區(qū)域的顯示不均勻減少時(shí)，通過(guò)使上述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分盡可能擴(kuò)大，接縫處的顯示不均勻會(huì)難以表現(xiàn)出來(lái)。但是，使相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊寬度不必要地?cái)U(kuò)大，由于以下原因不優(yōu)選:(1)曝光裝置結(jié)構(gòu)上的浪費(fèi)增大，裝置成本增加；(2)在使用一個(gè)光源進(jìn)行曝光的情況下，曝光次數(shù)增加，因此，會(huì)產(chǎn)生生產(chǎn)節(jié)拍變長(zhǎng)和良品率下降的風(fēng)險(xiǎn)；(3)在排列使用多個(gè)光源的情況下，其光源數(shù)量(重疊部位的數(shù)量)增加，因此，產(chǎn)生不均勻的風(fēng)險(xiǎn)增加等。從這樣的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使上述相鄰的曝光區(qū)域的重疊部分盡可能窄。
[0056]本發(fā)明人進(jìn)行了研究發(fā)現(xiàn)，曝光裝置的偏光板的軸方向的設(shè)置精度最差也在±0.2°的范圍內(nèi)。另外，偏光板的貼合精度最差也在±0.2°的范圍內(nèi)。因此，取向方向與偏振軸方向之間的偏差，至少在±0.4°的范圍內(nèi)。根據(jù)圖7，±0.4°時(shí)的對(duì)比度的變化率為13.5%，根據(jù)圖5，對(duì)比度的變化率為13.5%時(shí)能夠充分消除顯示不均勻的接縫寬度為65mm。因此，重疊寬度最大為65mm就足夠，當(dāng)考慮到上述的不利點(diǎn)時(shí)，可得出更優(yōu)選具有65mm以下的寬度的結(jié)論。
[0057]上述液晶顯示裝置的制造方法優(yōu)選還具有:對(duì)被注入到上述一對(duì)基板間的含有液晶材料和單體的液晶組合物照射光，使上述單體聚合而在上述水平取向膜上形成對(duì)接近的液晶分子進(jìn)行取向控制的聚合物層的工序。以下，對(duì)其理由進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0058]目前的光取向技術(shù)，主要是用于VA模式等使用垂直取向膜的類型的TV的量產(chǎn)而導(dǎo)入的，在IPS模式等使用水平取向膜的類型的TV的量產(chǎn)中尚未導(dǎo)入。其理由是因?yàn)椋捎谑褂盟饺∠蚰ぃ谝壕э@示中會(huì)顯著發(fā)生影像殘留。影像殘留是指對(duì)液晶單元的一部分施加相同電壓持續(xù)一定時(shí)間，然后將顯示整體改變?yōu)槠渌娘@示時(shí)，在持續(xù)施加電壓的部分和未施加電壓的部分，明亮度看起來(lái)不同的現(xiàn)象。
[0059]圖8是表示進(jìn)行光取向處理而制作的IPS模式的液晶單元的影像殘留的狀況的示意圖。如圖8所示可知，在施加電壓(AC)部和未施加電壓(AC)部，明亮度大大不同，在施加電壓(AC)部發(fā)生了嚴(yán)重的影像殘留。
[0060]因此，本發(fā)明人進(jìn)行了以下研究:在制作使用光取向處理的IPS模式的液晶單元時(shí)，導(dǎo)入在液晶中添加聚合性單體，利用熱或光使聚合性單體聚合從而在構(gòu)成與液晶層的界面的面上形成聚合物層的高分子穩(wěn)定化(PS)工序。圖9是表示導(dǎo)入光取向處理、并且采用PS工序而制作的IPS模式的液晶單元的影像殘留的狀況的示意圖。如圖9所示可知，在施加電壓(AC)部和未施加電壓(AC)部，明亮度幾乎沒(méi)有變化，施加電壓(AC)部的影像殘留得到改善。這樣，通過(guò)對(duì)以往的方法增加PS工序，影像殘留大大改善。
[0061]另外，本發(fā)明人對(duì)在IPS模式的液晶單元中發(fā)生特別嚴(yán)重的影像殘留的原因進(jìn)行了各種研究，發(fā)現(xiàn)在IPS模式的液晶單元和VA模式的液晶單元中，影像殘留的發(fā)生的機(jī)理不同。得知，影像殘留的發(fā)生，在VA模式中，是由于極角方向的傾斜殘留(記憶)，而在IPS模式中，是由于方位角方向的取向殘留(記憶)、并且形成雙電荷層，這些現(xiàn)象是由光取向膜所使用的材料引起的。
[0062]另外，本發(fā)明人進(jìn)行了更詳細(xì)的研究，得知:由PS工序帶來(lái)的改善效果，在使用由具有光活性的材料形成的取向膜時(shí)特別有效，例如，在利用摩擦法對(duì)由非光活性的材料形成的取向膜進(jìn)行處理時(shí)，或者在不進(jìn)行取向處理本身時(shí)，不能得到由PS工序帶來(lái)的改善效
果O
[0063]根據(jù)本發(fā)明人的考察，優(yōu)選由具有光活性的材料形成的取向膜與PS工序的組合的理由如下。圖10是對(duì)在由非光活性的材料形成的取向膜中進(jìn)行PS工序時(shí)的聚合性單體的聚合的狀況進(jìn)行比較的示意圖，圖11是對(duì)將由具有光活性的材料形成的取向膜與PS工序組合時(shí)的聚合性單體的聚合的狀況進(jìn)行比較的示意圖。如圖10和圖11所示，在PS工序中，對(duì)一對(duì)基板和被填充在該一對(duì)基板間的液晶組合物進(jìn)行紫外線等的光照射，液晶層內(nèi)的聚合性單體33、43引發(fā)自由基聚合等連鎖聚合，其聚合物堆積在取向膜32、42的液晶層30側(cè)的表面上，形成液晶分子的取向控制用的聚合物層(以下也稱為PS層)。
[0064]在取向膜42對(duì)光為非活性的情況下，如圖10所示，通過(guò)光照射而被激發(fā)的液晶層30中的聚合性單體43a在液晶層30中均勻地產(chǎn)生。然后，被激發(fā)的聚合性單體43b產(chǎn)生光聚合，在取向膜42與液晶層30的界面，通過(guò)發(fā)生相分離而形成聚合物層。即，在PS工序中，存在在主體中被激發(fā)的聚合性單體43b在光聚合后向取向膜42與液晶層30的界面移動(dòng)的過(guò)程。
[0065]另一方面，在取向膜32對(duì)光為活性的情況下，如圖11所示，激發(fā)狀態(tài)的聚合性單體33b更多地形成。這是因?yàn)樵谌∠蚰?2中由于光照射而發(fā)生光吸收，其激發(fā)能被傳遞給聚合性單體33a的緣故，接近取向膜32的聚合性單體33a容易接受激發(fā)能而變化為激發(fā)狀態(tài)的聚合性單體33b。即，通過(guò)光照射而被激發(fā)的液晶層中的聚合性單體33a偏向取向膜32與液晶層30的界面附近，并且更大量地存在。因此，在取向膜32對(duì)光為活性的情況下，被激發(fā)的聚合性單體33b在光聚合后向取向膜32與液晶層30的界面移動(dòng)的過(guò)程能夠忽略。因此，聚合反應(yīng)和聚合物層的形成速度提高，能夠形成具有穩(wěn)定的取向限制力的PS層。
[0066]另外，本發(fā)明人進(jìn)行了研究得知，由PS層帶來(lái)的減少影像殘留的效果，對(duì)水平取向膜比對(duì)垂直取向膜更有效果。其理由可以認(rèn)為是以下理由。圖12是表示對(duì)于垂直取向膜使聚合性單體聚合時(shí)的狀況的示意圖。圖13是表示對(duì)于水平取向膜使聚合性單體聚合時(shí)的狀況的示意圖。
[0067]如圖12所示，在取向膜為垂直取向膜的情況下，構(gòu)成垂直取向膜的光活性基團(tuán)52通過(guò)疏水基團(tuán)55間接地與液晶分子54或聚合性單體53接觸，難以發(fā)生從光活性基團(tuán)52向聚合性單體53的激發(fā)能的傳遞。
[0068]另一方面，如圖13所示，在取向膜為水平取向膜的情況下，構(gòu)成水平取向膜的光活性基團(tuán)62直接與液晶分子64或聚合性單體63接觸，因此，容易發(fā)生從光活性基團(tuán)62向聚合性單體63的激發(fā)能的傳遞。因此，聚合反應(yīng)和聚合物層的形成速度提高，能夠形成具有穩(wěn)定的取向限制力的PS層。
[0069]因此，通過(guò)對(duì)由光活性材料形成的取向膜進(jìn)行PS工序、并且在該取向膜為水平取向膜的情況下進(jìn)行，激發(fā)能的傳遞飛躍性地提高，能夠使影像殘留的發(fā)生大大減少。于是，能夠得到影像殘留減少的、具有優(yōu)異的顯示特性的液晶顯示裝置。[0070]上述單體的聚合性官能團(tuán)優(yōu)選為丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基、乙烯氧基或環(huán)氧基。另外，優(yōu)選上述單體為通過(guò)光的照射引發(fā)聚合反應(yīng)(光聚合)的單體、或通過(guò)加熱引發(fā)聚合反應(yīng)(熱聚合)的單體。即，優(yōu)選上述聚合物層通過(guò)光聚合形成、或通過(guò)熱聚合形成。特別優(yōu)選光聚合，由此，能夠在常溫下容易地引發(fā)聚合反應(yīng)。光聚合所使用的光優(yōu)選為紫外線、可見(jiàn)光或它們兩者。
[0071]用于形成上述聚合物層的聚合反應(yīng)沒(méi)有特別限定，包括:二官能性的單體在形成新鍵的同時(shí)分階段地高分子量化的“逐步聚合”;和單體陸續(xù)地與由少量的催化劑(引發(fā)劑)產(chǎn)生的活性種結(jié)合，連鎖地增長(zhǎng)的“連鎖聚合”。作為上述逐步聚合，可以列舉縮聚、加聚等。作為上述連鎖聚合，可以列舉自由基聚合、離子聚合(陰離子聚合、陽(yáng)離子聚合等)等。
[0072]上述聚合物層形成在水平取向膜上，由此能夠使水平取向膜的取向限制力穩(wěn)定。其結(jié)果，能夠使顯示的影像殘留的發(fā)生大大減少，使顯示品質(zhì)大大改善。另外，在對(duì)液晶層施加閾值以上的電壓，液晶分子預(yù)傾斜取向的狀態(tài)下使單體聚合形成聚合物層的情況下，上述聚合物層以具有使液晶分子預(yù)傾斜取向的結(jié)構(gòu)的形式形成。
[0073]上述單體優(yōu)選為在骨架中具有芳香環(huán)并且該芳香環(huán)為直線狀的棒狀分子。當(dāng)為棒狀分子時(shí)，成為與液晶分子接近的結(jié)構(gòu)，因此，能夠得到容易溶解于液晶的優(yōu)點(diǎn)。作為具有成為棒狀分子的骨架的單體，可以列舉聯(lián)苯類、萘類、菲類和蒽類的單體。上述單體中包含的氫原子的一部分或全部可以被鹵原子、烷基或烷氧基取代。另外，上述烷基或烷氧基中包含的氫原子的一部分或全部可以被鹵原子取代。
[0074]另外，上述單體優(yōu)選為通過(guò)光的照射進(jìn)行聚合的帶聚合引發(fā)劑功能的單體。當(dāng)液晶層中殘留有未反應(yīng)的單體和聚合引發(fā)劑那樣的容易帶電荷的物質(zhì)時(shí)，有可能由于制造完成后的通常的使用狀態(tài)下的背光源光的影響、或組裝工序后的檢查用老化工序的影響而產(chǎn)生離子性雜質(zhì)，使液晶顯示產(chǎn)生影像殘留或顯示不均勻。當(dāng)使用帶聚合引發(fā)劑功能的單體時(shí)，帶聚合引發(fā)劑功能的單體本身成為構(gòu)成聚合物層的成分，因此，在聚合反應(yīng)結(jié)束后不會(huì)作為雜質(zhì)殘留在液晶層中。作為能夠作為帶聚合引發(fā)劑功能的單體的單體，可以列舉具有甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、乙烯氧基、丙烯酰氨基或甲基丙烯酰氨基作為聚合性官能團(tuán)的單體。這些聚合性官能團(tuán)通過(guò)紫外線(具有300?380nm范圍的波長(zhǎng)的光)自發(fā)地生成自由基，因此，即使另外沒(méi)有聚合引發(fā)劑也能夠引發(fā)聚合。上述聚合性官能團(tuán)具有的氫原子的一部分或全部可以被鹵原子、烷基或烷氧基取代。另外，上述烷基或上述烷氧基具有的氫原子的一部分或全部可以被鹵原子取代。
[0075]另外，當(dāng)在PS工序中生成的聚合物的尺寸過(guò)大時(shí)，有不是在取向膜表面而是在整個(gè)液晶層中構(gòu)成具有巨大分子的聚合物網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的情況，其結(jié)果，有可能引起作為主體的液晶取向固定化和液晶有效施加電壓降低，導(dǎo)致V-T特性的高電壓偏移。當(dāng)使聚合引發(fā)劑為高濃度時(shí)，能夠增加聚合反應(yīng)引發(fā)點(diǎn)，因此，能夠使通過(guò)光照射生成的聚合物尺寸減小，但是，如上所述，液晶中會(huì)殘留聚合引發(fā)劑，由此可能產(chǎn)生影像殘留等技術(shù)問(wèn)題。
[0076]對(duì)此，當(dāng)使用上述帶聚合引發(fā)劑功能的單體時(shí)，能夠不使用聚合引發(fā)劑而使反應(yīng)引發(fā)點(diǎn)的密度提高，在剛進(jìn)行光照射后容易形成聚合物尺寸小的低聚物狀物質(zhì)，另外，也能夠使其生成數(shù)量增加。這樣生成的低聚物狀物質(zhì)，由于在液晶層中的溶解度降低引起的析出效應(yīng)，作為聚合物層迅速地堆積在取向膜表面上。
[0077]上述帶聚合引發(fā)劑功能的單體，可以與不具有光聚合引發(fā)功能的丙烯酸酯單體、二丙烯酸酯單體等組合使用，由此能夠調(diào)整光聚合反應(yīng)速度。這樣的光聚合反應(yīng)速度的調(diào)整，在抑制聚合物網(wǎng)絡(luò)生成的情況下，能夠作為有效的手段之一。
[0078]上述單體優(yōu)選為通過(guò)可見(jiàn)光的照射引發(fā)聚合的單體。當(dāng)使用可見(jiàn)光時(shí)，與紫外光不同，能夠減少對(duì)液晶層和取向膜的損傷。作為這樣的單體，可以列舉通過(guò)光致斷裂或奪氫而生成自由基的苯偶酰類、安息香醚類、苯乙酮類、苯偶酰縮酮類和酮類的單體。這些單體具有聚合性官能團(tuán)，例如可以列舉甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、乙烯氧基、丙烯酰氨基和甲基丙烯酰氨基。即，上述單體優(yōu)選通過(guò)紫外光或可見(jiàn)光的照射而發(fā)生光致斷裂反應(yīng)或發(fā)生奪氫反應(yīng)。
[0079]上述電極優(yōu)選為透明電極。作為本發(fā)明中的電極材料，能夠使用鋁等遮光性的材料和氧化銦錫(ITO:1ndium Tin Oxide)、氧化銦鋒(IZO:1ndium Zinc Oxide)等透光性的材料，但是，例如，在一對(duì)基板中的一個(gè)基板具有彩色濾光片的情況下，為了使單體聚合而進(jìn)行的紫外線的照射需要從不具有彩色濾光片的另一個(gè)基板側(cè)進(jìn)行，因此，當(dāng)上述另一個(gè)基板具有的電極具有遮光性時(shí)，會(huì)導(dǎo)致單體的聚合不能高效率地進(jìn)行。
[0080]上述液晶材料優(yōu)選含有在分子結(jié)構(gòu)中包含苯環(huán)的共軛雙鍵以外的重鍵的液晶分子。這是因?yàn)?，如上所述，液晶分子本身的重鍵能夠由光活化，能夠作為能夠進(jìn)行活化能或自由基等的傳遞的輸送體(載體)。即，通過(guò)使液晶為光活性的或?yàn)檩斔妥杂苫鹊妮斔腕w(載體)，能夠使聚合性單體的反應(yīng)速度和PS層的形成速度進(jìn)一步提高，形成穩(wěn)定的PS層。
[0081]上述液晶分子可以為具有正的介電常數(shù)各向異性的液晶分子(正型)或具有負(fù)的介電常數(shù)各向異性的液晶分子(負(fù)型)。上述液晶分子優(yōu)選為在液晶層中具有高對(duì)稱性的向列型液晶分子。作為上述液晶分子具有的骨架的例子，可以列舉具有2個(gè)環(huán)結(jié)構(gòu)和與該環(huán)結(jié)構(gòu)結(jié)合的基團(tuán)呈直線狀連接的結(jié)構(gòu)的骨架。上述重鍵不包括苯環(huán)的共軛雙鍵。這是因?yàn)楸江h(huán)缺乏反應(yīng)性。此外，上述液晶分子只要具有苯環(huán)的共軛雙鍵以外的重鍵，也可以具有苯環(huán)的共軛雙鍵，該鍵并不被特別除外。另外，上述液晶分子可以為將多種液晶分子混合而得到的混合物。為了確保可靠性，提高響應(yīng)速度，以及調(diào)整液晶相溫度范圍、彈性常數(shù)、介電常數(shù)各向異性和折射率各向異性，能夠使液晶材料為多種液晶分子的混合物。
[0082]上述重鍵優(yōu)選為雙鍵，并且優(yōu)選包含在酯基或烯基中。就上述重鍵而言，雙鍵的反應(yīng)性比三鍵的反應(yīng)性優(yōu)異。此外，上述重鍵可以為三鍵，在該情況下，上述三鍵優(yōu)選包含在氰基中。另外，上述液晶分子優(yōu)選具有兩種以上的上述重鍵。
[0083]發(fā)明效果
[0084]根據(jù)本發(fā)明，即使在對(duì)涂敷有水平取向膜材料的表面進(jìn)行光取向處理時(shí)進(jìn)行接續(xù)曝光，也能夠得到難以產(chǎn)生接縫區(qū)域的顯示不均勻的液晶顯示裝置。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0085]圖1是表示對(duì)涂敷有水平取向膜材料的基板面進(jìn)行光取向處理的工序的立體示意圖。
[0086]圖2是表示曝光區(qū)域(第一次)中的光的照射強(qiáng)度的示意圖和曲線圖。
[0087]圖3是表示曝光區(qū)域(第二次)中的光的照射強(qiáng)度的示意圖和曲線圖。
[0088]圖4是本發(fā)明人進(jìn)行研究的測(cè)試畫面的示意圖。
[0089]圖5是表示本發(fā)明人進(jìn)行驗(yàn)證的結(jié)果的曲線圖。[0090]圖6是表示取向方向與偏光板的軸方向之間的角度偏差與對(duì)比度的關(guān)系的曲線圖。
[0091]圖7是表示根據(jù)圖6計(jì)算出的基于取向方向與偏光板軸方向之間的角度偏差的對(duì)比度的變化率(％)的曲線圖。
[0092]圖8是表示進(jìn)行光取向處理而制作的IPS模式的液晶單元的影像殘留的狀況的示意圖。
[0093]圖9是表示導(dǎo)入光取向處理并且采用PS工序而制作的IPS模式的液晶單元的影像殘留的狀況的示意圖。
[0094]圖10是對(duì)在由非光活性的材料形成的取向膜中進(jìn)行PS工序時(shí)的聚合性單體的聚合的狀況進(jìn)行比較的示意圖。
[0095]圖11是對(duì)將由具有光活性的材料形成的取向膜與PS工序組合時(shí)的聚合性單體的聚合的狀況進(jìn)行比較的示意圖。
[0096]圖12是表示對(duì)于垂直取向膜使聚合性單體聚合時(shí)的狀況的示意圖。
[0097]圖13是表示對(duì)于水平取向膜使聚合性單體聚合時(shí)的狀況的示意圖。
[0098]圖14是實(shí)施方式I中的TFT基板的平面示意圖。
[0099]圖15是實(shí)施方式I中的對(duì)置基板的平面示意圖。
[0100]圖16是表示實(shí)施方式I中使用的曝光裝置的平面示意圖。
[0101]圖17是表示實(shí)施方式I中使用的曝光裝置的截面示意圖。
[0102]圖18是實(shí)施方式I中使用的曝光裝置具備的光掩模的立體示意圖。
[0103]圖19是實(shí)施方式I中使用的光掩模的平面示意圖。
[0104]圖20是表示在實(shí)施方式I中對(duì)基板面進(jìn)行曝光的狀況的概略圖。
[0105]圖21是表示在實(shí)施方式I中隔著照度調(diào)整板對(duì)基板面實(shí)施光取向處理的狀況的平面示意圖。
[0106]圖22是實(shí)施方式I中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0107]圖23是表示實(shí)施方式I中對(duì)基板面實(shí)際進(jìn)行掃描曝光的狀況的平面示意圖。
[0108]圖24是表示掃描曝光后的各曝光區(qū)域的平面示意圖。
[0109]圖25是表示在實(shí)施方式I中對(duì)TFT基板面進(jìn)行曝光的狀況的平面示意圖。
[0110]圖26是實(shí)施方式2中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0111]圖27是實(shí)施方式2 (第一變形例)中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0112]圖28是實(shí)施方式2 (第二變形例)中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0113]圖29是實(shí)施方式2 (第三變形例)中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0114]圖30是實(shí)施方式3中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0115]圖31是實(shí)施方式4中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0116]圖32是實(shí)施方式4 (第一變形例)中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0117]圖33是實(shí)施方式4 (第二變形例)中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0118]圖34是實(shí)施方式4 (第三變形例)中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0119]圖35是實(shí)施方式5中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0120]圖36是實(shí)施方式6中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。
[0121]圖37是實(shí)施方式7中使用的光掩模(照度調(diào)整板)的平面示意圖。[0122]圖38是表示在實(shí)施方式8中對(duì)TFT基板面進(jìn)行曝光的狀況的平面示意圖。
[0123]圖39是表示在實(shí)施方式9中對(duì)TFT基板面進(jìn)行曝光的狀況的平面示意圖。
[0124]圖40是通過(guò)實(shí)施方式I?9的制造方法制作的液晶顯示裝置的截面示意圖，表示PS聚合工序前。
[0125]圖41是通過(guò)實(shí)施方式I?9的制造方法制作的液晶顯示裝置的截面示意圖，表示PS聚合工序后。
[0126]圖42是表示實(shí)施例1?4、6、7的IPS基板的平面示意圖。
[0127]圖43是表示實(shí)施例5的FFS基板的平面示意圖。
[0128]圖44是表示由下述化學(xué)式(34)和(35)表示的單體的吸收光譜的曲線圖。
【具體實(shí)施方式】
[0129]以下給出實(shí)施方式，參照附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但是本發(fā)明并不僅限定于這些實(shí)施方式。
[0130]實(shí)施方式I
[0131]以下對(duì)實(shí)施方式I的液晶顯示裝置的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。通過(guò)實(shí)施方式I的液晶顯示裝置的制造方法制造的液晶顯示裝置，能夠適合用于TV面板、數(shù)字標(biāo)牌、醫(yī)療用監(jiān)視器、電子書、PC用監(jiān)視器、平板式終端用面板、便攜式電話終端用面板等。
[0132]在進(jìn)行光取向處理前，首先，準(zhǔn)備夾持液晶層的TFT基板和對(duì)置基板這一對(duì)基板。圖14是實(shí)施方式I中的TFT基板的平面示意圖，圖15是實(shí)施方式I中的對(duì)置基板的平面示意圖。
[0133]如圖14所示，作為TFT基板，例如使用在玻璃基板上隔著絕緣膜分別配置有掃描信號(hào)線21、數(shù)據(jù)信號(hào)線22、TFT23和像素電極24的基板。掃描信號(hào)線21和數(shù)據(jù)信號(hào)線22以相互交叉的方式配置，并且分別與TFT (薄膜晶體管)23具備的各電極連接。當(dāng)在規(guī)定的定時(shí)脈沖式地供給的掃描信號(hào)被施加于TFT23時(shí)，在該定時(shí)，從數(shù)據(jù)信號(hào)線22供給的數(shù)據(jù)信號(hào)被供給到像素電極24。像素電極24呈矩陣狀配置有多個(gè)。當(dāng)為IPS模式或FFS模式時(shí)，像素電極24為如圖14所示的梳型電極，當(dāng)為其他模式時(shí)，沒(méi)有特別限定。
[0134]如圖15所示，作為對(duì)置基板，例如使用在玻璃基板上分別配置有BM(黑矩陣)26和著色層(彩色濾光片)27的基板，其中著色層(彩色濾光片)27包括紅色(R)的著色層27R、藍(lán)色(B)的著色層27B和綠色(G)的著色層27G。BM26以遮蓋TFT基板的掃描信號(hào)線21和數(shù)據(jù)信號(hào)線22的方式形成為格子狀，彩色濾光片27形成在由BM26分隔的區(qū)域中。在實(shí)施方式I中，采用相同顏色的著色層排列在同一列的條狀排列。
[0135]另外，雖然在圖14和圖15中沒(méi)有圖示，但是，在TFT基板和/或?qū)χ没迳?，除了像素電極以外還形成有共用電極。共用電極在IPS模式的情況下為梳型電極，在FFS模式的情況下為平板電極。
[0136]接著，利用旋涂法等對(duì)各基板的表面涂敷包含光取向膜材料的溶液，然后例如在180°C進(jìn)行60分鐘的涂敷液的燒制，由此形成水平取向膜。作為光取向膜材料，可以列舉包含感光性基團(tuán)的樹脂等。更具體而言，優(yōu)選包含感光性基團(tuán)的聚酰亞胺、聚酰胺酸、聚馬來(lái)酰亞胺、乙烯基聚合物(polyvinyl)、聚硅氧烷等聚合物，其中感光性基團(tuán)為含有偶氮基(-N=N-)的偶氮苯基(下述化學(xué)式(I))、芪基(下述化學(xué)式(2))、4_查耳酮基(下述化學(xué)式(3))、4’ -查耳酮基(下述化學(xué)式(4))、香豆素基(下述化學(xué)式(5))、肉桂?；?下述化學(xué)式(6 ))、肉桂酸酯基(下述化學(xué)式(7 ))等。下述化學(xué)式(I)?(7 )的感光性基團(tuán)是通過(guò)光(優(yōu)選紫外線)的照射而發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)(包括二聚化反應(yīng))、異構(gòu)化反應(yīng)、光再取向等的基團(tuán)，利用這些感光性基團(tuán)，與光分解型的光取向膜材料相比，能夠使取向膜面內(nèi)的預(yù)傾角的波動(dòng)有效地減小。此外，下述化學(xué)式(I)?(7)的感光性基團(tuán)也包括在苯環(huán)上結(jié)合有取代基的結(jié)構(gòu)。另外，在下述化學(xué)式(6)的肉桂?；械聂驶线M(jìn)一步結(jié)合有氧原子的肉桂酸酯基(下述化學(xué)式(7))，反應(yīng)效率特別高，能夠通過(guò)低照射能量實(shí)現(xiàn)水平取向。作為苯環(huán)上的取代基的例子，優(yōu)選氟、烷基、烷氧基、苯甲基、苯氧基、苯甲酰基、苯甲酸酯基、苯甲酰氧基或它們的衍生物，能夠提高電特性或取向穩(wěn)定性。另外，在低照射能量的情況下，還具有能夠抑制彩色濾光片等其他部件的劣化的進(jìn)行的優(yōu)點(diǎn)。因此，作為光取向膜材料，更優(yōu)選包含具有肉桂酸酯基的化合物的材料。用于形成取向膜的燒制溫度、燒制時(shí)間和光取向膜的膜厚沒(méi)有特別限定，只要適當(dāng)設(shè)定即可。
[0137]
【權(quán)利要求】
1.一種液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于: 具有對(duì)在一對(duì)基板中的至少一個(gè)基板上涂敷的光取向膜材料進(jìn)行照射偏振光的光取向處理，形成水平取向膜的工序， 該光取向處理通過(guò)在一個(gè)基板面上對(duì)多個(gè)區(qū)域進(jìn)行曝光來(lái)進(jìn)行， 該進(jìn)行曝光的多個(gè)區(qū)域中相鄰的兩個(gè)區(qū)域具有重疊部分， 對(duì)該重疊部分的該偏振光的照射量，均處于從該相鄰的兩個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域向該相鄰的兩個(gè)區(qū)域中的另一個(gè)區(qū)域側(cè)逐漸減少的關(guān)系， 該相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分具有20mm以上的寬度。
2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于: 對(duì)所述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分的照射量的變化率滿足正弦函數(shù)。
3.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于: 對(duì)所述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分的照射量的變化率滿足一次函數(shù)。
4.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于: 所述相鄰的兩個(gè)區(qū)域的重疊部分具有65_以下的寬度。
5.如權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于，還具有: 對(duì)被注入到所述一對(duì)基板間的含有液晶材料和單體的液晶組合物照射光，使該單體聚合而在該水平取向膜上形成對(duì)接近的液晶分子進(jìn)行取向控制的聚合物層的工序。
6.如權(quán)利要求5所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于: 所述液晶材料含有在分子結(jié)構(gòu)中包含苯環(huán)的共軛雙鍵以外的重鍵的液晶分子。
7.如權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于: 所述光取向膜材料具有光異構(gòu)化型、光二聚化型或這兩種類型的官能團(tuán)。
8.如權(quán)利要求1?7中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于: 所述液晶顯示裝置的取向類型為IPS型。
9.如權(quán)利要求1?7中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于: 所述液晶顯示裝置的取向類型為FFS型。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK103782230SQ201280042376
【公開日】2014年5月7日 申請(qǐng)日期:2012年8月1日 優(yōu)先權(quán)日:2011年8月29日
【發(fā)明者】宮地弘一, 三宅敢 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社