專利名稱：用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)。
背景技術(shù)：
通常，在工業(yè)持續(xù)發(fā)展的推動下，用于提供能夠生產(chǎn)愈來愈小的線寬特征的步進光刻設(shè)備也在不斷的發(fā)展中。平板顯示的發(fā)展，主要體現(xiàn)在線寬減少，提高顯示分辨率和增大基板面積，提聞生廣效率。根據(jù)光學(xué)成像原理，提聞分辨率就必需減少焦深，而為了提聞生產(chǎn)率，使用的基板越來越大，基板表面的不平度也隨之增加，特別是掩膜-基板同步掃描步進技術(shù)的研究成功和廣泛使用，曝光場面進一步增加，使得整個曝光場的焦深問題變得更加突出。焦深已經(jīng)成為阻礙光學(xué)投影光刻技術(shù)向更高分辨率挺進的關(guān)鍵因素，所以精確調(diào)平調(diào)焦對光學(xué)投影光刻來說意義重大。目前的光刻機的調(diào)焦主要是通過在工件臺上安裝螺旋式(或差動螺旋式)機械傳動機構(gòu)，該機構(gòu)來移動工件臺上的臺板，從而實現(xiàn)曝光前的自動對焦工作。在焦深越來越小，曝光場越來越大的情況下，這種傳動機構(gòu)顯得驅(qū)動精度不夠，導(dǎo)致對焦時間比較長，減低生產(chǎn)效率。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，能夠在保證光刻前自動對焦精度的同時減少對焦時間。一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，其特別之處在于:包括上楔形塊和下楔形塊，在這兩個楔形塊的斜面之間安裝有至少2根滾針，從而使兩個楔形塊能相對移動，其中在上楔形塊上固定有工件臺的臺板，而下楔形塊通過至少2根滾針安裝在工件臺的底面上，從而使下楔形塊能沿該底面移動，另外還包括一驅(qū)動機構(gòu)，該驅(qū)動機構(gòu)通過一絲杠與下楔形塊連接，從而能將驅(qū)動機構(gòu)輸出的回轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)化為直線運動進而帶動下楔形塊直線移動。其中在工件臺的臺板兩側(cè)設(shè)有擋板，從而使工件臺的臺板僅能上下直線移動。其中在上楔形塊和下楔形塊上分別設(shè)有一塊電極板，并且在該兩塊電極板上均設(shè)有接線端子。其中驅(qū)動機構(gòu)采用電動機。本實用新型是在步進光刻設(shè)備中，提供了一種楔塊微位移方式的用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，以便對精密工件臺的臺板部件相對于安裝臺板部件機構(gòu)做相對垂直運動，來滿足設(shè)備在曝光時需要的調(diào)平調(diào)焦要求，對焦準(zhǔn)確并且速度快。

附圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖1所示，本實用新型是一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，包括上楔形塊5和下楔形塊4，在這兩個楔形塊的斜面之間安裝有至少2根滾針6 (滾針6的具體數(shù)量可以根據(jù)斜面長度和精度需要自行調(diào)整，如圖1中所示為7根滾針6，滾針6相互之間的間距相同，下同)，從而使兩個楔形塊能相對移動。很明顯，兩個楔形塊可以視為將一個標(biāo)準(zhǔn)長方體沿斜面剖開為兩部分來得到。如圖1所示，兩個楔形塊橫截面均為直角梯形，當(dāng)然也可為三角形。如圖1所示，在上楔形塊5上固定有工件臺的臺板，而在工件臺的臺板兩側(cè)設(shè)有擋板，從而使工件臺的臺板僅能上下直線移動。而下楔形塊4通過至少2根滾針6安裝在工件臺的底面2上，從而使下楔形塊4能沿該底面2移動，另外還包括一驅(qū)動機構(gòu)1，該驅(qū)動機構(gòu)I通過一絲杠8與下楔形塊4連接，從而能將驅(qū)動機構(gòu)I輸出的回轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)化為直線運動進而帶動下楔形塊4直線移動。另外還可以在上楔形塊5和下楔形塊4上分別設(shè)有一塊電極板7，并且在該兩塊電極板7上均設(shè)有接線端子，這樣就構(gòu)成了 一個電容器。如圖1所示，上楔形塊5頂部固定在臺板下面，其斜面和下楔形塊4的斜面中間用滾針6隔開，下楔形塊4和絲桿連接，該絲桿再連接到驅(qū)動機構(gòu)I上。因此工件臺的底面2和臺板之間可做相對運動，它們之間也可用彈性材料連接。而構(gòu)成電容的兩塊電極板7分別固定于上楔形塊5和下楔形塊4上。光刻機在曝光之前，為了讓圖像成像，就需要自動對焦。對焦之前，設(shè)備進行準(zhǔn)備狀態(tài)檢測，根據(jù)檢測結(jié)果，給出控制信號至驅(qū)動機構(gòu)I，產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)力矩給絲桿，絲桿將旋轉(zhuǎn)動力轉(zhuǎn)化為直線運動動力給下楔形塊4，下楔形塊4的水平運動在其表面產(chǎn)生垂直方向的力，來推動上楔形塊5做上下直線運動，從而使臺板也上下直線運動，這樣設(shè)備就能精確自動調(diào)平調(diào)焦了。在本實用新型的微位移機構(gòu)中，為了減少兩個楔形塊之間的移動摩擦阻力和保證移動的平穩(wěn)，在機構(gòu)中添加滾針6，改移動摩擦為滾動摩擦。在兩個楔形塊作相對運動時，工件臺的底面2和臺板之間距離是不停變化的，為了能測量出這種相對距離，在兩個楔形塊上添加構(gòu)成電容的兩電極板7，上楔形塊5和下楔形塊4的相對運動，會讓電容兩極上電荷發(fā)生增加和減少，由此產(chǎn)生的電信號就有變化，將這種變化接線端子、導(dǎo)線、A/D轉(zhuǎn)換器進行轉(zhuǎn)換并反饋給工控機進行數(shù)據(jù)處理，這樣通過電信號的變化就可測量出臺板移動的距離。
權(quán)利要求1.一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，其特征在于:包括上楔形塊(5)和下楔形塊(4)，在這兩個楔形塊的斜面之間安裝有至少2根滾針(6)，從而使兩個楔形塊能相對移動，其中在上楔形塊(5)上固定有工件臺的臺板，而下楔形塊(4)通過至少2根滾針(6)安裝在工件臺的底面(2)上，從而使下楔形塊(4)能沿該底面(2)移動，另外還包括一驅(qū)動機構(gòu)(I)，該驅(qū)動機構(gòu)(I)通過一絲杠(8)與下楔形塊(4)連接，從而能將驅(qū)動機構(gòu)(I)輸出的回轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)化為直線運動進而帶動下楔形塊(4)直線移動。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，其特征在于:其中在工件臺的臺板兩側(cè)設(shè)有擋板，從而使工件臺的臺板僅能上下直線移動。
3.如權(quán)利要求1或2所述的一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，其特征在于:其中在上楔形塊(5)和下楔形塊(4)上分別設(shè)有一塊電極板(7)，并且在該兩塊電極板(7)上均設(shè)有接線端子。
4.如權(quán)利要求1或2所述的一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，其特征在于:其中驅(qū)動機構(gòu)(I)采用電動機。
專利摘要本實用新型涉及一種用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)。其特點是包括上楔形塊(5)和下楔形塊(4)，在這兩個楔形塊的斜面之間安裝有至少2根滾針(6)，從而使兩個楔形塊能相對移動，其中在上楔形塊(5)上固定有工件臺的臺板，而下楔形塊(4)通過至少2根滾針(6)安裝在工件臺的底面(2)上，另外還包括一驅(qū)動機構(gòu)(1)，該驅(qū)動機構(gòu)(1)通過一絲杠(8)與下楔形塊(4)連接。本實用新型是在步進光刻設(shè)備中，提供了一種楔塊微位移方式的用于步進光刻設(shè)備的微位移機構(gòu)，以便對精密工件臺的臺板部件相對于安裝臺板部件機構(gòu)做相對垂直運動，來滿足設(shè)備在曝光時需要的調(diào)平調(diào)焦要求，對焦準(zhǔn)確并且速度快。
文檔編號G03F7/207GK203037993SQ20122066069
公開日2013年7月3日 申請日期2012年12月4日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月4日
發(fā)明者彭紹輝 申請人:彩虹(佛山)平板顯示有限公司