專(zhuān)利名稱(chēng)：漏光檢測(cè)基板及漏光檢測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種漏光檢測(cè)基板及漏光檢測(cè)裝置。
背景技術(shù)：
目前，TFT-1XD (英文全稱(chēng)Thin Film Transistor,中文全稱(chēng)薄膜晶體管液晶顯示)面板的陣列基板通過(guò)各層金屬、非金屬薄膜形成一定的圖形沉積在玻璃上形成晶體管驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)，隨著社會(huì)進(jìn)步及科技發(fā)展，TFT-LCD已經(jīng)成為當(dāng)今時(shí)代顯示領(lǐng)域的主流產(chǎn)品，在工業(yè)生產(chǎn)、日常生活中起到了至關(guān)重要的作用，越來(lái)越受到人們的青睞。但是目前TFT-1XD的圖像顯示品質(zhì)一直以來(lái)都是制約TFT-1XD發(fā)展的重要因素，影響顯示品質(zhì)的原因很多，例如原材料的污染、液晶污染、PI污染、生產(chǎn)線潔凈程度的好壞等，這些都影響著TFT-1XD的顯示品質(zhì)；除此以外，液晶顯示器還受到外界環(huán)境的影響，例如曝光在強(qiáng)紫外光的條件下，顯示品質(zhì)也會(huì)大大受到影響，這主要是因?yàn)?，?qiáng)紫外光能夠影響液晶顯示器中的a-si TFT (非晶硅薄膜晶體管)，使a-si (非晶硅)在強(qiáng)紫光外的作用下產(chǎn)生不可逆的破壞，此外，強(qiáng)紫外光也會(huì)破壞TFT-LCD顯示區(qū)域的液晶材料，使液晶分子和混合液晶當(dāng)中的其他混合物產(chǎn)生未知的副反應(yīng)，從而導(dǎo)致嚴(yán)重的殘像。在目前液晶顯示器制造過(guò)程中TFT-LCD面板的封框膠固化過(guò)程需要使用封框膠UV (紫外光)固化設(shè)備，該設(shè)備主要包括紫外光照射裝置、傳送裝置、通風(fēng)裝置、檢測(cè)結(jié)果單元及系統(tǒng)控制單元；在生產(chǎn)過(guò)程中，為了避免強(qiáng)紫外光照射到面板的顯示區(qū)域，先將TFT-LCD面板放置在漏光檢測(cè)基板及漏光檢測(cè)裝置的基臺(tái)上，再在TFT-1XD面板上面放置一個(gè)UVmask層(紫外光掩膜設(shè)備)，UVmask層的作用是將TFT-LCD面板的顯示區(qū)域遮擋住，使除封框膠之外的其他區(qū)域都被遮擋；同時(shí)僅將封框膠部分全部暴露在強(qiáng)紫外光之下。因此，封框膠固化工藝對(duì)UVmask層設(shè)計(jì)的精準(zhǔn)度要求相當(dāng)高，若將顯示區(qū)域暴露在UVmask層外，封框膠雖能固化完全，但會(huì)產(chǎn)生種種顯示問(wèn)題，若封框膠沒(méi)有完全暴漏在外，則會(huì)導(dǎo)致封框膠固化不完全，有可能導(dǎo)致封框膠斷裂等不良問(wèn)題；這些問(wèn)題不能被及時(shí)發(fā)現(xiàn)，后果是導(dǎo)致大批量TFT-1XD面板出現(xiàn)質(zhì)量問(wèn)題，造成巨大經(jīng)濟(jì)損失。目前，現(xiàn)有的UV固化裝置在進(jìn)行UV固化工藝時(shí)，并不能直接顯示固化過(guò)程實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)是否有紫外光照射到面板的顯示區(qū)域，更不可能檢測(cè)出哪些顯示區(qū)域被照射；因此，生產(chǎn)人員只能等待最終產(chǎn)品生產(chǎn)出來(lái)，并對(duì)其進(jìn)行品質(zhì)檢測(cè)，當(dāng)發(fā)現(xiàn)品質(zhì)問(wèn)題后再回頭檢討UVmask的設(shè)計(jì)問(wèn)題；這樣的漏光檢測(cè)裝置使用起來(lái)不僅使UV固化過(guò)程費(fèi)時(shí)費(fèi)力、且增加了TFT-LCD的生產(chǎn)成本，不利于TFT-LCD的發(fā)展；不僅是紫外線固化設(shè)備，在需要其他需要精準(zhǔn)曝光的設(shè)備使用中，都會(huì)遇上上述類(lèi)似問(wèn)題，因此，需要提供一種漏光檢測(cè)基板、漏光檢測(cè)裝置以及具有漏光檢測(cè)功能的曝光設(shè)備如紫外線固化裝置，以解決提高精準(zhǔn)度、減少損耗。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問(wèn)題是無(wú)法在曝光之前對(duì)設(shè)備的漏光進(jìn)行準(zhǔn)確地檢測(cè)，導(dǎo)致曝光不精準(zhǔn)以及曝光設(shè)備如掩膜版成本消耗高的問(wèn)題。[0004]本實(shí)用新型的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種漏光檢測(cè)基板，所述漏光檢測(cè)基板包括襯底基板和形成于所述襯底基板上的光致變色材料層。還包括第二基板，覆蓋在所述光致變色材料層上。所述襯底基板和所述第二基板通過(guò)基板邊緣區(qū)域的封框膠粘結(jié)固定，所述封框膠的厚度不小于所述光致變色材料層的厚度。上述歐光檢測(cè)基板是用于對(duì)紫外光掩膜設(shè)備進(jìn)行漏光檢測(cè)，所述光致變色材料層的材料至少包括光致變色螺吡喃聚合物、螺-惡嗪聚合物、二芳基乙烯光致變色聚合物、偶氮苯類(lèi)光致變色聚合物、苯氧基萘并萘醌光致變色聚合物、俘精酰亞胺光致變色共聚物、硫靛光致變色共聚物、雙硫腙光致變色聚合物、二氫吲嗪光致變色聚合物、WO3、MoO3或Ti02中的一種。一種漏光檢測(cè)裝置，包括如上述中任一項(xiàng)所述的漏光檢測(cè)基板；所述漏光檢測(cè)裝置包括圖案采集單元，所述圖案采集單元用于獲取所述漏光檢測(cè)基板上的圖案信息。還包括檢測(cè)結(jié)果單元，所述檢測(cè)結(jié)果單元與所述圖案采集單元連接以顯示所述圖案采集單元所采集到的圖案信息。所述圖案采集單元為照相機(jī)。還包括紫外光照射裝置，用于發(fā)出用于固化封框膠的紫外光，將所述紫外光照射到待檢測(cè)的紫外光掩膜設(shè)備上，其中透過(guò)所述紫外光掩膜設(shè)備的紫外光照射到所述漏光檢測(cè)基板上。還包括紫外光擋板，所述紫外光擋板設(shè)置在所述紫外光照射裝置、所述漏光檢測(cè)基板以及所述圖案采集單元的外圍。還包括通風(fēng)裝置，位于所述紫外光擋板的壁上，用于對(duì)所述紫外光擋板所圍的空間進(jìn)行通風(fēng)。還包括傳送裝置，所述傳送裝置用于將待檢測(cè)的紫外光掩膜設(shè)備傳送到所述漏光檢測(cè)基板的光入射一側(cè)。還包括系統(tǒng)控制單元，與所述紫外光照射裝置和所述圖案采集單元連接，所述系統(tǒng)控制單元用于控制所述紫外光照射裝置發(fā)出所述紫外光，以及控制所述圖案采集單元獲取所述漏光檢測(cè)基板上的圖案信息。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下的優(yōu)點(diǎn)1、本實(shí)用新型采用漏光檢測(cè)基板的設(shè)計(jì)，利用光致變色材料層在強(qiáng)紫外光照射下的顏色可逆性，可有效檢測(cè)出曝光設(shè)備是否存在曝光不準(zhǔn)確的區(qū)域區(qū)域，如漏光區(qū)域或光不足區(qū)域，并以此調(diào)整曝光設(shè)備的設(shè)計(jì)；當(dāng)根據(jù)漏光情況調(diào)整曝光設(shè)備設(shè)計(jì)并更換上調(diào)整后，光致變色材料層則不會(huì)出現(xiàn)變色情況由于可逆特性，光致變色層能實(shí)現(xiàn)重復(fù)利用。2、本實(shí)用新型采用圖案采集單元的設(shè)計(jì)，利用照相機(jī)隨時(shí)對(duì)固化過(guò)程中的漏光檢測(cè)基板進(jìn)行拍照取樣；同時(shí)將圖像信息通過(guò)系統(tǒng)控制單元傳送至檢測(cè)結(jié)果單元進(jìn)行顯像，生產(chǎn)人員能夠通過(guò)觀察圖片，及時(shí)獲知待曝光器件的應(yīng)曝光區(qū)域是否被光照射到，并通過(guò)觀察漏光檢測(cè)基板上的顯色圖案、顯色位置，找到具體的曝光不準(zhǔn)確的區(qū)域，從而有針對(duì)性地調(diào)整曝光設(shè)備的設(shè)計(jì)，提升產(chǎn)品的優(yōu)良率及顯示品質(zhì)。

[0019]
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。圖1是本實(shí)用新型中實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型中實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例一參見(jiàn)圖1所示，為本實(shí)施例所提供的一種漏光檢測(cè)基板，所述漏光檢測(cè)基板包括襯底基板I和形成于所述襯底基板上的光致變色材料層2。上述具有光致變色材料層2的漏光檢測(cè)基板具有能夠檢測(cè)紫外光掩膜設(shè)備的精準(zhǔn)度如是否漏光的功能，其使用方式可以為在對(duì)紫外光掩膜設(shè)備，例如紫外光固化設(shè)備中的UVmask層進(jìn)行漏光檢測(cè)時(shí)，將所述漏光檢測(cè)基板置于所述UVmask層下方，優(yōu)選置于用于放置待固化的面板的位置處，紫外光由UVmask層的上方照射，由于光致變色材料的光致變色特性，漏光檢測(cè)基板上將形成圖案，通過(guò)檢查該圖案，可檢測(cè)出UVmask層是否精準(zhǔn)，如是否產(chǎn)生漏光現(xiàn)象。優(yōu)選地，本實(shí)施例中為使漏光檢測(cè)基板整體結(jié)構(gòu)更加平整、牢靠，可在所述襯底基板上設(shè)置第二基板3，覆蓋在所述光致變色材料層上。本實(shí)施例中所述襯底基板和所述第二基板通過(guò)基板邊緣區(qū)域的封框膠4以真空對(duì)盒的工藝將其對(duì)齊粘結(jié)固定，所述封框膠的厚度不小于所述光致變色材料層的厚度。本實(shí)施例中所述襯底基板和第二基板優(yōu)選由玻璃材料、石英材料或透明高分子材料其中之一制成；所述的透明高分子材料如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚醚醚酮(PEEK)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚丁二酸乙烯(PES)、聚丙烯氧化物(PPO)等；對(duì)于襯底基板要求具備紫外光高透過(guò)率，且與光致變色材料不相互作用，能夠抵抗高強(qiáng)度紫外光照射。上述漏光檢測(cè)基板可以用于對(duì)紫外光掩膜設(shè)備進(jìn)行漏光檢測(cè)，本實(shí)施例中所述光致變色材料層的材料至少包括光致變色螺吡喃聚合物、螺-惡嗪聚合物、二芳基乙烯光致變色聚合物、偶氮苯類(lèi)光致變色聚合物、苯氧基萘并萘醌光致變色聚合物、俘精酰亞胺光致變色共聚物、硫靛光致變色共聚物、雙硫腙光致變色聚合物、二氫吲嗪光致變色聚合物、W03、Mo03或Ti02中的一種?？墒顾龉庵伦兩牧蠈语@色的紫外光波長(zhǎng)范圍在300-500nm之間。本實(shí)施例中所述光致變色材料層的變色機(jī)理是由其所摻雜的光致變色材料的種類(lèi)所決定的，常見(jiàn)光致變色材料的變色機(jī)理可分為鏈的異裂和均裂，質(zhì)子轉(zhuǎn)移互變異構(gòu)、順?lè)串悩?gòu)反應(yīng)，氧化還原反應(yīng)、周環(huán)反應(yīng)等；以螺-惡嗪材料層為例，當(dāng)其受紫外光激發(fā)后會(huì)變?yōu)樗{(lán)色，其變色機(jī)理取決于螺-惡嗪光致變色化合物；在強(qiáng)紫外光照射下，光致變色材料螺-惡嗪Spirooxazine (SO)分子中螺C-O鍵發(fā)生異裂，引起分子的結(jié)構(gòu)以及電子組態(tài)發(fā)生異構(gòu)化和重排，通過(guò)螺C原子連接的兩個(gè)環(huán)系由正交變?yōu)楣财矫?，形成一個(gè)大的共軛體系photomerocyanine (PMC),在可見(jiàn)光區(qū)有吸收峰,在可見(jiàn)光或熱的作用下，PMC發(fā)生關(guān)環(huán)反應(yīng)回到S0，構(gòu)成一個(gè)典型的光致變色體系，這個(gè)過(guò)程是可逆的。螺-惡嗪光致變色材料在強(qiáng)紫外光照射下，會(huì)由無(wú)色透明變?yōu)榍逦乃{(lán)色，當(dāng)紫外光不再照射時(shí)則藍(lán)色會(huì)逐漸褪去，同時(shí)，顏色的深淺會(huì)隨著紫外光強(qiáng)度的變化而變化，紫外光光越強(qiáng)，則顯色越深。[0030]本實(shí)用新型采用漏光檢測(cè)基板的設(shè)計(jì)，利用光致變色材料層在強(qiáng)紫外光照射下的顏色可逆性，可有效檢測(cè)出UVmask層是否存在漏光區(qū)域，并以此調(diào)整UVmask層的設(shè)計(jì)；當(dāng)UVmask層有漏光現(xiàn)象時(shí)，光致變色材料層在相對(duì)應(yīng)位置會(huì)出現(xiàn)變色情況；當(dāng)根據(jù)漏光情況調(diào)整UV mask設(shè)計(jì)并更換上調(diào)整后的UV mask時(shí)，光致變色材料層則不會(huì)出現(xiàn)變色情況；光致變色層僅在紫外光照下呈現(xiàn)變色態(tài)，當(dāng)去除紫外光照射，則光致變色層顏色會(huì)逐漸褪去，這樣，光致變色層則能實(shí)現(xiàn)重復(fù)利用。作為一種優(yōu)選實(shí)施方式，本實(shí)施例中所述漏光檢測(cè)基板的制造工藝如下例如以有機(jī)物二芳基乙烯為光致變色材料層，以0. 7t的玻璃材料為襯底基板和
第二基板；1、將0. 7t的襯底基板2張，清洗干凈，并烘干，襯底基板和第二基板的尺寸為IlOOmmX 1300mm (主要配合第五代液晶面板生產(chǎn)線)；2、以O(shè)DF工藝(液晶滴下工藝)將二芳基乙烯溶液滴注在襯底基板上；3、在第二基板上涂覆封框膠，封框膠中混合有g(shù)lass fiber (玻璃纖維)，該封框膠尺寸50微米，可起支撐盒厚的作用。同時(shí)，以真空對(duì)盒的工藝將上下兩基板對(duì)盒，形成漏光檢測(cè)基板。又例如以無(wú)機(jī)物過(guò)渡金屬氧化物W03為光致變色材料層，以2張厚度為2_的石英板為襯底基板和第二基板，襯底基板和第二基板的尺寸為2200X2500 (配合第八代液晶面板生產(chǎn)線)；1、以旋涂工藝將W03的溶膠液涂覆到襯底基板上面；2、在160°C下對(duì)涂覆過(guò)W03的石英襯底基板加熱，待完其全干燥固化；3、在第二基板上涂覆封框膠，封框膠中混合有g(shù)lass fiber (玻璃纖維)，該封框膠尺寸50微米，可起支撐盒厚的作用。同時(shí)，以真空對(duì)盒的工藝將上下兩基板對(duì)盒，形成漏光檢測(cè)基板。實(shí)施例二 本實(shí)施例中的漏光檢測(cè)裝置是一種包括實(shí)施例一中所述的漏光檢測(cè)基板的漏光檢測(cè)裝置；實(shí)施例一中公開(kāi)的技術(shù)內(nèi)容不重復(fù)描述，實(shí)施例一公開(kāi)的內(nèi)容也屬于本實(shí)施例公開(kāi)的內(nèi)容。參見(jiàn)圖2所示，為本實(shí)施例所提供的一種漏光檢測(cè)裝置，該漏光檢測(cè)裝置包括漏光檢測(cè)基板11和圖案采集單元12，所述漏光檢測(cè)基板11如前一實(shí)施例所述，所述圖案采集單元12用于獲取所述漏光檢測(cè)基板上的圖案信息。所述圖案采集單元12優(yōu)選可以為照相機(jī)等具有圖像攝制功能的設(shè)備，其將漏光檢測(cè)基板上形成的圖案采集下來(lái)用于圖案的比對(duì)和檢查，以判斷紫外光掩膜設(shè)備是否有漏光現(xiàn)象。如圖2所述，優(yōu)選地，所述漏光檢測(cè)裝置還紫外光照射裝置7、用于承載基板的基臺(tái)5、用于為外圍遮擋紫外光的紫外光擋板6、與圖案采集單元12連接并輸出檢測(cè)結(jié)果的檢測(cè)結(jié)果單元8，以及控制各部分運(yùn)行的系統(tǒng)控制單元9 ；在所述基臺(tái)上由下至上依次(順序可根據(jù)實(shí)際需要調(diào)整)設(shè)有UVmask層10、漏光檢測(cè)基板11和圖案采集單元12所述UVmask層和漏光檢測(cè)基板呈層疊設(shè)置。本實(shí)施例中所述基臺(tái)可以是架設(shè)在紫外光擋板內(nèi)壁上的一個(gè)平面臺(tái)，在該平面臺(tái)對(duì)應(yīng)疊放UVmask層漏光檢測(cè)基板的部分采用透光度高的玻璃材料制成，也可采用其他高透光度的材料制成，本實(shí)施例中的UVmask層基臺(tái)的結(jié)構(gòu)屬于本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，此處不再過(guò)多贅述。本實(shí)施例中所述圖案采集單元用于獲取所述漏光檢測(cè)基板上的圖案信息。所述圖案采集單元包括一個(gè)對(duì)應(yīng)設(shè)置在漏光檢測(cè)基板上方的照相機(jī)14，該照相機(jī)通過(guò)連接桿15與所述裝置主體內(nèi)壁連接；該照相機(jī)上連接有數(shù)據(jù)傳輸線；所述照相機(jī)通過(guò)系統(tǒng)控制單元與所述檢測(cè)結(jié)果單元電連接。本實(shí)用新型采用圖案采集單元的設(shè)計(jì)，利用照相機(jī)隨時(shí)對(duì)固化過(guò)程中的漏光檢測(cè)基板進(jìn)行拍照取樣；同時(shí)將圖像信息通過(guò)系統(tǒng)控制單元傳送至檢測(cè)結(jié)果單元進(jìn)行顯像，生產(chǎn)人員能夠通過(guò)觀察圖片，及時(shí)獲知紫外光的具體照射區(qū)域，通過(guò)觀察漏光檢測(cè)基板上的顯色圖案、顯色位置，與在精準(zhǔn)照射情況下應(yīng)有的顯色圖案和顯色位置相比較，找到不同之處，即具體的漏光區(qū)域或光不足區(qū)域，從而有針對(duì)性地精準(zhǔn)調(diào)整UV mask的設(shè)計(jì)，提升產(chǎn)品的優(yōu)良率及顯示品質(zhì)。本實(shí)施例中的紫外光照射裝置主要包括UV燈管、燈罩，變壓器、電容器；該裝置安裝在所述基臺(tái)下方，與所述UVmask層、測(cè)試面板和漏光檢測(cè)基板位置對(duì)應(yīng)，該紫外光照射裝置發(fā)射的強(qiáng)紫外光由下向上照射，以此對(duì)UVmask層進(jìn)行紫外光照射作業(yè)；本實(shí)施例中所述的紫外光照射裝置，可發(fā)出用于檢測(cè)漏光的紫外光，將所述紫外光照射到待檢測(cè)的UVmask層上，其中透過(guò)所述UVmask層的紫外光照射到所述漏光檢測(cè)基板上；所述紫外光照射裝置通過(guò)電線與所述系統(tǒng)控制單元連接，并由系統(tǒng)控制單元控制其工作。本實(shí)施例中所述紫外光擋板將漏光檢測(cè)裝置各部件裝入其內(nèi)，尤其是紫外光照射裝置，由于紫外光照射裝置可發(fā)射高強(qiáng)度紫外光；因此，為避免光線外泄，對(duì)外部的人或物產(chǎn)生高溫燙傷，需在紫外光照射處多設(shè)紫外光擋板。本實(shí)施例中所述紫外光擋板設(shè)置在所述紫外光照射裝置、所述漏光檢測(cè)基板以及所述圖案采集單元的外圍，整體包圍上述各裝置。本實(shí)施例中所述檢測(cè)結(jié)果單元與所述圖案采集單元連接以顯示所述圖案采集單元所采集到的圖案信息；并將所述圖案信息與預(yù)先存儲(chǔ)的標(biāo)準(zhǔn)信息進(jìn)行比較，根據(jù)比較的結(jié)果輸出漏光檢測(cè)結(jié)果。關(guān)于本實(shí)施例中檢測(cè)結(jié)果單元的型號(hào)、規(guī)格等屬于本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，此處不再過(guò)多贅述。本實(shí)施例中所述的通風(fēng)裝置(屬于現(xiàn)有技術(shù)，圖中未顯示)，位于所述紫外光擋板的壁上，用于對(duì)所述紫外光擋板所圍的空間進(jìn)行通風(fēng)。本實(shí)施例中所述的傳送裝置(屬于現(xiàn)有技術(shù)，圖中未顯示)，用于將待檢測(cè)的UVmask層傳送到所述漏光檢測(cè)基板的光入射一側(cè)。本實(shí)施例中所述系統(tǒng)控制單元可用來(lái)控制漏光檢測(cè)裝置各部件工作，主要控制紫外光照射裝置、圖案采集單元、檢測(cè)結(jié)果單元、通風(fēng)裝置以及傳送裝置等部件的正常運(yùn)行；本實(shí)施例中所述系統(tǒng)控制單元與所述紫外光照射裝置和所述圖案采集單元連接，所述系統(tǒng)控制單元用于控制所述紫外光照射裝置發(fā)出所述紫外光，以及控制所述圖案采集單元獲取所述漏光檢測(cè)基板上的圖案信息。本實(shí)施例中關(guān)于本實(shí)施例中紫外光擋板、紫外光照射裝置、檢測(cè)結(jié)果單元、通風(fēng)裝置、傳送裝置以及系統(tǒng)控制單元的結(jié)構(gòu)、型號(hào)、規(guī)格等屬于本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)，此處不再過(guò)多贅述。本實(shí)施方式中所提供的漏光檢測(cè)基板可以應(yīng)用于紫外光固化裝置中，例如在紫外線固化裝置對(duì)具有待固化封框膠的顯示面板進(jìn)行固化處理之前，先把所述漏光檢測(cè)基板放置于待固化顯示面板的位置處，經(jīng)紫外光照射顯示顯色圖案后，將顯色圖案與應(yīng)有的準(zhǔn)確圖案相比較，或其他檢查方式，找出誤差的位置，即UVmask層的漏光位置或光不足位置，以對(duì)UVmask層進(jìn)行調(diào)整，調(diào)整之后再將其用于真正的固化過(guò)程，即可提高固化處理的精準(zhǔn)度，且提高生產(chǎn)效率；本實(shí)施方式中所提供的所述漏光檢測(cè)裝置還可以用作紫外光固化裝置，如圖2所述，所述紫外光固化裝置還包括待固化面板13，待固化面板13被置于所述UVmask層10和所述漏光檢測(cè)基板11之間，這樣不僅能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)待固化面板13進(jìn)行紫外線固化處理，還可以實(shí)現(xiàn)在對(duì)待固化面板13進(jìn)行固化的過(guò)程中或之后對(duì)UVmask層10的精準(zhǔn)度進(jìn)行檢測(cè)，也即對(duì)固化效果進(jìn)行檢測(cè)的目的。本實(shí)施例中所述的待固化面板13可以是TFT-1XD面板。
權(quán)利要求1.一種漏光檢測(cè)基板，包括襯底基板和形成于所述襯底基板上的光致變色材料層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的漏光檢測(cè)基板，其特征在于，還包括第二基板，覆蓋在所述光致變色材料層上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的漏光檢測(cè)基板，其特征在于，所述襯底基板和所述第二基板通過(guò)基板邊緣區(qū)域的封框膠粘結(jié)固定，所述封框膠的厚度不小于所述光致變色材料層的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的漏光檢測(cè)基板，其特征在于，所述漏光檢測(cè)基板是用于對(duì)紫外光掩膜設(shè)備進(jìn)行漏光檢測(cè)；所述光致變色材料層的材料至少包括光致變色螺吡喃聚合物、螺-惡嗪聚合物、二芳基乙烯光致變色聚合物、偶氮苯類(lèi)光致變色聚合物、苯氧基萘并萘醌光致變色聚合物、俘精酰亞胺光致變色共聚物、硫靛光致變色共聚物、雙硫腙光致變色聚合物、二氫吲嗪光致變色聚合物、W03、MoO3或Ti02中的一種。
5.一種漏光檢測(cè)裝置，包括如權(quán)利要求f 4任一項(xiàng)所述的漏光檢測(cè)基板；其特征在于， 所述漏光檢測(cè)裝置包括圖案采集單元，所述圖案采集單元用于獲取所述漏光檢測(cè)基板上的圖案信息。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漏光檢測(cè)裝置，其特征在于，還包括檢測(cè)結(jié)果單元，所述檢測(cè)結(jié)果單元與所述圖案采集單元連接以顯示所述圖案采集單元所采集到的圖案信息。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漏光檢測(cè)裝置，其特征在于，所述圖案采集單元為照相機(jī)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漏光檢測(cè)裝置，其特征在于，還包括紫外光照射裝置，用于發(fā)出用于固化封框膠的紫外光，將所述紫外光照射到待檢測(cè)的紫外光掩膜設(shè)備上，其中透過(guò)所述紫外光掩膜設(shè)備的紫外光照射到所述漏光檢測(cè)基板上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的漏光檢測(cè)裝置，其特征在于，還包括紫外光擋板，所述紫外光擋板設(shè)置在所述紫外光照射裝置、所述漏光檢測(cè)基板以及所述圖案采集單元的外圍。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的漏光檢測(cè)裝置，其特征在于，還包括通風(fēng)裝置，位于所述紫外光擋板的壁上，用于對(duì)所述紫外光擋板所圍的空間進(jìn)行通風(fēng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的漏光檢測(cè)裝置，其特征在于，還包括傳送裝置，所述傳送裝置用于將待檢測(cè)的紫外光掩膜設(shè)備傳送到所述漏光檢測(cè)基板的光入射一側(cè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的漏光檢測(cè)裝置，其特征在于，還包括系統(tǒng)控制單元，與所述紫外光照射裝置和所述圖案采集單元連接，所述系統(tǒng)控制單元用于控制所述紫外光照射裝置發(fā)出所述紫外光，以及控制所述圖案采集單元獲取所述漏光檢測(cè)基板上的圖案信息。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種漏光檢測(cè)基板及漏光檢測(cè)裝置，特別涉及一種對(duì)UVmask層進(jìn)行漏光檢測(cè)的漏光檢測(cè)基板及漏光檢測(cè)裝置；所述漏光檢測(cè)基板，用于對(duì)紫外光掩膜設(shè)備進(jìn)行漏光檢測(cè)，所述漏光檢測(cè)基板包括襯底基板和形成于所述襯底基板上的光致變色材料層；所述漏光檢測(cè)裝置，包括圖案采集單元，所述圖案采集單元用于獲取所述漏光檢測(cè)基板上的圖案信息。本實(shí)用新型采用漏光檢測(cè)基板的設(shè)計(jì)，利用光致變色材料層在強(qiáng)紫外光照射下的顏色可逆性，可有效檢測(cè)出UVmask層是否存在漏光區(qū)域，并以此調(diào)整UVmask層的設(shè)計(jì)。
文檔編號(hào)G02F1/13GK202837747SQ20122055794
公開(kāi)日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月26日
發(fā)明者石岳 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司