專利名稱：光柵尺、光學碼盤專用高精度高效率曝光機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
光柵尺、光學碼盤專用高精度高效率曝光機技術(shù)領(lǐng)域[0001]本發(fā)明涉及一種曝光設備，具體的說是一種光柵尺、光學碼盤專用高精度高效率曝光機。
背景技術(shù)：
[0002]隨著現(xiàn)代工業(yè)的高速發(fā)展，市場對光學傳感器的需求快速增加，從技術(shù)要求上精度越來越高，同時也對生產(chǎn)能力提出了更高要求。[0003]曝光機主要用于精密蝕刻中的曝光制版，獲得較高雙面曝光精度和良好效果，為蝕刻做好前道精密曝光制版工作。[0004]目前市場上使用的曝光機多為廠家自制的曝光設備，工作效率低，一次曝光一件， 曝光精度低，制作不出高精度的光學器件。發(fā)明內(nèi)容[0005]本發(fā)明的目的主要解決光柵尺和高脈沖光學碼盤碼道透光和不透光比例不均勻問題，同時解決曝光長尺和一次多件曝光問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡單合理、可實現(xiàn)高脈沖碼盤的大批量生產(chǎn)，降低費品率，工作效率高的光柵尺、光學碼盤專用高精度高效率曝光機。[0006]本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的，該曝光機包括機架、遮光罩、電控箱體、絲杠、柱面體棱鏡、高壓紫外線汞燈、燈盒、絲杠支撐座、導軌、透光支撐玻璃板和散熱風扇，所述的遮光罩罩在機架的外面，所述的透光支撐玻璃板水平設置在機架的臺面上，在機架上的兩根平行導軌設置在透光支撐玻璃板的下方，機架上的絲杠設置在兩根平行導軌的中間，絲杠支撐座與絲杠螺紋連接，在絲杠支撐座上設置有兩個立柱，連接燈盒的高壓紫外線汞燈設置在兩個立柱之間，柱面體棱鏡設置在兩個立柱的上面，且在以紫外線汞燈為焦點的位置上，散熱風扇設置在高壓紫外線汞燈的側(cè)面。[0007]本發(fā)明具有以下優(yōu)點和積極效果[0008]I、本發(fā)明主要解決高脈沖光柵尺和光學碼盤碼道透光和不透光比例不均勻問題， 同時解決曝光長尺問題，可達3-5米(只要加長絲杠長度，可以更長)，而且一次能多件曝光， 可實現(xiàn)高脈沖碼盤大批量生產(chǎn)，降低費品率，也解決工作效率低的問題，相比以前的各廠家自制的曝光設備有效率高，曝光精度高等優(yōu)點。[0009]2、本發(fā)明把柱面棱鏡放在高壓紫外線汞燈的焦點處，讓紫外光線透過柱面棱鏡后行成一組平行光速，功率最強處平行照射到曝光物件上，同時由絲杠帶動整體安裝在一起的柱面棱鏡和高壓汞燈及散熱風扇勻速運動，運動速度及距離可通過控制器事先編好的程序進行。


[0010]圖I是光柵尺、光學碼盤專用高精度高效率曝光機整體結(jié)構(gòu)示意圖。[0011]圖2是本發(fā)明遮光罩剖開的曝光機外形圖。[0012]圖3是本發(fā)明圖I另一角度結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
[0013]由附圖I、2所示該曝光機包括機架I、遮光罩2、電控箱體(電機加控制器)3、絲杠4、柱面體棱鏡5、高壓紫外線汞燈6、燈盒7、絲杠支撐座8、導軌9、透光支撐玻璃板10和散熱風扇11，所述的遮光罩2罩在機架I的外面，所述的透光支撐玻璃板10水平設置在機架I的臺面上，在機架I上的兩根平行導軌9設置在透光支撐玻璃板10的下方，機架I上的絲杠4設置在兩根平行導軌9的中間，絲杠支撐座8與絲杠4螺紋連接，在絲杠支撐座8 上設置有兩個立柱12，連接燈盒7的高壓紫外線汞燈6設置在兩個立柱12之間，柱面體棱鏡5設置在兩個立柱12的上面，且在以紫外線汞燈6為焦點的位置上，散熱風扇11設置在高壓紫外線汞燈6的側(cè)面。[0014]所述的電控箱體3內(nèi)部有單片機，單片機內(nèi)部有控制點擊正反轉(zhuǎn)及速度的程序， 以便控制曝光的速度和時間。[0015]工作過程[0016]首先接通220V電源，打開電源開關(guān)，綠色指示燈亮，同時紫外線高壓汞燈也通電加熱，此時把模板(對稱工作板)放在透光支撐玻璃板10的光線能照射區(qū)域按順序排列好， 可以二到三排(根據(jù)工件大小而定)。然后把被曝光器件放在工作板上面，使用工裝保證其上下同圓，再用壓陀壓緊在工件上面，放下遮光罩2，按下工作開關(guān)，電機轉(zhuǎn)動，此時高壓汞燈與柱面棱鏡5及散熱風扇11 一起在絲母的帶動下，會以事先程序設定好的速度及方向滑動，走完程序后，電機會自動反方向運動返回到初始位置，等待下一次指令，這樣一次曝光完成。
權(quán)利要求1.一種光柵尺、光學碼盤專用高精度高效率曝光機，其特征在于該曝光機包括機架(I)、遮光罩(2)、電控箱體(3)、絲杠(4)、柱面體棱鏡(5)、高壓紫外線汞燈(6)、燈盒(7)、絲杠支撐座(8)、導軌(9)、透光支撐玻璃板(10)和散熱風扇(11),所述的遮光罩(2)罩在機架(I)的外面，所述的透光支撐玻璃板(10)水平設置在機架(I)的臺面上，在機架(I)上的兩根平行導軌(9)設置在透光支撐玻璃板(10)的下方，機架(I)上的絲杠(4)設置在兩根平行導軌(9)的中間，絲杠支撐座(8)與絲杠(4)螺紋連接，在絲杠支撐座(8)上設置有兩個立柱(12 )，連接燈盒(7 )的高壓紫外線汞燈(6 )設置在兩個立柱(12 )之間，柱面體棱鏡(5 )設置在兩個立柱(12)的上面，且在以紫外線汞燈(6)為焦點的位置上，散熱風扇(11)設置在高壓紫外線汞燈(6)的側(cè)面。
專利摘要本實用新型涉及一種曝光設備，具體的說是一種光柵尺、光學碼盤專用高精度高效率曝光機。該曝光機包括機架、遮光罩、電控箱體、絲杠、柱面體棱鏡、高壓紫外線汞燈、燈盒、絲杠支撐座、導軌、透光支撐玻璃板和散熱風扇，本實用新型主要解決光柵尺和高脈沖光學碼盤碼道透光和不透光比例不均勻問題，同時解決曝光長尺和一次多件曝光問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡單合理、可實現(xiàn)高脈沖碼盤的大批量生產(chǎn)，降低費品率，工作效率高。
文檔編號G03F7/20GK202815411SQ201220448218
公開日2013年3月20日 申請日期2012年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月5日
發(fā)明者倪國東 申請人:長春榮德光學有限公司