專利名稱:一種投影光學系統(tǒng)的制作方法
一種投影光學系統(tǒng)技術領域、
本發(fā)明涉及光刻系統(tǒng)中的投影光學系統(tǒng),尤其涉及一種高分辨率的投影光學系統(tǒng)。
背景技術:
自70年代集成電路IC問世以來,經歷了從小規(guī)模到超大規(guī)模的發(fā)展階段,其進步得益于光刻的飛速發(fā)展。光刻是大規(guī)模集成電路制造中最重要的工序之一,光刻中使用的曝光設備,通過投影光學系統(tǒng)以分步重復或掃描方式將掩模上圖形準確投影到涂有光刻膠的硅片上進行曝光,曝光質量的好壞對后續(xù)的顯影、刻蝕、去膠工藝影響很大。隨著集成電路制造的發(fā)展,對投影光學系統(tǒng)的分辨率要求也越來越高。根據(jù)瑞利法則,分辨率表達式如下
R = Ic1 λ /NA
上式中R代表光刻機的分辨率,Ic1代表工藝因子,λ代表投影光學系統(tǒng)的工作波長,NA代表投影光學系統(tǒng)的數(shù)值孔徑。所以,為了提高分辨率,需要將光源的波長縮短或將投影光學系統(tǒng)的數(shù)值孔徑增大。在過去的30多年中,投影光學系統(tǒng)波長已從436nm(g線) 縮短到365nm(i線)、進而轉向深紫外波段的248nm(KrF準分子激光)、193nm(ArF準分子激光)。數(shù)值孔徑由最初的O. 3逐漸增大,但是,采用大數(shù)值孔徑的投影光學系統(tǒng)必須使用更多的鏡片來校正系統(tǒng)的各種像差以獲得波像差RMS和畸變均控制在Inm內的高像質要求的投影光學系統(tǒng)。在美國專利US6349005B1中,實施例3所述的投影光學系統(tǒng)的工作波長為 248. 38nm,由31片鏡片構成,但波像差RMS與畸變都較大。波像差RMS約13m λ,即3. 2nm, 畸變約為3nm。數(shù)值孔徑僅為O. 7。在美國的另一專利US6522484B1中,實施例6所述的投影光學系統(tǒng)的工作波長為193nm,由31片鏡片構成,但畸變仍然較大,約為2nm。數(shù)值孔徑僅為O. 7。在上述的兩專利中,雖然投影光學系統(tǒng)的鏡片數(shù)量都超過了 30片,但波像差RMS 與畸變仍然較大,不滿足要求;同時,鏡片數(shù)量太多,加工、檢測及裝調成本也跟著增加。并且,兩個投影光學系統(tǒng)的數(shù)值孔徑都只有O. 7。另外,專利US6522484B1中實施例6所述的投影光學系統(tǒng),物方工作距和像方工作距僅為13mm、12mm,物方工作距和像方工作距太短, 給掩模和硅片工件臺的設計及加工、掩模和硅片的定位控制帶來很大的困難。發(fā)明內容
為了解決現(xiàn)有技術方案中投影光學系統(tǒng)鏡片數(shù)量過多、波像差RMS與畸變較大、 數(shù)值孔徑較小、物方工作距和像方工作距太短的問題,本發(fā)明的目的在于提供一種鏡片數(shù)量較少、波像差RMS與畸變較小、數(shù)值孔徑更大的投影光學系統(tǒng)。此外,該投影光學系統(tǒng)還能提供較大的物方和像方工作距,這大大降低了掩模和硅片工件臺的設計及加工難度、掩模和硅片的定位控制難度,并且該投影光學系統(tǒng)還能提供高分辨率。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種投影光學系統(tǒng),用于將物面內的圖案投射到像平面上,沿投影光學系統(tǒng)光軸方向安置有第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、第四透鏡組和第五透鏡組,并且第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、第四透鏡組和第五透鏡組處于同一光軸,從光束入射方向順序第一透鏡組具有負光焦度、第二透鏡組具有正光焦度、第三透鏡組具有負光焦度、第四透鏡組具有正光焦度和第五透鏡組具有正光焦度,其中第一透鏡組,接收輸入光束,對物面發(fā)出的光束進行發(fā)散,得到并輸出第一發(fā)散光束;第二透鏡組,接收第一發(fā)散光束,對第一發(fā)散光束進行發(fā)散,得到并輸出第二發(fā)散光束;第三透鏡組, 接收第二發(fā)散光束,對第二發(fā)散光束進行會聚,得到并輸出第一會聚光束;第四透鏡組,接收第一會聚光束,對第一會聚光束進行發(fā)散,得到并輸出第三發(fā)散光束;第五透鏡組,接收第三發(fā)散光束,對第三發(fā)散光束進行會聚,得到第二會聚光束,并將第二會聚光束會聚到像面。
本發(fā)明采用的上述技術方案與現(xiàn)有技術相比,具有以下的優(yōu)點
I、本發(fā)明的投影光學系統(tǒng)的五個透鏡組Gl至G5僅采用二十一片透鏡,但投影光學系統(tǒng)的波像差RMS減小到了 O. 8nm,投影光學系統(tǒng)的畸變減小到了 O. 6nm。
2、本發(fā)明的數(shù)值孔徑更大,可達到O. 75。
3、本發(fā)明的投影光學系統(tǒng)物方和像方工作距分別增加到了 68mm、18mm,給掩模和硅片工件臺的設計及加工提供了更大的自由度,降低了掩模和硅片的定位控制難度。、
4、本發(fā)明的投影光學系統(tǒng),采用了三個非球面,以滿足投影光學系統(tǒng)的波像差RMS 和畸變均控制在Inm內的高成像質量要求,本發(fā)明的結構大大減少了鏡片的數(shù)量,且系統(tǒng)沒有膠合元件。因此整個系統(tǒng)結構簡單,降低了加工、檢測、裝調成本。5、本發(fā)明的投影光學系統(tǒng)中所有透鏡只使用同一種材料,降低了加工、檢測成本。
圖1為本發(fā)明的投影光學系統(tǒng)的結構示意圖2a、圖2b為投影光學系統(tǒng)在全視場范圍內光學調制傳遞函數(shù)示意圖
圖3為投影光學系統(tǒng)像散、場曲與畸變示意圖4為顯影后的線條外形;
圖5為系統(tǒng)的工藝窗口。
圖中部件說明
1-第一正透鏡、2_第一彎月透鏡、
3-第一負透鏡、4_第二負透鏡、
5_第二正透鏡、6_第三正透鏡、
7-第四正透鏡、8-第五正透鏡、
9-第二負透鏡、10-第四負透鏡、
11-第五負透鏡z、12-第二彎月透鏡、
13-第六正透鏡、14-第七正透鏡、
15-第三彎月透鏡16-第八正透鏡、
17-第九正透鏡、18-第十正透鏡、
19-第六負透鏡、20-第四彎月透鏡、
21-第i^一正透鏡。
具體實施方式
為了更好地說明本發(fā)明的目的和優(yōu)點,下面將結合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作進一步描述。
圖1為本發(fā)明投影光學系統(tǒng)結構示意圖,投影光學系統(tǒng)用于將物面內的圖案投射到像平面上,沿投影光學系統(tǒng)光軸方向安置有第一透鏡組G1、第二透鏡組G2、第三透鏡組 G3、第四透鏡組G4和第五透鏡組G5,并且第一透鏡組Gl、第二透鏡組G2、第三透鏡組G3、第四透鏡組G4和第五透鏡組處于同一光軸,從光束入射方向順序第一透鏡組Gl具有負光焦度、第二透鏡組G2具有正光焦度、第三透鏡組G3具有負光焦度、第四透鏡組G4具有正光焦度和第五透鏡組G5具有正光焦度,其中第 一透鏡組G1,接收輸入光束,對物面發(fā)出的光束進行發(fā)散,得到并輸出第一發(fā)散光束;第二透鏡組G2,接收第一發(fā)散光束,對第一發(fā)散光束進行發(fā)散,得到并輸出第二發(fā)散光束;第三透鏡組G3,接收第二發(fā)散光束,對第二發(fā)散光束進行會聚,得到并輸出第一會聚光束;第四透鏡組G4,接收第一會聚光束,對第一會聚光束進行發(fā)散,得到并輸出第三發(fā)散光束;第五透鏡組G5,接收第三發(fā)散光束,對第三發(fā)散光束進行會聚,得到第二會聚光束,并將第二會聚光束會聚到像面。
在上述的投影光學系統(tǒng)中,透鏡組Gl至G5共使用21片透鏡,所述21片透鏡包括第一正透鏡I、第一彎月透鏡2、第一負透鏡3、第二負透鏡4、第二正透鏡5、第三正透鏡6、 第四正透鏡7、第五正透鏡8、第三負透鏡9、第四負透鏡10、第五負透鏡11、第二彎月透鏡 12、第六正透鏡13、第七正透鏡14、第三彎月透鏡15、第八正透鏡16、第九正透鏡17、第十正透鏡18、第六負透鏡19、第四彎月透鏡20、第i^一正透鏡21。
在上述的投影光學系統(tǒng)中,第一透鏡組Gl包括第一正透鏡I、第一彎月透鏡2、第一負透鏡3和第二負透鏡4 ;第一彎月透鏡2的出射面為第一非球面,利用第一非球面校正投影光學系統(tǒng)的像散、慧差、畸變。物面發(fā)出的光束依次經過第一正透鏡I、第一彎月透鏡 2、第一負透鏡3、第二負透鏡4實現(xiàn)四次發(fā)散,用于生成第一發(fā)散光束,并由第二負透鏡4輸出第一發(fā)散光束,所述第一發(fā)散光束寬度大于物面發(fā)出的光束的寬度。第一透鏡組Gl中, 第二負透鏡4的通光口徑最大,達到了 153.4mm。
在上述的投影光學系統(tǒng)中,第二透鏡組G2包括第二正透鏡5、第三正透鏡6 ;經第二負透鏡4出射的第一發(fā)散光束依次經過第二正透鏡5、第三正透鏡6實現(xiàn)兩次發(fā)散,用于生成第二發(fā)散光束,并由第三正透鏡6輸出第二發(fā)散光束,所述第二發(fā)散光束寬度大于第一發(fā)散光束的寬度。第二透鏡組G2中,第三正透鏡6的通光口徑最大,達到了 255. 6mm。
在上述的投影光學系統(tǒng)中,第三透鏡組G3包括第四正透鏡7、第五正透鏡8、第三負透鏡9、第四負透鏡10 ;經第三正透鏡6出射的第二發(fā)散光束依次經過第四正透鏡7、第五正透鏡8、第三負透鏡9、第四負透鏡10實現(xiàn)四次會聚,用于生成第一會聚光束,并由第四負透鏡10輸出第一會聚光束,第一會聚光束寬度小于第二發(fā)散光束的寬度。第三透鏡組G3 中,第四負透鏡10的通光口徑最小,達到了 119mm。
在上述的投影光學系統(tǒng)中,第四透鏡組G4包括第五負透鏡11、第二彎月透鏡12、 第六正透鏡13、第七正透鏡14,經第四負透鏡10出射的第一會聚光束依次經過第五負透鏡 11、第二彎月透鏡12、第六正透鏡13、第七正透鏡14實現(xiàn)四次發(fā)散,用于生成第三發(fā)散光束,并由第七正透鏡14輸出第三發(fā)散光束;所述第三發(fā)散光束寬度大于第一會聚光束的寬度。第四透鏡組G4中,第七正透鏡14的通光口徑最大,達到了 234.8mm。
在上述的投影光學系統(tǒng)中,所述第五透鏡組G5包括第三彎月透鏡15、第八正透鏡 16、第九正透鏡17、第十正透鏡18、第六負透鏡19、第四彎月透鏡20、第十一正透鏡21 ’第十正透鏡18的入射面為第二非球面,利用第二非球面校正投影光學系統(tǒng)的球差、慧差、匹茲凡場曲;第六負透鏡19的出射面為第三非球面,利用第三非球面校正投影光學系統(tǒng)的球差、慧差、像散;經第七正透鏡14出射的第三發(fā)散光束依次經過第三彎月透鏡15、第八正透鏡16、第九正透鏡17、第十正透鏡18、第六負透鏡19、第四彎月透鏡20實現(xiàn)六次會聚,用于生成第二會聚光束,并由第四彎月透鏡20輸出第二會聚光束,第i^一正透鏡21將第二會聚光束輸出到像面上,所述第二會聚光束寬度小于第三發(fā)散光束的寬度。第五透鏡組G5中, 第H 正透鏡21的通光口徑最小,達到了 97mm。
在上述的投影光學系統(tǒng)中的五個透鏡組Gl至G5共采用21片鏡片,每一鏡片都是折射式鏡片,沒有反射式鏡片。采用全折射式鏡片降低了投影光學系統(tǒng)的加工、檢測、裝調成本。
在上述的投影光學系統(tǒng)中,在第七正透鏡14和第三彎月透鏡15之間設置孔徑光闌。所述投影光學系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為O. 75。
第一透鏡組Gl、第二透鏡組G2、第三透鏡組G3、第四透鏡組G4和到第五透鏡組G5 分別采用折射率大于1. 5的光學材料制成的透鏡組,所述光學材料是熔石英、氟化鈣、氟化鋇中的一種,或是熔石英和氟化鈣、熔石英和氟化鋇、氟化鈣和氟化鋇、熔石英和氟化鈣及氟化鋇中的一種組合。
本發(fā)明的投影光學系統(tǒng)實施例的工作過程為將物即掩模放于物鏡系統(tǒng)的第一正透鏡I前68mm處,各視場中心光線垂直入射第一正透鏡I,光線經過第一透鏡組Gl發(fā)散后進入第二透鏡組G2,第二透鏡組G2繼續(xù)對光線進行發(fā)散。發(fā)散光束經過第三透鏡組G3聚焦后,此時光學系統(tǒng)的通光口徑達到最小。聚焦后的光束經第四透鏡組G4發(fā)散到達系統(tǒng)的孔徑光闌處,發(fā)散光束經第五透鏡組G5折射聚焦,縮小四倍成像在第十一正透鏡21后的像面即硅片上。該投影光學系統(tǒng)為物方和像方雙遠心結構。
為了提高分辨率,本發(fā)明的投影光學系統(tǒng)采用工作波長為193. 4nm的ArF準分子激光作為光源,數(shù)值孔徑為O. 75。為了降低掩模和硅片工件臺的設計及加工、掩模和硅片的定位控制難度,將物方和像方工作距分別增大至68mm和18mm。
為了降低加工、檢測、裝調成本,同時又滿足大數(shù)值孔徑、波像差RMS和畸變均控制在Inm內的高像質要求,本發(fā)明的投影光學系統(tǒng)所有透鏡均處于同一光軸,僅由二十一片透鏡組成,采用了三片含非球面的透鏡。第一非球面位于第一彎月透鏡2的出射面,利用第一非球面校正投影光學系統(tǒng)的像散、慧差、畸變。第二非球面位于第十正透鏡18的入射面,利用第二非球面校正投影光學系統(tǒng)的球差、慧差、匹茲凡場曲。第三非球面位于第六負透鏡19的出射面,利用第三非球面校正投影光學系統(tǒng)的球差、慧差、像散。當然,非球面的位置和數(shù)量可變換,但是投影光學系統(tǒng)的第一透鏡組Gl或第二透鏡組G2至少有I個非球面,第五透鏡組G5至少有I個非球面。因為,只有采用這種結構,才能保證投影光學系統(tǒng)既滿足數(shù)值孔徑為O. 75的大數(shù)值孔徑需求,又滿足波像差RMS與畸變均控制在Inm以內的高像質要求。例如,所述非球面的數(shù)量還可以是四個非球面,非球面的位置是第一非球面位于第一彎月透鏡2的入射面,第二非球面位于第三正透鏡6的出射面,第三非球面位于第三彎月透鏡15的出射面,第四非球面位于第九正透鏡17的入射面。
為了制造方便和降低加工、檢測成本,所述投影光學系統(tǒng)中所有透鏡均使用熔石英(折射率為1.5602)作為透鏡材料。當然,也可采用氟化鈣或氟化唄,或者是組合使用熔石英和氟化鈣、熔石英和氟化鋇、氟化鈣和氟化鋇、熔石英和氟化鈣及氟化鋇,尤其是投影光學系統(tǒng)的工作波長不是單波長,而是在一定的光譜范圍內時,最好采用上述提到的材料的兩兩組合,或同時使用三種材料,這利于投影光學系統(tǒng),在光學設計中,對于多波長系統(tǒng), 必須要用兩種或兩種以上的材料來校正色差。
本實施例通過以下技術措施實現(xiàn)照明光源為ArF激光器,光源波長為193. 4nm, 投影光學系統(tǒng)的數(shù)值孔徑NA = O. 75,波像差RMS為O. 8nm,畸變?yōu)镺. 6nm,投影光學系統(tǒng)縮小倍率為4倍。
表I給出了本實施例的投影光學系統(tǒng)的每一片透鏡的具體參數(shù)值。表中的“序號” 是從光線入射端開始排列,第一正透鏡I的光束入射面為序號SI,光束出射面為序號S2, 其它鏡面序號以此類推;“半徑”分別給出每個表面所對應的曲率半徑;“間距”給出相鄰兩個表面之間沿光軸的中心距離,如果兩個表面屬于同一塊鏡片,則間距表示該鏡片的厚度。 如果兩個表面不屬于同一鏡片,則間距表示相鄰兩鏡片之間的距離。各透鏡的具體參數(shù)如下
表I
權利要求
1.一種投影光學系統(tǒng),其特征在于用于將物面內的圖案投射到像平面上,沿投影光學系統(tǒng)光軸方向安置有第一透鏡組(G1)、第二透鏡組(G2)、第三透鏡組(G3)、第四透鏡組(G4)和第五透鏡組(G5),并且第一透鏡組(Gl)、第二透鏡組(G2)、第三透鏡組(G3)、第四透鏡組(G4)和第五透鏡組(G5)處于同一光軸,從光束入射方向順序第一透鏡組(Gl)具有負光焦度、第二透鏡組(G2)具有正光焦度、第三透鏡組(G3)具有負光焦度、第四透鏡組(G4)具有正光焦度和第五透鏡組(G5)具有正光焦度,其中 第一透鏡組(Gl),接收輸入光束,對物面發(fā)出的光束進行發(fā)散,得到并輸出第一發(fā)散光束; 第二透鏡組(G2),接收第一發(fā)散光束,對第一發(fā)散光束進行發(fā)散,得到并輸出第二發(fā)散光束; 第三透鏡組(G3),接收第二發(fā)散光束,對第二發(fā)散光束進行會聚,得到并輸出第一會聚光束; 第四透鏡組(G4),接收第一會聚光束,對第一會聚光束進行發(fā)散,得到并輸出第三發(fā)散光束; 第五透鏡組(G5),接收第三發(fā)散光束,對第三發(fā)散光束進行會聚,得到第二會聚光束,并將第二會聚光束會聚到像面。
2.根據(jù)權利要求I所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,所述第一透鏡組(Gl)包括第一正透鏡(I)、第一彎月透鏡(2)、第一負透鏡(3)和第二負透鏡(4);第一彎月透鏡(2)的出射面為第一非球面,利用第一非球面校正投影光學系統(tǒng)的像散、慧差、畸變;物面發(fā)出的光束依次經過第一正透鏡(I)、第一彎月透鏡(2)、第一負透鏡(3)、第二負透鏡(4)實現(xiàn)四次發(fā)散,用于生成第一發(fā)散光束,并由第二負透鏡(4)輸出第一發(fā)散光束,所述第一發(fā)散光束寬度大于物面發(fā)出的光束的寬度。
3.根據(jù)權利要求2所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,所述第二透鏡組(G2)包括第二正透鏡(5)、第三正透鏡¢);經第二負透鏡(4)出射的第一發(fā)散光束依次經過第二正透鏡(5)、第三正透鏡(6)實現(xiàn)兩次發(fā)散,用于生成第二發(fā)散光束,并由第三正透鏡(6)輸出第二發(fā)散光束,所述第二發(fā)散光束寬度大于第一發(fā)散光束的寬度。
4.根據(jù)權利要求3所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,所述第三透鏡組(G3)包括第四正透鏡(7)、第五正透鏡(8)、第三負透鏡(9)、第四負透鏡(10);經第三正透鏡(6)出射的第二發(fā)散光束依次經過第四正透鏡(7)、第五正透鏡(8)、第三負透鏡(9)、第四負透鏡(10)實現(xiàn)四次會聚,用于生成第一會聚光束,并由第四負透鏡(10)輸出第一會聚光束,所述第一會聚光束寬度小于第二發(fā)散光束的寬度。
5.根據(jù)權利要求4所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,所述第四透鏡組(G4)包括第五負透鏡(11)、第二彎月透鏡(12)、第六正透鏡(13)、第七正透鏡(14),經第四負透鏡(10)出射的第一會聚光束依次經過第五負透鏡(11)、第二彎月透鏡(12)、第六正透鏡(13)、第七正透鏡(14)實現(xiàn)四次發(fā)散,用于生成第三發(fā)散光束,并由第七正透鏡(14)輸出第三發(fā)散光束;所述第三發(fā)散光束寬度大于第一會聚光束的寬度。
6.根據(jù)權利要求5所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,所述第五透鏡組(G5)包括第三彎月透鏡(15)、第八正透鏡(16)、第九正透鏡(17)、第十正透鏡(18)、第六負透鏡(19)、第四彎月透鏡(20)、第十一正透鏡(21);第十正透鏡(18)的入射面為第二非球面,利用第二非球面校正投影光學系統(tǒng)的球差、慧差、匹茲凡場曲;第六負透鏡(19)的出射面為第三非球面,利用第三非球面校正投影光學系統(tǒng)的球差、慧差、像散。經第七正透鏡(14)出射的第三發(fā)散光束依次經過第三彎月透鏡(15)、第八正透鏡(16)、第九正透鏡(17)、第十正透鏡(18)、第六負透鏡(19)、第四彎月透鏡(20)實現(xiàn)六次會聚,用于生成第二會聚光束,并由第四彎月透鏡(20)輸出第二會聚光束,第十一正透鏡(21)將第二會聚光束輸出到像面上,所述第二會聚光束寬度小于第三發(fā)散光束的寬度。
7.根據(jù)權利要求6所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,所述透鏡(I)至(21)分別采用折射式鏡片,沒有反射式鏡片。
8.根據(jù)權利要求6所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,在第七正透鏡(14)和第三彎月透鏡(15)之間設置孔徑光闌。
9.根據(jù)權利要求I所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為0.75。
10.根據(jù)權利要求I所述的投影光學系統(tǒng),其特征在于,所述第一透鏡組(G1)、第二透鏡組(G2)、第三透鏡組(G3)、第四透鏡組(G4)和到第五透鏡組(G5)分別采用折射率大于I.5的光學材料制成的透鏡組,所述光學材料是熔石英、氟化鈣、氟化鋇中的一種,或是熔石英和氟化鈣、熔石英和氟化鋇、氟化鈣和氟化鋇、熔石英和氟化鈣及氟化鋇中的一種組合。
全文摘要
本發(fā)明提供一種投影光學系統(tǒng),沿投影光學系統(tǒng)光軸方向依次安置第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、第四透鏡組、第五透鏡組并處于同一光軸;第一透鏡組和第三透鏡組具有負光焦度;第二透鏡組、第四透鏡組和第五透鏡組具有正光焦度;第一透鏡組接收輸入光束并輸出第一發(fā)散光束;第二透鏡組接收第一發(fā)散光束并輸出第二發(fā)散光束;第三透鏡組接收第二發(fā)散光束并輸出第一會聚光束;第四透鏡組接收第一會聚光束并輸出第三發(fā)散光束;第五透鏡組接收第三發(fā)散光束并輸出第二會聚光束,將第二會聚光束會聚到像面。本發(fā)明在高分辨率和大數(shù)值孔徑的條件下,有效地減少鏡片數(shù)量、降低系統(tǒng)的加工、檢測、裝調成本,同時也能提供較大的物方和像方工作距。
文檔編號G02B13/18GK102981249SQ20121036071
公開日2013年3月20日 申請日期2012年9月21日 優(yōu)先權日2012年9月21日
發(fā)明者冉英華, 邢廷文, 張海波, 呂保斌, 陳紅麗, 白瑜 申請人:中國科學院光電技術研究所