光學(xué)裝置、投影光學(xué)系統(tǒng)、曝光裝置和制造物品的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種使反射鏡的反射表面變形的光學(xué)裝置、使用該光學(xué)裝置的投影光 學(xué)系統(tǒng)和曝光裝置、以及制造物品的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 為了改進(jìn)用于制造半導(dǎo)體器件等的曝光裝置的分辨率，需要校正曝光裝置中的投 影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)像差。日本專利公開No. 2005-4146提出了通過使投影光學(xué)系統(tǒng)中所 包括的反射鏡的反射表面變形來校正投影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)像差的光學(xué)裝置。
[0003] 在日本專利公開No. 2005-4146中所描述的光學(xué)裝置中，反射鏡在其外周部分由 支撐構(gòu)件支撐，并且提供了向反射鏡的背面（在反射表面的相反側(cè)的面）施加力的多個(gè)有 源致動(dòng)器和多個(gè)無源致動(dòng)器。無源致動(dòng)器用于校正其中形狀波動(dòng)相對(duì)于時(shí)間的流逝小的反 射鏡形狀誤差，諸如由反射鏡的組裝或過程引起的誤差。另一方面，有源致動(dòng)器用于校正其 中形狀波動(dòng)相對(duì)于時(shí)間的流逝大的反射鏡形狀誤差，諸如在使單個(gè)襯底曝光的時(shí)間段期間 引起的誤差。
[0004] 因?yàn)橐笃毓庋b置實(shí)時(shí)地精確地校正投影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)像差，所以光學(xué)裝置 需要快速地精確地使投影光學(xué)系統(tǒng)中所使用的反射鏡的反射表面變形。為了實(shí)現(xiàn)這，反射 鏡的反射表面相對(duì)于致動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)的變形量（反射鏡的敏感度）可以小，并且可以易于執(zhí) 行驅(qū)動(dòng)控制。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，在反射鏡的中心部分通過固定構(gòu)件固定到基板的光學(xué) 裝置中，可以通過在遠(yuǎn)離反射鏡的中心的位置處布置在接收到單位量的外力時(shí)其變形量小 (即，具有高剛性）的致動(dòng)器來降低反射鏡的敏感度。日本專利公開No. 2005-4146中沒有 描述如此降低反射鏡的敏感度的構(gòu)思。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明提供一種例如有利于快速地精確地使反射鏡的反射表面變形的光學(xué)裝置。
[0006] 根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種使反射鏡的反射表面變形的光學(xué)裝置，該光學(xué)裝 置包括：基板；固定構(gòu)件，其被配置為將反射鏡的包括反射鏡的中心的部分固定到基板；以 及多個(gè)致動(dòng)器，每個(gè)致動(dòng)器具有連接到反射鏡的第一端和連接到基板的第二端，并且被配 置為向在反射表面的相反側(cè)的背面施加力，其中，所述多個(gè)致動(dòng)器包括多個(gè)第一致動(dòng)器和 多個(gè)第二致動(dòng)器，當(dāng)接收到單位量的外力時(shí)，第二致動(dòng)器的第一端與第二端之間的距離的 改變大于第一致動(dòng)器的第一端與第二端之間的距離的改變，并且所述多個(gè)第一致動(dòng)器被布 置為使得每個(gè)第一致動(dòng)器與反射鏡的中心之間的距離比反射鏡的中心與反射鏡的外周之 間的距離的一半長。
[0007] 根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種使反射鏡的反射表面變形的光學(xué)裝置，該光學(xué)裝 置包括：基板；固定構(gòu)件，其被配置為將反射鏡的包括反射鏡的中心的部分固定到基板；以 及多個(gè)致動(dòng)器，每個(gè)致動(dòng)器具有連接到反射鏡的第一端和連接到基板的第二端，并且被配 置為向在反射表面的相反側(cè)的背面施加力，其中，所述多個(gè)致動(dòng)器包括多個(gè)第一致動(dòng)器和 多個(gè)第二致動(dòng)器，當(dāng)接收到單位量的外力時(shí)，第二致動(dòng)器的第一端與第二端之間的距離的 改變大于第一致動(dòng)器的第一端與第二端之間的距離的改變，并且所述多個(gè)第一致動(dòng)器和所 述多個(gè)第二致動(dòng)器被布置為使得每個(gè)第一致動(dòng)器與反射鏡的中心之間的距離大于或等于 各個(gè)第二致動(dòng)器與反射鏡的中心之間的距離之中的最大值。
[0008] 根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種制造物品的方法，該方法包括：使用曝光裝置在襯 底上形成圖案；并且對(duì)其上已經(jīng)形成所述圖案的襯底進(jìn)行處理，以制造所述物品，其中，所 述曝光裝置使襯底曝光，并且包括包含光學(xué)裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)，其中，所述光學(xué)裝置使反 射鏡的反射表面變形，并且包括：基板；固定構(gòu)件，其被配置為將反射鏡的包括反射鏡的中 心的部分固定到基板；以及多個(gè)致動(dòng)器，每個(gè)致動(dòng)器具有連接到反射鏡的第一端和連接到 基板的第二端，并且被配置為向在反射表面的相反側(cè)的背面施加力，其中，所述多個(gè)致動(dòng)器 包括多個(gè)第一致動(dòng)器和多個(gè)第二致動(dòng)器，當(dāng)接收到單位量的外力時(shí)，第二致動(dòng)器的第一端 與第二端之間的距離的改變大于第一致動(dòng)器的第一端與第二端之間的距離的改變，并且所 述多個(gè)第一致動(dòng)器被布置為使得每個(gè)第一致動(dòng)器與反射鏡的中心之間的距離比反射鏡的 中心與反射鏡的外周之間的距離的一半長。
[0009] 從以下參照附圖對(duì)示例性實(shí)施例的描述，本發(fā)明的進(jìn)一步的特征將變得清楚。
【附圖說明】
[0010] 圖1A是示出第一實(shí)施例中的光學(xué)裝置的示例性配置的示意圖。
[0011] 圖1B是示出第一實(shí)施例中的光學(xué)裝置中的多個(gè)致動(dòng)器的示例性布置的示圖。
[0012] 圖2是示出第一致動(dòng)器經(jīng)由鉸鏈構(gòu)件連接到反射鏡和基板的配置的示意圖。
[0013] 圖3是示出第一實(shí)施例中的光學(xué)裝置的示例性配置的示意圖。
[0014] 圖4A是示出與第一致動(dòng)器和第二致動(dòng)器的布置相關(guān)的分析模型1的示圖。
[0015] 圖4B是示出與第一致動(dòng)器和第二致動(dòng)器的布置相關(guān)的分析模型1的示圖。
[0016] 圖5A是示出與第一致動(dòng)器和第二致動(dòng)器的布置相關(guān)的分析模型2的示圖。
[0017] 圖5B是示出與第一致動(dòng)器和第二致動(dòng)器的布置相關(guān)的分析模型2的示圖。
[0018] 圖6A是示出與第一致動(dòng)器和第二致動(dòng)器的布置相關(guān)的分析模型3的示圖。
[0019] 圖6B是示出與第一致動(dòng)器和第二致動(dòng)器的布置相關(guān)的分析模型3的示圖。
[0020]圖7A是示出分析模型1中的反射鏡的敏感度的分析結(jié)果的示圖。
[0021] 圖7B是示出分析模型2中的反射鏡的敏感度的分析結(jié)果的示圖。
[0022]圖7C是示出分析模型3中的反射鏡的敏感度的分析結(jié)果的示圖。
[0023] 圖7D是示出分析模型1至3與反射表面的變形量之間的關(guān)系的示圖。
[0024] 圖8是示出第一實(shí)施例中的光學(xué)裝置的示例性配置的示意圖。
[0025] 圖9是示出曝光裝置的示例性配置的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026] 將根據(jù)附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例。注意，相同的標(biāo)號(hào)在整個(gè)附圖中都 表示相同的構(gòu)件，并且將不給出其重復(fù)描述。
[0027] 第一實(shí)施例
[0028] 將參照?qǐng)D1描述第一實(shí)施例中的光學(xué)裝置100。圖1A是示出第一實(shí)施例中的光學(xué) 裝置100的截面圖。例如，第一實(shí)施例中的光學(xué)裝置100通過使曝光裝置中的投影光學(xué)系 統(tǒng)中所包括的反射鏡1的反射表面la變形來校正投影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)像差。第一實(shí)施 例中的光學(xué)裝置100可以包括基板6、固定構(gòu)件7、多個(gè)致動(dòng)器、多個(gè)位移傳感器3以及控制 單元10。
[0029] 反射鏡1具有反射表面la和背面lb，反射表面la反射光，背面lb是在反射表面 la的相反側(cè)的面，反射鏡1的包括反射鏡1的中心的部分（在下文中，中心部分）通過固定 構(gòu)件7固定到基板6。反射鏡1的中心部分如此固定到基板6,因?yàn)槠毓庋b置中的投影光學(xué) 系統(tǒng)中所使用的反射鏡1的中心部分通常不被光照射，并且大可不必使反射鏡1的中心部 分變形。
[0030] 每個(gè)致動(dòng)器具有連接到反射鏡1的第一端和連接到基板6的第二端，并且向反射 鏡1的背面lb施加力。致動(dòng)器包