技術(shù)編號(hào)：2688563
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種投影光學(xué)系統(tǒng)、本發(fā)明涉及光刻系統(tǒng)中的投影光學(xué)系統(tǒng)，尤其涉及一種高分辨率的投影光學(xué)系統(tǒng)。背景技術(shù)自70年代集成電路IC問世以來，經(jīng)歷了從小規(guī)模到超大規(guī)模的發(fā)展階段，其進(jìn)步得益于光刻的飛速發(fā)展。光刻是大規(guī)模集成電路制造中最重要的工序之一，光刻中使用的曝光設(shè)備，通過投影光學(xué)系統(tǒng)以分步重復(fù)或掃描方式將掩模上圖形準(zhǔn)確投影到涂有光刻膠的硅片上進(jìn)行曝光，曝光質(zhì)量的好壞對后續(xù)的顯影、刻蝕、去膠工藝影響很大。隨著集成電路制造的發(fā)展，對投影光學(xué)系統(tǒng)的分辨率要求也越來越高。...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。