專利名稱：顯示基板的制作方法、顯示基板及顯示裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及顯示器制造技術(shù)領域，具體涉及一種顯示基板的制作方法、采用該方法制成的顯示基板、以及包括所述顯示基板的顯示裝置。
背景技術(shù)：
隨著顯示器制造技術(shù)的發(fā)展，液晶顯示器技術(shù)發(fā)展迅速，已經(jīng)取代了傳統(tǒng)的顯像管顯示器而成為未來平板顯示器的主流。在液晶顯示器技術(shù)領域中，TFT-IXD (Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯示器)以其大尺寸、高度集成、功能強大、工藝靈活、低成本等優(yōu)勢而廣泛應用于電視機、電腦、手機等領域。其中，TN (扭曲向列，Twisted Nematic)型TFT-LCD由于輸出灰階級數(shù)較少，液晶分子偏轉(zhuǎn)速度快，故響應時間短，且成本較低，因而在液晶顯示器領域得到廣泛應用；ADSDS (高級超維場轉(zhuǎn)換技術(shù)，ADvanced Super Dimension Switch,簡稱ADS)型TFT-LCD由于具有高分辨率、高透過率、低功耗、寬視角、高開口率、低色差、無擠壓水波紋(push Mura)等優(yōu)點，更加廣泛應用于液晶顯示器領域。顯示面板是TFT-IXD的主要部件之一，所述顯示面板一般由陣列基板和彩膜(CF，Color Filter)基板進行對盒，并在陣列基板與彩膜基板之間填充液晶而成。其中，所述陣列基板上設置有多根相互平行的柵線以及多根相互平行的數(shù)據(jù)線，所述多根柵線與所述多根數(shù)據(jù)線交叉定義多個像素單元，每個像素單元均包括一個TFT元件(包括柵電極、半導體層、源電極和漏電極)及一個像素電極?，F(xiàn)有的TN型TFT-IXD中彩膜基板的制作工藝一般包括在襯底基板上依次形成黑矩陣(BM，Black Matrix)、紅色濾色區(qū)域、綠色濾色區(qū)域、藍色濾色區(qū)域、段差消除層(0C，Over Coat)、公共電極以及隔墊物(Spacer)等共七次構(gòu)圖工藝；現(xiàn)有的ADS型TFT-LCD中彩膜基板的制作工藝一般包括在襯底基板上依次形成背面屏蔽電極(B-IT0)、黑矩陣、紅色濾色區(qū)域、綠色濾色區(qū)域、藍色濾色區(qū)域、段差消除層以及隔墊物等共七次構(gòu)圖工藝。在上述彩膜基板的制作工藝中，所述襯底基板上未被黑矩陣覆蓋的地方形成多個像素區(qū)域(或者稱為子像素開口區(qū)域)，且彩膜基板上的每個像素區(qū)域均與陣列基板上的一個不同的像素單元相對應，以使得陣列基板與彩膜基板對盒后，所述多個像素區(qū)域分別與所述多個像素單元的位置相對。由于每次構(gòu)圖工藝均需要把掩模板圖形轉(zhuǎn)移到薄膜圖形上，且每一層薄膜圖形都需要精確地覆蓋在另一層薄膜圖形上，而在彩膜基板的制作過程中，所用到的掩模板的次數(shù)越少，則生產(chǎn)效率越高，生產(chǎn)成本越低，因此，如何進一步減少構(gòu)圖工藝的次數(shù)，提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本是行業(yè)內(nèi)亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)中所存在的上述缺陷，提供一種能夠減少構(gòu)圖工藝次數(shù)的顯示基板的制作方法、采用該方法制成的顯示基板、以及包括所述顯示基板的顯示裝置。解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案
所述顯示基板的制作方法包括在襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟，其中，所述隔墊物采用不透光的材料形成，并且所述隔墊物圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。優(yōu)選地，所述隔墊物采用黑色不透光樹脂形成。優(yōu)選地，所述隔墊物包括主隔墊物、次隔墊物和隔墻，所述次隔墊物的高度介于主隔墊物的高度和隔墻的高度之間，所述隔墻設置在主隔墊物與次隔墊物之間，并且所述主隔墊物與次隔墊物間隔設置。優(yōu)選地，所述在襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟包括在襯底基板上形成隔墊物薄膜；在上述形成有隔墊物薄膜的襯底基板上形成一層光刻膠；·對所述光刻膠進行曝光、顯影，以在所述襯底基板上形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠部分保留區(qū)域以及光刻膠完全去除區(qū)域，所述光刻膠完全保留區(qū)域?qū)谛纬伤鲋鞲魤|物圖形，所述光刻膠部分保留區(qū)域?qū)谛纬伤龃胃魤|物圖形，所述光刻膠完全去除區(qū)域?qū)谛纬伤龈魤D形；對所述襯底基板上的光刻膠完全去除區(qū)域進行刻蝕，以形成隔墻圖形；對形成有隔墻圖形的襯底基板進行灰化處理，以灰化掉所述光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠，然后對所述襯底基板再次進行刻蝕，以形成次隔墊物圖形；在次隔墊物圖形形成后，將所述光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠剝離，以形成主隔墊物圖形。優(yōu)選地，在所述襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟之前還包括在所述襯底基板上形成濾色膜層圖形的步驟。優(yōu)選地，所述制作方法還包括在襯底基板上未形成有濾色膜層的一側(cè)形成背面屏蔽電極圖形的步驟；所述隔墊物圖形直接形成在濾色膜層圖形上。優(yōu)選地，在所述襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟之前還包括在所述濾色膜層圖形上形成公共電極圖形的步驟；所述隔墊物圖形直接形成在公共電極圖形上。本發(fā)明同時提供一種顯示基板，包括襯底基板及設置在其上的隔墊物，其中，所述隔墊物采用不透光的材料制成，并且所述隔墊物組成圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。優(yōu)選地，所述隔墊物采用黑色不透光樹脂制成。優(yōu)選地，所述隔墊物包括主隔墊物、次隔墊物和隔墻，所述次隔墊物的高度介于主隔墊物的高度和隔墻的高度之間，所述隔墻設置在主隔墊物與次隔墊物之間，并且所述主隔墊物與次隔墊物間隔設置。優(yōu)選地，所述顯示基板還包括濾色膜層，所述濾色膜層設置在襯底基板與隔墊物之間。優(yōu)選地，所述顯示基板還包括背面屏蔽電極，所述背面屏蔽電極設置在襯底基板上未設置有濾色膜層的一側(cè)。優(yōu)選地，所述顯示基板還包括公共電極，所述公共電極設置在濾色膜層上，所述隔墊物設置在公共電極上。本發(fā)明同時還提供一種包括所述顯示基板的顯示裝置。
有益效果I)本發(fā)明所述顯示基板由于采用不透光的隔墊物取代了現(xiàn)有的黑矩陣，且所述隔墊物既起到現(xiàn)有隔墊物支撐盒厚的作用，又起到現(xiàn)有黑矩陣防止漏光和增加對比度的作用，因而省略了黑矩陣的制作工序；2)本發(fā)明所述顯示基板既可以為彩膜基板，也可以為陣列基板。現(xiàn)有的彩膜基板中，由于襯底基板上未被黑矩陣覆蓋的地方形成了多個像素區(qū)域，且濾色膜層形成在該黑矩陣上，使得形成有濾色膜層的襯底基板上存在段差，不利于后續(xù)工藝中隔墊物的形成，因而在形成隔墊物前需在濾色膜層上形成段差消除層以消除段差，若本發(fā)明所述顯示基板為彩膜基板，則由于省略了黑矩陣，也就不存在段差的問題，故同時也省略了段差消除層的制作工序。
圖I為本發(fā)明實施例2中所述彩膜基板的制作方法流程圖； 圖2為本發(fā)明實施例3中所述彩膜基板的制作方法流程圖；圖3為本發(fā)明實施例4中所述隔墊物的局部結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖3(a)為俯視圖，圖3 (b)為主視圖。圖中1_主隔墊物；2_次隔墊物；3_隔墻。
具體實施例方式為使本領域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明顯示基板的制作方法、采用該方法制成的顯示基板、以及包括所述顯示基板的顯示裝置作進一步詳細描述。實施例I :本實施例提供一種顯示基板的制作方法，其包括在襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟，其中，所述隔墊物采用不透光的材料形成，并且所述隔墊物圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。需要說明的是，所述顯示基板既可以為彩膜基板也可以為陣列基板，故所述隔墊物圖形既可以形成在彩膜基板上也可以形成在陣列基板上。優(yōu)選所述隔墊物采用黑色不透光樹脂(即負性光刻膠)形成。優(yōu)選所述隔墊物包括主隔墊物、次隔墊物和隔墻，所述次隔墊物的高度介于主隔墊物的高度和隔墻的高度之間，所述隔墻設置在主隔墊物與次隔墊物之間，并且所述主隔墊物與次隔墊物間隔設置。所述在襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟包括主隔墊物圖形形成步驟，次隔墊物圖形形成步驟，以及隔墻圖形形成步驟。具體地，所述形成隔墊物圖形的步驟包括在襯底基板上形成隔墊物薄膜；在上述形成有隔墊物薄膜的襯底基板上形成一層光刻膠；對所述光刻膠進行曝光、顯影，以在所述襯底基板上形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠部分保留區(qū)域以及光刻膠完全去除區(qū)域，所述光刻膠完全保留區(qū)域?qū)谛纬伤鲋鞲魤|物圖形，所述光刻膠部分保留區(qū)域?qū)谛纬伤龃胃魤|物圖形，所述光刻膠完全去除區(qū)域?qū)谛纬伤龈魤D形；對所述襯底基板上的光刻膠完全去除區(qū)域進行刻蝕，以形成隔墻圖形；對形成有隔墻圖形的襯底基板進行灰化處理，以灰化掉所述光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠，然后對所述襯底基板再次進行刻蝕，以形成次隔墊物圖形；在次隔墊物圖形形成后，將所述光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠剝離，以形成主隔墊物圖形。本實施例所述顯示基板中采用不透光材料形成的隔墊物既能起到現(xiàn)有隔墊物支撐盒厚的作用，又能起到現(xiàn)有黑矩陣防止漏光和增加對比度的作用，因而可省略現(xiàn)有黑矩陣的制作工序，進而也不需要設置段差消除層，相應提高了生產(chǎn)效率、降低了生產(chǎn)成本。實施例2
以本發(fā)明所述顯示基板為彩膜基板為例，如圖I所示，本實施例提供一種彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板中的濾色膜層包括紅色濾色區(qū)域、綠色濾色區(qū)域以及藍色濾色區(qū)域，所述隔墊物采用黑色不透光樹脂(即負性光刻膠)形成，所述彩膜基板的制作方法包括如下步驟slOl.在襯底基板上形成背面屏蔽電極圖形。具體的，在襯底基板上形成背面屏蔽電極薄膜(即B-ITO薄膜)，然后在所述背面屏蔽電極薄膜上涂敷一層光刻膠，采用掩模板對所述光刻膠進行曝光、顯影，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)谛纬杀趁嫫帘坞姌O圖形，再對暴露出來的背面屏蔽電極薄膜進行刻蝕，最后將所述光刻膠剝離，從而形成背面屏蔽電極圖形。所述背面屏蔽電極一般與設置在彩膜基板或陣列基板中的接地點(GroundDotting)相連，用于將來自外界的靜電電荷通過接地點耗散掉，可有效避免來自外界的靜電和電磁干擾。sl02.在完成步驟SlOl的襯底基板上未形成有背面屏蔽電極圖形的一側(cè)分別形成紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形以及藍色濾色區(qū)域圖形(即背面屏蔽電極形成在襯底基板的一側(cè)，濾色膜層形成在襯底基板的另一側(cè))。優(yōu)選所述紅色濾色區(qū)域采用紅色像素樹脂制成，所述綠色濾色區(qū)域采用綠色像素樹脂制成，所述藍色濾色區(qū)域采用藍色像素樹脂制成。本步驟中，所述紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形以及藍色濾色區(qū)域圖形的形成順序不限。下面以在完成步驟SlOl的襯底基板上未形成有背面屏蔽電極圖形的一側(cè)依次形成紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形與藍色濾色區(qū)域圖形為例對步驟S102進行詳細說明。所述步驟s 102具體為S102-1.在完成步驟SlOl的襯底基板上未形成有背面屏蔽電極圖形的一側(cè)形成紅色像素樹脂薄膜，然后在其上涂敷一層光刻膠，采用掩模板對所述光刻膠進行曝光、顯影，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)谛纬杉t色濾色區(qū)域圖形，再對暴露出來的紅色像素樹脂薄膜進行刻蝕，最后將所述光刻膠剝離，從而形成紅色濾色區(qū)域圖形。S102-2.在完成步驟S102-1的襯底基板上形成有紅色濾色區(qū)域圖形的一側(cè)形成綠色像素樹脂薄膜，然后在其上涂敷一層光刻膠，采用掩模板對所述光刻膠進行曝光、顯影，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)谛纬删G色濾色區(qū)域圖形，再對暴露出來的綠色像素樹脂薄膜進行刻蝕，最后將所述光刻膠剝離，從而形成綠色濾色區(qū)域圖形。S102-3.在完成步驟S102-2的襯底基板上形成有綠色濾色區(qū)域圖形的一側(cè)形成藍色像素樹脂薄膜，然后在其上涂敷一層光刻膠，采用掩模板對所述光刻膠進行曝光、顯影，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)谛纬伤{色濾色區(qū)域圖形，再對暴露出來的藍色像素樹脂薄膜進行刻蝕，最后將所述光刻膠剝離，從而形成藍色濾色區(qū)域圖形。sl03.在完成步驟sl02的襯底基板上形成有紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形與藍色濾色區(qū)域圖形的一側(cè)形成隔墊物圖形，所述隔墊物圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。優(yōu)選所述隔墊物圖形為網(wǎng)格狀。
所述步驟s 103具體為S103-1.在所述襯底基板上形成有紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形與藍色濾色區(qū)域圖形的一側(cè)形成隔墊物薄膜；sl03-2.在完成步驟S103-1的襯底基板上形成一層光刻膠，采用半色調(diào)掩模板或灰色調(diào)掩模板對所述光刻膠進行曝光、顯影，以在所述襯底基板上形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠部分保留區(qū)域以及光刻膠完全去除區(qū)域，所述光刻膠完全保留區(qū)域?qū)谛纬伤鲋鞲魤|物圖形，所述光刻膠部分保留區(qū)域?qū)谛纬伤龃胃魤|物圖形，所述光刻膠完全去除區(qū)域?qū)谛纬伤龈魤D形；S103-3.對完成步驟S103-2的襯底基板上的光刻膠完全去除區(qū)域進行刻蝕，以形成隔墻圖形；S103-4.對完成步驟S103-3的襯底基板進行灰化處理，以灰化掉所述光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠，然后對所述襯底基板再次進行刻蝕，以形成次隔墊物圖形；S103-5.將所述光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠剝離，以形成主隔墊物圖形。從步驟S103可以看出，所述主隔墊物圖形高于次隔墊物圖形，所述次隔墊物圖形高于隔墻圖形，即所述隔墊物圖形中存在段差，這是因為陣列基板與彩膜基板之間填充有液晶，隔墊物圖形中存在的段差可以使得顯示面板(由陣列基板和彩膜基板對盒并填充液晶而成)在受到擠壓時，其內(nèi)填充的液晶量可在一定范圍內(nèi)波動。當然，由于所述背面屏蔽電極圖形形成在襯底基板的一側(cè)，濾色膜層圖形及隔墊物圖形依次形成在襯底基板的另一側(cè)，故所述背面屏蔽電極圖形可在濾色膜層圖形及隔墊物圖形依次形成在襯底基板上之后再形成，或者所述背面屏蔽電極圖形也可在濾色膜層圖形形成在襯底基板上之后再形成，也即所述步驟SlOl可在步驟sl03之后，也可在步驟sl02與步驟s 103之間?？梢姡緦嵤├兄瞥傻牟誓せ鍨楦倪M后的ADS模式的彩膜基板，其只需要五次構(gòu)圖工藝即可(步驟slOl需一次構(gòu)圖工藝、步驟sl02需三次構(gòu)圖工藝、步驟sl03需一次構(gòu)圖工藝)，與現(xiàn)有技術(shù)中需七次構(gòu)圖工藝相比，節(jié)約了兩次構(gòu)圖工藝(即節(jié)約了黑矩陣制作工序和段差消除層制作工序)，從而在一定程度上提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。需要說明的是，所述濾色膜層不限于包括紅色濾色區(qū)域、綠色濾色區(qū)域以及藍色濾色區(qū)域的情況，對于本領域技術(shù)人員能想到的所有顏色及其組合或變型形成的濾色膜層都可以作為本發(fā)明實施例中所述的濾色膜層。所述隔墊物也不限于采用黑色不透光樹脂(即負性光刻膠)形成的隔墊物，對于本領域技術(shù)人員能想到的所有黑色不透光材料所形成的能起到防止漏光作用的隔墊物都可以作為本發(fā)明實施例中所述的隔墊物。所述彩膜基板也可以不包括濾色膜層，所述濾色膜層可設置在陣列基板上，例如設置在陣列基板中的襯底基板與偏光片之間。本實施例中的其他方法及作用都與實施例I相同，這里不再贅述。實施例3 以本發(fā)明所述顯示基板為彩膜基板為例，如圖2所示，本實施例提供一種彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板中的濾色膜層包括紅色濾色區(qū)域、綠色濾色區(qū)域以及藍色濾色區(qū)域，所述隔墊物采用黑色不透光樹脂(即負性光刻膠)形成，所述彩膜基板的制作方法包括如下步驟s201.在襯底基板上分別形成紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形以及藍色濾色區(qū)域圖形。
本步驟中，所述紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形以及藍色濾色區(qū)域圖形的形成順序不限，且所述紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形以及藍色濾色區(qū)域圖形的形成方法與實施例2中的步驟sl02相同，不再贅述。s202.在完成步驟s201的襯底基板上(即在紅色濾色區(qū)域圖形、綠色濾色區(qū)域圖形以及藍色濾色區(qū)域圖形上)形成公共電極圖形。具體的，在完成步驟s201的襯底基板上形成公共電極薄膜(即ITO薄膜)，然后在所述公共電極薄膜上涂敷一層光刻膠，采用掩模板對所述光刻膠進行曝光、顯影，所述光刻膠保留區(qū)域?qū)谛纬晒搽姌O圖形，再對暴露出來的公共電極薄膜進行刻蝕，最后將所述光刻膠剝離，從而形成公共電極圖形。s203.在完成步驟s202的襯底基板上(即在公共電極圖形上)形成隔墊物圖形，所述隔墊物圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。優(yōu)選所述隔墊物圖形為網(wǎng)格狀。本步驟中，所述隔墊物圖形的形成方法與實施例2中的步驟S103相同，不再贅述。可見，本實施例中制成的彩膜基板為改進后的TN模式的彩膜基板，其只需要五次構(gòu)圖工藝即可(步驟s201需三次構(gòu)圖工藝、步驟s202需一次構(gòu)圖工藝、步驟s203需一次構(gòu)圖工藝)，與現(xiàn)有技術(shù)中需七次構(gòu)圖工藝相比，節(jié)約了兩次構(gòu)圖工藝(即節(jié)約了黑矩陣制作工序和段差消除層制作工序)，從而在一定程度上提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。需要說明的是，所述濾色膜層不限于包括紅色濾色區(qū)域、綠色濾色區(qū)域以及藍色濾色區(qū)域的情況，對于本領域技術(shù)人員能想到的所有顏色及其組合或變型形成的濾色膜層都可以作為本發(fā)明實施例中所述的濾色膜層。所述隔墊物也不限于采用黑色不透光樹脂(即負性光刻膠)形成的隔墊物，對于本領域技術(shù)人員能想到的所有黑色不透光材料所形成的能起到防止漏光作用的隔墊物都可以作為本發(fā)明實施例中所述的隔墊物。所述彩膜基板也可以不包括濾色膜層，所述濾色膜層可設置在陣列基板上，例如設置在陣列基板中的襯底基板與偏光片之間。本實施例中的其他方法及作用都與實施例I相同，這里不再贅述。實施例4 本實施例提供一種顯示基板，其包括襯底基板及設置在其上的隔墊物，其中，所述隔墊物采用不透光的材料制成，并且所述隔墊物組成的圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。需要說明的是，所述顯示基板既可以為彩膜基板也可以為陣列基板，故所述隔墊物圖形既可以設置在彩膜基板上，也可以設置在陣列基板上。本實施例所述顯示基板中采用不透光材料制成的隔墊物既能起到現(xiàn)有隔墊物支撐盒厚的作用，又能起到現(xiàn)有黑矩陣防止漏光和增加對比度的作用，因而可取代現(xiàn)有黑矩陣，進而也不需要設置段差消除層，相應提高了生產(chǎn)效率、降低了生產(chǎn)成本。優(yōu)選所述隔墊物采用黑色不透光樹脂(即負性光刻膠)制成。優(yōu)選地，如圖3所示，本實施例中，所述隔墊物可以包括多個主隔墊物I、多個次隔墊物2、以及設置在所述多個主隔墊物與多個次隔墊物之間的隔墻3，所述多個主隔墊物I與所述多個次隔墊物2間隔設置，所述次隔墊物2的高度介于所述主隔墊物I的高度和隔 墻3的高度之間，并且所述主隔墊物I與次隔墊物2間隔設置?？梢钥闯?，所述主隔墊物I、次隔墊物2以及隔墻3之間存在段差，使得顯示面板(例如由陣列基板和彩膜基板對盒并填充液晶而成的顯示面板)在受到擠壓時，其內(nèi)填充的液晶量可在一定范圍內(nèi)波動。實施例5 以本發(fā)明所述顯示基板為彩膜基板為例，本實施例提供一種彩膜基板，其包括襯底基板、背面屏蔽電極、濾色膜層以及隔墊物；所述背面屏蔽電極設置在襯底基板上，所述濾色膜層設置在襯底基板上未設置有背面屏蔽電極的一側(cè)，所述隔墊物設置在濾色膜層上。所述隔墊物呈網(wǎng)格狀且采用不透光的材料制成，并且所述隔墊物組成的圖形在所述襯底基板分隔出多個像素區(qū)域。優(yōu)選所述隔墊物采用黑色不透光樹脂(即負性光刻膠)形成。優(yōu)選所述濾色膜層包括紅色濾色區(qū)域、綠色濾色區(qū)域以及藍色濾色區(qū)域。優(yōu)選所述像素區(qū)域沿其短邊的方向排列成多行，且每行均包括多個像素區(qū)域，位于同一行的多個像素區(qū)域均對應同一顏色的濾色區(qū)域以形成該顏色的濾色區(qū)域行，即形成紅色濾色區(qū)域行、綠色濾色區(qū)域行和藍色濾色區(qū)域行；不同顏色的濾色區(qū)域行依次循環(huán)排列，即所述紅色濾色區(qū)域行、綠色濾色區(qū)域行和藍色濾色區(qū)域行依次循環(huán)排列。優(yōu)選所述不同顏色的濾色區(qū)域行依次循環(huán)排列時，相鄰兩個不同顏色的濾色區(qū)域行中的濾色區(qū)域間隔一定距離或相接或交疊。本實施例中的其他結(jié)構(gòu)及作用都與實施例4相同，這里不再贅述。實施例6 以本發(fā)明所述顯示基板為彩膜基板為例，本實施例提供一種彩膜基板，其包括襯底基板、設置在襯底基板上的濾色膜層、設置在濾色膜層上的公共電極以及設置在公共電極上的隔墊物。所述隔墊物呈網(wǎng)格狀且采用不透光的材料制成，并且所述隔墊物組成的圖形在所述襯底基板分隔出多個像素區(qū)域。優(yōu)選所述隔墊物采用黑色不透光樹脂(即負性光刻膠)形成。優(yōu)選所述濾色膜層包括紅色濾色區(qū)域、綠色濾色區(qū)域以及藍色濾色區(qū)域。優(yōu)選所述像素區(qū)域沿其短邊的方向排列成多行，且每行均包括多個像素區(qū)域，位于同一行的多個像素區(qū)域均對應同一顏色的濾色區(qū)域以形成該顏色的濾色區(qū)域行，即形成紅色濾色區(qū)域行、綠色濾色區(qū)域行和藍色濾色區(qū)域行；不同顏色的濾色區(qū)域行依次循環(huán)排列，即所述紅色濾色區(qū)域行、綠色濾色區(qū)域行和藍色濾色區(qū)域行依次循環(huán)排列。
優(yōu)選所述不同顏色的濾色區(qū)域行依次循環(huán)排列時，相鄰兩個不同顏色的濾色區(qū)域行中的濾色區(qū)域間隔一定距離或相接或交疊。本實施例中的其他結(jié)構(gòu)及作用都與實施例4相同，這里不再贅述。實施例7 本實施例提供一種顯示裝置，包括實施例4飛中任一項所述的顯示基板。
可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
權(quán)利要求
1.一種顯示基板的制作方法，包括在襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟，其中，所述隔墊物采用不透光的材料形成，并且所述隔墊物圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的制作方法，其特征在于，所述隔墊物采用黑色不透光樹脂形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的制作方法，其特征在于，所述隔墊物包括主隔墊物、次隔墊物和隔墻，所述次隔墊物的高度介于主隔墊物的高度和隔墻的高度之間，所述隔墻設置在主隔墊物與次隔墊物之間，并且所述主隔墊物與次隔墊物間隔設置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述在襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟包括 在襯底基板上形成隔墊物薄膜； 在上述形成有隔墊物薄膜的襯底基板上形成一層光刻膠； 對所述光刻膠進行曝光、顯影，以在所述襯底基板上形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠部分保留區(qū)域以及光刻膠完全去除區(qū)域，所述光刻膠完全保留區(qū)域?qū)谛纬伤鲋鞲魤|物圖形，所述光刻膠部分保留區(qū)域?qū)谛纬伤龃胃魤|物圖形，所述光刻膠完全去除區(qū)域?qū)谛纬伤龈魤D形； 對所述襯底基板上的光刻膠完全去除區(qū)域進行刻蝕，以形成隔墻圖形； 對形成有隔墻圖形的襯底基板進行灰化處理，以灰化掉所述光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠，然后對所述襯底基板再次進行刻蝕，以形成次隔墊物圖形； 在次隔墊物圖形形成后，將所述光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠剝離，以形成主隔墊物圖形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的制作方法，其特征在于， 在所述襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟之前還包括在所述襯底基板上形成濾色膜層圖形的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于， 所述制作方法還包括在襯底基板上未形成有濾色膜層的一側(cè)形成背面屏蔽電極圖形的步驟；所述隔墊物圖形直接形成在濾色膜層圖形上。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于， 在所述襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟之前還包括在所述濾色膜層圖形上形成公共電極圖形的步驟；所述隔墊物圖形直接形成在公共電極圖形上。
8.—種顯示基板，包括襯底基板及設置在其上的隔墊物，其中，所述隔墊物采用不透光的材料制成，并且所述隔墊物組成圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要8所述的顯示基板，其特征在于，所述隔墊物采用黑色不透光樹脂制成。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示基板，其特征在于，所述隔墊物包括主隔墊物、次隔墊物和隔墻，所述次隔墊物的高度介于主隔墊物的高度和隔墻的高度之間，所述隔墻設置在主隔墊物與次隔墊物之間，并且所述主隔墊物與次隔墊物間隔設置。
11.根據(jù)權(quán)利要求8-10中任一項所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板還包括濾色膜層，所述濾色膜層設置在襯底基板與隔墊物之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板還包括背面屏蔽電極，所述背面屏蔽電極設置在襯底基板上未設置有濾色膜層的一側(cè)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板還包括公共電極，所述公共電極設置在濾色膜層上，所述隔墊物設置在公共電極上。
14.一種顯示裝置，包括權(quán)利要求8-13中任一項所述的顯示基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種顯示基板的制作方法，包括在襯底基板上形成隔墊物圖形的步驟，其中，所述隔墊物采用不透光的材料形成，并且所述隔墊物圖形在所述襯底基板上分隔出多個像素區(qū)域。相應地，提供一種采用該方法制成的顯示基板、以及包括所述顯示基板的顯示裝置。本發(fā)明所述顯示基板的制作方法以及采用該方法制成的顯示基板能夠減少構(gòu)圖工藝次數(shù)。
文檔編號G02F1/1339GK102854668SQ201210359030
公開日2013年1月2日 申請日期2012年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月24日
發(fā)明者龐立斌, 果銀虎, 趙迎旭 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司