專利名稱：顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示裝置，特別涉及在各像素中具備使用MEMS (Micro ElectroMechanical System,微電子機(jī)械系統(tǒng))技術(shù)形成的可動式快門的顯示裝置。
背景技術(shù)：
作為顯示裝置，被廣泛使用的有等離子體顯示裝置、液晶顯示裝置、有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置等各種顯示裝置。而作為新型的顯示裝置，例如日本國專利公開公報2008-197668號所公開的那樣，提出了一種具備使用MEMS技術(shù)形成的可動式快門的顯示裝置(以下稱為“MEMS顯示裝置”)。圖6和7中表示了在透明基板(SUBl)上形成的可動式快門I的一例。圖6是立體圖，圖7是俯視圖。 快門(SH)是可動式快門I的構(gòu)成元件之一，具有平板狀的形狀，并且具有使光透過的開口部(0P1)。此外，快門SH (即平板狀快門)由配置在快門(SH)兩側(cè)的4個第一彈簧(SPU SP1’)支承。第一彈簧(SP1、SP1’)的基端由錨固部(AN1、ΑΝΓ)固定在基板(SUBl)上。該第一彈簧和快門被保持成從基板浮起的狀態(tài)。此外，第二彈簧(SP2、SP2’)的基端由錨固部(AN2、AN2’)固定在基板(SUBl)上。該第二彈簧被保持成從基板浮起的狀態(tài)。第一彈簧和第二彈簧由表面被絕緣膜覆蓋的導(dǎo)電性材料構(gòu)成。此外，各彈簧通過錨固部與配置在基板(SUBl)上的配線(未圖示)導(dǎo)通。為了將可動式快門I在圖7中箭頭C的方向上驅(qū)動，在錨固部ANl與錨固部AN2之間施加電壓。這樣，在第一彈簧SPl與第二彈簧SP2中蓄積極性彼此不同的電荷，由此在兩者之間產(chǎn)生靜電力，兩者接近，第一彈簧SPl沿箭頭C的方向收縮。另一方面，使第一彈簧SP1’與第二彈簧SP2’之間為相同電位。這樣，第一彈簧SP1’沿箭頭C方向延伸。接著，當(dāng)使錨固部ANl與錨固部AN2之間為相同電位時，因第一彈簧(SP1、SP1’)和第二彈簧(SP2、SP2’)的恢復(fù)力，快門SH沿圖7的箭頭D方向移動，返回原來的位置。此時，若在錨固部ΑΝΓ與錨固部AN2’之間施加電壓，則快門SH更加迅速地沿箭頭D方向移動。與形成有可動式快門I的透明基板(SUBl)相對地，配置有其它透明基板(未圖示)。在其它透明基板的表面形成有透過光的窗口(aperture,開口)。通過由快門SH在箭頭C-D方向上移動,而使形成在快門上的開口部(OPl)的位置與窗口的相對位置關(guān)系發(fā)生變化。例如，在形成有窗口的基板的背面一側(cè)配置了背光源的情況下，當(dāng)開口部(OPl)與窗口的位置重合時，背光源的光透過，而當(dāng)兩者的位置偏離時，背光源的光被快門SH遮擋。通過采用這樣的方式來控制(切換)背光源的光的透過，能夠顯示圖像。此外，在顯示彩色圖像的情況下，使用與三原色(RGB)對應(yīng)的光源作為背光源。在各原色的光源依次反復(fù)閃爍的期間，與該閃爍同步地驅(qū)動各像素的快門SH，由此依次顯示各原色的影像。
這樣的MEMS顯示裝置中，因為不使用偏振板和彩色濾光片，所以光的利用效率高，與等離子體顯示裝置和液晶顯示裝置相比較，能夠大幅省電。此外，MEMS顯示裝置的響應(yīng)速度比液晶快，所以能夠發(fā)揮較高的動態(tài)圖像性能。而且，MEMS顯示裝置與有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置相比較，能夠?qū)崿F(xiàn)高亮度化和長壽命化。MEMS顯示裝置中，需要使配置有可動式快門的透明基板(稱為“第一基板”或“MEMS基板”)與形成有窗口的透明基板 (“第二基板”或“AP基板”)以規(guī)定的間隔高精度地配置。因此，現(xiàn)有的MEMS顯示裝置中，在AP基板上形成多個支柱，并在MEMS基板上形成承受該支柱的基座。圖8是說明現(xiàn)有的MEMS顯示裝置的制造工藝的一部分的圖。在第一基板(SUBl)上，如圖8 (a)所示，與可動式快門的結(jié)構(gòu)和基座的形狀相應(yīng)地，形成光致抗蝕劑圖案REl和RE2?？刮g劑圖案REl的作用在于，形成用于與配置在第一基板(SUBl)上的配線導(dǎo)通用接觸孔，并且使快門SH、第一和第二彈簧離開第一基板(SUBl)的表面?？刮g劑圖案RE2的作用在于，形成快門SH、第一彈簧(SPUSP1’)和第二彈簧(SP2、SP2’)等的垂直方向(圖3的高度方向)上的形狀。圖8 (b)中，在抗蝕劑圖案(RE1、RE2)的表面形成半導(dǎo)體等的導(dǎo)電膜(CL)以確保導(dǎo)電性，進(jìn)而為了確保遮光性而層疊金屬膜(ME1)。接著形成與快門SH、第一和第二彈簧等的平面形狀對應(yīng)的抗蝕劑圖案RE3。使用抗蝕劑圖案RE3進(jìn)行蝕刻，形成快門SH、第一彈簧(SP1、SP1’)和第二彈簧(SP2、SP2’)等。之后，除去無用的抗蝕劑圖案(REl RE3)，在殘留的金屬膜(MEl)和導(dǎo)電膜(CL)的表面如圖8 (c)所示形成絕緣膜IN。設(shè)置在MEMS基板上的基座PE，通過與快門SH、第一彈簧(SP1、SP1’)、第二彈簧(SP2、SP2’)和錨固部ANl同樣的制造工序形成。另一方面，在AP基板用的透明基板(SUB2 )上，形成作為遮光膜的金屬膜(ME2 )，接著，為了形成與窗口對應(yīng)的開口，利用光致抗蝕劑圖案除去窗口部分的金屬膜。然后，如圖8 Cd)所示，在金屬膜(ME2)上，通過燒結(jié)光致抗蝕劑而形成支柱(CO)。MEMS基板(SUBl)和AP基板(SUB2)，如圖8 (e)所示，以快門SH與窗口接近并相對的方式相對配置。此時，AP基板的支柱(CO)的前端被MEMS基板的基座(PE)承受(支承)。MEMS基板與AP基板的貼合，是在根據(jù)形成于各基板上的對齊標(biāo)記(未圖示)而機(jī)械對齊的狀態(tài)下進(jìn)行的。因此，關(guān)于MEMS基板與AP基板的對齊精度，貼合裝置的精度是極限。此外，形成在MEMS基板上的基座和形成在AP基板上的支柱，都利用抗蝕劑圖案形成為在高度方向(圖中的縱方向)上疊高一定厚度的形狀。因而，當(dāng)從外部受到碰撞時，碰撞不會被形成在MEMS基板一側(cè)的基座自身的彈性吸收，而是會發(fā)生AP基板一側(cè)的支柱刺入基座，導(dǎo)致基座的表面缺損、進(jìn)而發(fā)生支柱與基座錯位等問題?？梢哉J(rèn)為其原因在于，由于相對的2個基板上分別形成有凸部(支柱和基座)，因此存在同質(zhì)材料的接觸界面。本發(fā)明的目的在于提供一種顯示裝置，能夠進(jìn)行MEMS基板與AP基板的貼合作業(yè)中的自對齊，且對于外部碰撞具有高可靠性
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明中公開一種顯示裝置，包括在透明基板上具備可動式快門的第一基板；和與上述可動式快門對應(yīng)地具備使光透過的窗口的第二基板，上述第一基板與上述第二基板隔著規(guī)定的間隔相對配置，在上述第二基板的與上述第一基板相對的面上形成有多個支柱，在上述第一基板上形成有用于插入上述支柱并保持上述支柱的接觸孔。可動式快門可以包括形成有開口的平板狀快門葉片，與上述平板狀快門葉片連接的彈簧，和與上述彈簧的連接上述平板狀快門葉片的端部的相反側(cè)的端部連接的錨固部。并且，在上述透明基板上，可以形成有第一層薄膜和與上述第一層薄膜接觸地層疊的第二層薄膜，上述接觸孔可以形成在上述第一層薄膜與上述第二層薄膜層疊的部位。這種情況下，上述錨固部的至少一部分可以由上述第一層薄膜形成。此外，上述彈簧的至少一部分可以由上述第二層薄膜形成。另外，上述第一層薄膜和上述第二層薄膜，可以形成在抗蝕劑圖案上。另外，上述第一層薄膜可以是金屬膜，上述第二層薄膜可以是導(dǎo)電膜。上述第一層薄膜和上述第二層薄膜的露出到外部的面，可以被絕緣膜覆蓋。接觸孔的高度h可以為上述支柱的高度H的一半以上，上述接觸孔的底面上的寬度可以設(shè)定為與上述支柱的寬度相同，并且上述接觸孔的開口的寬度可以大于上述底面的 寬度。接觸孔的數(shù)量可以比上述支柱的數(shù)量少，這種情況下，形成在上述接觸孔的底面上的薄膜，可以與形成在上述第一基板上的、上述支柱與第一基板接觸而不被上述接觸孔保持的部位上的薄膜，由相同的材料形成。即，上述接觸孔可以是通過與上述可動式快門相同的制造工藝同時形成的。接觸孔可以是在上述透明基板上以上述抗蝕劑材料為材料而形成的筒狀的孔。例如，接觸孔可以是形成在上述透明基板上的圓筒。接觸孔的底面上的內(nèi)徑，可以設(shè)定為與上述支柱的外徑相同，上述接觸孔的開口附近與上述接觸孔的底面附近可以同軸，上述接觸孔的開口處的內(nèi)徑可以大于上述支柱的外徑。第二基板可以包括透明基板和與該透明基板的表面接觸并且形成有上述窗口的不透明部件。本發(fā)明中公開一種顯示裝置的制造方法，其中上述顯示裝置包括在透明基板上具備可動式快門的第一基板，和與上述可動式快門對應(yīng)地具備使光透過的窗口的第二基板，上述第一基板與上述第二基板隔著規(guī)定的間隔相對配置，上述顯示裝置的制造方法包括以下步驟在上述第二基板的與上述第一基板相對的面上，形成多個支柱，在上述第一基板的上述透明基板上，形成用于插入上述支柱并保持上述支柱的接觸孔，將上述第二基板的上述多個支柱中與上述第一基板的接觸孔對應(yīng)的支柱插入該接觸孔。為制造第一基板的可動式快門，例如可以進(jìn)行以下步驟在透明基板上形成抗蝕劑圖案，在該抗蝕劑圖案上形成薄膜，對該薄膜實施蝕刻，由此形成構(gòu)成上述可動式快門的形成有開口的平板狀快門葉片，與上述平板狀快門葉片連接的彈簧，和與上述彈簧的連接上述平板狀快門葉片的端部的相反側(cè)的端部連接的錨固部，之后，除去上述抗蝕劑圖案。接觸孔可以通過與上述可動式快門相同的制造工藝同時形成。例如，可以利用抗蝕劑圖案形成構(gòu)成上述接觸孔的筒，在除去上述抗蝕劑圖案時，使構(gòu)成上述接觸孔的抗蝕劑圖案殘留。這種情況下，可以在構(gòu)成接觸孔的抗蝕劑圖案的表面，也形成上述薄膜。另外，可以在除去抗蝕劑圖案后，使用絕緣膜覆蓋上述薄膜的露出到外部的面。


圖I (a)是實施方式的顯示裝置的立體圖。圖I (b)是實施方式的顯示裝置的俯視圖。圖2是表示MEMS基板上的電路結(jié)構(gòu)的框圖。圖3是包括多個像素的MEMS快門的MEMS基板的俯視圖。圖4是AP基板的俯視圖。
圖5是說明MEMS基板和AP基板的制造工序的一部分的圖。圖6是各MEMS快門的立體圖。圖7是各MEMS快門的俯視圖。圖8是說明現(xiàn)有的MEMS基板和AP基板的制造工序的一部分的圖。
具體實施例方式以下參照

實施本發(fā)明的實施方式。不過，本發(fā)明并不限定于以下說明的實施方式，在權(quán)利要求的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變更。圖I表示本發(fā)明的一個實施方式的顯示裝置100。圖I (a)是顯示裝置100的立體圖，(b)是顯示裝置100的俯視圖。該顯示裝置100具有相當(dāng)于第一基板的MEMS基板101和相當(dāng)于第二基板的AP基板109。MEMS基板101具有顯示部101a，驅(qū)動電路101b、IOlc和IOld,以及端子部101e。MEMS基板101與AP基板109由后述的支柱CO和未圖示的密封部件接合。圖2是顯示裝置100的電路框圖。對于顯示裝置100，從控制器121供給圖像信號和控制信號。此外，對于顯示裝置100，從由控制器121控制的背光源122供給光。如圖2所示，顯示部IOla在與柵極線(G1、G2、……、Gn)和數(shù)據(jù)線(D1、D2、……、Dm)的交點分別對應(yīng)的各位置上具有像素200，其具有可動式快門I、開關(guān)元件204和保持電容206。驅(qū)動電路101b、101c是數(shù)據(jù)驅(qū)動器，通過數(shù)據(jù)線(D1、D2、……、Dm)對開關(guān)元件204供給數(shù)據(jù)信號。驅(qū)動電路IOld是柵極驅(qū)動器，通過柵極線(G1、G2、……、Gn)對開關(guān)元件204供給柵極信號。開關(guān)元件204基于從數(shù)據(jù)線(D1、D2、……、Dm)供給的數(shù)據(jù)信號，驅(qū)動可動式快門I。圖3是表示MEMS基板101上的包括4個像素200的部分的俯視圖。MEMS基板101通過在玻璃等透明基板(SUBl)的表面與顯示像素對應(yīng)地形成、配置可動式快門I而構(gòu)成?？蓜邮娇扉TI的結(jié)構(gòu)與以上基于圖6和圖7說明的相同，因此援用其說明。不過，本實施方式的MEMS基板101中，在圖8中形成基座(PE)的位置上，形成接觸孔(CH)。圖4是表示AP基板109上的包括4個像素200的部分的俯視圖。AP基板109通過在玻璃等透明基板(第二基板，SUB2)的表面形成具有遮光性的金屬膜(ME2)，并僅除去構(gòu)成窗口的開口部(0P2)的金屬膜而構(gòu)成。不過，本實施方式的AP基板109中，在與圖3所示的MEMS基板101中的接觸孔CH對應(yīng)的位置上，形成支柱CO。接著，使用圖5說明本實施方式的接觸孔(CH)的制造工藝。圖5 (a) (e)分別表示制造工藝的各階段中沿圖3和圖4所示的連接A與B的點劃線的縱截面。如圖5所示，接觸孔(CH)通過與可動式快門I相同的制造工藝，利用與可動式快門I不同的抗蝕劑圖案同時形成。以下說明其詳情。圖5(a)中，使用與用于形成構(gòu)成可動式快門I的快門(SH)、第一彈簧(SP1、SP1’)、第二彈簧(SP2、SP2’)和錨固部(ANl、ANl，、AN2、AN2，)的基底相同的光致抗蝕劑圖案(REl、RE2)，形成接觸孔(CH)的底面?zhèn)炔糠?REl)和上部(RE2)。具體而言，首先，例如通過光刻而將抗蝕劑圖案REl圖案化為圖5 (a)所示的形狀。此時，形成了錨固部(AN1、AN1’、AN2、ΑΝ2’)的基底，并形成了用于承受支柱的接觸孔。接著，例如通過光刻而將抗蝕劑圖案(RE2)圖案化為圖5 (a)所示的形狀。此時，形成了第一彈簧(SPUSP1’)和第二彈簧(SP2、SP2)的基底，并形成了比抗蝕劑圖案REl上形成的接觸孔(CH)大一圈且位于與該抗蝕劑圖案(REl)的接觸孔(CH)同心的位置上的、用于承受支柱(CO)的接觸孔(CH)。圖5 (b)中，在抗蝕劑圖案(RE1、RE2)的表面，為了確保導(dǎo)電性而形成半導(dǎo)體等的導(dǎo)電膜(CL)，進(jìn)而為了確保遮光性而層疊金屬膜(ME1)。接著，形成與快門SH、第一和第二彈簧等的平面形狀對應(yīng)的抗蝕劑圖案RE3。接著，使用抗蝕劑圖案RE3進(jìn)行蝕刻，形成快門(SH)、第一彈簧(SPI、SPI’)和第二彈簧(SP2、SP2’)等，之后，除去無用的抗蝕劑圖案(REl RE3)，在殘留的金屬膜(MEl)和 導(dǎo)電膜(CL)的表面，如圖5 (c)所示形成Al2O3或SiN等絕緣膜(IN)。圖5 (C)所示的階段中，根據(jù)與圖5 (d)所示的AP基板一側(cè)的支柱(CO)的形狀(高度H、寬度Φ)的關(guān)系，接觸孔(CH)的高度h是支柱(CO)的高度H的一半以上，接觸孔(CH)的底面上的內(nèi)徑Φ2與支柱的外徑Φ相同，并且接觸孔(CH)的開口處的內(nèi)徑Φ1大于底面上的內(nèi)徑Φ2。在將MEMS基板101與AP基板109貼合時，優(yōu)選接觸孔(CH)在MEMS基板101 —側(cè)的構(gòu)成部分中最先與AP基板109 —側(cè)的構(gòu)成部分接觸。為此，接觸孔(CH)的頂部需要位于MEMS基板101的最高的位置。而且，為了在接觸孔(CH)中保持插入的支柱(CO)使其不會滑出，優(yōu)選將接觸孔(CH)的高度h設(shè)定為支柱高度H的一半以上。例如，當(dāng)支柱(CO)的高度H為12 μ m時，如果接觸孔(CH)的高度h設(shè)定為8 μ m左右，則快門(SH)與窗口(金屬膜(ME2)的開口部)的距離是約4μπι左右。MEMS基板101的接觸孔(CH)中，底面上的內(nèi)徑(底徑)Φ 2形成為與支柱(CO)的外徑Φ相等。此外，接觸孔(CH)的上端處的開口的內(nèi)徑Φ1，設(shè)定為考慮了貼合裝置的對齊精度的誤差的尺寸。例如在支柱的寬度是IOym,貼合裝置的對齊精度是±3 μ m的情況下，接觸孔(CH)的底面上的直徑形成為10 μ m,上端處的開口的半徑形成為至少8 μ m (從而Φ1=16 μm)。接著，如圖5 (e)所示，MEMS基板101 (透明基板(SUBl))與AP基板109 (透明基板(SUB2))，在對齊的狀態(tài)下以彼此相對的方式配置，然后使它們彼此接近。這樣，支柱(CO)進(jìn)入接觸孔(CH)，在接觸孔(CH)的底面附近部分，支柱(CO)被匹配地保持，所以MEMS基板101與AP基板109的貼合被以自對齊的方式實施。而且，由于支柱(CO)僅在AP基板109上形成，沒有接縫(接頭)，所以對外部碰撞的耐性高，從而也能夠提高可靠性。在MEMS基板101與AP基板109之間，封入透明的液體作為工作流體(workingfluid)。工作流體優(yōu)選光透過性高、具有絕緣性、介電常數(shù)高、具有與MEMS基板101的透明基板(SUBl)和AP基板109的透明基板(SUB2)的折射率接近的折射率，進(jìn)而優(yōu)選采用不妨礙快門(SH)和彈簧(SPl、SPI’、SP2、SP2’ )等可動部件的運動的油等。圖3和圖4表示了支柱(CO)的數(shù)量與接觸孔(CH)的數(shù)量相同的例子，但接觸孔(CH)的數(shù)量也可以設(shè)定為比支柱(CO)的數(shù)量少。這是因為，要想使所有的支柱(CO)都能夠插入所有的接觸孔(CH)，制造工序中要求非常高的精度。例如，可以將接觸孔(CH)的數(shù)量設(shè)定為支柱(CO)數(shù)量的一半以下，更優(yōu)選3分之I以下，在沒有接觸孔(CH)的部位，可以使支柱(CO)與MEMS基板101接觸。該情況下，當(dāng)MEMS基板101與AP基板109之間的距離，在插入接觸孔(CH)的支柱(CO)的位置和與MEMS基板101接觸的支柱(CO)的位置上不同時，對支柱(CH)施加的壓力會產(chǎn)生不均，所以形成在接觸孔(CH)的底面上的薄膜，和支柱(CO)與MEMS基板(第一基板)101接觸、不被接觸孔(CH)保持的部位上形成的薄膜，優(yōu)選以相同膜厚和相同材料形成。在構(gòu)成MEMS基板(第一基板)101的透明基板(SUBl)直接接觸支柱(CO)的情況下，優(yōu)選在接觸孔(CH)的底面也使透明基板(SUBl)露出。此外，在該薄膜的厚度非常薄以致不會對MEMS基板101與AP基板109之間的距離的不均產(chǎn)生影響的情況下，也可以忽略該薄膜的存在。如上所述，根據(jù)本實施方式，可提供一種能夠進(jìn)行MEMS基板101與AP基板109貼合作業(yè)中的自對齊，且對于外部碰撞的可靠性高的顯示裝置。
·
即，如本實施方式所述，如果在AP基板(第二基板)109的面上形成多個支柱(CO)，在MEMS基板(第一基板)101的面上形成用于插入該支柱(CO)并保持該支柱(CO)的接觸孔(CH)，就可以僅通過將支柱(CO)插入接觸孔(CH)，而容易地實現(xiàn)MEMS基板101與AP基板109貼合時的自對齊。而且，因為支柱(CH)形成在AP基板109上，所以不會產(chǎn)生如現(xiàn)有技術(shù)那樣的支柱刺入基座的故障，可以提供耐外部碰撞的MEMS顯示裝置。
權(quán)利要求
1.一種顯示裝置，其特征在于，包括 在透明基板上具備可動式快門的第一基板；和 與所述可動式快門對應(yīng)地具備使光透過的窗口的第二基板， 所述第一基板與所述第二基板隔著規(guī)定的間隔相對配置， 在所述第二基板的與所述第一基板相對的面上形成有多個支柱， 在所述第一基板上形成有用于插入所述支柱并保持所述支柱的接觸孔。
2.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于 所述接觸孔是通過與所述可動式快門相同的制造工藝同時形成的。
3.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于 所述可動式快門包括形成有開口的平板狀快門葉片，與所述平板狀快門葉片連接的彈簧，和與所述彈簧的連接所述平板狀快門葉片的端部的相反側(cè)的端部連接的錨固部，在所述透明基板上，形成有第一層薄膜和與所述第一層薄膜接觸地層疊的第二層薄膜， 所述接觸孔形成在所述第一層薄膜與所述第二層薄膜層疊的部位， 所述錨固部的至少一部分由所述第一層薄膜形成。
4.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于 所述彈簧的至少一部分由所述第二層薄膜形成。
5.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于 所述第一層薄膜和所述第二層薄膜，形成在抗蝕劑圖案上。
6.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于 所述接觸孔的高度h為所述支柱的高度H的一半以上，所述接觸孔的底面上的寬度設(shè)定為與所述支柱的寬度相同，并且所述接觸孔的開口的寬度大于所述底面的寬度。
7.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于 所述接觸孔的數(shù)量比所述支柱的數(shù)量少，形成在所述接觸孔的底面上的薄膜，與形成在所述第一基板上的、所述支柱與第一基板接觸而不被所述接觸孔保持的部位上的薄膜，由相同的材料形成。
8.如權(quán)利要求5所述的顯示裝置，其特征在于 所述接觸孔是在所述透明基板上以所述抗蝕劑材料為材料而形成的筒狀的孔。
9.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于 所述接觸孔是形成在所述透明基板上的圓筒。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置，其特征在于 所述接觸孔的底面上的內(nèi)徑，設(shè)定為與所述支柱的外徑相同，所述接觸孔的開口附近與所述接觸孔的底面附近同軸，所述接觸孔的開口處的內(nèi)徑大于所述支柱的外徑。
11.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于 所述第一層薄膜是金屬膜。
12.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置，其特征在于 所述第二層薄膜是導(dǎo)電膜。
13.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于 所述第一層薄膜和所述第二層薄膜的露出到外部的面，被絕緣膜覆蓋。
14.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于 所述第二基板包括透明基板和與該透明基板的表面接觸并且形成有所述窗口的不透明部件。
15.一種顯示裝置的制造方法，其中所述顯示裝置包括在透明基板上具備可動式快門的第一基板，和與所述可動式快門對應(yīng)地具備使光透過的窗口的第二基板，所述第一基板與所述第二基板隔著規(guī)定的間隔相對配置，所述顯示裝置的制造方法的特征在于 在所述第二基板的與所述第一基板相對的面上，形成多個支柱， 在所述第一基板的所述透明基板上，形成用于插入所述支柱并保持所述支柱的接觸孔， 將所述第二基板的所述多個支柱中與所述第一基板的接觸孔對應(yīng)的支柱插入該接觸孔。
16.如權(quán)利要求15所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于 所述接觸孔通過與所述可動式快門相同的制造工藝同時形成。
17.如權(quán)利要求16所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于 在所述透明基板上形成抗蝕劑圖案， 在該抗蝕劑圖案上形成薄膜， 對該薄膜實施蝕刻，由此形成構(gòu)成所述可動式快門的形成有開口的平板狀快門葉片，與所述平板狀快門葉片連接的彈簧，和與所述彈簧的連接所述平板狀快門葉片的端部的相反側(cè)的端部連接的錨固部，之后， 除去所述抗蝕劑圖案。
18.如權(quán)利要求17所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于 利用所述抗蝕劑圖案形成構(gòu)成所述接觸孔的筒， 在除去所述抗蝕劑圖案時，使構(gòu)成所述接觸孔的抗蝕劑圖案殘留。
19.如權(quán)利要求18所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于 在構(gòu)成所述接觸孔的抗蝕劑圖案的表面，也形成所述薄膜。
20.如權(quán)利要求19所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于 在除去所述抗蝕劑圖案后，使用絕緣膜覆蓋所述薄膜的露出到外部的面。
全文摘要
本發(fā)明提供一種顯示裝置。MEMS基板由透明基板和在該透明基板的表面上按每個像素設(shè)置的可動式快門構(gòu)成。AP基板由另一個透明基板和具有與各快門對應(yīng)的窗口且設(shè)置在該另一個透明基板上的遮光膜構(gòu)成。在MEMS基板的透明基板的表面上，形成有多個支柱。在AP基板的透明基板上的與MEMS基板相對的面上，在與一部分支柱對應(yīng)的位置上形成有多個具有與各支柱的外徑相同的內(nèi)徑的筒狀的接觸孔。兩個基板隔開規(guī)定的間隔以使各快門與窗口相對的方式配置，因此對于各接觸孔，對應(yīng)的支柱的前端插入被插入孔中，由此使兩個基板彼此定位。
文檔編號G02B26/02GK102809813SQ201210179290
公開日2012年12月5日 申請日期2012年6月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月3日
發(fā)明者木村泰一, 藤吉純 申請人:株式會社日立顯示器