專利名稱：配向膜制造裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明實施例涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種例如制造用于液晶顯示裝置的配向膜的配向膜制造裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示模組因具有低輻射性、體積輕薄短小及耗電低等特點，已廣泛應(yīng)用于手機、個人數(shù)字助理、筆記本電腦、個人電腦及電視等領(lǐng)域。液晶顯示模組通常包括薄膜晶體管(TFT)基板、彩色濾光片(CF)基板和液晶層。所述薄膜晶體管基板和所述彩色濾光片基板相對設(shè)置，所述液晶層位于所述薄膜晶體管基板和所述彩色濾光片基板之間。其中，所述薄膜晶體管基板和所述彩色濾光片基板通常分 別包括相鄰所述液晶層的配向膜。所述配向膜主要用于液晶的預(yù)取向，其需要經(jīng)過預(yù)干燥過程，以將溶液中的溶劑(例如N-甲基吡咯烷酮，NMP)揮發(fā)出來，便于聚酰亞胺(PI)形成具有均勻厚度的PI薄膜。由于PI薄膜的厚度只有約1000埃，且需要十分均勻，因此在制造過程中若控制不好，將可能產(chǎn)生各種缺陷。目前，PI的預(yù)干燥方式一般是加熱涂覆有含PI的溶液的基板，使溶液中的各種溶劑蒸發(fā)，從而提高PI的固含量。預(yù)干燥過程通常存在兩個主要問題一是由于溶液受熱后流動性加強，溶液涂覆面內(nèi)與邊緣外的溶液受熱不均導(dǎo)致光暈區(qū)域(Halo Area)的產(chǎn)生；二是由于位于涂覆面內(nèi)的支撐物的支撐點位與周邊點位受熱不均所造成的斑跡(Mura)。上述兩個問題都會降低所制得的配向膜的光學(xué)品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是配向膜制造工藝的預(yù)干燥過程容易因溶液邊緣處受熱不均產(chǎn)生光暈區(qū)域和支撐點位與周邊點位受熱不均所造成斑跡的問題。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實施例公開了一種配向膜制造裝置，包括發(fā)熱板、涂覆基板和支撐架，所述涂覆基板設(shè)置在所述發(fā)熱板上方。所述支撐架為可移動支架，其包括支撐部和驅(qū)動單元，所述支撐部支撐所述涂覆基板，所述驅(qū)動單元帶動所述支撐部移動至預(yù)設(shè)位置。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述支撐部為熱的不良導(dǎo)體。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述支撐部由聚四氟乙烯材料制成。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述支撐部相對所述發(fā)熱板的底面包括金屬反射層，所述金屬反射層位于所述涂覆基板和所述發(fā)熱板之間。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述涂覆基板遠離所述支撐部的表面設(shè)置有多個配向膜溶液涂覆區(qū)域，所述支撐部與所述涂覆基板的抵接位置對應(yīng)于所述配向膜溶液涂覆區(qū)域周邊非配向膜溶液涂覆區(qū)域的位置。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述配向膜制造裝置包括多個支撐架，所述多個支撐架的多個驅(qū)動單元之間相互獨立。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實施例還公開了一種配向膜制造裝置，包括發(fā)熱板、涂覆基板和支撐架，所述涂覆基板的第一表面包括配向膜溶液涂覆區(qū)域，所述發(fā)熱板提供熱輻射給所述涂覆基板。所述支撐架支撐所述涂覆基板的相對于所述第一表面的第二表面，所述支撐架根據(jù)所述配向膜溶液涂覆區(qū)域的位置變化，對應(yīng)移動其與所述第二表面的支撐位置，所述支撐位置對應(yīng)于所述配向膜溶液涂覆區(qū)域周邊非配向膜溶液涂覆區(qū)域的位置。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述支撐架包括支撐所述涂覆基板的支撐部，所述支撐部由聚四氟乙烯材料制成。
在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述支撐部相對所述發(fā)熱板的底面包括金屬反射層，所述金屬反射層位于所述涂覆基板和所述發(fā)熱板之間。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述配向膜制造裝置包括多個支撐架，所述多個支撐架分別包括多個相互獨立的驅(qū)動單元，所述多個驅(qū)動單元分別帶動所述多個支撐架移動至預(yù)設(shè)位置。本發(fā)明實施例的配向膜制造裝置具有適應(yīng)多種配向膜的制造、所制得的配向膜沒有光暈缺陷和斑跡缺陷等優(yōu)點。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中圖I是本發(fā)明優(yōu)選實施例配向膜制造裝置的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖I所示配向膜制造裝置的正面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是圖I所示配向膜制造裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。本發(fā)明實施例公開了一種配向膜制造裝置，請參閱圖I至圖3，其中，圖I是本發(fā)明優(yōu)選實施例配向膜制造裝置的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是圖I所示配向膜制造裝置的正面結(jié)構(gòu)示意圖，圖3是圖I所示配向膜制造裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。所述配向膜制造裝置I包括發(fā)熱板2、涂覆基板4和支撐架6。所述發(fā)熱板2為常見的加熱元件，其主要作用是散發(fā)熱量，并將所述熱量以熱輻射的形式提供給所述涂覆基板4，以對所述涂覆基板4的上表面40所承載的含PI的溶液進行加熱。所述涂覆基板4設(shè)置在所述發(fā)熱板2的上方，所述涂覆基板4的所述上表面40包括多個配向膜溶液涂覆區(qū)域400，且所述多個配向膜溶液涂覆區(qū)域400之間具有間距而相互間隔。所述涂覆基板4接收所述發(fā)熱板2的熱輻射，并將所述熱輻射傳導(dǎo)給涂覆在其上表面40的溶液，使得所述溶液中的溶劑受熱散發(fā)，此過程即為配向膜制造工藝中的預(yù)干燥過程。在本發(fā)明實施例中，所述涂覆基板4可以為平整的玻璃基板。所述支撐架6為可移動支架，包括支撐部60和驅(qū)動單元62。所述支撐部60支撐所述涂覆基板4，所述驅(qū)動單元62帶動所述支撐部60移動至預(yù)設(shè)位置。具體來說，所述支撐部60由耐磨性好、導(dǎo)熱性差的材料制得。也就是說，所述支撐部60為熱的不良導(dǎo)體。例如，所述支撐部60可以由聚四氟乙烯制成，聚四氟乙烯具有抗酸抗堿、抗各種有機溶劑的特點，幾乎不溶于所有的溶劑，同時，聚四氟乙烯還具有耐高溫和摩擦系數(shù)極低的特點。 在本發(fā)明實施例中，所述支撐部60抵接支撐所述涂覆基板4的相對所述上表面40的下表面42。其中，所述支撐部60與所述涂覆基板4的抵接位置對應(yīng)于所述配向膜溶液涂覆區(qū)域400周邊非配向膜溶液涂覆區(qū)域的位置。即，所述支撐部60抵接在所述涂覆基板4的下表面42的位置，對應(yīng)于所述上表面40的所述多個配向膜溶液涂覆區(qū)域400之間的間距。從另一方面來看，所述支撐部60與所述涂覆基板4抵接處的熱量極少或者不會影響到位于所述配向膜溶液涂覆區(qū)域400的溶液。為了在不同位置和制作不同尺寸的配向膜，所述配向膜溶液涂覆區(qū)域400的大小和位置可能做適應(yīng)性調(diào)整，因應(yīng)這樣的調(diào)整，所述支撐架6根據(jù)所述配向膜溶液涂覆區(qū)域400的位置變化，所述驅(qū)動單元62對應(yīng)驅(qū)動所述支撐部60，調(diào)整所述支撐部60的位置，使得所述支撐部60抵接在所述涂覆基板4的所述下表面42的位置。對應(yīng)于本發(fā)明實施例中有多個支撐架6，每一個支撐架6均包括單獨的驅(qū)動單元62。即，所述支撐架6的多個驅(qū)動單元62之間相互獨立，所述多個驅(qū)動單元62可以分別帶動所述多個支撐架6移動至預(yù)設(shè)位置。例如，當(dāng)所述配向膜溶液涂覆區(qū)域400的位置發(fā)生變化之后，所述驅(qū)動單元62移動所述支撐部60與所述下表面42的支撐位置至對應(yīng)于所述配向膜溶液涂覆區(qū)域400位置調(diào)整后的周邊非配向膜溶液涂覆區(qū)域的位置。在本發(fā)明實施例中，所述驅(qū)動單元62可以為小型驅(qū)動電機。進一步的，所述支撐部60相對所述發(fā)熱板2的底面(未標示)包括金屬反射層64，所述金屬反射層64位于所述涂覆基板4和所述發(fā)熱板2之間，所述金屬反射層64可以將部分來自所述發(fā)熱板2的熱量反射回所述發(fā)熱板2。在本發(fā)明實施例的配向膜制造裝置I中，所述發(fā)熱板2所發(fā)出的熱輻射部分到達所述支撐架6，部分直接到達所述涂覆基板4的所述下表面42。到達所述支撐架6的熱輻射一部分被所述支撐架6所吸收，一部分被所述金屬反射層64反射回所述發(fā)熱板2，還有一部分穿過所述金屬反射層64并傳導(dǎo)至所述涂覆基板4的下表面42。所述涂覆基板4利用所述熱量對位于所述配向膜溶液涂覆區(qū)域400的溶液進行加熱，以使其中的溶劑蒸發(fā)。在現(xiàn)有技術(shù)中，由于有溶液處會因為溶劑的蒸發(fā)而帶走部分熱量，無溶液處仍然維持原來的熱量，導(dǎo)致了溶液邊緣的溫差，使得溶液向邊緣處流動，因此預(yù)干燥后的PI層的邊緣厚度大于其面內(nèi)厚度，從而形成光暈缺陷。而在本發(fā)明實施例中，上述這種情況可以減小甚至消除，主要是因為以下兩個方面
一方面，所述支撐部60的導(dǎo)熱性較差，因此所述支撐部60將熱量傳遞給所述涂覆基板4的速率較慢，如此降低支撐位置處帶來的溫差影響；另一方面，所述支撐部60的所述金屬反射層64可以將部分熱量反射回所述發(fā)熱板2，如此進一步降低支 撐位置處帶來的溫差影響。上述兩種效應(yīng)都可以有效減少所述支撐部60對于支撐位置處涂覆基板4的熱量傳遞，從而減小甚至消除所述溶液邊緣處的溫差。還有，由于所述支撐架6的多個驅(qū)動單元62之間相互獨立，并可以分別帶動所述多個支撐部60移動至預(yù)設(shè)位置。因此，在制造不同的配向膜時，所述支撐部60的支撐位置都可以調(diào)整至對應(yīng)配向膜溶液涂覆區(qū)域400之間的間距區(qū)域，避免了對應(yīng)配向膜溶液涂覆區(qū)域400的支撐點位與周邊點位受熱不均所造成的斑跡。綜上所述，本發(fā)明實施例的配向膜制造裝置具有適應(yīng)多種配向膜的制造、所制得的配向膜沒有光暈缺陷和斑跡缺陷等優(yōu)點。以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種配向膜制造裝置，包括發(fā)熱板、涂覆基板和支撐架，所述涂覆基板設(shè)置在所述發(fā)熱板上方，其特征在于所述支撐架為可移動支架，其包括支撐部和驅(qū)動單元，所述支撐部支撐所述涂覆基板，所述驅(qū)動單元帶動所述支撐部移動至預(yù)設(shè)位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的配向膜制造裝置，其特征在于所述支撐部為熱的不良導(dǎo)體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的配向膜制造裝置，其特征在于所述支撐部由聚四氟乙烯材料制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的配向膜制造裝置，其特征在于所述支撐部相對所述發(fā)熱板的底面包括金屬反射層，所述金屬反射層位于所述涂覆基板和所述發(fā)熱板之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的配向膜制造裝置，其特征在于所述涂覆基板遠離所述支撐部的表面設(shè)置有多個配向膜溶液涂覆區(qū)域，所述支撐部與所述涂覆基板的抵接位置對應(yīng)于所述配向膜溶液涂覆區(qū)域周邊的非配向膜溶液涂覆區(qū)域的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的配向膜制造裝置，其特征在于所述配向膜制造裝置包括多個支撐架，所述多個支撐架的多個驅(qū)動單元之間相互獨立。
7.—種配向膜制造裝置，包括發(fā)熱板、涂覆基板和支撐架，所述涂覆基板的第一表面包括配向膜溶液涂覆區(qū)域，所述發(fā)熱板提供熱輻射給所述涂覆基板，其特征在于所述支撐架支撐所述涂覆基板的相對于所述第一表面的第二表面，所述支撐架根據(jù)所述配向膜溶液涂覆區(qū)域的位置變化，對應(yīng)移動其與所述第二表面的支撐位置，所述支撐位置對應(yīng)于所述配向膜溶液涂覆區(qū)域的周邊非配向膜溶液涂覆區(qū)域的位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的配向膜制造裝置，其特征在于所述支撐架包括支撐所述涂覆基板的支撐部，所述支撐部由聚四氟乙烯材料制成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的配向膜制造裝置，其特征在于所述支撐部相對所述發(fā)熱板的底面包括金屬反射層，所述金屬反射層位于所述涂覆基板和所述發(fā)熱板之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的配向膜制造裝置，其特征在于所述配向膜制造裝置包括多個支撐架，所述多個支撐架分別包括多個相互獨立的驅(qū)動單元，所述多個驅(qū)動單元分別帶動所述多個支撐架移動至預(yù)設(shè)位置。
全文摘要
本發(fā)明實施例公開了一種配向膜制造裝置，所述配向膜制造裝置包括發(fā)熱板、涂覆基板和支撐架，所述涂覆基板設(shè)置在所述發(fā)熱板上方。所述支撐架為可移動支架，其包括支撐部和驅(qū)動單元，所述支撐部支撐所述涂覆基板，所述驅(qū)動單元帶動所述支撐部移動至預(yù)設(shè)位置。本發(fā)明實施例的配向膜制造裝置具有適應(yīng)多種配向膜的制造、所制得配向膜沒有光暈缺陷和斑跡缺陷等優(yōu)點。
文檔編號G02F1/1337GK102707500SQ201210176480
公開日2012年10月3日 申請日期2012年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月31日
發(fā)明者余少鑫 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司