專利名稱：彩色濾光片基板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及ー種彩色濾光片基板及其制造方法。
背景技術(shù)：
在液晶面板制程中，對位標(biāo)志(mark)具有重要作用，當(dāng)需要進(jìn)行位置確認(rèn)和座標(biāo)計算吋，需要讀取對位標(biāo)志的位置。例如，進(jìn)行精密量測儀器座標(biāo)定位和曝光機(jī)曝光對位時，需要讀取對位標(biāo)志的位置；在液晶面板對組制程時，亦需要通過對位標(biāo)志對有源陣列基板和彩色濾光片基板的對組位置進(jìn)行確認(rèn)。請參閱圖1，圖I是現(xiàn)有彩色濾光片基板上對位標(biāo)志的設(shè)置示意圖。如圖I所示，現(xiàn)有技術(shù)中，彩色濾光片基板的透明基板10上包括有多個像素有效 區(qū)100和環(huán)繞像素有效區(qū)100設(shè)置的像素?zé)o效區(qū)101。其中，在像素?zé)o效區(qū)101上設(shè)有黑色矩陣圖案作為對位標(biāo)志1010，且對位標(biāo)志1010的形狀可設(shè)置為如圖I中所示的方形或交叉的十字形。請參閱圖2，圖2是圖I中像素?zé)o效區(qū)101的部分剖面示意圖，透明基板10的像素?zé)o效區(qū)101上覆蓋有透明導(dǎo)電層120，且對位標(biāo)志1010及對位標(biāo)志1010周邊區(qū)域上均被透明導(dǎo)電層120全部覆蓋，S卩透明導(dǎo)電層120在對位標(biāo)志1010及對位標(biāo)志1010周邊區(qū)域上的覆蓋特性相同。在采用CO) (Charge-coupled Device,電荷稱合元件)光學(xué)讀取鏡頭來讀取對位標(biāo)志1010的位置時，由于透明導(dǎo)電層120在對位標(biāo)志1010及對位標(biāo)志1010周邊區(qū)域上的覆蓋特性相同，不具有光學(xué)差異性，因此導(dǎo)致CCD光學(xué)讀取鏡頭在讀取對位標(biāo)志1010時的成功率不高，甚至讀取失敗，由此引起制程的位置計算精度偏移或是降低設(shè)備稼動率，導(dǎo)致生產(chǎn)效率和產(chǎn)能偏低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供ー種彩色濾光片基板及其制造方法，以提高CCD光學(xué)讀取鏡頭讀取對位標(biāo)志的成功率。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是提供ー種彩色濾光片基板的制造方法，包括步驟在透明基板的像素?zé)o效區(qū)形成黒色矩陣圖案以形成對位標(biāo)志；在該像素?zé)o效區(qū)上涂覆透明導(dǎo)電層以覆蓋該對位標(biāo)志；對該透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，使得該透明導(dǎo)電層在該對位標(biāo)志與該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的覆蓋特性相異。其中，對該透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以露出該對位標(biāo)志，并保留該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋的該透明導(dǎo)電層。其中，對該透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以露出該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域的像素?zé)o效區(qū)，并保留該對位標(biāo)志上覆蓋的該透明導(dǎo)電層。其中，對該透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以露出緊鄰該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的像素?zé)o效區(qū)，并保留該對位標(biāo)志和遠(yuǎn)離該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋的該透明導(dǎo)電層。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另ー個技術(shù)方案是提供ー種彩色濾光片基板，該彩色濾光片基板包括透明基板、黒色矩陣圖案以及透明導(dǎo)電層。該透明基板包括像素?zé)o效區(qū)；該黑色矩陣圖案設(shè)于該像素?zé)o效區(qū)以形成對位標(biāo)志；該透明導(dǎo)電層設(shè)置于該像素?zé)o效區(qū)上，且在該像素?zé)o效區(qū)中該對位標(biāo)志與該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的該透明導(dǎo)電層的覆蓋特性相異。其中，該對位標(biāo)志的上未覆蓋該透明導(dǎo)電層，該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋該透明導(dǎo)電層。其中，該對位標(biāo)志的上部分覆蓋有該透明導(dǎo)電層，該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋有該透明導(dǎo)電層。其中，該對位標(biāo)志上覆蓋該透明導(dǎo)電層，該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上未覆蓋該透明導(dǎo)電層。其中，該對位標(biāo)志上覆蓋該透明導(dǎo)電層，該像素?zé)o效區(qū)除對位標(biāo)志外的其他周邊 區(qū)域上均未覆蓋該透明導(dǎo)電層。其中，該對位標(biāo)志和遠(yuǎn)離該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋該透明導(dǎo)電層，緊鄰該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上未覆蓋該透明導(dǎo)電層。本發(fā)明的有益效果是區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明通過對透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，使得透明導(dǎo)電層在對位標(biāo)志上與對位標(biāo)志周邊區(qū)域上的覆蓋特性相異，從而增強(qiáng)對位標(biāo)志與其周邊區(qū)域在CCD光學(xué)讀取鏡頭下的光學(xué)差異性，提高CCD光學(xué)讀取鏡頭讀取對位標(biāo)志的成功率，進(jìn)而有效地提高制程的位置計算精度和設(shè)備稼動率，提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)能。


圖I是現(xiàn)有彩色濾光片基板上對位標(biāo)志的設(shè)置示意圖；圖2是圖I中像素?zé)o效區(qū)的部分剖面示意圖；圖3是具有本發(fā)明彩色濾光片基板的液晶面板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本發(fā)明彩色濾光片基板第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是本發(fā)明彩色濾光片基板第二實施例的像素?zé)o效區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是圖5的俯視圖；圖7是本發(fā)明彩色濾光片基板第三實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖8是本發(fā)明彩色濾光片基板第四實施例的像素?zé)o效區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖；以及圖9是本發(fā)明彩色濾光片基板制造方法一實施例的流程示意圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明作進(jìn)ー步的詳細(xì)描述。以下實施例僅用于說明本發(fā)明，但不應(yīng)用來限制本發(fā)明的范圍。請參閱圖3，是具有本發(fā)明彩色濾光片基板的液晶面板的結(jié)構(gòu)示意圖，在本實施例中，液晶面板包括有源陣列基板31、彩色濾光片基板32和夾持在有源陣列基板31和彩色濾光片基板32之間的液晶層33。有源陣列基板31和彩色濾光片基板32相對設(shè)置，其包括透明基板以及設(shè)置于透明基板上的驅(qū)動配線以及配向?qū)?。鑒于本發(fā)明中采用的有源陣列基板31與現(xiàn)有液晶面板中的有源陣列基板相同，因此其具體結(jié)構(gòu)可參考相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)，在此不進(jìn)行贅述。彩色濾光片基板32也稱CF (Color Filter)基板，通過彩色濾光片基板32的作用使得液晶顯示面板可顯示彩色畫面。請參閱圖4所示，圖4是本發(fā)明彩色濾光片基板32的第一實施例結(jié)構(gòu)示意圖。在本實施例中，彩色濾光片基板32包括透明基板40和設(shè)置在透明基板40上的第一黒色矩陣圖案41、第二黒色矩陣圖案42、彩色光阻層43、透明導(dǎo)電層44以及配向?qū)?5。其中，透明基板40包括像素?zé)o效區(qū)401和像素有效區(qū)402，第二黒色矩陣圖案42設(shè)于像素?zé)o效區(qū)401以形成對位標(biāo)志，多個第一黒色矩陣圖案41間隔設(shè)于像素有效區(qū)402，且相鄰的兩個第一黒色矩陣圖案41之間設(shè)置有彩色光阻層43。透明導(dǎo)電層44設(shè)置于像素有效區(qū)402和像素?zé)o效區(qū)401上。配向?qū)?5設(shè)置于透明導(dǎo)電層44上，且優(yōu)選為僅設(shè)置在像素有效區(qū)402上。 本實施例中，在對位標(biāo)志42(即第二黒色矩陣圖案42)上覆蓋透明導(dǎo)電層44，對位標(biāo)志42的周邊區(qū)域上未覆蓋透明導(dǎo)電層44。換而言之，在像素?zé)o效區(qū)401中，透明導(dǎo)電層44在對位標(biāo)志42和其周邊區(qū)域上的覆蓋特性相異，存在透明導(dǎo)電層44的覆蓋區(qū)域和非覆蓋區(qū)域之別。具體而言，本實施例中，對位標(biāo)志42為透明導(dǎo)電層44的覆蓋區(qū)域，像素?zé)o效區(qū)401中除了對位標(biāo)志42所在區(qū)域之外的其他周邊區(qū)域均為透明導(dǎo)電層44的非覆蓋區(qū)域，即除對位標(biāo)志42外的其他周邊區(qū)域均未覆蓋透明導(dǎo)電層44。由于透明導(dǎo)電層44的覆蓋區(qū)域和非覆蓋區(qū)域在CXD光學(xué)讀取鏡頭下具有光學(xué)對比差異，使得CCD光學(xué)讀取鏡頭在讀取對位標(biāo)志42時，可以快速讀取以進(jìn)行定位，由此提高CCD光學(xué)讀取鏡頭讀取對位標(biāo)志42的成功率。因此，本發(fā)明避免了現(xiàn)有技術(shù)中需要在被透明導(dǎo)電層完全覆蓋的像素?zé)o效區(qū)中區(qū)別辨認(rèn)細(xì)小的對位標(biāo)志的過程，因而縮短了讀取辨識的時間，提高了制程的位置計算精度和設(shè)備稼動率，提高生產(chǎn)效率，增加產(chǎn)能。圖5是本發(fā)明彩色濾光片基板第二實施例的像素?zé)o效區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖6是圖5的俯視不意圖。請參閱圖5及圖6，在本實施例中的彩色濾光片基板與第一實施例的彩色濾光片基板的區(qū)別在于，像素?zé)o效區(qū)401中緊鄰對位標(biāo)志421的周邊區(qū)域上未覆蓋透明導(dǎo)電層441，透明導(dǎo)電層441覆蓋在對位標(biāo)志421和像素?zé)o效區(qū)401中遠(yuǎn)離對位標(biāo)志421的周邊區(qū)域上，使得對位標(biāo)志421與其周邊區(qū)域之間形成透明導(dǎo)電層441的覆蓋區(qū)域和非覆蓋區(qū)域的差異，從而可有效地提高讀取對位標(biāo)志421的成功率。請參閱圖7，是本發(fā)明彩色濾光片基板32第三實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。在本實施例中，彩色濾光片基板32包括透明基板50以及設(shè)置在透明基板50上的第一黒色矩陣圖案51、第二黒色矩陣圖案52、彩色光阻層53、透明導(dǎo)電層54以及配向?qū)?5。其中，透明基板50包括像素?zé)o效區(qū)501和像素有效區(qū)502，第二黒色矩陣圖案52設(shè)于像素?zé)o效區(qū)501以形成對位標(biāo)志，多個第一黒色矩陣圖案51間隔設(shè)于像素有效區(qū)502，且相鄰的兩個第一黒色矩陣圖案51之間設(shè)置有彩色光阻層53。透明導(dǎo)電層54設(shè)置于像素有效區(qū)502和像素?zé)o效區(qū)501上。配向?qū)?5設(shè)置于透明導(dǎo)電層54上，且優(yōu)選為僅設(shè)置在像素有效區(qū)502上。本實施例中，在像素?zé)o效區(qū)501中，對位標(biāo)志52(即第二黒色矩陣圖案52)上未覆蓋透明導(dǎo)電層54，對位標(biāo)志52的周邊區(qū)域上覆蓋透明導(dǎo)電層54，由此使得透明導(dǎo)電層54在對位標(biāo)志52和其周邊區(qū)域上的覆蓋特性相異，存在透明導(dǎo)電層54的覆蓋區(qū)域和非覆蓋區(qū)域之別。由于透明導(dǎo)電層54的覆蓋區(qū)域和非覆蓋區(qū)域在CXD光學(xué)讀取鏡頭下具有光學(xué)對比差異，使得CCD光學(xué)讀取鏡頭在讀取對位標(biāo)志52時，可以快速讀取以進(jìn)行定位，由此提高CCD光學(xué)讀取鏡頭讀取對位標(biāo)志52的成功率。應(yīng)理解，圖7所示的實施例中，對位標(biāo)志52上也可以部分覆蓋有透明導(dǎo)電層54，只要使得透明導(dǎo)電層54在對位標(biāo)志52和其周邊區(qū)域上的覆蓋特性相異即可。具體而言，請參閱圖8，圖8是本發(fā)明彩色濾光片基板32第四實施例的像素?zé)o效區(qū)501的結(jié)構(gòu)示意圖。與圖7所示實施例不同之處在于，在本實施例中，對位標(biāo)志521的上部分覆蓋有透 明導(dǎo)電層541，對位標(biāo)志521的周邊區(qū)域上覆蓋有透明導(dǎo)電層541。其中，對位標(biāo)志521上覆蓋有透明導(dǎo)電層541的區(qū)域優(yōu)選為不超過對位標(biāo)志521上表面整體面積的50%，以使得透明導(dǎo)電層541在對位標(biāo)志521及其周邊區(qū)域上的覆蓋特性存在較明顯的差異，使得CCD光學(xué)讀取鏡頭易于辨識到對位標(biāo)志521以快速進(jìn)行讀取，從而有效地提高讀取的成功率。請參閱圖9，是本發(fā)明彩色濾光片基板制造方法一實施例的流程示意圖。在本實施例中，彩色濾光片基板制造方法包括步驟S700 :在透明基板的像素?zé)o效區(qū)形成黒色矩陣圖案以形成對位標(biāo)志。當(dāng)然，在步驟S700中還可以包括在透明基板的像素有效區(qū)形成間隔設(shè)置的多個黒色矩陣圖案、且在像素有效區(qū)上的每兩個黒色矩陣圖案之間設(shè)置彩色光阻層等流程，其具體結(jié)構(gòu)還請參閱圖3到圖8針對第一黒色矩陣圖案、第二黒色矩陣圖案和彩色光阻層的相關(guān)描述，在本技術(shù)領(lǐng)域人員容易結(jié)合理解的范圍內(nèi)，不再贅述。步驟S701 :在像素?zé)o效區(qū)上涂覆透明導(dǎo)電層以覆蓋對位標(biāo)志。在步驟S701中，還可以包括在像素有效區(qū)上涂覆透明導(dǎo)電層，以覆蓋像素有效區(qū)上的多個黑色矩陣圖案和彩色光阻層。步驟S702 :對透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，使得透明導(dǎo)電層在對位標(biāo)志與對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的覆蓋特性相異。在其他實施例中，步驟S702也可以同時對像素有效區(qū)的透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，而對像素有效區(qū)或像素?zé)o效區(qū)進(jìn)行圖案化處理時可以采用涂光阻、曝光、顯影、蝕刻、去光阻等制程，其曝光方式包括但不限于接觸式、接近式和投影式等，在此不作限定。具體而言，步驟S702的ー種具體實現(xiàn)方式是對像素?zé)o效區(qū)上的透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以露出對位標(biāo)志的周邊區(qū)域的像素?zé)o效區(qū)，并保留對位標(biāo)志上覆蓋的透明導(dǎo)電層，進(jìn)ー步而言，進(jìn)行圖案化處理之后可以只露出緊鄰對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的像素?zé)o效區(qū)，并保留對位標(biāo)志和遠(yuǎn)離對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋的透明導(dǎo)電層，以形成例如圖4-圖6所示的彩色濾光片基板。步驟S702的另ー種具體實現(xiàn)方式是對像素?zé)o效區(qū)上的透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以露出對位標(biāo)志，并保留對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋的透明導(dǎo)電層，以形成例如圖7-圖8所示的彩色濾光片基板。
當(dāng)然，在步驟S702之后，還包括制作配向?qū)雍烷g隙子層等步驟，在彩色濾光片基板上進(jìn)ー步制作配向?qū)雍烷g隙子層的相關(guān)步驟可參考本技術(shù)領(lǐng)域的相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。綜上所述，本發(fā)明彩色濾光片基板及其制造方法通過對透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，使得透明導(dǎo)電層在對位標(biāo)志與對位標(biāo)志周邊區(qū)域的覆蓋特性相異，增強(qiáng)對位標(biāo)志與其周邊區(qū)域在CCD光學(xué)讀取鏡頭下的光學(xué)對比差異性，由此提高CCD光學(xué)讀取鏡頭讀取對位標(biāo)志的成功率，以此有效地提高了制程的位置計算精度和設(shè)備稼動率，提高生產(chǎn)效率、増加產(chǎn)能。以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。權(quán)利要求
1.一種彩色濾光片基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括 在透明基板的像素?zé)o效區(qū)形成黑色矩陣圖案以形成對位標(biāo)志； 在所述像素?zé)o效區(qū)上涂覆透明導(dǎo)電層以覆蓋所述對位標(biāo)志； 對所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，使得所述透明導(dǎo)電層在所述對位標(biāo)志與所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的覆蓋特性相異。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于 對所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以露出所述對位標(biāo)志，并保留所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋的所述透明導(dǎo)電層。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于 對所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以露出所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域的像素?zé)o效區(qū)，并保留所述對位標(biāo)志上覆蓋的所述透明導(dǎo)電層。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于 對所述透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以露出緊鄰所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的像素?zé)o效區(qū)，并保留所述對位標(biāo)志和遠(yuǎn)離所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋的所述透明導(dǎo)電層。
5.—種彩色濾光片基板,其特征在于,包括 透明基板，包括像素?zé)o效區(qū)； 黑色矩陣圖案，設(shè)于所述像素?zé)o效區(qū)以形成對位標(biāo)志； 透明導(dǎo)電層，設(shè)置于像素?zé)o效區(qū)上，且在所述像素?zé)o效區(qū)中所述對位標(biāo)志與所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的所述透明導(dǎo)電層的覆蓋特性相異。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩色濾光片基板，其特征在于所述對位標(biāo)志的上未覆蓋所述透明導(dǎo)電層，所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋所述透明導(dǎo)電層。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩色濾光片基板，其特征在于 所述對位標(biāo)志的上部分覆蓋有所述透明導(dǎo)電層，所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋有所述透明導(dǎo)電層。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩色濾光片基板，其特征在于所述對位標(biāo)志上覆蓋所述透明導(dǎo)電層，所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上未覆蓋所述透明導(dǎo)電層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩色濾光片基板，其特征在于所述對位標(biāo)志上覆蓋所述透明導(dǎo)電層，所述像素?zé)o效區(qū)除對位標(biāo)志外的其他周邊區(qū)域上均未覆蓋所述透明導(dǎo)電層。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩色濾光片基板，其特征在于所述對位標(biāo)志和遠(yuǎn)離所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上覆蓋所述透明導(dǎo)電層，緊鄰所述對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上未覆蓋所述透明導(dǎo)電層。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種彩色濾光片基板及其制造方法，該方法包括在透明基板的像素?zé)o效區(qū)形成黑色矩陣圖案以形成對位標(biāo)志；在該像素?zé)o效區(qū)上涂覆透明導(dǎo)電層以覆蓋該對位標(biāo)志；對該透明導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，使得該透明導(dǎo)電層在該對位標(biāo)志與該對位標(biāo)志的周邊區(qū)域上的覆蓋特性相異。本發(fā)明有效地增強(qiáng)對位標(biāo)志與其周邊區(qū)域在CCD光學(xué)讀取鏡頭下的光學(xué)差異性，提高讀取對位標(biāo)志的成功率，從而提高生產(chǎn)效率。
文檔編號G02B5/20GK102707486SQ20121017651
公開日2012年10月3日 申請日期2012年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月31日
發(fā)明者伍浚銘 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司