專利名稱：高隔離度cwdm薄膜濾光片的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種濾光片，具體是指一種高隔離度CWDM薄膜濾光片。
背景技術：
薄膜濾光片，又分為薄膜吸收濾光片和薄膜干涉濾光片兩種。前者是在特定材料基材上，用化學浸蝕或真空蒸鍍方法形成單層薄膜，使本征吸收線正好位于需要的波長處。 后者是在一定片基上，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質-金屬膜，或全介質膜，構成一種低級次的、多級串聯(lián)實心法布里-珀羅干涉儀。 目前，市場上的濾光片普遍存在著峰值透射率不高或者是次峰跟旁帶問題嚴重的問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于避免現(xiàn)有技術中的不足而提供一種高陡度通道平坦度濾光片，峰值透射率高、可以提高器件相鄰通道隔離度，將隔離度從25dB提高到46dB的高隔離度CWDM薄膜濾光片。本實用新型的目的通過以下技術方案實現(xiàn)高隔離度CWDM薄膜濾光片，包括基板，基板的一面設有正面膜系，另一面設有反面膜系，所述的基板采用厚度為1毫米玻璃為基板，其表面平面度為光圈N < 3，局部光圈 ΔΝ< 0. 4，表面光潔度B = III ；所述的正面膜系為基于12個法布里-珀羅串聯(lián)Ns|HLHL
H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL .........HLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL0. 2356H1. 3526L|No，
膜系中Ns表示基板，No表示空氣，L表示厚度為λ 0/4五氧化二鉭膜層，H表示厚度為 λ 0/4 二氧化硅膜層，中心波長λ 0 = 1470-1610納米；所述的反面膜系為增透膜，所述的增透膜的膜層結構如下
權利要求1. 一種高隔離度CWDM薄膜濾光片，包括基板(1)，基板(1)的一面設有正面膜系(2)， 另一面設有反面膜系(3)，其特征在于所述的基板(1)采用厚度為1毫米玻璃為基板，其表面平面度為光圈N< 3，局部光圈ΔΝ< 0.4，表面光潔度B = III ；所述的正面膜系(2)為基于 12 個法布里-珀羅串聯(lián)Ns IHLHL H8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL .........HLHLH8LHLHLHL HLHL H8LHLHLHL0. 2356H1. !35^L|No，膜系中Ns 表示基板(1)，No 表示空氣，L 表示厚度為λ 0/4五氧化二鉭膜層，H表示厚度為λ 0/4 二氧化硅膜層，中心波長λ0 = 1470-1610納米；所述的反面膜系(3)為增透膜，所述的增透膜的膜層結構如下
專利摘要本實用新型公開了一種高隔離度CWDM薄膜濾光片。高隔離度CWDM薄膜濾光片，包括基板(1)，基板(1)的一面設有正面膜系(2)，另一面設有反面膜系(3)，所述的基板(1)采用厚度為1毫米玻璃為基板，其表面平面度為光圈N＜3，局部光圈ΔN＜0.4，表面光潔度B＝III；所述的正面膜系(2)為基于12個法布里-珀羅串聯(lián)；所述的反面膜系(3)為增透膜。本實用新型通過法布里-珀羅腔數(shù)、串聯(lián)方式、連接層非規(guī)整控制等較好的解決高陡度濾光片通道平坦度問題，透射率可以達到98%以上，通過此濾光片可以提高器件相鄰通道隔離度，將隔離度從25dB提高到46dB。
文檔編號G02B5/20GK202275171SQ20112029925
公開日2012年6月13日 申請日期2011年8月17日 優(yōu)先權日2011年8月17日
發(fā)明者王鵬飛, 范衛(wèi)星, 趙戰(zhàn)剛 申請人:奧普鍍膜技術(廣州)有限公司