專利名稱：基板處理設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
實施例涉及基板處理設(shè)備，尤其是涉及在平板顯示器設(shè)備的基板上形成并干燥光致抗蝕膜的設(shè)備。
背景技術(shù)：
電子線路圖案一般是形成在平板顯示器裝置的基板(例如半導(dǎo)體基板和平玻璃) 上。該電子線路圖案通常是通過一系列處理，諸如依次進行的沉積處理、光刻處理、蝕刻處理、以及清洗處理形成在基板上。具體地，光刻處理包括將光致抗蝕膜涂覆在基板上的涂覆處理、干燥該光致抗蝕膜的干燥處理、硬化該光致抗蝕膜的軟烤(soft baking)處理、將中間掩模圖案(reticle pattern)轉(zhuǎn)錄到光致抗蝕膜上的曝光處理、將光致抗蝕膜顯影成光致抗蝕圖案的顯影處理、以及硬化光致抗蝕膜的硬烤Oiard baking)處理。光刻處理中的各單元處理可以在各自的單元處理模塊中進行，并且基板通常由傳送機器人傳送入/出單元處理模塊。例如，在單元處理模塊中進行過涂覆處理的基板被傳送機器人傳送到另一用于干燥處理的處理模塊。然而，由于傳送機器人成本很高，會有光刻設(shè)備的制造成本也必定增加的問題。并且，當傳送機器人用于將基板傳送入/出處理模塊時，基板的處理速度難以增加，并且處理模塊難以和另外的模塊一起進行整體操作。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明理念的實施例提供了一種在無需傳送機器人即可水平傳送的基板上形成光致抗蝕膜的裝置。根據(jù)本發(fā)明理念的一些實施例，提供了一種基板處理設(shè)備。該設(shè)備包括用于將光致抗蝕膜涂覆到所述基板上的涂覆模塊，所述基板在傳送方向上被水平傳送；以及靠近所述涂覆模塊的干燥模塊，所述干燥模塊對直接從所述涂覆模塊傳送過來的所述基板上的所述光致抗蝕膜進行干燥。在一實施例中，所述涂覆模塊包括將空氣供應(yīng)到所述基板從而使所述基板漂浮在空氣中的涂覆空氣供應(yīng)部；在所述傳送方向上水平傳送所述漂浮基板的傳送單元；以及位于所述涂覆空氣供應(yīng)部上方并以基本垂直于所述傳送方向的噴嘴方向延伸的噴嘴。光致抗蝕材料通過所述噴嘴被供應(yīng)到所述基板。在一實施例中，所述涂覆空氣供應(yīng)部包括帶有多個孔的穿孔板，所述空氣流經(jīng)所述多個孔。不然的話，所述涂覆空氣供應(yīng)部包括帶有多個微孔的多孔板和封閉所述多孔板側(cè)面的側(cè)擋板，所述空氣流經(jīng)所述多個微孔。在一實施例中，所述傳送單元包括多個真空卡盤，所述真空卡盤通過真空壓保持住所述基板的邊緣部。具體地，所述傳送單元將所述基板傳送到所述干燥模塊內(nèi)部。在一實施例中，所述傳送單元包括多個滾輪，所述滾輪支撐住所述基板的兩橫向邊緣部并沿傳送方向排列成一直線。在一實施例中，所述干燥模塊包括干燥室，所述干燥室具有容置所述基板的干燥空間；位于所述干燥室內(nèi)的干燥空氣供應(yīng)部，所述干燥空氣供應(yīng)部將空氣供應(yīng)到所述基板從而使所述基板漂浮在空氣中；位于所述干燥空氣供應(yīng)部上并支撐所述干燥室內(nèi)所述基板的支撐部；以及將真空壓施加到所述干燥室內(nèi)部的真空單元。所述基板上的光致抗蝕膜通過所述干燥室內(nèi)部的真空來干燥。在一實施例中，所述干燥空氣供應(yīng)部包括帶有多個孔的穿孔板，所述空氣流經(jīng)所述多個孔。所述干燥空氣供應(yīng)部包括帶有多個微孔的多孔板和封閉所述多孔板側(cè)面的側(cè)擋板，所述空氣流經(jīng)所述多個微孔。在一實施例中，所述干燥模塊進一步包括在所述傳送方向上水平傳送所述漂浮基板的傳送單元。所述傳送單元包括多個真空卡盤，所述真空卡盤通過真空壓保持住所述基板的邊緣部。不然的話，所述傳送單元包括多個滾輪，所述滾輪支撐住所述基板的兩橫向邊緣部并沿傳送方向排列成一直線。在一實施例中，所述干燥室包括進口和出口，所述基板通過所述進口沿所述傳送方向傳送到所述干燥室中并且通過所述出口沿所述傳送方向傳送出所述干燥室。所述進口和出口包括用于將所述干燥室的干燥空間與周圍環(huán)境相隔離的閘閥。在一實施例中，所述支撐部包括多個位于所述干燥空氣供應(yīng)部上的支撐銷，所述支撐銷上下移動，從而防止所述基板在傳送出入所述干燥室時被所述支撐銷干擾。根據(jù)本發(fā)明理念的某些實施例，處理設(shè)備包括涂覆模塊和干燥模塊?；褰?jīng)由涂覆模塊和干燥模塊從裝載部水平傳送到卸載部。具體地，基板直接從涂覆模塊傳送到干燥模塊。在涂覆模塊和干燥模塊中，基板分別通過涂覆空氣供應(yīng)部和干燥空氣供應(yīng)部漂浮在空氣中，并且通過各自的傳送單元在傳送方向上水平移動。即，基板在處理設(shè)備中以成一直線地方式處理，從而降低了處理時間。另外，處理設(shè)備可以不需要傳送機器人，因此與現(xiàn)有的處理設(shè)備相比較制造成本和維護成本顯著下降。


從以下結(jié)合附圖的具體說明將清楚地理解實施例。圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明實施例的基板處理設(shè)備的示意圖；圖2和圖3為示意性地顯示圖1所示根據(jù)本發(fā)明理念的第一實施例的處理設(shè)備的涂覆模塊的視圖；圖4為圖2和圖3所示涂覆空氣供應(yīng)部第一修改實施例的剖視圖；圖5為圖2和圖3所示涂覆空氣供應(yīng)部第二修改實施例的剖視圖；圖6和圖7為圖2和圖3所示涂覆空氣供應(yīng)部的第三修改實施例的示意圖；圖8和圖9為圖2和圖3所示涂覆空氣供應(yīng)部的第四修改實施例的示意圖；圖10和圖11為根據(jù)本發(fā)明理念的第二實施例的圖1所示處理設(shè)備的涂覆模塊的示意圖；圖12和13為圖1所示根據(jù)本發(fā)明理念的第一實施例的處理設(shè)備的干燥模塊的示意圖14是顯示圖12和13所示干燥空氣供應(yīng)部修改實施例的剖視圖；圖15和16為圖1所示根據(jù)本發(fā)明理念的第二實施例的處理設(shè)備的干燥模塊的示意圖。
具體實施例方式參考實施例示出的附圖，下文將更詳細地描述各種實施例。然而，本發(fā)明可以以許多不同的形式實現(xiàn)，并且不應(yīng)解釋為受在此提出之實施例的限制。相反，提供這些實施例是為了達成充分及完整公開，并且使本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員完全了解本發(fā)明的范圍。這些附圖中，為清楚起見，可能放大了層及區(qū)域的尺寸及相對尺寸。應(yīng)理解，當將元件或?qū)臃Q為在另一元件或?qū)印吧稀?、與另一元件或?qū)印斑B接”或“結(jié)合”之時，其可為直接在另一元件或?qū)由?、與其它元件或?qū)又苯舆B接或結(jié)合，或者存在居于其間的元件或?qū)?。與此相反，當將元件稱為“直接在另一元件或?qū)由稀?、與另一元件或?qū)印爸苯舆B接”或“直接結(jié)合”之時，并不存在居于其間的元件或?qū)印Ｍㄆ邢嗤瑯颂柺侵赶嗤脑Ｈ绫疚闹兴褂玫?，用語“及/或”包括一或多個相關(guān)的所列項目的任何或所有組合。應(yīng)理解，盡管本文中使用第一、第二、第三等來描述多個元件、組件、區(qū)域、層及/ 或部分，但這些元件、組件、區(qū)域、層及/或部分并非受到這些用語的限制。這些用語僅用于使一個元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一個區(qū)域、層或部分區(qū)別開來。由此，下文所稱之第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可稱為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分，而不脫離本發(fā)明的教導(dǎo)。與空間相關(guān)的表述，如“下方” “以下” “下”、“上方” “上”等，在本文中的使用是為了容易地表述如圖所示的一個元件或部件與另一元件或部件的關(guān)系。應(yīng)理解，這些與空間相關(guān)的表述除圖中所示方位之外，還意欲涵蓋該設(shè)備在使用或工作中的不同方位。例如， 若圖中的該設(shè)備翻轉(zhuǎn)，描述為在“其它元件或部件之下”、或“在其它元件或部件下方，，的元件則會定位成“在其它元件或部件上方”。由此，該示范性的表述“在...下方”可同時涵蓋 “在...上方”與“在...下方”兩者。該設(shè)備可為另外的朝向(旋轉(zhuǎn)90度或其它朝向)， 并且本文中所使用的這些與空間相關(guān)的表述亦作相應(yīng)的解釋。本文中所使用的術(shù)語僅用于描述特定的實施例，并且并不意欲限制本發(fā)明。如本文中所述的，單數(shù)形式的冠詞意欲包括復(fù)數(shù)形式，除非其上下文明示。還應(yīng)理解，當本說明書中使用表述“包括”之時，明確說明了存在有所描述的部件、整體、步驟、操作、元件及/或組件，但并不排除存在或附加有一個或多個其它部件、整體、步驟、操作、元件、組件及/或它們的組合。實施例在本文中是參照本發(fā)明的理想化實施例(以及中間結(jié)構(gòu))的示意剖視圖來描述的。照此，預(yù)期會產(chǎn)生例如因制造處理及/或公差而造成形狀上的變化。由此，本發(fā)明的實施例不應(yīng)解釋為將其限制成本文所示的特定區(qū)域形狀，還應(yīng)包括例如，因制造而導(dǎo)致的形狀偏差。例如，顯示為矩形的植入?yún)^(qū)，通常具有圓形或曲線形的特征和/或在其邊緣形成植入密度的梯度，而非從植入?yún)^(qū)域到非植入?yún)^(qū)域的二元變化。類似的，通過植入形成的埋入?yún)^(qū)會導(dǎo)致在該埋入?yún)^(qū)和發(fā)生植入的表面之間的區(qū)域中有一些植入。所示的區(qū)域的本質(zhì)是示意性的，并且其形狀并不意欲示出部件區(qū)域的精確形狀，也不意欲限制本發(fā)明的范圍。除非另有定義，本文所使用的所有術(shù)語(包括科技術(shù)語)的意思與本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員所通常理解的一致。還應(yīng)理解，諸如一般字典中所定義的術(shù)語應(yīng)解釋為與相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中的意思一致，并且不應(yīng)解釋為理想化的或過度刻板的含義，除非在文中另有明確定義。下文，將參考附圖詳細說明實施例。圖1為根據(jù)本發(fā)明實施例的基板處理設(shè)備的示意圖。下文中，所述基板處理設(shè)備通常稱之為處理設(shè)備。參考圖1，根據(jù)本發(fā)明理念的實施例的處理設(shè)備10包括將光致抗蝕膜涂覆在基板 2上的涂覆模塊100、干燥基板2上光致抗蝕膜的干燥模塊200、將基板裝載到涂覆模塊100 中的裝載部20、以及將基板2從干燥模塊200中卸載的卸載部。例如，基板包括諸如半導(dǎo)體器件的晶片之類的半導(dǎo)體基板，以及平板顯示器(FPD)裝置的玻璃基板。例如，基板2可在涂覆模塊100處進行涂覆處理，然后經(jīng)由涂覆模塊100的移動直接傳送到干燥模塊200，無需任何附加的、諸如傳送機器人之類的傳送部件。涂覆模塊100可使基板2沿傳送方向水平移動，并且將光致抗蝕復(fù)合物供應(yīng)到移動的基板2上，從而在基板2上形成光致抗蝕膜。圖2和圖3示意地顯示了圖1所示根據(jù)本發(fā)明理念的第一實施例的處理設(shè)備的涂覆模塊。圖2是圖1所示處理設(shè)備涂覆模塊的平面示意圖，圖3是圖1所示處理設(shè)備的涂覆模塊的剖視圖。參考圖2和圖3，第一實施例的涂覆模塊100包括將空氣供應(yīng)到基板2以使基板漂浮在空氣中的涂覆空氣供應(yīng)部102 ；將漂浮的基板2保持住并沿傳送方向傳送的第一傳送單元104 ；以及將光致抗蝕材料供應(yīng)到傳送中的基板2上的噴嘴106。噴嘴106定位在涂覆空氣供應(yīng)部102之上，并以基本垂直于傳送方向的噴嘴方向延伸。噴嘴方向和傳送方向界定出平行于基板2的表面。噴嘴106設(shè)有狹縫(未顯示)，并且光致抗蝕材料通過狹縫供應(yīng)到基板2。可在噴嘴方向設(shè)置多條狹縫，并且在基板2被第一傳送單元104在傳送方向傳送的同時，光致抗蝕材料被供應(yīng)到基板2上。涂覆空氣供應(yīng)部102包括帶有多個孔108a的穿孔板108。該穿孔板108定位在噴嘴106下方并連接到氣源110。例如，穿孔板108連接到帶有緩沖空間11 的空氣歧管112 并被連接到氣源110。因此，多個孔108a與緩沖空間11 連通，并且空氣從氣源110通過緩沖空間11 和孔108a流到基板2的背面。例如，氣源110包括可通過氣管IlOa連接到氣源110的氣泵和氣罐。氣管IlOa可設(shè)有控制閥(未顯示)來控制通過穿孔板108的空氣流量。穿孔板108包括金屬，例如鋁?？?08的直徑為約0. Imm至約2. 3mm。相鄰孔108a 隔開的間距為約IOmm至約150mm。當孔108a的直徑大于約2. 3mm時，基板2上靠近孔108a 處的溫度會由于空氣通過孔108a而改變。基板的溫度變化會降低基板2上光致抗蝕膜4 的均勻性，因而第一孔14 的直徑小于約2. 3mm。第一傳送單元104保持漂浮在空氣中的基板2的邊緣部，并以傳送方向水平傳送基板2。穿孔板108的寬度小于基板2的寬度并且基板2橫向的兩邊緣部沒有被穿孔板108 所蓋住。因此第一傳送單元104保持住基板2橫向的邊緣部。例如，第一傳送單元104包括多個真空卡盤114，其利用真空壓將基板2的邊緣部吸住。真空卡盤114固定到位于穿孔板108兩側(cè)部的一對直線馬達116。因此，真空卡盤114通過直線馬達116沿傳送方向移動。在修改的實施例中，真空卡盤114通過包含直線運動引導(dǎo)部、滾珠絲杠和球塊(ball block)的驅(qū)動機構(gòu)來移動。盡管圖中未示，第一傳送單元104固定到框架IOOa0具體地，第一傳送單元104將基板2從涂覆模塊100傳送到干燥模塊200內(nèi)部。例如，直線馬達116包括兩步式直線機構(gòu)，并且因而真空卡盤114以傳送方向移動到干燥模塊 200內(nèi)部。例如，直線馬達114包括用于將基板2移入涂覆模塊100的第一直線機構(gòu)，和用于將基板2從涂覆模塊100連續(xù)地移動到干燥模塊200中的第二直線機構(gòu)。噴嘴106固定到位于涂覆空氣供應(yīng)部102上方并在噴嘴方向上延伸的機架100b。 機架IOOb可相對框架IOOa在水平方向上移動。具體地，機架IOOb包括在氣體供應(yīng)部102 上方以噴嘴方向延伸的機架臂100c，噴嘴106固定到機架臂IOOc的下部。因此，隨著機架 IOOb的機架臂IOOc沿傳送方向移動，噴嘴106在傳送方向上移動。包含噴嘴106的機架臂 IOOc通過馬達和滾珠絲杠在傳送方向上移動。清洗單元(未顯示)被安裝在涂覆空氣供應(yīng)部106上方，從而噴嘴106可以被清洗單元清洗。在清洗噴嘴106時，機架IOOb可以讓噴嘴106在水平方向或垂直方向上移動。光致抗蝕材料由噴嘴106供應(yīng)到基板2上，基板2通過涂覆空氣供應(yīng)部102漂浮在空氣中并且通過第一傳送單元104在傳送方向上進行傳送。圖4為圖2和圖3所示涂覆空氣供應(yīng)部第一修改實施例的剖視圖。參考圖4，第一修改的涂覆空氣供應(yīng)部120包括多孔板122，所述多孔板122包括多孔材料和封閉多孔板122側(cè)面的側(cè)擋板124。因此，通過側(cè)擋板IM可以防止空氣從多孔板122的側(cè)面泄漏出去。多孔板122包括碳和不銹鋼，并且可以由燒結(jié)工藝制成。多孔板122包括多個直徑為約10 μ m至約100 μ m的微孔。多孔板122經(jīng)由空氣歧管112連接到氣源110?？諝馄绻?12和氣源110具有如參考圖2和圖3所述相同的結(jié)構(gòu)，并且省略對空氣歧管和氣源110更詳細的描述。圖5是圖2和圖3所示涂覆空氣供應(yīng)部第二修改實施例的剖視圖。參考圖5，第二修改的涂覆空氣供應(yīng)部130包括多孔板132，所述多孔板包括多個孔132a，空氣經(jīng)由該多個孔供應(yīng)到基板2。多孔板132包括多個狹縫134，每個狹縫中定位有惰輪136。惰輪136支撐基板2從而防止基板2的偏斜。不然的話，在狹縫134中可定位有由附加驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動的傳送輪，基板2通過該傳送輪在傳送方向上傳送，如本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的。在第二修改的空氣供應(yīng)部130中，穿孔板132可由圖4所示的多孔板122來替代。 在這種情況下，狹縫134的內(nèi)側(cè)表面可進一步設(shè)置有內(nèi)側(cè)擋板，從而防止空氣從狹縫134泄漏出去。也可以設(shè)置外側(cè)擋板來封閉多孔板的側(cè)面，防止空氣從多孔板的微孔泄漏出去。圖6和圖7示意地顯示了圖2和圖3所示涂覆空氣供應(yīng)部的第三修改實施例。圖 6是涂覆空氣供應(yīng)部第三修改實施例的平面圖，圖7是該空氣供應(yīng)部第三修改實施例的剖視圖。參考圖6和圖7，第三修改的空氣供應(yīng)部140包括具有多個第一孔14 和多個第二孔142b的穿孔板142，空氣通過該第一孔供應(yīng)到基板2并通過該第二孔從基板2和穿孔板142之間的間隙空間中排出。
穿孔板142的第一孔14 連接到氣源144。例如，穿孔板142連接到界定出緩沖空間146a的空氣歧管146，空氣歧管146則經(jīng)由氣管IMa連接到氣源144。氣源144包括氣泵、氣罐和第一控制閥，該第一控制閥控制通過穿孔板142的第一孔14 的空氣流量。穿孔板142包括金屬，例如鋁。第一孔14 的直徑為約0. Imm至約2. 3mm。當?shù)谝豢?4 的直徑大于約2. 3mm時，基板2上靠近第一孔14 處的溫度會由于空氣通過第一孔14 而改變。基板2的溫度變化會降低基板2上光致抗蝕膜4的均勻性，因而第一孔 142a的直徑小于約2. 3mm。多個第二孔142b連接到排氣歧管148，并且基板2和穿孔板142之間的間隙空間內(nèi)的空氣排出到排氣歧管148中。排氣歧管148經(jīng)由排氣管149a連接到排氣單元149。第二控制閥(未顯示)設(shè)置在排氣管149a上，從而控制排出空氣的流量。通過第二孔142b 的空氣排出會增加基板2的傳送可靠性。圖8和圖9示意地顯示了圖2和圖3所示涂覆空氣供應(yīng)部的第四修改實施例。圖 8是涂覆空氣供應(yīng)部第四修改實施例的平面圖，圖9是該空氣供應(yīng)部第四修改實施例的剖視圖。參考圖8和圖9，第四修改的空氣供應(yīng)部150包括多孔板151，多孔板包括多孔材料和封閉多孔板151側(cè)面的多塊側(cè)擋板152。因此，通過側(cè)擋板152可以防止空氣從多孔板 151的側(cè)面泄漏出去。多孔板151包括碳和不銹鋼，并且可以由燒結(jié)工藝制成。多孔板151包括多個直徑為約10 μ m至約100 μ m的微孔。多孔板151連接到界定出緩沖空間156a的空氣歧管156，空氣歧管156則經(jīng)由氣管154a連接到氣源154。進一步，多孔板151包括多個排氣孔151a，空氣通過該排氣孔151a從基板2和多孔板151之間的間隙空間中排出。排氣孔151a連接到排氣歧管158，排氣歧管158經(jīng)由排氣管159a連接到排氣單元159。通過排氣孔151a的空氣排出會增加基板2的傳送可靠性。圖10和圖11示意地顯示了根據(jù)本發(fā)明理念的第二實施例的圖1所示處理設(shè)備的涂覆模塊。圖10是示意性地顯示圖1所示處理設(shè)備的涂覆模塊的平面圖，圖11是示意性地顯示圖1所示處理設(shè)備的涂覆模塊的剖視圖。參考圖10和圖11，第二實施例的涂覆模塊300包括將空氣供應(yīng)到基板2以使基板2漂浮在空氣中的空氣供應(yīng)部302 ；將漂浮的基板2保持住并沿傳送方向傳送的傳送單元304 ；以及將光致抗蝕材料供應(yīng)到傳送中的基板2上的噴嘴306。該涂覆空氣供應(yīng)部302具有與參考圖2至圖10所述相同的結(jié)構(gòu)和配置，并且因此下文將省略對涂覆空氣供應(yīng)部302的詳細說明。具體地，傳送方向和噴嘴方向是指與圖2 和圖3中傳送方向和噴嘴方向相同的方向。噴嘴306固定到位于涂覆空氣供應(yīng)部302上方的機架300b并在噴嘴方向上延伸。 機架300b可相對框架300a在水平方向上移動。具體地，機架300b包括在氣體供應(yīng)部302 上方以噴嘴方向延伸的機架臂300c，噴嘴306固定到機架臂300c的下部。因此，隨著機架 300b的機架臂300c沿傳送方向移動，噴嘴306在傳送方向上移動。包含噴嘴306的機架臂 300c通過馬達和滾珠絲杠在傳送方向上移動。清洗單元(未顯示)被安裝在涂覆空氣供應(yīng)部306上方，從而噴嘴306可以被清洗單元清洗。在清洗噴嘴306時，機架300b可以讓噴嘴306在水平方向或垂直方向上移動。光致抗蝕材料由噴嘴306供應(yīng)到基板2上，基板2通過涂覆空氣供應(yīng)部302漂浮在空氣中并且通過傳送單元304在傳送方向上進行傳送。例如，傳送單元304包括多個與基板2形成局部接觸的滾輪312，滾輪沿傳送方向排列成一直線。例如，滾輪312與基板2下表面的邊緣部形成接觸，隨著滾輪312的滾動， 基板2被傳送。滾輪312安裝到框架300a，并可由驅(qū)動馬達314驅(qū)動而轉(zhuǎn)動。滾輪312通過帶316 相互依次連接，從而沿傳動方向形成輪鏈。例如，在滾輪312附近定位有多個帶輪318，并且?guī)л?18與帶316形成接觸。進一步，在彼此相鄰的滾輪之間安放有惰輪319，用于控制帶 316的張力。在本實施例中，在基板2的兩側(cè)部放置有一對輪鏈。盡管本實施例披露了一對驅(qū)動馬達314設(shè)置在基板2的兩側(cè)部，但正如本領(lǐng)域技術(shù)人員所知，也可使用單個馬達來驅(qū)動輪鏈。例如，該驅(qū)動馬達的轉(zhuǎn)軸穿過涂覆空氣供應(yīng)部 302連接到兩個輪鏈。參考圖1，基板2上的光致抗蝕膜4在干燥模塊200中被干燥。干燥光致抗蝕膜4的干燥處理是在干燥模塊200中進行的。光致抗蝕膜4中的溶劑在干燥模塊200中通過干燥處理變干。例如，光致抗蝕膜4通過使用真空壓力的干燥處理進行干燥。圖12和13示意地顯示了圖1所示根據(jù)本發(fā)明理念的第一實施例的處理設(shè)備的干燥模塊。圖12是圖1所示處理設(shè)備干燥模塊的平面示意圖，圖13是圖1所示處理設(shè)備的干燥模塊的剖視圖。參考圖12和圖13，第一實施例的干燥模塊200包括基板2上的光致抗蝕膜4在其中進行干燥的干燥室202、位于干燥室202中將空氣供應(yīng)到基板2以使基板2漂浮在空氣中的干燥空氣供應(yīng)部204、將基板2支撐在干燥空氣供應(yīng)部204上方的支撐部206、以及連接到干燥室202來干燥基板2上光致抗蝕膜4的真空單元208。干燥模塊200還設(shè)有第二傳送單元210，從而使基板2在完成干燥處理之后傳送出干燥模塊200。基板2可以通過第二傳送單元210從涂覆模塊100傳送到干燥模塊200，并可以同一傳送方向傳送出干燥模塊 200。干燥室202其內(nèi)設(shè)有干燥空間，基板2上的光致抗蝕膜4在其中被干燥。干燥室 202包括彼此相對的進口 20 和出口 202b。具有光致抗蝕膜4的基板2從進口 20 傳送到干燥室202中，并沿同一傳送方向從出口 202b傳送出干燥室202。S卩，進口 20 和出口 202b沿傳送方向排列成一直線。當進口 20 位于干燥室202的第一側(cè)部時，出口 202b位于沿傳送方向與干燥室202的第一側(cè)部相對的第二側(cè)部。進口 20 和出口 202b在垂直于傳送方向(噴嘴方向)上具有足以傳送基板2的寬度。S卩，進口 20 和出口 202b具有的寬度大于基板2的寬度。再者，當涂覆模塊100的第一傳送單元104將基板2傳送到干燥模塊200內(nèi)時，進口 20 和出口 202b為操作第一傳送單元104提供了充分的空間。對干燥室202施加真空壓來干燥基板2上的光致抗蝕膜4，并且在基板2被傳送到干燥室202中之后關(guān)閉干燥室。例如，關(guān)閉進口 20 和出口 202b，從而將干燥空間與周圍環(huán)境相隔離。為此，進口 20 和出口 202b具有滑動門部件，例如閘閥(gate valve) 0進口 202a和出口 202b通過相對基點半旋轉(zhuǎn)來關(guān)閉和打開。
干燥室202包括下部，諸如帶有多個底孔202c的底板，底板通過下歧管連接于真空模塊208。例如，真空模塊208包括真空泵(未顯示)和控制干燥室202內(nèi)部壓力的控制閥(未顯示)。干燥室202還包括上部，諸如帶有多個頂孔202d的頂板，頂板通過上歧管連接于真空模塊208。當干燥室202的內(nèi)部壓力因為真空壓僅僅施加在干燥室202的下部而變得不均勻時，將真空壓也施加到干燥室202的上部從而改進干燥室202內(nèi)部壓力的均勻性。此外，在干燥室202內(nèi)基板2上方設(shè)有輔助多孔板215。干燥空氣供應(yīng)部204包括帶有多個孔216a的穿孔板216。例如，穿孔板216連接到具有緩沖空間218a的空氣歧管218，空氣歧管218連接至氣源220。穿孔板216包括金屬，例如鋁?？?16a的直徑為約0. Imm至約2. 3mm。相鄰孔 216a隔開的間距為約IOmm至約150mm。支撐部206在干燥室202中進行干燥處理時支撐著干燥空氣供應(yīng)部204上方的基板2。一旦具有光致抗蝕膜4的基板2傳送到干燥室202中，進口 20 和出口 202b關(guān)閉并且來自于干燥空氣供應(yīng)部204的空氣供應(yīng)停止，以此方式干燥室202的干燥空間與周圍環(huán)境相隔離并被抽真空。在此情況下，基板2被支撐部206所支撐。即，帶有光致抗蝕膜4的基板2穩(wěn)定地位于支撐部206上，并且在干燥室202中的真空氣氛下對光致抗蝕膜4進行干燥處理。例如，支撐部206包括多個在空氣供應(yīng)部204上的支撐銷。支撐銷均勻地設(shè)置在干燥空氣供應(yīng)部204上，從而防止基板2偏斜。具體地，支撐銷可以上下移動，從而防止基板2在傳送進出干燥室202時受到支撐銷的干擾。因此，當基板2傳送進出干燥室202時， 支撐銷向下移動，因而基板裝載到干燥室202中，不會受到支撐銷的干擾。當在真空壓力下啟動干燥處理時，支撐銷向上移動支撐住基板2。例如，第二傳送單元210保持住漂浮在空氣中的基板2的邊緣部并且以傳送方向水平地傳送基板2。穿孔板216的寬度小于基板2的寬度并且基板2橫向的兩邊緣部沒有被穿孔板216所蓋住。因此第二傳送單元210保持住基板2橫向的邊緣部。例如，第二傳送單元210包括多個真空卡盤222，其利用真空壓將基板2的邊緣部吸住。真空卡盤222固定到位于穿孔板216兩側(cè)部的一對直線馬達224。因此，真空卡盤 222通過直線馬達2M沿傳送方向移動。在修改的實施例中，真空卡盤222通過包含直線運動引導(dǎo)部、滾珠絲杠和球塊(ball block)的驅(qū)動機構(gòu)來移動。盡管圖中未示，第二傳送單元210固定到框架200a。圖14是顯示圖12和13所示干燥空氣供應(yīng)部修改實施例的剖視圖。參考圖14，修改的干燥空氣供應(yīng)部230包括多孔板232，多孔板包括多孔材料和封閉多孔板232側(cè)面的側(cè)擋板234。因此，通過側(cè)擋板234可以防止空氣從多孔板232的側(cè)面泄漏出去。多孔板232包括碳和不銹鋼，并且可以由燒結(jié)工藝制成。多孔板232包括多個直徑為約10 μ m至約100 μ m的微孔。如本領(lǐng)域技術(shù)人員所知，干燥模塊200中的干燥空氣供應(yīng)部204可以由參考圖5 至9所述的第二至第四修改的涂覆空氣供應(yīng)部130至150來替代。圖15和16示意地顯示了圖1所示根據(jù)本發(fā)明理念的第二實施例的處理設(shè)備的干燥模塊。圖15是圖1所示處理設(shè)備干燥模塊的平面示意圖，圖16是圖1所示處理設(shè)備的干燥模塊的剖視圖。參考圖15和16，第二實施例的干燥模塊400包括基板2上的光致抗蝕膜4在其中進行干燥的干燥室402、位于干燥室402中將空氣供應(yīng)到基板2以使基板2漂浮在空氣中的干燥空氣供應(yīng)部404、將基板2支撐在干燥空氣供應(yīng)部404上方的支撐部406、以及連接到干燥室402來干燥基板2上光致抗蝕膜4的真空單元408。干燥模塊400還設(shè)有第二傳送單元410，從而使基板2在完成干燥處理之后傳送出干燥模塊200?；?可以通過第二傳送單元410從涂覆模塊100傳送到干燥模塊400，并可以同一傳送方向傳送出干燥模塊 400。干燥室402其內(nèi)設(shè)有干燥空間，基板2上的光致抗蝕膜4在其中被干燥。干燥室 402包括彼此相對的進口 40 和出口 402b。具有光致抗蝕膜4的基板2從進口 40 傳送到干燥室402中，并沿同一傳送方向從出口 402b傳送出干燥室402。本實施例的干燥室402 具有與參考圖12和13所述的干燥室202相同的結(jié)構(gòu)，因此省略對干燥室402進一步詳細的說明。干燥空氣供應(yīng)部404將空氣供應(yīng)到基板2上以使基板2漂浮在空氣中。氣源430 連接至干燥空氣供應(yīng)部404。參考圖12至14進行詳細說明的干燥空氣供應(yīng)部204和修改的空氣供應(yīng)部230中的一個可以用作該干燥模塊第二實施例中的干燥空氣供應(yīng)部404。不然的話，第二至第四修改的涂覆空氣供應(yīng)部130至150可用作干燥模塊第二實施例中的干燥空氣供應(yīng)部404。因此，省略對干燥空氣供應(yīng)部404的詳細說明。支撐部406在干燥室402中進行干燥處理時支撐著空氣供應(yīng)部404上方的基板2。 該支撐部406具有與參考圖12和13所述的干燥模塊的支撐部206相同的結(jié)構(gòu)，因此省略對支撐部406進一步詳細的說明。第二傳送單元410包括多個與基板2形成局部接觸的滾輪422，滾輪沿傳送方向排列成一直線。例如，滾輪422與基板2下表面的邊緣部形成接觸，隨著滾輪422的滾動，基板2被傳送。滾輪422安裝到干燥室402的側(cè)壁，并可由驅(qū)動馬達似4驅(qū)動而轉(zhuǎn)動。滾輪422 通過帶似6相互依次連接，從而沿傳動方向形成輪鏈。例如，在滾輪422附近定位有多個帶輪428，并且?guī)л? 與帶似6形成接觸。進一步，在彼此相鄰的滾輪之間安放有惰輪429， 用于控制帶426的張力。在本實施例中，在基板2的兩側(cè)部放置有一對輪鏈。盡管本實施例披露了一對驅(qū)動馬達4 設(shè)置在基板2的兩側(cè)部，但正如本領(lǐng)域技術(shù)人員所知，也可使用單個馬達來驅(qū)動輪鏈。例如，該驅(qū)動馬達的轉(zhuǎn)軸穿過干燥空氣供應(yīng)部 404連接到兩個輪鏈。再次參考圖1，裝載部20位于涂覆模塊100附近，并且卸載部30位于干燥模塊200 附近。裝載部20和卸載部30都包括在傳送方向傳送基板2的滾輪。根據(jù)本發(fā)明理念的某些實施例，處理設(shè)備包括涂覆模塊和干燥模塊?；褰?jīng)由涂覆模塊和干燥模塊從裝載部水平傳送到卸載部。具體地，基板直接從涂覆模塊傳送到干燥模塊。在涂覆模塊和干燥模塊中，基板分別通過涂覆空氣供應(yīng)部和干燥空氣供應(yīng)部漂浮在空氣中，并且通過各自的傳送單元在傳送方向上水平移動。即，基板在處理設(shè)備中以成一直線地方式處理，從而降低了處理時間。
另外，處理設(shè)備可以不需要傳送機器人，因此與現(xiàn)有的處理設(shè)備相比較制造成本和維護成本顯著下降。上述是對實施例的闡述，而不構(gòu)成對其的限制。盡管說明了一些實施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員易于知曉在不實質(zhì)性地脫離本發(fā)明的創(chuàng)新教導(dǎo)和優(yōu)點的情況下，實施例可以有許多修改。因此，所有這些修改都意欲包括在如權(quán)利要求所定義的本發(fā)明范圍之內(nèi)。在權(quán)利要求中，裝置加功能的用語意欲涵蓋描述于其中的執(zhí)行所述功能的結(jié)構(gòu)，而且不限于結(jié)構(gòu)性的等同物，也包括等同結(jié)構(gòu)。因此，要明白上述是對實施例的闡述，而不構(gòu)成對所披露的特定實施例的限制。而且，意欲將對所披露實施例的修改，以及其他實施例包含在所附權(quán)利要求的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基板處理設(shè)備，包括用于將光致抗蝕膜涂覆到所述基板上的涂覆模塊，所述基板在傳送方向上被水平傳送；以及靠近所述涂覆模塊的干燥模塊，所述干燥模塊對直接從所述涂覆模塊傳送過來的所述基板上的所述光致抗蝕膜進行干燥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述涂覆模塊包括將空氣供應(yīng)到所述基板從而使所述基板漂浮在空氣中的涂覆空氣供應(yīng)部；在所述傳送方向上水平傳送所述漂浮基板的傳送單元；以及位于所述涂覆空氣供應(yīng)部上方并以基本垂直于所述傳送方向的噴嘴方向延伸的噴嘴， 光致抗蝕材料通過所述噴嘴被供應(yīng)到所述基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述涂覆空氣供應(yīng)部包括帶有多個孔的穿孔板， 所述空氣流經(jīng)所述多個孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述涂覆空氣供應(yīng)部包括帶有多個微孔的多孔板和封閉所述多孔板側(cè)面的側(cè)擋板，所述空氣流經(jīng)所述多個微孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述傳送單元包括多個真空卡盤，所述真空卡盤通過真空壓保持住所述基板的邊緣部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中所述傳送單元將所述基板傳送到所述干燥模塊內(nèi)部。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述傳送單元包括多個滾輪，所述滾輪支撐住所述基板的兩橫向邊緣部并沿傳送方向排列成一直線。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述干燥模塊包括干燥室，所述干燥室具有容置所述基板的干燥空間；位于所述干燥室內(nèi)的干燥空氣供應(yīng)部，所述干燥空氣供應(yīng)部將空氣供應(yīng)到所述基板從而使所述基板漂浮在空氣中；位于所述干燥空氣供應(yīng)部上并支撐所述干燥室內(nèi)所述基板的支撐部；以及將真空壓施加到所述干燥室內(nèi)部的真空單元，所述基板上的光致抗蝕膜通過所述干燥室內(nèi)部的真空來干燥。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述干燥空氣供應(yīng)部包括帶有多個孔的穿孔板， 所述空氣流經(jīng)所述多個孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述干燥空氣供應(yīng)部包括帶有多個微孔的多孔板和封閉所述多孔板側(cè)面的側(cè)擋板，所述空氣流經(jīng)所述多個微孔。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述干燥模塊進一步包括在所述傳送方向上水平傳送所述漂浮基板的傳送單元。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述傳送單元包括多個真空卡盤，所述真空卡盤通過真空壓保持住所述基板的邊緣部。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述傳送單元包括多個滾輪，所述滾輪支撐住所述基板的兩橫向邊緣部并沿所述傳送方向排列成一直線。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述干燥室包括進口和出口，所述基板通過所述進口沿所述傳送方向傳送到所述干燥室中并且通過所述出口沿所述傳送方向傳送出所述干燥室。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中所述進口和出口包括用于將所述干燥室的干燥空間與周圍環(huán)境相隔離的閘閥。
16.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述支撐部包括多個位于所述干燥空氣供應(yīng)部上的支撐銷，所述支撐銷上下移動，從而防止所述基板在傳送出入所述干燥室時被所述支撐銷干擾。
全文摘要
在基板處理設(shè)備中，設(shè)置有涂覆模塊和干燥模塊。在涂覆模塊中，光致抗蝕膜被涂覆到所述基板上，所述基板在傳送方向上被水平傳送。干燥模塊靠近所述涂覆模塊，基板上的光致抗蝕膜在所述干燥模塊中被干燥。所述帶有光致抗蝕膜的基板直接從所述涂覆模塊傳送到干燥模塊，不需要傳送機器人。因此，所述處理設(shè)備的制造成本和維護成本下降。
文檔編號G03F7/16GK102183876SQ201110026380
公開日2011年9月14日 申請日期2011年1月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月12日
發(fā)明者咸勝元 申請人:細美事有限公司