專利名稱：基板搬送裝置、基板搬送方法、基板支承構(gòu)件、基板保持裝置、曝光裝置、曝光方法及元件 ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明系關(guān)于基板搬送裝置、基板搬送方法、基板支承構(gòu)件、基板保持裝置、曝光裝置、曝光方法及元件制造方法，詳言之，系關(guān)于進(jìn)行將基板搬入及搬出基板保持裝置的基板搬送裝置及基板搬送方法、以及在基板搬送時(shí)支承該基板的基板支承構(gòu)件、具有保持被搬送的基板的保持構(gòu)件的基板保持裝置、包含前述基板搬送裝置或前述基板保持裝置的曝光裝置、使用基板支承構(gòu)件搬送基板的曝光方法及使用前述曝光方法或曝光裝置的元件制造方法。
背景技術(shù)：
一直以來(lái)，于制造液晶顯示元件、半導(dǎo)體元件(積體電路等)等電子元件(微元件)的微影制程，主要系使用步進(jìn)重復(fù)(step & repeat)方式的投影曝光裝置(所謂的步進(jìn) 機(jī))或步進(jìn)掃描(step & scan)方式的投影曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)機(jī)(亦稱掃描機(jī)))
坐寸o此種投影曝光裝置，系將作為曝光對(duì)象物的表面涂有感光劑的玻璃板、或晶圓等基板(以下，統(tǒng)稱為基板)裝載于基板載臺(tái)裝置的基板保持具上，以例如真空吸附等方式保持于基板保持具。并透過(guò)包含投影透鏡等的光學(xué)系對(duì)該基板照射能量束，據(jù)以轉(zhuǎn)印形成于光罩(或標(biāo)線片)的電路圖案。當(dāng)結(jié)束對(duì)一片基板的曝光處理時(shí)，即將該完成曝光的基板以基板搬送裝置從基板保持具上搬出，并于該基板保持具上裝載另一基板。曝光裝置藉由反復(fù)進(jìn)行此種基板保持具上的基板更換，據(jù)以對(duì)多片基板連續(xù)進(jìn)行曝光處理(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。此處,為提升對(duì)多片基板連續(xù)進(jìn)行曝光處理時(shí)的整體的處理能力(throughput),除提升曝光及對(duì)準(zhǔn)處理的處理能力(處理時(shí)間的短縮)外，縮短基板的更換時(shí)間(周期時(shí)間)(以短時(shí)間進(jìn)行基板的更換)是非常有效的。因此，皆期望能有可迅速進(jìn)行基板載臺(tái)裝置上的基板更換的系統(tǒng)(或裝置)的開(kāi)發(fā)。先行技術(shù)文獻(xiàn)[專利文獻(xiàn)I]美國(guó)專利第6，559，928號(hào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明第I態(tài)樣提供一種基板搬送裝置，具備搬入裝置，系藉由在第I路徑上搬送基板據(jù)以搬入既定基板保持裝置；以及搬出裝置，系藉由在與該第I路徑不同的第2路徑上搬送被保持于該基板保持裝置的該基板，據(jù)以從該基板保持裝置搬出。根據(jù)此裝置，基板往基板保持裝置的搬入系以搬入裝置在第I路徑上進(jìn)行，而基板從基板保持裝置的搬出則以搬出裝置在與第I路徑不同的第2路徑上進(jìn)行。因此，可平行進(jìn)行基板的搬入與搬出(例如，在基板的搬出時(shí)使搬入對(duì)象的另一基板于第I路徑上待機(jī)等)，能縮短更換基板保持裝置上的基板時(shí)所需的周期時(shí)間。
本發(fā)明第2態(tài)樣提供一第I曝光裝置，其具備本發(fā)明的基板搬送裝置；以及圖案形成裝置，系使用能量束使裝載于該基板保持裝置上的該基板曝光，據(jù)以在該基板形成既定圖案。本發(fā)明第3態(tài)樣提供一第2曝光裝置，具備基板保持裝置，其包含具有與水平面平行的保持面的保持構(gòu)件，于該保持面上裝載基板；搬入裝置，系藉由在第I路徑上搬送基板據(jù)以將基板搬入該基板保持裝置；搬出裝置，系藉由在與該第I路徑不同的第2路徑上搬送被保持于該基板保持裝置的該基板，據(jù)以從該基板保持裝置搬出；以及曝光系，系以能量束使被保持于該基板保持裝置上的該基板曝光。 根據(jù)上述第I、第2曝光裝置，由于能縮短更換基板保持裝置上的基板時(shí)所需的周期時(shí)間，其結(jié)果能提升處理能力。本發(fā)明第4態(tài)樣提供一基板搬送方法，其包含藉由在第I路徑上搬送基板據(jù)以將其搬入既定基板保持裝置的動(dòng)作；以及藉由在與該第I路徑不同的第2路徑上搬送該基板，據(jù)以將該基板從該基板保持裝置搬出的動(dòng)作。根據(jù)此方法，基板往基板保持裝置的搬入系在第I路徑上進(jìn)行，而基板從基板保持裝置的搬出則在與第I路徑不同的第2路徑上進(jìn)行。因此，可平行進(jìn)行基板的搬入與搬出(例如，在基板的搬出時(shí)使搬入對(duì)象的另一基板于第I路徑上待機(jī)等)，能縮短更換基板保持裝置上的基板時(shí)所需的周期時(shí)間。本發(fā)明第5態(tài)樣提供一基板支承構(gòu)件，其包含支承部，系由延伸于與水平面平行的第I方向且在該水平面內(nèi)與該第I方向正交的第2方向以既定間隔設(shè)置的多支棒狀構(gòu)件構(gòu)成，從下方支承基板；以及卡合部，連接于該支承部、可與既定搬送裝置卡合；此基板支承構(gòu)件被該搬送裝置與該基板一起被搬送至具有與該水平面平行的基板裝載面的基板保持裝置，該支承部的至少一部分被收容在形成于該基板裝載面的槽部?jī)?nèi)且相對(duì)該基板保持裝置移動(dòng)于該第I方向的一側(cè)，據(jù)以和該基板一起從該槽部?jī)?nèi)脫離。根據(jù)此構(gòu)件，以延伸于第I方向的多支棒狀構(gòu)件構(gòu)成的支承部從下方支承基板的基板支承構(gòu)件，系以搬送裝置搬送至基板保持裝置?；逯С袠?gòu)件的支承部的至少一部分被收容在基板保持裝置的槽部?jī)?nèi)，于基板的搬出時(shí)，在該至少一部分被收容于槽部?jī)?nèi)的狀態(tài)下相對(duì)基板保持裝置移動(dòng)于與第I軸平行的方向(構(gòu)成支承部的多支棒狀構(gòu)件的延伸方向)。因此，能迅速的進(jìn)行基板的搬出。本發(fā)明第6態(tài)樣提供一基板保持裝置，其包含具有與水平面平行的保持面、于該保持面上裝載基板的保持構(gòu)件；于該保持構(gòu)件形成有多個(gè)槽部，此多個(gè)槽部能收容從下方支承該基板的基板支承構(gòu)件的一部分，藉由該基板支承構(gòu)件往與該水平面平行的第I方向一側(cè)的相對(duì)移動(dòng)而容許該基板支承構(gòu)件的該一部分的脫離。根據(jù)此裝置，從下方支承基板的基板支承構(gòu)件，其一部分被收容在形成于保持構(gòu)件的多個(gè)槽部?jī)?nèi)。因此，能與將基板支承構(gòu)件被收容于槽部?jī)?nèi)的動(dòng)作連動(dòng)，將基板傳送至保持面上。又，基板支承構(gòu)件可藉由相對(duì)保持構(gòu)件往第I方向一側(cè)的移動(dòng)，使收容在槽部?jī)?nèi)的前述一部分從槽部脫離。因此，能從保持構(gòu)件迅速的搬出基板。本發(fā)明第7態(tài)樣提供一第3曝光裝置，其具備本發(fā)明的基板保持裝置；以及圖案形成裝置，系使用能量束使裝載于該基板保持裝置上的該基板曝光，據(jù)以在該基板形成既定 圖案。
本發(fā)明第8態(tài)樣提供一第4曝光裝置，具備基板保持裝置，包含具有與水平面平行的保持面、于該保持面上裝載基板的保持構(gòu)件，于該保持構(gòu)件形成有多個(gè)槽部；以及曝光系，系以能量束使該基板保持裝置上所保持的該基板曝光；該槽部能收容從下方支承該基板的基板支承構(gòu)件的一部分，藉由該基板支承構(gòu)件往與該水平面平行的第I方向一側(cè)的相對(duì)移動(dòng)而容許該基板支承構(gòu)件的該一部分的脫離。根據(jù)上述第3、第4曝光裝置，能與將基板支承構(gòu)件收容至槽部?jī)?nèi)的動(dòng)作連動(dòng)將基板交至保持面上，又，基板支承構(gòu)件可藉由相對(duì)保持構(gòu)件往第I方向一側(cè)的移動(dòng)，從保持構(gòu)件迅速的搬出基板。因此，能縮短更換基板保持裝置上的基板時(shí)所需的周期時(shí)間，其結(jié)果能提升處理能力。本發(fā)明第9態(tài)樣提供一曝光方法，系以能量束使保持于基板保持裝置上的基板曝 光，其包含將基板以裝載于基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)加以搬送，據(jù)以搬入該基板保持裝置的動(dòng)作；以及將保持于該基板保持裝置的該基板在裝載于基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)加以搬送，據(jù)以從該基板保持裝置搬出的動(dòng)作；在該基板往該基板保持裝置的搬入及該基板從該基板保持裝置的搬出的至少一方中，抑制或防止該基板的位置相對(duì)用于該基板搬送的該基板支承構(gòu)件的位移。本發(fā)明第10態(tài)樣提供一第5曝光裝置，具備基板保持裝置，用以裝載基板；搬入裝置，將基板以裝載于基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)加以搬送，據(jù)以搬入該基板保持裝置；搬出裝置，將保持于該基板保持裝置的該基板在裝載于基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)加以搬送，據(jù)以從該基板保持裝置搬出；以及曝光系，系以能量束使保持在該基板保持裝置上的該基板曝光；在該基板往該基板保持裝置的搬入及該基板從該基板保持裝置的搬出的至少一方中，抑制或防止該基板的位置相對(duì)用于該基板搬送的該基板支承構(gòu)件的位移。本發(fā)明的再一態(tài)樣提供一種元件制造方法，其包含使用上述第I至第5曝光裝置的任一者、或上述曝光方法使前述基板曝光的動(dòng)作；以及使曝光后的前述基板顯影的動(dòng)作。


圖I顯示第I實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的概略構(gòu)成的圖。圖2顯示圖I的液晶曝光裝置所具有的基板載臺(tái)裝置及基板更換裝置的構(gòu)成的圖。圖3(A)基板載臺(tái)裝置所具有的基板保持具的俯視圖、圖3(B)為圖3(A)的A-A線剖面的剖面圖。圖4 (A)支承基板的基板托盤(pán)的俯視圖、圖4 (B)從-Y側(cè)觀察基板托盤(pán)的側(cè)視圖、圖4 (C)是從+X側(cè)觀察基板托盤(pán)的側(cè)視圖。圖5 (A)顯示基板保持具上裝載有基板的狀態(tài)的俯視圖、圖5 (B)及圖5 (C)是用以說(shuō)明基板保持具所具有的托盤(pán)導(dǎo)引裝置的動(dòng)作的圖。圖6從+X側(cè)觀察基板搬出裝置的側(cè)視圖。圖7顯示基板保持具及基板搬入裝置的俯視圖。圖8 (A) 圖8(C)用以說(shuō)明進(jìn)行基板載臺(tái)上的基板的更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其I 其3)。圖9 (A) 圖9(C)用以說(shuō)明進(jìn)行基板載臺(tái)上的基板的更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其4 其6)。圖10(A) 圖10(C)用以說(shuō)明進(jìn)行基板載臺(tái)上的基板的更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其7 其9)。圖Il(A) 圖Il(C)用以說(shuō)明進(jìn)行基板載臺(tái)上的基板的更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其10 其12)。圖12(A) 圖12(C)用以說(shuō)明進(jìn)行基板載臺(tái)上的基板的更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其13 其15)。 圖13(A) 圖13(C)用以說(shuō)明進(jìn)行基板載臺(tái)上的基板的更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其16 其18)。圖14(A)于第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所使用的基板托盤(pán)的俯視圖、圖14(B)系圖14(A)所示基板托盤(pán)的側(cè)視圖。圖15(A)第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)的基板保持具的俯視圖、圖15(B)及圖15(C)是與基板托盤(pán)成組合狀態(tài)的基板保持具的剖面圖。圖16 (A)于第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所使用的基板托盤(pán)的俯視圖、圖16 (B)是顯示基板托盤(pán)的動(dòng)作的圖。圖17第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所使用的基板托盤(pán)的俯視圖。圖18第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置所具備的基板載臺(tái)的剖面圖。圖19顯示第6實(shí)施形態(tài)的基板保持具及基板搬入裝置的俯視圖。圖20用以說(shuō)明進(jìn)行第6實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)上的基板更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其I)。圖21用以說(shuō)明進(jìn)行第6實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)上的基板更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其2)。圖22用以說(shuō)明進(jìn)行第6實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)上的基板更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其3)。圖23用以說(shuō)明進(jìn)行第6實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)上的基板更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其4)。圖24用以說(shuō)明進(jìn)行第6實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)上的基板更換時(shí)的動(dòng)作的圖(其5)。圖25顯示基板托盤(pán)的變形例(其I)及基板搬出裝置的變形例的圖。圖26顯示基板托盤(pán)的變形例(其2)的側(cè)視圖。圖27 (A) 圖27 (C)顯示基板托盤(pán)的變形例(其3 其5)的圖。圖28顯示基板托盤(pán)的變形例(其6)及基板保持具的圖。圖29顯示升降裝置的變形例的圖。圖30 (A)及圖30 (B)顯示基板搬入裝置的變形例的圖。圖31 (A)及圖31⑶顯示基板托盤(pán)的變形例(其7)的圖。圖32 (A)顯示基板托盤(pán)的變形例(其8)的圖、圖32⑶是顯示圖32 (A)所示的用以搬出基板托盤(pán)的基板搬出裝置的圖。
具體實(shí)施例方式第I實(shí)施形態(tài)以下，針對(duì)第I實(shí)施形態(tài)，根據(jù)圖I 圖13(C)加以說(shuō)明。圖I中概略的顯示了第I實(shí)施形態(tài)的用于平板顯示器(Flat Panel Display)、例如液晶顯示裝置(液晶面板)等的制造的液晶曝光裝置10的構(gòu)成。液晶曝光裝置10系以用于例如液晶顯示裝置的顯示面板等的矩形玻璃基板P (以下，簡(jiǎn)稱為基板P)為曝光對(duì)象物的步進(jìn)掃描(step & scan)方式的投影曝光裝置，所謂的掃描機(jī)。液晶曝光裝置10具備照明系I0P、保持光罩M的光罩載臺(tái)MST、投影光學(xué)系PL、搭載上述光罩載臺(tái)MST及投影光學(xué)系PL等的機(jī)體BD、包含保持基板P的基板保持具50的基板載臺(tái)裝置PST、進(jìn)行基板保持具50上的基板P的更換的基板更換裝置60 (圖I中未圖示，參照?qǐng)D2)及該等的控制系等。此處，圖2中，于基板載臺(tái)裝置PST上裝載有基板P，于基板載臺(tái)裝置PST的上方以基板更換裝置60搬送另一基板P。以下，系設(shè)曝光時(shí)光罩M與基板P相對(duì)投影光學(xué)系PL分別相對(duì)掃描的方向?yàn)閄軸方向(X方向)、在水平面內(nèi)與此正交的方向?yàn)閅軸方向(Y方向)、與X軸及Y軸正交的方向?yàn)閆軸方向(Z方向)，繞X軸、Y軸及Z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向則分別設(shè)為ex、Qy及Qz方向來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。照明系I0P，具有與例如美國(guó)專利第5，729，331號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示的照明系相同的構(gòu)成。亦即，照明系IOP系使未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光分別經(jīng)由未圖示的反射鏡、分光鏡、光閘(shutter)、波長(zhǎng)選擇濾波器、各種透鏡等而作為曝光用照明光(照明光)IL照射于光罩M。照明光IL,系使用例如i線(波長(zhǎng)365nm)、g線(波長(zhǎng)436nm)、h線(波長(zhǎng)405nm)等的光(或上述i線、g線、h線的合成光)。此外，照明光IL的波長(zhǎng)可藉由 波長(zhǎng)選擇濾波器根據(jù)例如所要求的解析度適宜的加以切換。于光罩載臺(tái)MST以例如真空吸附(或靜電吸附)方式固定有其圖案面(圖I的下面)形成有電路圖案等的光罩M。光罩載臺(tái)MST系透過(guò)例如未圖示的空氣軸承以非接觸狀態(tài)懸浮支承在固定于后述機(jī)體BD的一部分的鏡筒平臺(tái)31上面的一對(duì)光罩載臺(tái)導(dǎo)件35上。光罩載臺(tái)MST系藉由例如包含線性馬達(dá)的光罩載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系(未圖示)在一對(duì)光罩載臺(tái)導(dǎo)件35上，以既定行程被驅(qū)動(dòng)于掃描方向(X軸方向)并分別適當(dāng)?shù)谋晃Ⅱ?qū)動(dòng)于Y軸方向及0z方向。光罩載臺(tái)MST于XY平面內(nèi)的位置資訊(含9 z方向的旋轉(zhuǎn)資訊)系以光罩干涉儀系統(tǒng)38加以測(cè)量，此光罩干涉儀系統(tǒng)38包含對(duì)設(shè)于(或形成于)光罩載臺(tái)MST的反射面照射測(cè)距光束的雷射干涉儀。投影光學(xué)系PL系在圖I中的光罩載臺(tái)MST的下方被支承于鏡筒平臺(tái)31。投影光學(xué)系PL具有與例如美國(guó)專利第5，729，331號(hào)所揭示的投影光學(xué)系相同的構(gòu)成。亦即，投影光學(xué)系PL包含光罩M的圖案像的投影區(qū)域配置成例如鋸齒狀的多個(gè)投影光學(xué)系(多透鏡投影光學(xué)系)，其功能與具有以Y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)方形狀單一像場(chǎng)的投影光學(xué)系相等。本實(shí)施形態(tài)中，多個(gè)投影光學(xué)系的各個(gè)系使用以例如兩側(cè)遠(yuǎn)心的等倍系形成正立正像者。又，以下將投影光學(xué)系PL的配置成鋸齒狀的多個(gè)投影區(qū)域統(tǒng)稱為曝光區(qū)域IA(參照?qǐng)D2)。因此，當(dāng)以來(lái)自照明系IOP的照明光IL照明光罩M上的照明區(qū)域時(shí)，即以通過(guò)光罩M的照明光IL透過(guò)投影光學(xué)系PL將該照明區(qū)域內(nèi)的光罩M的電路圖案投影像(部分正立像)，形成于配置在投影光學(xué)系PL的像面?zhèn)?、表面涂有光?感應(yīng)劑)的基板P上與照明區(qū)域共軛的照明光IL的照射區(qū)域(曝光區(qū)域)。并藉由光罩載臺(tái)MST與基板載臺(tái)裝置PST的同步驅(qū)動(dòng)，相對(duì)照明區(qū)域(照明光IL)使光罩M移動(dòng)于掃描方向(X軸方向)并相對(duì)曝光區(qū)域(照明光IU使基板P移動(dòng)于掃描方向(X軸方向)，進(jìn)行基板P上一個(gè)照射(shot)區(qū)域(區(qū)劃區(qū)域)的掃描曝光，于該照射(shot)區(qū)域轉(zhuǎn)印光罩M的圖案。亦即，本實(shí)施形態(tài)系藉由照明系IOP及投影光學(xué)系PL于基板P上生成光罩M的圖案，藉由使用照明光IL的基板P上感應(yīng)層(光阻層)的曝光于基板P上形成該圖案。
機(jī)體BD，系例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2008/0030702號(hào)等所揭示，具有基板載臺(tái)座33、基板載臺(tái)座33上透過(guò)一對(duì)支承構(gòu)件32被支承為水平的鏡筒平臺(tái)31。基板載臺(tái)座33由以Y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向的構(gòu)件構(gòu)成，如圖2所示，于X軸方向以既定間隔設(shè)有2個(gè)(一對(duì))?；遢d臺(tái)座33，其長(zhǎng)邊方向兩端部被設(shè)置在地面F上的防振裝置34從下方支承，相對(duì)地面F在振動(dòng)上分離。如此，機(jī)體BD及支承于機(jī)體BD的投影光學(xué)系PL等即相對(duì)地面F在振動(dòng)上分離?；遢d臺(tái)裝置PST,具備固定在基板載臺(tái)座33上的平臺(tái)12、于Y軸方向以既定間隔配置的一對(duì)底座14、以及搭載于一對(duì)底座14上的基板載臺(tái)20。平臺(tái)12系由例如以石材形成的俯視(從+Z側(cè)觀察)矩形的板狀構(gòu)件構(gòu)成，其上面加工成非常高的平面度。一對(duì)底座14，其一方配置在平臺(tái)12的+Y側(cè)、另一方則配置在平臺(tái)12的-Y側(cè)。一對(duì)底座14，分別由延伸于X軸方向的構(gòu)件構(gòu)成，以橫跨于基板載臺(tái)座33的狀態(tài)固定于地面F。又，圖I中雖未圖示，一對(duì)底座14具有將基板載臺(tái)20的一部分的后述X粗動(dòng)載臺(tái)23X 直進(jìn)引導(dǎo)于X軸方向的X線性導(dǎo)件、及構(gòu)成用以驅(qū)動(dòng)X粗動(dòng)載臺(tái)23X的X線性馬達(dá)的X固定子(例如線圈單元)等?；遢d臺(tái)20，包含搭載在一對(duì)底座14上的X粗動(dòng)載臺(tái)23X、搭載在X粗動(dòng)載臺(tái)23X上與X粗動(dòng)載臺(tái)23X —起構(gòu)成XY 二軸載臺(tái)的Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y、配置在Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y的+Z側(cè)(上方)的微動(dòng)載臺(tái)21、于平臺(tái)12上支承微動(dòng)載臺(tái)21的重量抵銷裝置40、以及搭載在微動(dòng)載臺(tái)21上保持基板P的基板保持具50。X粗動(dòng)載臺(tái)23X系由具有俯視矩形的外形形狀的框狀(框形)構(gòu)件構(gòu)成，于其中央部具有以Y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)孔狀開(kāi)口部(參照?qǐng)D2)。于X粗動(dòng)載臺(tái)23X下面，如圖I所示，對(duì)應(yīng)一對(duì)底座14固定有形成為YZ剖面呈倒U字狀的一對(duì)載臺(tái)導(dǎo)件15。載臺(tái)導(dǎo)件15，于圖I中雖未圖示，但具有對(duì)底座14所具有的X線性導(dǎo)件(未圖示)可滑動(dòng)的卡合的滑件、以及與上述X固定子一起構(gòu)成X線性馬達(dá)的X可動(dòng)子(例如磁石單元)等。X粗動(dòng)載臺(tái)23X系藉由包含X線性馬達(dá)的X粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系，于一對(duì)底座14上以既定行程直進(jìn)驅(qū)動(dòng)于X軸方向。又，于X粗動(dòng)載臺(tái)23X上面固定有延伸于Y軸方向的Y線性導(dǎo)件28。Y線性導(dǎo)件28系于X軸方向分離設(shè)有多個(gè)。此外，各圖面中雖未圖示，但于X粗動(dòng)載臺(tái)23X上面固定有構(gòu)成用以驅(qū)動(dòng)Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y的Y線性馬達(dá)的Y固定子(例如線圈單元)。Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y系由Y軸方向尺寸較X粗動(dòng)載臺(tái)23X短、具有俯視呈矩形外形形狀的框狀構(gòu)件構(gòu)成，其中央部具有開(kāi)口部(參照?qǐng)D2)。于Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y下面固定有可滑動(dòng)的卡合于上述Y線性導(dǎo)件28的多個(gè)滑件29。又，圖I中雖未圖示，但在Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y下面固定有與上述Y固定子一起構(gòu)成Y線性馬達(dá)的Y可動(dòng)子(例如磁石單元)。Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y系藉由包含Y線性馬達(dá)的Y粗動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系，于X粗動(dòng)載臺(tái)23X上以既定行程驅(qū)動(dòng)于Y軸方向。X粗動(dòng)載臺(tái)23X及Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y的各個(gè)的位置資訊，系以例如未圖示的線性編碼器系統(tǒng)加以測(cè)量。又，將X粗動(dòng)載臺(tái)23X、Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y分別驅(qū)動(dòng)于X軸方向、Y軸方向的驅(qū)動(dòng)方式亦可以是例如使用導(dǎo)螺桿的驅(qū)動(dòng)方式、或皮帶驅(qū)動(dòng)方式等的其他方式。此外，X粗動(dòng)載臺(tái)23X及Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y各自的位置資訊亦可以例如光干涉儀系統(tǒng)等其他測(cè)量方法加以求出。X粗動(dòng)載臺(tái)23X與Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y之間，如圖2所示，透過(guò)一對(duì)纜線引導(dǎo)裝置36架設(shè)有對(duì)用以驅(qū)動(dòng)例如后述微動(dòng)載臺(tái)21的音圈馬達(dá)等供應(yīng)電力的纜線36a。纜線引導(dǎo)裝置36根據(jù)在X粗動(dòng)載臺(tái)23X上的Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y的位置適當(dāng)?shù)囊龑?dǎo)纜線36a。又，圖I中，為避免圖面的錯(cuò)綜復(fù)雜，省略了纜線引導(dǎo)裝置的圖示。微動(dòng)載臺(tái)21由俯視略為正方形的低高度長(zhǎng)方體狀構(gòu)件構(gòu)成。于微動(dòng)載臺(tái)21的-Y側(cè)側(cè)面，如圖I所示，透過(guò)反射鏡座24Y固定有具有與Y軸正交的反射面的Y移動(dòng)鏡(棒狀反射鏡)22Y。又，于微動(dòng)載臺(tái)21的-X側(cè)側(cè)面，如圖2所示，透過(guò)反射鏡座24X固定有具有與X軸正交的反射面的X移動(dòng)鏡(棒狀反射鏡)22X。微動(dòng)載臺(tái)21于XY平面內(nèi)的位置資訊，系藉由包含分別對(duì)Y移動(dòng)鏡22Y及X移動(dòng)鏡22X照射測(cè)距光束、并接收其反射光的至少二個(gè)雷射干涉儀的基板干涉儀系統(tǒng)39 (參照?qǐng)DI)，以例如0. 5 Inm程度的解析能力隨時(shí)加以檢測(cè)。此外，實(shí)際上，基板干涉儀系統(tǒng)39雖具有分別對(duì)應(yīng)Y移動(dòng)鏡22Y及X移動(dòng)鏡22X的X雷射干涉儀及Y雷射干涉儀，但圖I中僅代表性的圖示為基板干涉儀系統(tǒng)39。
微動(dòng)載臺(tái)21，如圖2所示，例如系藉由具有多個(gè)電磁力(羅倫茲力)驅(qū)動(dòng)方式的音圈馬達(dá)(X音圈馬達(dá)18x(參照?qǐng)D2)、Y音圈馬達(dá)18y(參照?qǐng)DI)及Z音圈馬達(dá)18z (圖I及參照?qǐng)D2))的微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系，在Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y上微驅(qū)動(dòng)于6自由度方向(X軸、Y軸、Z軸、0 x、0 y、0 z的各方向)。上述音圈馬達(dá)系包含固定于Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y的固定子(例如線圈單元)、與固定于微動(dòng)載臺(tái)21的可動(dòng)子(例如磁石單元)。此外，圖I中為避免圖過(guò)于錯(cuò)綜復(fù)雜，省略了 X音圈馬達(dá)的圖示。如此，微動(dòng)載臺(tái)21即能相對(duì)投影光學(xué)系PL，與Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y —起于XY 二軸方向以長(zhǎng)行程移動(dòng)(粗動(dòng))且于Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y上微驅(qū)動(dòng)于(微動(dòng))6自由度方向。又，X音圈馬達(dá)18x系沿Y軸方向設(shè)置多個(gè)、Y音圈馬達(dá)18y則系沿X軸方向設(shè)置多個(gè)(圖I及圖2中，多個(gè)X音圈馬達(dá)18x、Y音圈馬達(dá)18y分別于圖面深度方向重迭)。又，Z音圈馬達(dá)18z系設(shè)置在不同一直線上的3處以上的位置(例如對(duì)應(yīng)微動(dòng)載臺(tái)21四角的位置中至少3處)。重量抵銷裝置40，如圖2所示，由延伸于Z軸方向配置的柱狀構(gòu)件構(gòu)成，亦稱為心柱。重量抵銷裝置40，具有殼體41、空氣彈簧42及滑動(dòng)部43。殼體41由+Z側(cè)開(kāi)口的有底筒狀構(gòu)件構(gòu)成，插入于X粗動(dòng)載臺(tái)23X的開(kāi)口部及Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y的開(kāi)口部?jī)?nèi)。殼體41系藉由安裝在其下面的多個(gè)氣體靜壓軸承、例如空氣軸承45以非接觸方式支承在平臺(tái)12上。殼體41系以包含板彈簧的多個(gè)連結(jié)裝置46(亦稱為撓曲裝置)在包含重量抵銷裝置40的重心位置的高度位置(Z位置)連接于Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y，與Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y —體移動(dòng)于X軸方向及/或Y軸方向?；瑒?dòng)部43系由收容在殼體41內(nèi)部的筒狀構(gòu)件構(gòu)成，配置在空氣彈簧42的上方?？諝鈴椈?2收容在殼體41內(nèi)的最下部。自未圖示的氣體供應(yīng)裝置對(duì)空氣彈簧42供應(yīng)氣體(例如空氣)，使其內(nèi)部的氣壓成為較外部高的正壓空間。重量抵銷裝置40根據(jù)以Z音圈馬達(dá)18z驅(qū)動(dòng)的微動(dòng)載臺(tái)21的Z軸方向位置(Z位置)，適當(dāng)?shù)淖兓諝鈴椈?2的內(nèi)壓，據(jù)以使滑動(dòng)部43上下動(dòng)。重量抵銷裝置40透過(guò)包含球的稱為調(diào)平裝置44的裝置，從下方支承微動(dòng)載臺(tái)21的中央部。調(diào)平裝置44系藉由安裝在滑動(dòng)部43上面的未圖示的多個(gè)非接觸軸承(例如空氣軸承)，以非接觸(浮起)方式支承于滑動(dòng)部43。如此，微動(dòng)載臺(tái)21即于Z軸方向與滑動(dòng)部43 —體移動(dòng)，另一方面,相對(duì)滑動(dòng)部43于Qx方向及Qy方向傾斜自如(擺動(dòng)自如)。重量抵銷裝置40以空氣彈簧42產(chǎn)生的向上(+Z方向)的力，抵銷包含微動(dòng)載臺(tái)21的系統(tǒng)(具體而言，由微動(dòng)載臺(tái)21、基板保持具50、基板P等構(gòu)成的系統(tǒng))的重量(因重力加速度而產(chǎn)生的向下(-Z方向)的力)，據(jù)以降低對(duì)多個(gè)Z音圈馬達(dá)18z的負(fù)荷。微動(dòng)載臺(tái)21相對(duì)于重量抵銷裝置40的Z軸方向、0x、0y方向的各方向的位置資訊(Z軸方向的移動(dòng)距離及相對(duì)水平面的傾斜量)，系以用以測(cè)量透過(guò)臂構(gòu)件固定于重量抵銷裝置40的殼體41的靶48于Z軸方向的位置的多個(gè)雷射位移感測(cè)器47(亦稱為Z感測(cè)器)加以求出。多個(gè)雷射位移感測(cè)器47系固定在微動(dòng)載臺(tái)21的下面。包含上述連結(jié)裝置46 (撓曲裝置)的重量抵銷裝置40的構(gòu)成，已揭示于例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2010/0018950號(hào)等?；灞３志?0，由圖2及圖3(A)可知，系由Z軸方向的尺寸(厚度)較X軸方向 及Y軸方向的尺寸(長(zhǎng)度及寬度)小的長(zhǎng)方體狀構(gòu)件構(gòu)成，固定在微動(dòng)載臺(tái)21的上面?；灞３志?0的上面，系俯視(從+Z方向觀察)以X軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)方形，與基板P相較，X軸及Y軸方向的尺寸被設(shè)定的略短?；灞３志?0，其上面(+Z側(cè)的面)具以真空吸附(或靜電吸附)方式吸附保持基板P的未圖示的吸附裝置。此處，于液晶曝光裝置10，基板P往基板載臺(tái)20的搬入(裝載)及基板P從基板載臺(tái)20的搬出(卸載)，皆系在將基板P裝載于圖4(A)所示的稱為基板托盤(pán)90的構(gòu)件上的狀態(tài)下進(jìn)行。如圖4(A)所示，基板托盤(pán)90具有多個(gè)支由延伸于X軸方向的棒狀構(gòu)件構(gòu)成的支承部91 (例如于Y軸方向相距既定間隔的四支)，該四支支承部91各自的+X側(cè)端部連接于由與YZ平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成的連接部92，并且基板托盤(pán)90俯視下具有梳型的外形形狀?；錚系例如裝載在四支支承部91上。基板托盤(pán)90可抑制例如因自重導(dǎo)致的基板P的變形(彎曲等)，亦可稱的為基板裝載構(gòu)件、搬送輔助構(gòu)件、變形抑制構(gòu)件或基板支承構(gòu)件等。又，關(guān)于基板托盤(pán)90的構(gòu)成留待之后詳細(xì)說(shuō)明。于基板保持具50的上面，如圖3 (A)所示，于Y軸方向以既定間隔形成有與X軸平行的多條(例如四條)槽部51。四條槽部51各自的深度，例如系基板保持具50的厚度的一半程度(參照?qǐng)D3(B))。槽部51的長(zhǎng)度，于本實(shí)施形態(tài)中與基板保持具50的長(zhǎng)度相同，于基板保持具50的+X側(cè)及-X側(cè)的側(cè)面(端面)分別形成有開(kāi)口部。于槽部51內(nèi)，如圖5(B)所示，收容基板托盤(pán)90的支承部91。此處，槽部51的深度，只要設(shè)定為在將基板托盤(pán)90裝載于基板保持具50上時(shí),基板托盤(pán)90的上面與基板保持具50表面位于同一面上或位于較其低的位置即可，槽部51的長(zhǎng)度可在例如基板托盤(pán)以懸臂狀態(tài)支承基板P的情形時(shí)，較基板保持具短?；灞３志?0，如圖3(B)所示，其內(nèi)部具有多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置52。托盤(pán)導(dǎo)引裝置52系從下方支承收容在槽部51內(nèi)的基板托盤(pán)90的支承部91 (參照?qǐng)D5(B))的裝置。托盤(pán)導(dǎo)引裝置52，如圖3(B)所示，包含收容在基板保持具50中、形成于槽部51內(nèi)部底面的凹部51a內(nèi)的氣缸(air cylinder) 53、與固定在該氣缸53的汽缸桿(以下，稱桿)前端部(+Z側(cè)端部)的導(dǎo)件54。收容氣缸53的凹部51a，系針對(duì)一條槽部51有四個(gè)、于X軸方向以既定間隔形成。因此，托盤(pán)導(dǎo)引裝置52合計(jì)設(shè)有16臺(tái)(參照?qǐng)D3(A))。導(dǎo)件54，由圖3 (A)及圖3⑶可知，具有矩形板狀構(gòu)件、以及在該板狀構(gòu)件上面從X軸方向觀察以彼此的斜面形成V字狀槽部的方式裝載的一對(duì)三角柱狀構(gòu)件，并且導(dǎo)件54具有被稱為V型塊的治具般的外形形狀。以下，將由一對(duì)三角柱狀構(gòu)件形成的槽部稱為V槽部來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。導(dǎo)件54，如圖5(B)及圖5(C)所示，根據(jù)對(duì)氣缸53的氣體供應(yīng)壓，在槽部51內(nèi)于Z軸方向以既定行程移動(dòng)(上下動(dòng))。此處，于氣缸53，由于桿系沿Z軸往復(fù)移動(dòng)，因此雖然并非由氣缸進(jìn)行伸縮，但包含桿前端被驅(qū)動(dòng)構(gòu)件的氣缸全長(zhǎng)，會(huì)因桿的往復(fù)移動(dòng)而變化，因此，以下將桿移動(dòng)而使氣缸全長(zhǎng)伸長(zhǎng)的情形稱為氣缸53伸長(zhǎng)或延伸，將桿相反移動(dòng)的情形稱為氣缸53縮短或縮小。又，除氣缸53以外的后述其他氣缸亦同。此外，使導(dǎo)件54上下動(dòng)的致動(dòng)器不限于氣缸，亦可以是使用例如螺桿機(jī)構(gòu)、連桿機(jī)構(gòu)等的物。再者，于導(dǎo)件54的V槽面，形成有未圖示的多個(gè)微小孔。導(dǎo)件54具有從多個(gè)孔噴出高壓氣體(例如空氣)以使基板托盤(pán)90隔著微小間隙(間隙/空隙)浮起的功能。導(dǎo)件54亦可藉由隔著多個(gè)孔進(jìn)行真空吸引，以吸附保持基板托盤(pán)90。此外，托盤(pán)導(dǎo)引裝置52不限于以非接觸方式支承基板托盤(pán)90的浮起型(非接觸型)，亦可能是例如使用軸承等來(lái)支承基板托盤(pán)90的接觸型。 接著，使用圖4 (A) 圖4 (C)說(shuō)明基板托盤(pán)90。如前所述，基板托盤(pán)90系包含例如四支支承部91、以及將該四支支承部91加以連接的連接部92、俯視具有梳形外形形狀的構(gòu)件。四支支承部91，分別由延伸于X軸方向、YZ剖面為菱形且中空(參照?qǐng)D5(B))的棒狀構(gòu)件構(gòu)成。四支支承部91以對(duì)應(yīng)形成于前述基板保持具50的槽部51的間隔排列于Y軸方向。支承部91于X軸方向的尺寸設(shè)定為較基板P于X軸方向的尺寸長(zhǎng)(參照?qǐng)D5(A))。四支支承部91及連接部92,系由例如MMC (Metal Matrix Composites :金屬基復(fù)合材料)、CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastics :碳纖維強(qiáng)化塑膠)、或C/C復(fù)合材料(碳纖維強(qiáng)化復(fù)合材料)等形成，質(zhì)輕且剛性高。因此，亦能抑制裝載于四支支承部91上的基板P的彎曲。又，四支支承部91各自的上端部(頂部)，于X軸方向以既定間隔、安裝有具有與水平面平行的支承面的多個(gè)(例如三個(gè))墊93?；逋斜P(pán)90系以多個(gè)墊93從下方支承基板P(參照?qǐng)D5(C))。于基板托盤(pán)90的四支支承部91及連接部92表面，形成有例如黒色的陽(yáng)極氧化膜。進(jìn)行基板P的曝光處理時(shí)，基板托盤(pán)90，如圖5(B)所示，系被收容在基板保持具50的槽部51內(nèi)，其表面可能會(huì)被照明光IL(參照?qǐng)DI)照射到，但由于形成有上述黒色的陽(yáng)極氧化膜，因此能抑制照明光IL的反射。此外，形成在上述基板托盤(pán)90的黒色陽(yáng)極氧化膜，可抑制照明光IL的照射使構(gòu)成基板托盤(pán)90的材料劣化、或抑制造成投影光學(xué)系PL所具有的投影透鏡起霧的釋氣(outgas)產(chǎn)生。又，形成基板托盤(pán)的材料不限于上述材料。從下方支承基板的棒狀構(gòu)件的支數(shù)亦無(wú)特別限制，例如可視基板大小、厚度等適當(dāng)?shù)募右宰兏Ｓ?，只要是能將基板托盤(pán)90表面作成具有低反射率、且抑制因照明光造成的材質(zhì)劣化及釋氣產(chǎn)生等的話，則不限于上述陽(yáng)極氧化膜，亦可于基板托盤(pán)90施以他種表面處理。于四支支承部91的-X側(cè)端部(以下，適當(dāng)?shù)姆Q前端部)分別固定有錐形構(gòu)件94 (截圓錐狀構(gòu)件)，此錐形構(gòu)件94具有越往-X側(cè)越細(xì)的錐形面(此處，系如截圓錐外周面般的面)。又，于連接部92的+X側(cè)側(cè)面，以和四支支承部91間的間隔對(duì)應(yīng)的間隔固定有四個(gè)錐形構(gòu)件95，此四個(gè)錐形構(gòu)件95具有越往+X側(cè)越細(xì)的錐形面。進(jìn)一步的，于連接部92的+X側(cè)側(cè)面中央固定有一個(gè)錐形構(gòu)件96，此錐形構(gòu)件96具有越往+X側(cè)越細(xì)的錐形面。于支承部91及連接部92內(nèi)建有未圖示的多個(gè)配管構(gòu)件，錐形構(gòu)件96與多個(gè)墊93分別以該配管構(gòu)件加以連通。于墊93的上面及錐形構(gòu)件96分別形成有未圖示的孔部，當(dāng)從錐形構(gòu)件96側(cè)的孔部抽吸氣體時(shí)，墊93上裝載的基板P (參照?qǐng)D5 (A))即被吸附保持于該墊93。又，如圖4 (C)所示，于連接部92的下端部，形成有從+X側(cè)觀察的側(cè)面視呈直角三角形狀的多個(gè)缺口 92a。缺口 92a分別形成在多個(gè)錐形構(gòu)件95各自的+Y側(cè)及-Y側(cè)(但在此例中，最-Y側(cè)的錐形構(gòu)件95的-Y側(cè)、以及最+Y側(cè)的錐形構(gòu)件95的+Y側(cè)除外)。分別形成在錐形構(gòu)件95的+Y側(cè)及-Y側(cè)的一對(duì)缺口 92a，系形成為從X軸方向觀察的側(cè)面視呈左右對(duì)稱(從X軸方向觀察的側(cè)面視呈M字形)。多個(gè)缺口 92a的功能留待后述。又，前述基板保持具50的槽部51 (參照?qǐng)D3(B))系以能收容支承部91的寬度及深度形成，支承部91，如圖5 (B)所示，系收容在基板保持具50的槽部51內(nèi)、被導(dǎo)件54從下方支承(裝載于導(dǎo)件54上)。在支承部91被導(dǎo)件54支承的狀態(tài)下，支承部91的下部插入導(dǎo)件54的V槽部?jī)?nèi)，因此基板托盤(pán)90相對(duì)基板保持具50往Y軸方向的移動(dòng)受到限制。此夕卜，如圖5(B)所示，在使支承基板托盤(pán)90的導(dǎo)件54往-Z側(cè)移動(dòng)時(shí)，將導(dǎo)件54的移動(dòng)下限位置設(shè)定為能使基板P的下面與墊93的上面分離、而將基板P裝載于基板保持具50的上面。又，在基板托盤(pán)90被導(dǎo)件54從下方支承時(shí),系藉由使導(dǎo)件54往+Z方向移動(dòng),如圖5 (C)所示，導(dǎo)件54的移動(dòng)上限位置則設(shè)定為能使基板托盤(pán)90的墊93與基板P抵接、使基板P的下面離開(kāi)基板保持具50的上面。不過(guò)，在導(dǎo)件54位于其可動(dòng)范圍的最+Z側(cè)的狀態(tài)下，支承部91系在其下側(cè)的一半以上(例如3/4程度)的部分被收容在槽部51內(nèi)的狀態(tài)。接著，說(shuō)明圖2所示的基板更換裝置60?；甯鼡Q裝置60具有配置在基板載臺(tái)裝置PST的+X側(cè)的架臺(tái)61、搭載于架臺(tái)61上的基板搬出裝置70、以及配置在架臺(tái)61及基板載臺(tái)裝置PST上方的基板搬入裝置80。架臺(tái)61、基板搬出裝置70及基板搬入裝置80，分別與基板載臺(tái)裝置PST—起收容在未圖示的處理室(chamber)內(nèi)。架臺(tái)61具有被多支腳部62在地面F上支承為與水平面大致平行的俯視矩形板狀構(gòu)件構(gòu)成的基座63?；灏岢鲅b置70包含把持基板托盤(pán)90的把持裝置71、將把持裝置71驅(qū)動(dòng)于X軸方向的驅(qū)動(dòng)裝置(致動(dòng)器)、例如包含線性馬達(dá)的固定子的固定子部72、在基座63上支承基板托盤(pán)90的多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73、以及使基板P離開(kāi)基板托盤(pán)90的升降(lift)裝置65。把持裝置71，由圖2及圖6可知，具有由長(zhǎng)方體狀構(gòu)件構(gòu)成的把持部74、與連接在把持部74下端部的可動(dòng)子部75。于把持部74的-X側(cè)的面，形成有具越往+X側(cè)越窄的錐形面的凹部74a。凹部74a系與前述基板托盤(pán)90的錐形構(gòu)件96的外形形狀對(duì)應(yīng)形成，把持部74在錐形構(gòu)件96插入凹部74a內(nèi)的狀態(tài)下以例如真空吸附方式把持基板托盤(pán)90。又，把持部74把持基板托盤(pán)90的方式亦可以是例如磁氣吸附等方式。此外，藉由例如鉤子等機(jī)械式夾持機(jī)構(gòu)以物理方式把持錐形構(gòu)件96亦可?？蓜?dòng)子部75具有包含例如多個(gè)磁石的磁石單元(圖示省略)，與后述固定子部72具有的線圈單元一起構(gòu)成將把持部74驅(qū)動(dòng)于X軸方向的電磁力(羅倫茲力)驅(qū)動(dòng)方式的X線性馬達(dá)。固定子部72系由在基座63上被一對(duì)支承柱72a從下方支承兩端部的延伸于X軸方向的構(gòu)件構(gòu)成，并且具備將上述把持裝置71引導(dǎo)于X軸方向的引導(dǎo)構(gòu)件及具有包含多個(gè)線圈的線圈單元的固定子(皆省略圖示)等。 此處，形成于把持部74的凹部74a的Z位置，在基板保持具50所具有的多個(gè)導(dǎo)件54位于圖5(C)所示移動(dòng)上限位置的狀態(tài)下，系與被該多個(gè)導(dǎo)件54支承的基板托盤(pán)90的錐形構(gòu)件96 (參照?qǐng)D4 (A))的Z位置大致相同。因此，在圖2所示的把持部74位于固定子部72的-X側(cè)端部近旁的狀態(tài)下，進(jìn)行基板托盤(pán)90的錐形構(gòu)件96于Y軸方向的位置(Y位置)與把持部74的Y位置的位置對(duì)準(zhǔn)，于該狀態(tài)下使基板載臺(tái)20往+X方向移動(dòng)時(shí)，錐形構(gòu)件96即插入把持部74的凹部74a內(nèi)。此時(shí)，即使錐形構(gòu)件96的位置與把持部74的位置有些微的偏差，但由于錐形構(gòu)件96會(huì)被凹部74a內(nèi)面的錐形面引導(dǎo)，因此把持部74能確實(shí)的把持基板托盤(pán)90。且當(dāng)在把持錐形構(gòu)件96的狀態(tài)下的把持部74被X線性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)于+X方向時(shí)，基板托盤(pán)90與把持部74 —體移動(dòng)于+X方向，基板托盤(pán)90即從基板保持具50退出。此時(shí)，基板P的下面系與基板保持具50的上面分離(參照?qǐng)D5(C))，因此可將基板P從基板保持具50搬出。又，用以將把持部74驅(qū)動(dòng)于X軸方向的單軸驅(qū)動(dòng)裝置不限于線性馬達(dá)，亦可使用例如導(dǎo)螺桿裝置、齒輪與小齒條裝置、皮帶式(或鏈?zhǔn)?、纜線式等)驅(qū)動(dòng)裝置等其他方式的裝置。此外，于把持部74連接一端連接于真空裝置的配管構(gòu)件的另一端(真空裝置及配管構(gòu)件皆省略圖示)。使用基板搬出裝置70將基板托盤(pán)90及基板P從基板保持具50搬出 時(shí)，在把持部74把持錐形構(gòu)件96的狀態(tài)下以真空裝置吸引基板托盤(pán)90內(nèi)未圖示的配管構(gòu)件內(nèi)的氣體后，基板P即被吸附保持于墊93。如此，在基板托盤(pán)90加速及減速時(shí)，即能抑制該基板托盤(pán)90上的基板P的偏移?；灏岢鲅b置70具有例如合計(jì)12臺(tái)的托盤(pán)導(dǎo)引裝置73，于基座63上，于X軸方向以既定間隔排列的例如構(gòu)成3臺(tái)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73的托盤(pán)導(dǎo)引裝置列，系于Y軸方向以既定間隔配置有例如4列(參照?qǐng)D7)。12臺(tái)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73，分別具有固定于基座63的氣缸76、與連接在氣缸76的桿前端的導(dǎo)件77。12臺(tái)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73各自的氣缸76系以未圖示的主控制裝置同步驅(qū)動(dòng)(控制)。惟，12臺(tái)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73各自的氣缸76不限于同步驅(qū)動(dòng)，亦可在時(shí)間上錯(cuò)開(kāi)驅(qū)動(dòng)。導(dǎo)件77系與基板保持具50具有的托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的導(dǎo)件54實(shí)質(zhì)相同的構(gòu)件。又，基板搬出裝置70的導(dǎo)件77與基板保持具50的導(dǎo)件54同樣的，可從V槽部的面噴出氣體將基板托盤(pán)90加以懸浮支承。導(dǎo)件77以可向0z方向旋轉(zhuǎn)的方式連接于氣缸76。又，在基板托盤(pán)90系以例如CFRP形成的情形時(shí)，可藉由將導(dǎo)件54、77例如以石材形成，如此，即使基板托盤(pán)90與導(dǎo)件54、77彼此滑動(dòng)，亦能抑制塵屑的產(chǎn)生(此場(chǎng)合，可不使基板托盤(pán)90浮起)。此處，例如4列的托盤(pán)導(dǎo)引裝置列于Y軸方向的間隔與基板保持具50所具有的4列托盤(pán)導(dǎo)引裝置列(參照?qǐng)D3(A))的Y軸方向間隔大致一致。又，為了將基板托盤(pán)90從基板保持具50拔出而進(jìn)行基板載臺(tái)20于Y軸方向的位置對(duì)準(zhǔn)時(shí)，系將多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73各自的位置設(shè)定成基板搬出裝置70所具有的4列托盤(pán)導(dǎo)引裝置列、與基板保持具50所具有的4列托盤(pán)導(dǎo)引裝置列于Y軸方向的位置大致一致。此外，導(dǎo)件77的Z位置，可藉由氣缸76使其與基板保持具50的導(dǎo)件54的Z位置一致。因此，如前所述，藉由將基板托盤(pán)90的錐形構(gòu)件96把持于把持裝置71，從基板保持具50往+X方向拔出基板托盤(pán)90，即能將該基板托盤(pán)90從基板保持具50內(nèi)的多個(gè)導(dǎo)件54上移載至導(dǎo)件77上。此處，形成于前述基板托盤(pán)90的連接部92的缺口 92a(參照?qǐng)D4 (C))，系為了在將基板托盤(pán)90以基板搬出裝置70從基板保持具50拔出時(shí)，避免連接部92與導(dǎo)件77接觸而形成。亦即，如圖6所示，在基板托盤(pán)90于導(dǎo)件77上往+X方向移動(dòng)時(shí)，導(dǎo)件77通過(guò)缺口 92a內(nèi)。又，使導(dǎo)件77上下動(dòng)的單軸驅(qū)動(dòng)裝置不限于氣缸76，亦可以是使用例如旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的螺桿(導(dǎo)螺桿)驅(qū)動(dòng)裝置、或線性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)裝置等。
升降裝置65系用以將例如完成曝光處理的基板P往+Z方向頂起，以便從基板托盤(pán)90搬出到未圖示的涂布顯影裝置，并且具有多臺(tái)氣缸66。多臺(tái)氣缸66，如圖7所示，從-Y側(cè)觀察，于第I列與第2列托盤(pán)導(dǎo)引裝置列之間、以及第3列與第4列托盤(pán)導(dǎo)引裝置列之間，分別于X軸方向以既定間隔配置有例如3臺(tái)(合計(jì)6臺(tái))。此外，氣缸66，從-Y側(cè)觀察，于第2列托盤(pán)導(dǎo)引裝置列與固定子部72之間、以及第3列托盤(pán)導(dǎo)引裝置列與固定子部72之間，分別于X軸方向以既定間隔配置有例如4臺(tái)(合計(jì)8臺(tái))。多臺(tái)(合計(jì)14臺(tái))氣缸66分別固定于基座63，以未圖示的主控制裝置加以同步驅(qū)動(dòng)。當(dāng)然，此處多臺(tái)(合計(jì)14臺(tái))氣缸66的各個(gè)不限于同步驅(qū)動(dòng)，亦可在時(shí)間上錯(cuò)開(kāi)驅(qū)動(dòng)。14臺(tái)氣缸66，分別于桿的前端(+Z側(cè)端部)具有圓板狀墊構(gòu)件67。升降裝置65在基板托盤(pán)90被多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73從下方支承的狀態(tài)下，使墊構(gòu)件67抵接于基板P的下面，在此狀態(tài)下同步(或時(shí)間上略微錯(cuò)開(kāi))使多臺(tái)氣缸66延伸，以于+Z方向頂起基板P而使其從基板托盤(pán)90離開(kāi)?；灏崛胙b置80，如圖2所示，具有第I搬送單元81a及第2搬送單元81b。第I搬送單元81a在基板載臺(tái)裝置PST上方、配置在投影光學(xué)系PL(參照?qǐng)DI)的+X側(cè)。基板載臺(tái)20為進(jìn)行基板P的更換而移動(dòng)至與架臺(tái)61相鄰的位置(圖2所示位置，以下，稱基板更換位置)時(shí)，即位于第I搬送單元81a的下方。第I搬送單元81a，如圖7所示，包含一對(duì)固定子部82a、分別與一對(duì)固定子部82a對(duì)應(yīng)設(shè)置的一對(duì)可動(dòng)子部83a (圖7中未圖示，參照?qǐng)D2)、把持基板托盤(pán)90的-X側(cè)端部的把持部84a、以及分別連接于一對(duì)可動(dòng)子部83a使把持部84a上下動(dòng)的一對(duì)伸縮裝置85a(圖7中未圖示，參照?qǐng)D2)等。又，圖2中，一對(duì)固定子部82a的一方、一對(duì)可動(dòng)子部83a的一方、及一對(duì)伸縮裝置85a的一方，分別隱藏在一對(duì)固定子部82a的另一方、一對(duì)可動(dòng)子部83a的另一方及一對(duì)伸縮裝置85a的另一方的圖面內(nèi)側(cè)。一對(duì)固定子部82a系分別由延伸于X軸方向的構(gòu)件構(gòu)成，固定于例如機(jī)體BD (參照?qǐng)DI)。一對(duì)固定子部82a,如圖7所不,系于Y軸方向以既定間隔平行配置。一對(duì)固定子部82a，分別具有包含未圖示的多個(gè)線圈的線圈單元。又，一對(duì)固定子部82a分別具有用以將后述可動(dòng)子部83a引導(dǎo)于X軸方向的延伸于X軸方向的未圖示的導(dǎo)件。一對(duì)可動(dòng)子部83a分別能相對(duì)于對(duì)應(yīng)的固定子部82a滑動(dòng)于X軸方向、且在往Z軸方向的相對(duì)移動(dòng)受到限制(防止從固定子部82a的掉落)狀態(tài)下，以懸吊狀態(tài)機(jī)械性的卡合在該固定子部82a的下面?zhèn)?參照?qǐng)D2)。可動(dòng)子部83a具有包含未圖示的多個(gè)磁石的磁石單元。磁石單元與固定子部82a具有的線圈單元一起構(gòu)成電磁力(羅倫茲力)驅(qū)動(dòng)方式的X線性馬達(dá)。一對(duì)可動(dòng)子部83a，分別藉由X線性馬達(dá)相對(duì)一對(duì)固定子部82a以既定行程同步驅(qū)動(dòng)于X軸方向。又，將把持部84a及伸縮裝置85a單軸驅(qū)動(dòng)于X軸方向的驅(qū)動(dòng)裝置不限于線性馬達(dá)，亦可使用例如使用旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的滾珠螺桿驅(qū)動(dòng)裝置、皮帶驅(qū)動(dòng)裝置、纜線驅(qū)動(dòng)裝置等。把持部84a，如圖7所示，由延伸于Y軸方向的XZ剖面長(zhǎng)方形構(gòu)件構(gòu)成。于把持部84a的+X側(cè)的面，于Y軸方向以既定間隔形成有具有多個(gè)(例如四個(gè))越往-X側(cè)越窄的錐形面的凹部86a。多個(gè)凹部86a的間隔與基板托盤(pán)90的四支支承部91 (亦即四個(gè)錐形構(gòu)件94)的間隔大致一致。把持部84a，系藉由將連接于基板托盤(pán)90的支承部91-X側(cè)端部的錐形構(gòu)件94插入凹部86a內(nèi)，據(jù)以保持基板托盤(pán)90的-X側(cè)。伸縮裝置85a，如圖2所示，包含以多個(gè)連桿構(gòu)件構(gòu)成的能于Z軸方向伸縮的縮放(pantograph)機(jī)構(gòu)、與使該縮放機(jī)構(gòu)于Z軸方向伸縮的未圖示的致動(dòng)器。又，圖2中，伸縮裝置系呈縮放機(jī)構(gòu)縮起的狀態(tài)(Z軸方向尺寸最小的狀態(tài))(縮放機(jī)構(gòu)延伸的狀態(tài)請(qǐng)參照?qǐng)D10(A)等)。伸縮裝置85a的縮放機(jī)構(gòu)，其+Z側(cè)端部連接于可動(dòng)子部83a、-Z側(cè)端部則連接于把持部84a。一對(duì)伸縮裝置85a的各自的致動(dòng)器系以未圖示的主控制裝置加以同步驅(qū)動(dòng)，據(jù)以使把持部84a與Z軸平行的上下動(dòng)作。又，使把持部84a上下動(dòng)的裝置(單軸驅(qū)動(dòng)裝置)不限于上述包含縮放機(jī)構(gòu)的裝置，亦可以是例如氣缸等，但就使把持部84a位于最+Z側(cè)的狀態(tài)下的Z軸方向尺寸短、且能使把持部84a以某種程度的長(zhǎng)行程上下動(dòng)的觀點(diǎn)而言，使用連桿機(jī)構(gòu)較佳。第2搬送單元81b配置在第I搬送單元的+X側(cè)、架臺(tái)61的上方。又，第2搬送單元81b的構(gòu)成，除了固定子部82b的位置較第I搬送單元81a的固定子部82a略靠+Z側(cè)的點(diǎn)、于把持部84b-X側(cè)的面形成有四個(gè)凹部86b (參照?qǐng)D7)的點(diǎn)、以及于把持部84b形成有 錐形構(gòu)件96插入的凹部87b (參照?qǐng)D7)的點(diǎn)外，與第I搬送單元81a相同。亦即，第2搬送單元Slb具有固定在例如收容基板載臺(tái)裝置PST等的未圖示處理室的柱、梁等的一對(duì)固定子部82b、與一對(duì)固定子部82b對(duì)應(yīng)設(shè)置的一對(duì)可動(dòng)子部83b、把持基板托盤(pán)90的+X側(cè)端部的把持部84b、以及使把持部84b上下動(dòng)的一對(duì)伸縮裝置85b (惟，其行程較第I搬送單元81a的伸縮裝置85a略長(zhǎng))。此外，圖2中，一對(duì)固定子部82b、一對(duì)可動(dòng)子部83b、一對(duì)伸縮裝置85b的一方，分別相對(duì)一對(duì)固定子部82b、一對(duì)可動(dòng)子部83b、一對(duì)伸縮裝置85b的另一方隱藏在圖面內(nèi)側(cè)。于把持部84b連接有其一端連接于真空裝置的配管構(gòu)件的另一端(真空裝置及配管構(gòu)件的圖示皆省略)。使用基板搬入裝置80將裝載于基板托盤(pán)90的基板P搬入基板保持具50時(shí)，系藉由在將錐形構(gòu)件96插入把持部84b的凹部87b內(nèi)的狀態(tài)下，以真空裝置抽吸基板托盤(pán)90內(nèi)未圖示的配管構(gòu)件內(nèi)的氣體，據(jù)以將基板P吸附保持于基板托盤(pán)90的墊93。如此，即能抑制在基板托盤(pán)90加速及減速時(shí)，該基板托盤(pán)90上的基板P的偏移。又，本實(shí)施形態(tài)中，雖然第2搬送單元81b的固定子部82b較第I搬送單元81a的固定子部82a配置在略+Z側(cè)，但第I及第2搬送單元81a、81b各個(gè)的固定子部82a、82b的Z位置可相同。此外，亦可將第I及第2搬送單元81a、81b各個(gè)的固定子部82a、82b作成一體，并藉由該一體化(共通)的固定子部獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)可動(dòng)子部83a、83b的方式構(gòu)成致動(dòng)器(例如線性馬達(dá))。以上述方式構(gòu)成的液晶曝光裝置10 (參照?qǐng)DI)，系在未圖示的主控制裝置的管理下，以未圖示的光罩搬送裝置(光罩裝載器)將光罩M裝載至光罩載臺(tái)MST上、及以圖2所示的基板搬入裝置80進(jìn)行將基板P搬入基板載臺(tái)20上(裝載)。之后，由主控制裝置使用未圖示的對(duì)準(zhǔn)(檢測(cè))系實(shí)施對(duì)準(zhǔn)測(cè)量，在完成對(duì)準(zhǔn)測(cè)量后進(jìn)行步進(jìn)掃描(step&scan)方式的曝光動(dòng)作。由于此曝光動(dòng)作與習(xí)知步進(jìn)掃描方式相同，因此省略其詳細(xì)說(shuō)明。接著，完成曝光的基板P以圖2所示的基板搬出裝置70從基板載臺(tái)20上搬出(卸載)，于該基板載臺(tái)20上以基板搬入裝置80搬入(裝載)新的基板P。亦即，液晶曝光裝置10藉進(jìn)行基板載臺(tái)20上的基板P的更換，對(duì)多片基板P連續(xù)進(jìn)行曝光處理。此處，針對(duì)使用基板搬出裝置70及基板搬入裝置80的基板載臺(tái)裝置PST上的基板P的更換程序，系根據(jù)圖8(A) 圖13(C)且適當(dāng)參照其他圖面加以說(shuō)明。又，圖8(A) 圖13(C)系用以說(shuō)明基板P的更換程序的圖，基板載臺(tái)20、基板更換裝置60等構(gòu)成則部分的予以簡(jiǎn)化顯示(例如基板保持具50所具有的托盤(pán)導(dǎo)引裝置的數(shù)量較實(shí)際少)。此外，基板載臺(tái)20的微動(dòng)載臺(tái)21、Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y、X粗動(dòng)載臺(tái)23X(請(qǐng)分別參照?qǐng)DI)等的圖示亦省略。本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10，如圖2所示，系使用二個(gè)基板托盤(pán)90對(duì)多片基板P連續(xù)進(jìn)行曝光處理。以下，為易于理解，于圖8(A) 圖13(C)中，系設(shè)完成曝光處理而從基板載臺(tái)20搬出的曝光處理完成基板為基板Pa、新裝載至基板載臺(tái)20上的未曝光基板為基板Pb。又,將支承基板Pa的基板托盤(pán)稱為基板托盤(pán)90a、支承基板Pb的基板托盤(pán)稱為基板托盤(pán)90b來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。又，圖8(A) 圖13(C)中，基板托盤(pán)90a、90b 各自的多個(gè)錐形構(gòu)件95與錐形構(gòu)件96系于圖面深度方向重迭。圖8(A)中，于基板搬出裝置70的多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73上，裝載有支承基板Pb的基板托盤(pán)90b。托盤(pán)導(dǎo)引裝置73的氣缸76為延伸狀態(tài)。另一方面,于基板搬入裝置80,第I搬送單元81a的伸縮裝置85a為收縮狀態(tài)。于第2搬送單元81b，系控制伸縮裝置85b以使把持部84b的Z位置與第I搬送單元81a的把持部84a的Z位置相同。此時(shí)，基板托盤(pán)90b所具有的錐形構(gòu)件94、95、96的Z位置與把持部84a、84b各自的凹部86a、86b (參照?qǐng)D7)的Z位置大致一致。又，基板搬出裝置70的把持部74于固定子部72上位于其+X側(cè)的端部近旁。構(gòu)成升降裝置65的多個(gè)氣缸66為收縮狀態(tài)，其前端較固定子部72上面位于-Z偵U。圖8(A)及圖8(B)中雖未圖示，但于基板載臺(tái)20的基板保持具50上裝載有基板Pa，該基板Pa在投影光學(xué)系PL(參照?qǐng)DI)下方進(jìn)行曝光處理。又，于基板保持具50的槽部51內(nèi)收容有基板托盤(pán)90a。接著，如圖8(B)所示，將第2搬送單元8Ib的把持部84b驅(qū)動(dòng)于-X方向，如此，基板托盤(pán)90b的+X側(cè)多個(gè)錐形構(gòu)件95、96即插入把持部84b的凹部86b、87b (參照?qǐng)D7)內(nèi)。接著，第2搬送單元81b即在把持部84b的凹部?jī)?nèi)插入錐形構(gòu)件95、96的狀態(tài)下，將該把持部84b進(jìn)一步的驅(qū)動(dòng)于-X方向?；逋斜P(pán)90b被把持部84b按壓，據(jù)以在托盤(pán)導(dǎo)引裝置73的多個(gè)導(dǎo)件77上移動(dòng)于-X方向。基板托盤(pán)90b在多個(gè)導(dǎo)件77上移動(dòng)時(shí)，多個(gè)導(dǎo)件77從V槽部的面噴出氣體據(jù)以使基板托盤(pán)90b浮起，以防止因與基板托盤(pán)90b的滑動(dòng)而產(chǎn)生塵屑及振動(dòng)?；逋斜P(pán)90b由于系在其X軸方向的中間部分被托盤(pán)導(dǎo)引裝置73的導(dǎo)件77從下方支承，因此能抑制因自重造成的彎曲。又，與以上動(dòng)作并行將第I搬送單元81a的把持部84a驅(qū)動(dòng)于+X方向。如此，基板托盤(pán)90b于-X側(cè)的多個(gè)錐形構(gòu)件94即插入把持部84a的凹部86a(參照?qǐng)D7)內(nèi)。據(jù)此，基板托盤(pán)90b的+X側(cè)及-X側(cè)端部即分別被把持部84a、84b保持。又，由于錐形構(gòu)件96系專用于基板托盤(pán)90的搬出時(shí)，因此亦可將把持部84b構(gòu)成為僅卡合于多個(gè)錐形構(gòu)件95。此外，基板搬入裝置80可在保持基板托盤(pán)90時(shí)，藉由把持部84a、84b按壓基板托盤(pán)90來(lái)以機(jī)械方式加以保持(挾持)，亦可以真空吸附、靜電吸附等方式保持基板托盤(pán)90。或著，亦可并用機(jī)械保持、吸附保持等多種保持方式。此處，在設(shè)于基板托盤(pán)90b的錐形構(gòu)件94 96分別插入把持部84a、84b的凹部86a、86b、87b時(shí)，錐形構(gòu)件94 96分別被凹部86a、86b、87b的錐形面引導(dǎo)，因此，即使錐形構(gòu)件94 96與凹部86a、86b、87b的位置略有偏差，亦能確實(shí)將錐形構(gòu)件94 96插入對(duì)應(yīng)的凹部86a、86b、87b內(nèi)。
之后，藉由把持部84a、84b的同步驅(qū)動(dòng)，使基板托盤(pán)90b往-X方向移動(dòng)。此時(shí)，導(dǎo)件77通過(guò)形成在基板托盤(pán)90b的連接部92的缺口 92a (參照?qǐng)D6)內(nèi)。又，于把持部84b的下面，在與連接部92的缺口 92a對(duì)應(yīng)的位置形成有與缺口 92a同樣的、由X軸方向觀察側(cè)視呈三角形狀的未圖示的多個(gè)缺口，導(dǎo)件77通過(guò)該缺口內(nèi)。此外，與基板托盤(pán)90b往-X方向的移動(dòng)并行，基板搬出裝置70的把持部74在固定子部72上被驅(qū)動(dòng)于-X方向?；逋斜P(pán)90b，如圖8 (C)所示，系以基板搬入裝置80搬送至基板更換位置的上方。將基板搬入裝置80交至基板托盤(pán)90b的托盤(pán)導(dǎo)引裝置73的氣缸76收縮，如此，導(dǎo)件77即降下。又，導(dǎo)件77的降下，亦可在將基板托盤(pán)90b移動(dòng)至基板更換位置上方之前(圖8(B)所示的狀態(tài))進(jìn)行。再者，基板搬出裝置70的把持部74在固定子部72上的-X側(cè)端部近旁(較把持部74于X軸方向可移動(dòng)范圍的-X側(cè)極限位置略為+X側(cè)的位置)停止。接著，在基板托盤(pán)90b于基板更換位置上方待機(jī)、且基板搬出裝置70的把持部74于固定子部72上的-X側(cè)端部近旁待機(jī)的狀態(tài)下，保持完成曝光處理基板Pa的基板載臺(tái)20(惟圖8(C) 圖Il(A)中，為簡(jiǎn)化圖式，僅顯示了基板保持具50)即位于基板更換位置。在基板載臺(tái)20位于基板更換位置的狀態(tài)下，于基板保持具50上方待機(jī)的基板托盤(pán)90b的支承部91與基板保持具50的槽部51，于Z軸方向(鉛直方向)重迭(參照?qǐng)D7)。當(dāng)基板載臺(tái)20位于基板更換位置時(shí)，如圖9(A)所示，以基板保持具50進(jìn)行的基板Pa的吸附保持被解除且托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的氣缸53伸展，基板托盤(pán)90a往上方移動(dòng)。當(dāng)基板托盤(pán)90a移至上方時(shí)，基板托盤(pán)90a的多個(gè)墊93即與基板Pa下面抵接，將基板Pa頂向上方。如此，如圖5(C)所示，基板Pa的下面與基板保持具50的上面(基板保持面)即分離。在此基板托盤(pán)90a被頂至上方的狀態(tài)下，基板托盤(pán)90a的錐形構(gòu)件96與基板搬出裝置70的把持部74的凹部74a (參照?qǐng)D2)，其Y位置及Z位置即大致一致。接著，藉由將把持部74在固定子部72上驅(qū)動(dòng)于-X方向，錐形構(gòu)件96即插入把持部74的凹部74a內(nèi)，把持部74保持基板托盤(pán)90a。
接著，如圖9(B)所示，藉由將基板搬出裝置70的把持部74在固定子部72上驅(qū)動(dòng)于+X方向，據(jù)以使基板托盤(pán)90a與把持部74 一體移動(dòng)于+X方向，將基板Pa從基板載臺(tái)20搬出。此時(shí)，基板載臺(tái)20的托盤(pán)導(dǎo)引裝置52從導(dǎo)件54對(duì)基板托盤(pán)90a噴出氣體，使基板托盤(pán)90a浮起。此處，基板保持具50所具有的最+X側(cè)的托盤(pán)導(dǎo)引裝置52與基板搬出裝置70所具有的最-X側(cè)的托盤(pán)導(dǎo)引裝置73的間隔(距離)，系設(shè)定為較基板托盤(pán)90a (或90b)于X軸方向的長(zhǎng)度短。因此，基板托盤(pán)90a即藉由往+X方向的移動(dòng)，從基板保持具50內(nèi)的托盤(pán)導(dǎo)引裝置52被交至基板搬出裝置70的托盤(pán)導(dǎo)引裝置73?；灏岢鲅b置70的托盤(pán)導(dǎo)引裝置73與基板保持具50的托盤(pán)導(dǎo)引裝置52同樣的，從導(dǎo)件77對(duì)基板托盤(pán)90a噴出氣體，使基板托盤(pán)90a浮起。接著，如圖9(C)所示，當(dāng)基板托盤(pán)90a完全被交至基板搬出裝置70的托盤(pán)導(dǎo)引裝置73時(shí)，基板保持具50及基板搬出裝置70分別具有的多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置52、73即停止從導(dǎo)件54、77噴出氣體。如此，基板托盤(pán)90a即被裝置于多個(gè)導(dǎo)件77上。此處，托盤(pán)導(dǎo)引裝置73并不限于以非接觸方式支承基板托盤(pán)90的浮起型(非接觸型)，亦可以是例如使用軸承等來(lái)支承基板托盤(pán)90的接觸型。接著，如圖10(A)所示，基板搬入裝置80的第I及第2搬送單元8la、8Ib各個(gè)的伸縮裝置85a、85b同步伸展，據(jù)以使把持部84a、84b分別往-Z方向移動(dòng)(降下)，將基板托盤(pán)90b交至基板保持具50。此時(shí)，藉由先將基板托盤(pán)90b的支承部91 (參照?qǐng)D4(A))插入形成在托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的導(dǎo)件54的V槽部(參照?qǐng)D5 (B))內(nèi)，基板托盤(pán)90b即被多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置52從下方支承。接著，藉由多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的氣缸53同步收縮使基板托盤(pán)90b進(jìn)一步降下，據(jù)以將基板Pb裝載于基板保持具50的上面(基板裝載面)上。又，與基板Pb被裝載于基板保持具50上的動(dòng)作并行，基板托盤(pán)90b的墊93從基板Pb的下面分開(kāi)。之后，基板保持具50使用未圖示的吸附裝置吸附保持基板Pb。又，與氣缸53收縮的動(dòng)作一起，基板搬入裝置80的第I及第2搬送單元81a、81b各自的把持部84a、84b亦配合降下。亦可在基板托盤(pán)90a從基板保持具50脫離后(參照?qǐng)D9 (C))，藉由多個(gè)氣缸53收縮使導(dǎo)件54往-Z方向移動(dòng)，于該導(dǎo)件54上裝載基板托盤(pán)90b。此場(chǎng)合，可縮短基板搬入時(shí)間。又，在氣缸53伸展的狀態(tài)下將基板托盤(pán)90b交至導(dǎo)件54的情形時(shí),亦可在將基板托盤(pán)90b裝載于導(dǎo)件54上的時(shí)間點(diǎn)，解除把持部84a、84b對(duì)基板托盤(pán)90b的把持，收縮伸縮裝置85a、85b。此場(chǎng)合,可縮短伸縮裝置85a、85b的行程。當(dāng)結(jié)束基板Pb往基板保持具50上的裝載時(shí)，如圖10(B)所示，第I搬送單元81a的把持部84a被驅(qū)動(dòng)于-X方向、第2搬送單元81b的把持部84b則被驅(qū)動(dòng)于+X方向(亦 即，該等把持部離開(kāi)基板托盤(pán)90b的方向)。如此，基板托盤(pán)90b的錐形構(gòu)件94 96即分別從把持部84a、84b脫離。又，與此同時(shí)基板搬出裝置70的把持部74往+X方向移動(dòng)。據(jù)此，基板托盤(pán)90a的錐形構(gòu)件96即從把持部74脫離，以基板托盤(pán)90a的墊93進(jìn)行的基板Pa的吸附保持即被解除。其次，如圖10 (C)所示，第I及第2搬送單元81a、81b各自的伸縮裝置85a、85b收縮，據(jù)以使從基板托盤(pán)90b分離的把持部84a、84b分別往+Z方向移動(dòng)。之后，如圖Il(A)所示，基板載臺(tái)20往-X方向(從基板更換位置分離的方向)移動(dòng)，對(duì)基板保持具50上裝載的基板Pb進(jìn)行曝光處理等(曝光處理動(dòng)作等的說(shuō)明省略)。此時(shí)，基板保持具50使用托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的導(dǎo)件54吸附保持基板托盤(pán)90b，以抑制基板載臺(tái)20的加速、減速時(shí)的基板托盤(pán)90b的偏移。另一方面，于基板搬出裝置70，構(gòu)成升降裝置65的多個(gè)氣缸66分別伸展,據(jù)以使基板Pa往+Z方向移動(dòng)而與基板托盤(pán)90a分離。又,亦可于升降裝置65的多個(gè)墊構(gòu)件67設(shè)置例如真空吸附裝置，藉由該真空吸附裝置吸附保持基板Pa，以避免基板Pa偏離墊構(gòu)件67。接著，如圖11⑶所示，在基板Pa的下面與基板托盤(pán)90a之間形成的空間，插入將基板Pa(或Pb)搬出至設(shè)在液晶曝光裝置10(參照?qǐng)D2)外部的未圖示的涂布顯影裝置的基板搬送機(jī)器人的搬出用機(jī)械臂110。搬出用機(jī)械臂110未圖示，但系以俯視呈梳形的構(gòu)件構(gòu)成，其上面具有吸附保持基板Pa (或Pb)的多個(gè)墊構(gòu)件111。此外，基板搬入裝置80的第I搬送單元81a的把持部84a被驅(qū)動(dòng)于+X方向。不過(guò)，在使把持部84a移動(dòng)時(shí)有可能產(chǎn)生振動(dòng)，因此，把持部84a的移動(dòng)較佳是在例如基板載臺(tái)20(參照?qǐng)D11 (A))進(jìn)行步進(jìn)動(dòng)作時(shí)進(jìn)行。又，亦可例如將基板載臺(tái)裝置PST與第I搬送單元81a等基板的搬送部在物理上分離配置，此場(chǎng)合，能與基板載臺(tái)裝置PST側(cè)的動(dòng)作無(wú)關(guān)的移動(dòng)把持部84a。接著，如圖Il(C)所示，將搬出用機(jī)械臂110往上方驅(qū)動(dòng)，如此，基板Pa的下面即從升降裝置65的墊構(gòu)件67分離并被搬出用機(jī)械臂110從下方支承。之后，如圖12(A)所示，將搬出用機(jī)械臂110往-X方向驅(qū)動(dòng)，基板Pa被搬送至未圖示的涂布顯影裝置。之后，如圖12(B)所示，基板搬送機(jī)器人的搬入用機(jī)械臂120將新的基板Pc搬入升降裝置65的上方?？刂苹灏崴蜋C(jī)器人的控制裝置(例如涂布顯影裝置的控制裝置)，如圖12(C)所示，使搬入用機(jī)械臂120往-Z方向移動(dòng)。如此，基板Pc即從搬入用機(jī)械臂120被交至升降裝置65所具有的多個(gè)墊構(gòu)件67上。之后，使搬入用機(jī)械臂120往+X方向移動(dòng)而從液晶曝光裝置內(nèi)退出。主控制裝置從控制基板搬送機(jī)器人的另外的控制裝置收到搬入用機(jī)械臂120從液晶曝光裝置內(nèi)退出的信號(hào)時(shí)，即回應(yīng)于此而使升降裝置65所具有的多個(gè)氣缸66收縮。據(jù)此，如圖13(A)所示，基板Pc即往-Z方向移動(dòng)(降下)而被裝載于基板托盤(pán)90a上。之后，如圖13 (B)所示，基板搬入裝置80的第2搬送單元81b的把持部84b被驅(qū)動(dòng)于+X方向。并如圖13(C)所示，托盤(pán)導(dǎo)引裝置73的多個(gè)氣缸76同步伸展，據(jù)以使支承基板Pc的基板托盤(pán)90a往上方移動(dòng)。又，與此配合的，第I搬送單元81a的把持部84a被驅(qū)動(dòng)于+X方向而回到圖8(A)所示的狀態(tài)(惟基板Pb已被換為基板Pc)。以下，雖未圖示，用以支承完成曝光處理的基板Pb的基板載臺(tái)20移至基板更換位置，裝載于基板托盤(pán)90b的基板Pb被從基板保持具50搬出，于該基板托盤(pán)90b上則取代基板Pb而裝置另一基板。又，基板托盤(pán)90a將基板Pc交至基板保持具50，該基板Pc被保持于基板保持具50。如此，本實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10 (參照?qǐng)DI)，系在基板載臺(tái)20與基板更換裝置60之間循環(huán)使用二個(gè)基板托盤(pán) 90a、90b。如以上的說(shuō)明，本第I實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10，由于僅使基板托盤(pán)90往-Z方向(鉛直方向)移動(dòng)而將支承部91插入基板保持具50的槽部，即能將基板P裝載于基板保持具50上，因此能以高速(短時(shí)間)將基板P搬入基板保持具50。此外，完成曝光的基板P從基板保持具50的搬出系使基板托盤(pán)90往+X方向(水平方向)移動(dòng)據(jù)以進(jìn)行。亦即，將基板P從基板保持具50搬出時(shí)基板P的移動(dòng)路徑(從基板載臺(tái)20的搬出路徑)與將基板P裝載于基板保持具50上時(shí)基板P的移動(dòng)路徑(往基板載臺(tái)20的搬入路徑)不相同。因此，能在將基板P從基板保持具50搬出之前(或搬出動(dòng)作中)使另一基板P位于基板保持具50上方(待機(jī))。亦即，本實(shí)施形態(tài)的基板更換裝置60，可將基板P從基板保持具50搬出的搬出動(dòng)作、與將另一基板P搬入基板保持具50的搬入動(dòng)作平行實(shí)施，因此能迅速的進(jìn)行基板保持具50上的基板更換。又，例如使用二支機(jī)械臂進(jìn)行基板保持具50上基板P的更換的習(xí)知基板更換方法，在基板搬出用的機(jī)械臂從基板保持具50搬出基板托盤(pán)90的期間，為了使支承有另一基板P的基板托盤(pán)90在上方待機(jī)，須在基板保持具50的上方，有例如二支機(jī)械臂及二個(gè)基板托盤(pán)90厚度的大空間，但本實(shí)施形態(tài)的基板更換裝置60在基板保持具50的上方，僅有基板搬入用的基板托盤(pán)90位于此，因此在位于基板更換位置的基板載臺(tái)20上的空間狹窄的情形更是非常適合使用。此外，在將支承基板P的基板托盤(pán)90從基板保持具50拔出時(shí)，為了使基板P與基板保持具50分離必須使基板托盤(pán)90往+Z方向移動(dòng)，但因基板托盤(pán)90系形成為俯視呈梳形，因此能在基板托盤(pán)90的大部分被收容在基板保持具50的槽部51內(nèi)的狀態(tài)下，使基板托盤(pán)90往+X方向移動(dòng)。亦即，無(wú)須將基板托盤(pán)90從基板保持具50的槽部51內(nèi)完全拉出，僅需使基板托盤(pán)90往+Z方向微幅移動(dòng)即可。因此，能將基板P從基板保持具50迅速 搬出，縮短基板更換的周期時(shí)間。又，能與基板托盤(pán)90的厚度(+Z方向的尺寸)無(wú)關(guān)的迅速搬出基板P，因此能加厚基板托盤(pán)90提升其剛性。又，近年來(lái)，基板P有日趨大型化的傾向，因此，伴隨而來(lái)的基板搬入時(shí)的基板P (及基板托盤(pán)90)的移動(dòng)距離變長(zhǎng)。相對(duì)于此，本實(shí)施形態(tài)的基板搬入裝置80由于系把持基板托盤(pán)90的+X側(cè)及-X側(cè)端部(搬入時(shí)移動(dòng)方向的前端部及后端部)，因此與例如以懸臂式機(jī)械臂進(jìn)行搬送情形相較，能安定的長(zhǎng)距離搬送基板托盤(pán)90。又，本實(shí)施形態(tài)的基板更換裝置60，系在基板載臺(tái)20移動(dòng)至基板更換位置的前預(yù)先使未曝光的基板P在基板更換位置上方待機(jī)，由于此未曝光基板P的搬送系在另一基板P的曝光處理中進(jìn)行，因此能以低速將基板P搬送至待機(jī)位置。因此，能防止基板搬入裝置80產(chǎn)生塵屑。又，由于基板搬出裝置70系設(shè)在基板載臺(tái)裝置PST的外部，因此即使從構(gòu)成基板搬出裝置70的構(gòu)件產(chǎn) 生塵屑，亦能抑制該塵屑(微粒)到達(dá)例如基板保持具50上(亦即，未曝光的基板P上)。又，由于基板搬出裝置70系把持基板托盤(pán)90的一端部(+X側(cè)端部)將其從基板保持具50搬出的構(gòu)成，因此與例如將機(jī)械臂插入基板P下面與基板保持具50上面間的微小間隙的情形相較，易于控制。此外，由于無(wú)須將機(jī)械臂插入上述間隙的時(shí)間，因此能以高速(短時(shí)間)搬出基板托盤(pán)90。又，基板保持具50所具有的導(dǎo)件54及基板搬出裝置70所具有的導(dǎo)件77由于能分別以非接觸方式支承基板托盤(pán)90，因此能防止基板托盤(pán)90的搬出時(shí)產(chǎn)生振動(dòng)、塵屑。又，本實(shí)施形態(tài)的基板更換裝置60，系設(shè)在基板保持具50內(nèi)的多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置52、基板搬出裝置70 (含多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73)、基板搬入裝置80及升降裝置65的各裝置協(xié)同動(dòng)作來(lái)進(jìn)行基板P的更換，因此與習(xí)知例如使用二支機(jī)械臂(搬入用臂、搬出用臂)進(jìn)行基板P的更換的基板更換裝置相較，能使各裝置的動(dòng)作單純化。尤其是基板搬出裝置70系使基板托盤(pán)90往X軸方向(單軸方向)、基板搬入裝置80系使基板托盤(pán)90往X軸及Z軸方向(雙軸方向)移動(dòng)的簡(jiǎn)單構(gòu)成，因此與例如具備二支機(jī)械臂的基板搬送機(jī)器人相較能降低成本(制造成本、營(yíng)運(yùn)成本等)。此外，即使裝置增加，也能因各裝置本身的動(dòng)作簡(jiǎn)單而提升作業(yè)性、縮短基板更換的周期時(shí)間。第2實(shí)施形態(tài)接著，說(shuō)明第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置。第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置僅基板托盤(pán)的構(gòu)成及基板保持具的構(gòu)成與上述第I實(shí)施形態(tài)不同，因此，以下僅就基板托盤(pán)的構(gòu)成及基板保持具的構(gòu)成加以說(shuō)明。又，第2實(shí)施形態(tài)及后述第3 第6實(shí)施形態(tài)以及變形例中，為簡(jiǎn)化說(shuō)明及圖示的便利性，針對(duì)與上述第I實(shí)施形態(tài)具有相同構(gòu)成及作用的構(gòu)件，系賦予與上述第I實(shí)施形態(tài)相同符號(hào)并省略其說(shuō)明。如圖14(A)所示，第2實(shí)施形態(tài)的基板托盤(pán)290，具有例如四支支承部91、連接四支支承部91各自的+X側(cè)端部的連接部92、以及連接四支支承部91各自的長(zhǎng)邊方向中間部的多個(gè)連接部299。連接部299系由延伸于Y軸方向、亦即與支承部91的延伸方向正交的方向的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于X軸方向以既定間隔設(shè)有例如三支。連接部299的長(zhǎng)邊方向尺寸和最+Y側(cè)支承部91與最-Y側(cè)支承部91間的間隔大致相同，其+Y側(cè)端部連接于最+Y側(cè)的支承部91、-Y側(cè)端部則連接于最-Y側(cè)的支承部91。此外，連接部299的長(zhǎng)邊方向中間部分，從+Y側(cè)觀察分別連接于第二支及第三支支承部91。據(jù)此，本第2實(shí)施形態(tài)的基板托盤(pán)，與上述第I實(shí)施形態(tài)的梳形外形形狀的基板托盤(pán)90 (參照?qǐng)D4 (A))不同的，具有整體為網(wǎng)狀(格子狀)的外形形狀。本第2實(shí)施形態(tài)，如圖14(B)所示，在支承部91的上端部于X軸方向以既定間隔形成有多個(gè)(例如三個(gè))凹部，各凹部?jī)?nèi)插入連接部299。此場(chǎng)合，支承部91上端的Z位置與連接部299上面的Z位置大致相同。抵接于基板P下面的墊93系安裝在連接部299的上面。因此，基板托盤(pán)290的厚度與上述第I實(shí)施形態(tài)大致相同。又，連接部299的厚度系設(shè)定為支承部91的Z軸方向尺寸(厚度)的例如1/4程度。再者，多個(gè)連接部299系以和支承部91相同材質(zhì)形成，其表面與支承部91同樣的，形成有例如黒色的陽(yáng)極氧化膜。基板保持具250，如圖15(A)所示，除了為收容基板托盤(pán)290的支承部91而延伸于X軸方向的槽部51外，亦具有為收容連接部299而延伸于Y軸方向的三個(gè)槽部251。槽部251系以和X軸方向的基板托盤(pán)290的連接部299間的間隔對(duì)應(yīng)的間隔，形成有例如三個(gè)。槽部251的深度方向及寬度方向的尺寸，分別較構(gòu)成連接部2 99的板狀構(gòu)件的厚度方向及寬度方向尺寸略大，在基板托盤(pán)290的支承部91于槽部51內(nèi)被導(dǎo)件54支承的狀態(tài)下，連接部299被收容在槽部251內(nèi)。又，槽部251的深度系設(shè)定為為了使基板P與基板托盤(pán)290的墊93分離而使基板托盤(pán)290位于其Z軸方向的最-Z側(cè)的狀態(tài)(參照?qǐng)D15(A))下，連接部299的下面不會(huì)接觸槽部251的內(nèi)部底面。本第2實(shí)施形態(tài)，與上述第I實(shí)施形態(tài)同樣的，將基板保持具250上的基板P從基板載臺(tái)20(參照?qǐng)D2)搬出時(shí)，為了使基板P的下面與基板保持具250的上面分離，基板托盤(pán)290系被托盤(pán)導(dǎo)引裝置52往+Z方向頂起既定量。此時(shí)，雖須使基板托盤(pán)290往+Z方向移動(dòng)以使連接部299的下面較基板保持具250的上面位于+Z側(cè)，但由于連接部299將支承部91的上端部彼此加以連接、且其厚度薄，因此如圖15(C)所示，可在基板托盤(pán)290的下半部被收容在槽部51內(nèi)的狀態(tài)下，將基板托盤(pán)290從基板保持具250拉出(無(wú)須將基板托盤(pán)290從槽部51內(nèi)完全拉出)。因此，與上述第I實(shí)施形態(tài)同樣的，能提升基板P的搬出處理速度(縮短搬出時(shí)間)，縮短基板更換的周期時(shí)間。又，根據(jù)第2實(shí)施形態(tài)的基板托盤(pán)290，由于多個(gè)支承部91連接于多個(gè)連接部299，如此能提升基板托盤(pán)290整體的剛性(尤其是Y軸方向的剛性、扭轉(zhuǎn)剛性等)。因此，能以更安定的狀態(tài)高速搬送基板P。此外，雖為收容連接部299而在基板保持具250形成有槽部251，但因連接部299本身厚度薄、槽部251的深度亦淺，因此基板保持具250的剛性與上述第I實(shí)施形態(tài)相較亦不致大幅降低。又，本第2實(shí)施形態(tài)中，相鄰一對(duì)支承部91雖系以板狀構(gòu)件加以彼此連接，但不限于此，亦可以例如纜線或繩等具有可撓性的構(gòu)件加以連接。此外，將相鄰支承部91彼此加以連接的連接部(補(bǔ)強(qiáng)構(gòu)件)可以例如不與Y軸平行、亦可以彎曲。連接部299可以是例如具有與支承部91相同程度厚度的構(gòu)件。此場(chǎng)合，只要使連接部299下面的Z位置與上述第2實(shí)施形態(tài)相同，使上面的Z位置較支承部91上端的Z位置突出于+Z側(cè)即可。又，連接部299，如圖32(A)所示，亦可設(shè)置成將多個(gè)支承部91的-X側(cè)端部彼此加以連接。此場(chǎng)合，可使基板搬入裝置80的第I搬送單元81a的把持部84a(分別參照?qǐng)D2)把持該連接部299。第3實(shí)施形態(tài)接著，使用圖16(A)及圖16⑶說(shuō)明第3實(shí)施形態(tài)。第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置與上述第I實(shí)施形態(tài)相較，其基板托盤(pán)390的構(gòu)成、基板搬入裝置380及未圖示的基板搬出裝置的構(gòu)成相異。又，由于其他部分與上述第I實(shí)施形態(tài)相同，因此省略其說(shuō)明。基板托盤(pán)390使用于Y軸方向以既定間隔設(shè)置的多支、例如四支支承部91 (從-Y側(cè)起依序?yàn)?1: 914)從下方支承基板P(參照?qǐng)D16(B))。-Y側(cè)的二支支承部91p912具有連接于與YZ平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成的連接部392a的+X側(cè)端部，而+Y側(cè)的二支支承部913、914則具有連接于與YZ平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成的連接部392b的+X側(cè)端部。亦即，-Y側(cè)的二支支承部91p912與+Y側(cè)的二支支承部913、914在物理上分離。以下，將由基板托盤(pán)390中的二支支承部91p912與連接部392a構(gòu)成的部分稱為第I托盤(pán)390a、將二支支承部913、914與連接部392b構(gòu)成的部分稱為第2托盤(pán)390b來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。又，第I及第2托盤(pán)390a、390b實(shí)質(zhì)上相同。于四支支承部W1 914各自的-X側(cè)端部安裝有錐形構(gòu)件94。于連接部392a、392b各自的+X側(cè)側(cè)面安裝有一對(duì)錐形構(gòu)件95、與設(shè)在該一對(duì)錐形構(gòu)件95之間的錐形構(gòu)件96。圖16(B)顯示了從下方支承基板P的基板托盤(pán)390被基板搬入裝 置380搬送的狀態(tài)?；灏崛胙b置380的第I搬送單元381a具有把持第I托盤(pán)390a的-X側(cè)端部的第I把持部384&1、與把持第2托盤(pán)390b的-X側(cè)端部的第2把持部384a2。第一把持部384a:及第2把持部384a2可彼此獨(dú)立的進(jìn)行X軸方向的位置控制。又，基板搬入裝置380的第2搬送單元381b具有把持第I托盤(pán)390a的+X側(cè)端部的第I把持部3841^、與把持第2托盤(pán)390b的+X側(cè)端部的第2把持部384b2。第I把持部3841^及第2把持部384b2可彼此獨(dú)立的進(jìn)行X軸方向的位置控制。承上所述，可在使用第I及第2托盤(pán)390a、390b從下方支承基板P的狀態(tài)下，使該第I及第2托盤(pán)390a、390b于X軸方向的位置(X位置)不同，據(jù)以控制基板P的0 z方向的位置。圖16(B)所示例中，系藉由將保持第I托盤(pán)390a的一對(duì)第I把持部3848^384、分別同步驅(qū)動(dòng)于-X方向、將保持第2托盤(pán)390b的一對(duì)第2把持部384a2、384b2分別同步驅(qū)動(dòng)于+X方向，據(jù)以使基板P從+Z側(cè)觀察往右(圖16⑶中順時(shí)鐘)旋轉(zhuǎn)?；錚的0 z方向的位置資訊系以例如固定在鏡筒平臺(tái)31 (參照?qǐng)DI)的一對(duì)位置感測(cè)器337 (例如檢測(cè)基板P的+X側(cè)端部的光感測(cè)器)加以測(cè)量。一對(duì)位置感測(cè)器337系于Y軸方向以既定間隔設(shè)置，例如在為了將基板P搬入基板保持具50 (參照?qǐng)D2)而使基板P在基板更換位置上方待機(jī)的狀態(tài)(參照?qǐng)D9 (A) 圖9 (C)等)下，分別檢測(cè)基板P的+X側(cè)的端部的位置。未圖示的主控制裝置根據(jù)一對(duì)位置感測(cè)器337的輸出控制基板P的0 z方向位置。又，位置感測(cè)器不限于光感測(cè)器般的非接觸式者，亦可以是接觸式者。因此，例如圖12(C)所示，假設(shè)即使在基板搬送機(jī)器人的機(jī)械臂120將基板P交至升降裝置65時(shí)，該基板P的位置偏于0z方向(產(chǎn)生旋轉(zhuǎn))、或假設(shè)即使正在使用基板搬入裝置380搬入基板P時(shí)基板P的位置偏于9 z方向，由于能在基板托盤(pán)390上修正基板P的0 z位置，因此能確實(shí)的將基板P以既定姿勢(shì)(基板P的各邊分別與X軸、Y軸平行的方式)裝載于基板保持具50 (參照?qǐng)D2)上。又，圖16(B)中雖未圖示，但基板搬出裝置具有把持第I托盤(pán)390a的錐形構(gòu)件96及第2托盤(pán)390b的錐形構(gòu)件96的一對(duì)把持裝置(與第I實(shí)施形態(tài)的把持裝置71 (參照?qǐng)D2)相同構(gòu)成)，在從基板保持具50(參照?qǐng)D2)搬出基板托盤(pán)390時(shí)，使用該一對(duì)把持裝置使基板托盤(pán)390往+X方向移動(dòng)。又，只要把持裝置是以能同時(shí)保持第I及第2托盤(pán)390a、390b的方式構(gòu)成的話，亦可以是利用一個(gè)把持裝置(因基板P的搬出時(shí)，可不進(jìn)行基板P的9 z方向的位置控制)。此外，亦可于第I及第2托盤(pán)390a、390b設(shè)置如上述第2實(shí)施形態(tài)的基板托盤(pán)290 (圖參照14(A))般的補(bǔ)強(qiáng)構(gòu)件(連接部299)。此場(chǎng)合，由于補(bǔ)強(qiáng)構(gòu)件的X位置會(huì)因應(yīng)第I及第2托盤(pán)390a、390b的X位置變化，因此最好是能將用以收容形成在基板托盤(pán)390的補(bǔ)強(qiáng)構(gòu)件的槽部，形成為寬度較上述第2實(shí)施形態(tài)寬。第4實(shí)施形態(tài)接著，使用圖17說(shuō)明第4實(shí)施形態(tài)。第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置與上述第I實(shí)施形態(tài)相較，其基板托盤(pán)490、基板搬出裝置470及分別未圖示的基板搬入裝置、基板保持具的構(gòu)成不同。此外，由于其他部分與上述第I實(shí)施形態(tài)相同，因此省略其說(shuō)明?；逋斜P(pán)490使用于Y軸方向以既定間隔設(shè)置的多支、例如六支支承部91 (從-Y側(cè)起依序?yàn)?1:-91^從下方支承基板P。-Y側(cè)的二支支承部91p912系具有藉由與YZ平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成的連接部492加以連接的+X側(cè)端部。又，中央的二支支承部913、914及+Y側(cè)的二支支承部915、916亦同樣的由與YZ平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成的連接部492分別加以連接。以下，將由基板托盤(pán)490中、二支支承部9^、912與連接部492構(gòu)成的部分稱為第I托盤(pán)490a、將由二支支承部913、914與連接部492構(gòu)成的部分稱為第2托盤(pán)490b、將由二支支承部915、916與連接部492構(gòu)成的部分稱為第3托盤(pán)490c來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。此外，基板搬出裝置470于Y軸方向以既定間隔具有6列對(duì)應(yīng)六支支承部 916的托盤(pán)導(dǎo)引裝置列，每一托盤(pán)導(dǎo)引裝置列系由于X軸方向以既定間隔排列的多個(gè)、例如四臺(tái)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73所構(gòu)成?；逋斜P(pán)490在被四臺(tái)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73從下方支承的狀態(tài)下，第I 第3托盤(pán)490a 490c彼此間相距既定間隔。又，圖17中雖未圖示，但基板搬出裝置470具有把持第I 第3托盤(pán)490a 490c的各個(gè)的把持部。又，未圖示的基板搬入裝置具有將第I 第3托盤(pán)490a 490c整個(gè)的(或如上述第3實(shí)施形態(tài)般個(gè)別的)加以把持的把持部。未圖示的基板保持具，對(duì)應(yīng)六支支承部91: 916于其上面形成有六條槽部。此處，將基板P從基板托盤(pán)490搬出至外部裝置的搬出用機(jī)械臂110及將基板P從外部裝置搬入基板托盤(pán)490的搬入用機(jī)械臂120(分別參照?qǐng)D11(B)、圖12(B))，于其前端部具有以符號(hào)130表不的被稱為「手部(hand)」的構(gòu)件。手部130,如圖17所不，具有例如四支支承部131 (從-Y側(cè)起依序?yàn)?31: 1314)。四支支承部131: 1314分別由延伸于X軸方向的棒狀構(gòu)件構(gòu)成,于Y軸方向，以較第I 第3托盤(pán)490a 490c各個(gè)的寬度尺寸(Y軸方向的尺寸)大的間隔排列。又，手部130具有由延伸于Y軸方向的構(gòu)件構(gòu)成、將四支支承部Ul1 1314各自的+X側(cè)端部加以彼此連接的連接部132，具有整體俯視呈梳形的外形形狀。本第4實(shí)施形態(tài)中，系在將支承完成曝光的基板P的基板托盤(pán)490從基板保持具(圖示省略)搬出、裝載于多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73上的狀態(tài)下，分別在第I托盤(pán)490a與第2托盤(pán)490b之間插入手部130的支承部1312、在第2托盤(pán)409b與第3托盤(pán)490c之間插入手部130的支承部1313。并在的后使手部130往+Z方向移動(dòng)，基板P的第I托盤(pán)490a與第2托盤(pán)490b之間、及第2托盤(pán)490b與第3托盤(pán)490c之間的區(qū)域，即分別被支承部1312、1313 從下方支承。又，手部130的另外二支支承部分別從下方支承基板P的-Y側(cè)、+Y側(cè)端部。如此，第4實(shí)施形態(tài)中，由于完成曝光的基板P系從基板托盤(pán)490直接被交至機(jī)械臂(并不如上述第I實(shí)施形態(tài)般透過(guò)升降裝置65 (參照?qǐng)DIl(B)等))，因此能迅速的進(jìn)行基板P往基板托盤(pán)490的搬入及基板P從基板托盤(pán)490的搬出(基板P的回收)。又，由于基板托盤(pán)490系由于Y軸方向分離的多個(gè)構(gòu)件構(gòu)成，因此能如上述第3實(shí)施形態(tài)般，將基板P的9 z方向位置在裝載于基板托盤(pán)490上的狀態(tài)下加以控制。又，以上的說(shuō)明中，基板托盤(pán)490雖系由物理上分離的三個(gè)構(gòu)件構(gòu)成，但例如上述第I實(shí)施形態(tài)的基板托盤(pán)90 (參照?qǐng)D3 (A))，在連接部92 (參照?qǐng)D4 (C))的上端部形成缺口等可將機(jī)械臂的手部130插入相鄰支承部91之間的話，亦可將基板托盤(pán)作成一體。又，亦可視機(jī)械臂的手部130的形狀(支承部131的支數(shù))，將基板托盤(pán)以例如二個(gè)、或四個(gè)以上的構(gòu)件構(gòu)成。第5實(shí)施形態(tài)接著，根據(jù)圖18說(shuō)明第5實(shí)施形態(tài)。第5實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置與上述第I實(shí)施形態(tài)相較，基板載臺(tái)520的構(gòu)成不同。亦即，上述第I實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)20(參照?qǐng)D2)系將支承基板托盤(pán)90的多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)弓丨裝置52 (參照?qǐng)D3 (B))設(shè)于基板保持具50 (內(nèi)建)，相對(duì)于此，圖18所示的基板載臺(tái)520則在Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y上面安裝有多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置552的點(diǎn)不同。又，為避免圖式的錯(cuò)綜復(fù)雜，圖18中省略了一對(duì)纜 線引導(dǎo)裝置36(參照?qǐng)D2)的圖示。托盤(pán)導(dǎo)引裝置552包含固定于Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y的氣缸553、與安裝在氣缸553的桿前端的導(dǎo)件554。氣缸553的桿沿Z軸平行延伸。托盤(pán)導(dǎo)引裝置552具有與上述第I實(shí)施形態(tài)同樣的配置(參照?qǐng)D3(A))，設(shè)有例如合計(jì)16臺(tái)。部分氣缸553的桿，其長(zhǎng)邊方向的中間部插通于形在微動(dòng)載臺(tái)521或反射鏡座24X(或未圖示的反射鏡座24Y)的孔部?jī)?nèi)。又，于基板保持具550在對(duì)應(yīng)多臺(tái)(例如16臺(tái))托盤(pán)導(dǎo)引裝置552的位置形成有于Z軸方向貫通的孔部，于該孔部分別插通16臺(tái)氣缸553的桿。又，導(dǎo)件554與上述第I實(shí)施形態(tài)的導(dǎo)件54為相同的物。本第5實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)520,由于托盤(pán)導(dǎo)引裝置552的氣缸553系設(shè)在微動(dòng)載臺(tái)521外，因此能謀求微動(dòng)載臺(tái)521的薄型化及輕量化。因此，能使用以驅(qū)動(dòng)微動(dòng)載臺(tái)521的音圈馬達(dá)、抵銷包含微動(dòng)載臺(tái)521的系統(tǒng)的重量的重量抵銷裝置40等小型化。此外，由于基板托盤(pán)90不與微動(dòng)載臺(tái)521接觸，因此即使基板托盤(pán)90產(chǎn)生振動(dòng)，該振動(dòng)亦不會(huì)傳至微動(dòng)載臺(tái)521。因此，能以高精度進(jìn)行微動(dòng)載臺(tái)521的位置控制。再者，本實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)520由于系將微動(dòng)載臺(tái)521的中央部以重量抵銷裝置40從下方加以支承的構(gòu)成，因此在微動(dòng)載臺(tái)521中央部以外的其他部分的下方區(qū)域，沒(méi)有音圈馬達(dá)以外的構(gòu)件，能將多個(gè)氣缸553容易的配置在Y粗動(dòng)載臺(tái)23Y上。第6實(shí)施形態(tài)接著，根據(jù)圖19 圖24說(shuō)明第6實(shí)施形態(tài)。第6實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置與上述第I實(shí)施形態(tài)相較，基板托盤(pán)690、未圖示的基板保持具、基板搬出裝置670及基板搬入裝置680的構(gòu)成不同。又，因其他部分與上述第I實(shí)施形態(tài)相同，因此省略其說(shuō)明。如圖19所示，第6實(shí)施形態(tài)的基板托盤(pán)690具有多(例如九支)支承部691、連接多個(gè)支承部691各自的+X側(cè)端部的連接部92、及連接多個(gè)支承部691各自的長(zhǎng)邊方向中間部的多(例如九支)連接部699?；逋斜P(pán)690的機(jī)能除支承部691及連接部699的支數(shù)不同之外，與上述第2實(shí)施形態(tài)相同，因此省略其詳細(xì)說(shuō)明。此外，雖未圖示，但于基板保持具，與上述第2實(shí)施形態(tài)同樣的形成有對(duì)應(yīng)上述多(例如九支)支承部691及多(例如九支)連接部699的槽部?；灏岢鲅b置670具有與上述基板托盤(pán)690的例如九支支承部691中的八支(除中央的一支外)對(duì)應(yīng)的例如八個(gè)導(dǎo)件675?；灏岢鲅b置670的構(gòu)成及機(jī)能，除了八個(gè)導(dǎo)件675的各個(gè)由延伸于X軸方向的構(gòu)件構(gòu)成并搭載于共通的基座構(gòu)件上被同步驅(qū)動(dòng)的點(diǎn)、以及升降裝置65的數(shù)量較多的點(diǎn)外，與上述第I實(shí)施形態(tài)大致相同，因此省略其詳細(xì)說(shuō)明。
基板搬入裝置680，如圖20所示，具有第I搬送單元68 la、將第I搬送單元驅(qū)動(dòng)于Z軸方向的Z軸驅(qū)動(dòng)裝置610、第2搬送單元681b以及連結(jié)棒640。第I搬送單元681a，如圖19所示，包含一對(duì)第I導(dǎo)引部682a、對(duì)應(yīng)該對(duì)第I導(dǎo)引部682a的各個(gè)設(shè)置的一對(duì)X臺(tái)694a、把持基板托盤(pán)690的-X側(cè)端部的把持部684a等。第I導(dǎo)引部682a系由于延伸于X軸方向的構(gòu)件構(gòu)成，搭載在后述Z軸驅(qū)動(dòng)裝置610上(參照?qǐng)D20)。該對(duì)第I導(dǎo)引部682a系于Y軸方向以既定間隔平行配置。于該對(duì)第I導(dǎo)引部682a各個(gè)的上面固定有X線性導(dǎo)件692a。于X線性導(dǎo)件692a透過(guò)多個(gè)X滑件693a以可滑動(dòng)的方式卡合有X臺(tái)694a。把持部684a除了凹部86a的數(shù)量不同之外，系與上述第I實(shí)施形態(tài)的把持部84a具相似機(jī)能的構(gòu)件，架設(shè)在一對(duì)X臺(tái)694a間。Z軸驅(qū)動(dòng)裝置610，如圖20所示，具有包含于上下方向重迭的一對(duì)楔形構(gòu)件的多個(gè)、例如二個(gè)凸輪裝置612、用以驅(qū)動(dòng)凸輪裝置612的導(dǎo)螺桿裝置614、將二個(gè)凸輪裝置612各個(gè)的下側(cè)的楔形構(gòu)件加以彼此連結(jié)的連結(jié)棒616、以及Z軸導(dǎo)件裝置618等，將上述第I搬送單元681a驅(qū)動(dòng)于Z軸方向。例如二個(gè)凸輪裝置612系于X軸方向以既定間隔配置。例如二個(gè)凸輪裝置612各個(gè)所具有的一對(duì)楔形構(gòu)件，其上側(cè)的楔形構(gòu)件固定于第I導(dǎo)引部682a、下側(cè)的楔形構(gòu)件則能移動(dòng)于X軸方向。構(gòu)成各個(gè)凸輪裝置612的一對(duì)楔形構(gòu)件透過(guò)多個(gè)線性導(dǎo)件613彼此順暢的移動(dòng)。導(dǎo)螺桿裝置611將配置在+X側(cè)的凸輪裝置612的下側(cè)楔形構(gòu)件以既定行程驅(qū)動(dòng)于X軸方向。連結(jié)棒616將例如二個(gè)凸輪裝置612各個(gè)的下側(cè)楔形構(gòu)件機(jī)械的加以彼此連接。Z軸導(dǎo)件裝置618配置于二個(gè)凸輪裝置612之間，從下方支承第I導(dǎo)引部682a的長(zhǎng)邊方向中間部。又，凸輪裝置612、導(dǎo)螺桿裝置611及Z軸導(dǎo)件裝置618的數(shù)量，可分別各具有若干個(gè)。此外，用以將第I搬送單元681a驅(qū)動(dòng)于Z軸方向的Z驅(qū)動(dòng)裝置，并不限于此，亦可是例如使用氣缸等將第I搬送單元681a直接驅(qū)動(dòng)于Z軸方向的裝置。再者，Z軸驅(qū)動(dòng)裝置可配置在第I搬送單元81a的上方或側(cè)方，此外，設(shè)置的方向可以是任何方向。第2搬送單元681b，如圖19所示，包含一對(duì)第2導(dǎo)引部682b、對(duì)應(yīng)該對(duì)第2導(dǎo)引部682b的各個(gè)設(shè)置的一對(duì)X臺(tái)694b、及如圖20所示的安裝于X臺(tái)694b的X軸驅(qū)動(dòng)裝置620、安裝于X臺(tái)694b的Z軸驅(qū)動(dòng)裝置630、把持基板托盤(pán)690的+X側(cè)端部的把持部684b等(為避免圖面錯(cuò)綜復(fù)雜，X軸驅(qū)動(dòng)裝置620及Z軸驅(qū)動(dòng)裝置630在圖19中未圖示)。該對(duì)第2導(dǎo)引部682b,如圖19所不,系以延伸于X軸方向的構(gòu)件構(gòu)成,于Y軸方向以既定間隔平行配置。該對(duì)X臺(tái)694b各個(gè)系以包含皮帶、滑輪及旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的皮帶驅(qū)動(dòng)裝置 689 (圖19中未圖示，參照?qǐng)D20)，相對(duì)對(duì)應(yīng)的第2導(dǎo)引部682b于X軸方向以既定長(zhǎng)行程加以驅(qū)動(dòng)。X軸驅(qū)動(dòng)裝置620，如圖20所示，具有被搭載成可透過(guò)X線性導(dǎo)件裝置695相對(duì)X臺(tái)694b滑動(dòng)于X軸方向的X滑件624、與將該X滑件624驅(qū)動(dòng)于X軸方向的導(dǎo)螺桿裝置6142。又，X軸驅(qū)動(dòng)裝置620亦可安裝于后述Z軸驅(qū)動(dòng)裝置630。Z軸驅(qū)動(dòng)裝置630安裝在X臺(tái)694b的上面(或Y軸方向內(nèi)側(cè)側(cè)面)。Z軸驅(qū)動(dòng)裝置630具有可透過(guò)Z線性導(dǎo)件裝置634滑動(dòng)于Z軸方向的設(shè)在支承部632 (固定于X臺(tái)694b)的Z滑件638、以及將Z滑件638驅(qū)動(dòng)于Z軸方向的導(dǎo)螺桿裝置6143。
把持部684b，除凹部86b的數(shù)量不同外，系與上述第I實(shí)施形態(tài)具有相同機(jī)能的構(gòu)件，固定于Z滑件638而與X臺(tái)694b —體移動(dòng)于Z軸方向。連結(jié)棒640系由延伸于X軸方向的棒狀構(gòu)件構(gòu)成，于其兩端部具有例如球型接頭、或鉸鏈裝置等的鉸鏈接頭裝置，透過(guò)該鉸鏈接頭裝置將一端(-X側(cè))連接于X臺(tái)694a、將另一端(+X側(cè))連接于X滑件624。因此，當(dāng)以X臺(tái)694b被驅(qū)動(dòng)、或以導(dǎo)螺桿裝置6142將X滑件624驅(qū)動(dòng)于X軸方向時(shí)，X臺(tái)694a即透過(guò)連結(jié)棒640沿X線性導(dǎo)件692a于X軸方向移動(dòng)。此處，即使假設(shè)第I導(dǎo)引部682a、第2導(dǎo)引部682b及X線性導(dǎo)件裝置695彼此間的平行度產(chǎn)生偏移，亦能因設(shè)于連結(jié)棒640兩端的一對(duì)鉸鏈接頭裝置的作用，在不致于過(guò)度拘束上述各導(dǎo)件裝置的情形下，將來(lái)自X滑件624的X軸方向驅(qū)動(dòng)力傳遞至X臺(tái)694a，各可動(dòng)構(gòu)件被順暢的驅(qū)動(dòng)于X軸方向。以下，針對(duì)使用基板搬入裝置680的基板P的搬入程序，使用圖20 圖24加以說(shuō) 明。又，圖20 圖24系用以說(shuō)明基板P的搬入程序的圖，省略了基板載臺(tái)的構(gòu)成等部分圖
/Jn o圖20中顯不了基板P被裝載于基板托盤(pán)690后，以把持部684a、684b把持基板托盤(pán)690的狀態(tài)。此時(shí)，由未圖示的主控制裝置使用Z軸驅(qū)動(dòng)裝置610調(diào)整第I導(dǎo)引部682a的Z位置，以使支承于基板托盤(pán)690的基板P與水平面平行(使把持部684a、684b的Z位置相同)。接著，未圖示的主控制裝置藉由控制皮帶驅(qū)動(dòng)裝置689，將X臺(tái)694b驅(qū)動(dòng)于-X方向，使X臺(tái)694b與藉由連結(jié)棒640連結(jié)于該X臺(tái)694b的X臺(tái)694a —體的往-X方向移動(dòng)。據(jù)此，如圖21所示，被把持部684a、684b保持的基板托盤(pán)690即往-X方向移動(dòng)，被支承于該基板托盤(pán)690的基板P往-X方向與水平面平行的移動(dòng)。接著，當(dāng)基板托盤(pán)690位于基板更換位置的上空時(shí)，主控制裝置，如圖22所示，分別驅(qū)動(dòng)Z軸驅(qū)動(dòng)裝置610及Z軸驅(qū)動(dòng)裝置630使基板托盤(pán)690降下(使基板托盤(pán)于-Z方向移動(dòng))。據(jù)此，裝載于基板托盤(pán)690上的基板P即被交至未圖示的基板保持具上。又，此時(shí)為修正因連結(jié)棒640的傾斜造成的把持部684a、684b間的X軸方向間隔誤差(所謂的余弦誤差)，可將X滑件624微驅(qū)動(dòng)于-X側(cè)。當(dāng)將基板P從基板托盤(pán)690移至未圖示的基板保持具后，主控制裝置，如圖23所示，即使用皮帶驅(qū)動(dòng)裝置689’將X臺(tái)694b微驅(qū)動(dòng)于+X方向、并使用導(dǎo)螺桿裝置6142將X滑件624驅(qū)動(dòng)于-X方向，據(jù)以使X臺(tái)694a往-X方向移動(dòng)。據(jù)此，把持部684b即往+X方向移動(dòng)且把持部684a往-X方向移動(dòng)，而解除把持部684a、684b與基板托盤(pán)690的卡合。之后，主控制裝置，如圖24所示，分別驅(qū)動(dòng)Z軸驅(qū)動(dòng)裝置610及Z軸驅(qū)動(dòng)裝置630以使把持部684a、684b的Z位置回到圖22所示的初期位置，并使用皮帶驅(qū)動(dòng)裝置689將X臺(tái)694b驅(qū)動(dòng)于+X方向。據(jù)此，以連結(jié)棒640連結(jié)于X臺(tái)694b的X臺(tái)694a即一體的往+X方向移動(dòng)。以上所說(shuō)明的第6實(shí)施形態(tài)，即使是在基板保持具的基板更換位置上空非常狹窄(空間狹窄)的情形時(shí)，亦能搬入裝載有基板P的基板托盤(pán)690。又，由于第I搬送單元681a的第I導(dǎo)引部682a的X軸方向中間部被Z軸導(dǎo)件裝置618支承，因此可構(gòu)成為薄型且高剛性的基板搬入裝置680。此外，由于X臺(tái)694a與X臺(tái)694b系以連結(jié)棒640機(jī)械的連結(jié)，因此于第I搬送單元681a無(wú)需設(shè)置用以驅(qū)動(dòng)X臺(tái)694a的驅(qū)動(dòng)源，可構(gòu)成為便宜且輕量的裝置。又，由于沒(méi)有X臺(tái)694a用的驅(qū)動(dòng)源，因此亦不需要例如用以供應(yīng)電力的可動(dòng)纜線，因此無(wú)需擔(dān)心基板保持具上附著微粒。此外，由于沒(méi)有可動(dòng)纜線，因此能使裝置進(jìn)一步輕量化。又，X臺(tái)694b的驅(qū)動(dòng)裝置雖系使用皮帶驅(qū)動(dòng)裝置689，但不限于此，亦可使用例如滾珠螺桿裝置或線性馬達(dá)等。再者，雖設(shè)有一對(duì)皮帶驅(qū)動(dòng)裝置689對(duì)應(yīng)該對(duì)第2導(dǎo)引部682b的各個(gè)，但不限于此，亦可藉由將動(dòng)力從該對(duì)第2導(dǎo)引部952b的一方傳遞至另一方,來(lái)以一個(gè)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)該對(duì)X臺(tái)694b。此外，為了使把持部84b上升及下降(土Z方向驅(qū)動(dòng)把持部)而設(shè)置了 Z軸驅(qū)動(dòng)裝置630，但不限于此，亦可與第I搬送單元681a同樣的，將第2搬送單元681b全體驅(qū)動(dòng)于Z軸方向又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)的各液晶曝光裝置(含基板托盤(pán))僅為實(shí)例，其構(gòu)成可適當(dāng)?shù)募右宰兏?。例如，可如圖25所示的基板托盤(pán)洲丨般，基板托盤(pán)在多個(gè)支承部91的+X側(cè)及-X側(cè)的各個(gè)端部具有用以防止基板P脫落的脫落防止銷99。如此，在例如基板托盤(pán)9(^加減速時(shí)際(例如基板托盤(pán)9(^急停止的情形等)即使基板P從塾93偏 移，該基板P與脫落防止銷99會(huì)抵接而防止該基板P從基板托盤(pán)90:脫落。因此，可不在基板托盤(pán)90i上吸附保持基板P。又，只要是能防止基板P從基板托盤(pán)90脫落的話，脫落防止構(gòu)件的形狀不限于銷狀。此外，脫落防止銷99可設(shè)在上述第3或第4實(shí)施形態(tài)的基板托盤(pán)(分別參照?qǐng)D16(A)、圖17)的分為多個(gè)部分的基板托盤(pán)的支承部。又，如圖25所示，基板搬出裝置70的把持裝置71a可具有吸附保持基板P下面的基板吸附墊79。此場(chǎng)合，由于把持裝置71a可直接保持基板P，因此即使以基板托盤(pán)90i的墊93進(jìn)行的基板P的吸附產(chǎn)生不良，亦能將基板P確實(shí)的引導(dǎo)于X軸方向。又，亦可如圖26所示的基板托盤(pán)902，使基板托盤(pán)90具有在往+X方向移動(dòng)時(shí)將往-Z方向(鉛直方向向下)的升力作用于支承部91的-X側(cè)端部的升力產(chǎn)生構(gòu)件98。升力產(chǎn)生構(gòu)件98具有例如將飛機(jī)的主翼作成上下相反的形狀。升力產(chǎn)生構(gòu)件98連接在脫落防止銷99的前端部(+Z側(cè)端部)。此外，升力產(chǎn)生構(gòu)件98可以是將延伸于Y軸方向的翼形剖面形狀的一個(gè)構(gòu)件架設(shè)于多個(gè)支承部91，亦可對(duì)應(yīng)多個(gè)支承部91的各個(gè)而設(shè)置多個(gè)。基板托盤(pán)90的多個(gè)支承部91的各個(gè)，僅其+X側(cè)端部連接于連接部92，-X側(cè)端部則為自由端，因此例如可能于-X側(cè)端部產(chǎn)生振動(dòng)等。相對(duì)于此，基板托盤(pán)902在例如將基板P從基板保持具50(參照?qǐng)D2)搬出時(shí)往+X方向移動(dòng)的情形中，會(huì)因升力產(chǎn)生構(gòu)件98的作用而于支承部91的-X側(cè)端部作用出鉛直方向向下的升力，將該支承部91壓接于導(dǎo)件54 (或?qū)Ъ?7(參照?qǐng)D6))。因此，能在安定的狀態(tài)下將基板托盤(pán)902從基板保持具50搬出。此處，在從導(dǎo)件54噴出氣體的情形時(shí)，藉由使該氣體壓力與上述升力彼此平衡，即能防止基板托盤(pán)902的-X側(cè)端部產(chǎn)生振動(dòng)。又，與基板托盤(pán)90的支承部91長(zhǎng)邊方向正交的剖面形狀，只要是能在將基板P從基板保持具50搬出時(shí)，將該基板托盤(pán)90確實(shí)的引導(dǎo)向X軸方向的話，并無(wú)特別限定，可適當(dāng)變化。例如可作成圖27(A)所示支撐部91a般的倒五角形狀、或圖27(B)所示支撐部91b般的倒三角形狀。此外，支承部91可由圖27(A)所示的中空構(gòu)件構(gòu)成、亦可由圖27(B)所示的中實(shí)構(gòu)件構(gòu)成。再者，具有圖27(B)所示的倒三角形剖面的支承部91b，由于其Z軸方向尺寸較小，因此系將用以安裝墊93的間隔件97安裝于+Z側(cè)的面。又，如圖27(C)所示，支承部91c可由圓形剖面的中空構(gòu)件構(gòu)成(中實(shí)構(gòu)件亦可)。此場(chǎng)合，將基板托盤(pán)90引導(dǎo)于X軸方向的導(dǎo)件54 (及基板搬出裝置70的導(dǎo)件77 (參照?qǐng)D6))系對(duì)應(yīng)于此而形成為剖面U字狀(具有圓弧狀凹面)。
又，托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的導(dǎo)件54及基板搬出裝置70的導(dǎo)件77，全都不需要構(gòu)成為能限制基板托盤(pán)90往Y軸方向的相對(duì)移動(dòng)。例如，如圖28所示，于Y軸方向以既定間隔配置的托盤(pán)導(dǎo)引裝置列中、構(gòu)成一個(gè)(例如中央)托盤(pán)導(dǎo)引裝置列的托盤(pán)導(dǎo)引裝置52以外的其他托盤(pán)導(dǎo)引裝置52c可具有導(dǎo)件54c，導(dǎo)件54c的上面作成與水平面平行的平坦面。即使是此種情形，亦可藉由具有V槽部的導(dǎo)件54(或具有圖27(C)所示的U字槽的導(dǎo)件)將基板托盤(pán)903確實(shí)的直進(jìn)弓丨導(dǎo)于X軸方向。又，亦可將托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的導(dǎo)件54及基板搬出裝置70的導(dǎo)件77僅用于基板托盤(pán)90的支承，而往Y軸方向的相對(duì)移動(dòng)的限制，則藉由例如把持部84a、84b與錐形構(gòu)件94、95、96的連接等來(lái)進(jìn)行。此外，對(duì)應(yīng)托盤(pán)導(dǎo)引裝置52c的基板托盤(pán)903的支承部91d系形成為剖面矩形狀。此場(chǎng)合，由于基板托盤(pán)903的上面與水平面平行，因此不具備抵接于基板P下面的墊構(gòu)件亦可(基板P直接裝載于支承部91d)。再者，圖28中雖顯示了基板保持具50c的托盤(pán)導(dǎo)引裝置52、52c，但基板搬出裝置70 (參照?qǐng)D2)所具有的托盤(pán)導(dǎo)引裝置亦是相同構(gòu)成。又，用以使基板P從基板托盤(pán)90分離的升降裝置65 (參照?qǐng)D2)的多個(gè)氣缸66，可構(gòu)成為能移動(dòng)于例如X軸方向、Y軸方向、0 z方向的各方向。據(jù)此，由于能控制升降裝置65上裝載的基板P的X位置、Y位置及0 z位置，因此能修正例如搬入用機(jī)械臂120將基板P交至升降裝置65上時(shí)所產(chǎn)生的基板P的位置偏移。作為驅(qū)動(dòng)多個(gè)氣缸66的構(gòu)成，例如將多個(gè)氣缸66固定在共通的基座構(gòu)件(與架臺(tái)的基座63(參照?qǐng)D2)不同的另外構(gòu)件)上，并驅(qū)動(dòng)該基座構(gòu)件的構(gòu)成可被利用。此外，升降裝置可作成如圖29所示的升降裝置165般，將一端部具有墊構(gòu)件67的多個(gè)升降銷166 (不會(huì)伸縮的棒狀構(gòu)件)的另一端部連接于共通的基座構(gòu)件168上，將該基座構(gòu)件168驅(qū)動(dòng)于X軸、Y軸、Z軸方向及0 z方向的構(gòu)成。驅(qū)動(dòng)基座構(gòu)件168的驅(qū)動(dòng)單元170具有搭載于例如具有延伸于X軸方向的X導(dǎo)件171的X基座172上以例如氣缸173沿X導(dǎo)件171于X軸方向以微少行程驅(qū)動(dòng)的X載臺(tái)174、搭載于X載臺(tái)174上以例如氣缸175沿X載臺(tái)174所具有的Y導(dǎo)件176于Y軸方向以微少行程驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器177、以及搭載于旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器177上以該旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器177微驅(qū)動(dòng)于0 z方向的Z氣缸178，基座構(gòu)件168連接于Z氣缸178的桿前端。據(jù)此，能控制被多個(gè)升降銷166從下方支承的基板P于X軸、Y軸、Z軸方向及0z方向的位置。再者，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)及圖29所示變形例中，雖系說(shuō)明了使用氣缸作為控制基板P的位置的致動(dòng)器的情形，但不限于此，亦可以例如導(dǎo)螺桿裝置、線性馬達(dá)裝置等進(jìn)行基板P的位置控制。又，上述第I實(shí)施形態(tài)雖系以包含縮放機(jī)構(gòu)的伸縮裝置85a、85b來(lái)使基板搬入裝置80的把持部84a、84b上下動(dòng)，但亦可使用如圖30(A)所示的進(jìn)行史考特-羅素(ScottRussell)近似平行運(yùn)動(dòng)的連桿裝置來(lái)使把持部84a上下動(dòng)。此外，圖30(A)及圖30(B)中僅顯示把持基板托盤(pán)90的-X側(cè)端部的第I搬送單元181a，省略了第2搬送單元181b的圖示，但第I及第2搬送單元181a、181b的構(gòu)成可相同。具體來(lái)說(shuō)，第I搬送單元181a具有以例如線性馬達(dá)相對(duì)固定子部182于X軸方向以既定行程驅(qū)動(dòng)的可動(dòng)子部183、固定于可動(dòng) 子部183的X氣缸184、沿固定于可動(dòng)子部183的X線性導(dǎo)件185以X氣缸184于X軸方向以既定行程驅(qū)動(dòng)的X滑件186、一端連接于X滑件186的一對(duì)連桿構(gòu)件187、一對(duì)連桿構(gòu)件187的另一端分別連接而與X滑件186往X軸方向的移動(dòng)連動(dòng)進(jìn)行上下動(dòng)(參照?qǐng)D30(B))的Z滑件188、連接于Z滑件188的把持部84a(與上述第I 第6實(shí)施形態(tài)的把持部84a相同構(gòu)成)、以及用以規(guī)定一對(duì)連桿構(gòu)件187中一方的動(dòng)作以使Z滑件188上下動(dòng)的輔助連桿構(gòu)件189。圖30(A)及圖30(B)所示變形例的基板搬入裝置，亦與上述第I 第6實(shí)施形態(tài)同樣的，能以Z軸方向的尺寸精巧的構(gòu)成使基板托盤(pán)90上下動(dòng)。又，如圖31 (A)及圖31⑶所示，基板托盤(pán)190的多個(gè)支承部91的+X側(cè)端部的上端部間可以連接部192加以連接。此場(chǎng)合，將被支承于基板托盤(pán)190的基板P從基板保持具50 (參照?qǐng)D2)搬出時(shí)，多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73 (參照?qǐng)D2)的導(dǎo)件77與連接部192不會(huì)彼此干涉。因此，不同于如上述第I實(shí)施形態(tài)的基板托盤(pán)90，可不在連接部192形成用以使導(dǎo)件77通過(guò)的缺口 92a(參照?qǐng)D4(C))，而提升基板托盤(pán)190的剛性。此外，圖31(B)所示的基板托盤(pán)190，其多個(gè)支承部91的與長(zhǎng)邊方向正交的剖面可形成為大致倒五角形狀，但支承部的剖面形狀，可如圖5(B)所示，為菱形、或圖27(A) 圖27(C)所例示的其他形狀(或未圖示的其他形狀)。此外，錐形構(gòu)件95、96可安裝于連接部192，亦可如圖31 (B)所示，安裝于支承部191的+X側(cè)端面。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)中，基板搬出裝置70的把持裝置71 (參照?qǐng)D2)雖系吸附保持基板托盤(pán)90的構(gòu)成，但不限于此，亦可以是例如以靜電吸附進(jìn)行保持，或如圖32(B)所示，將例如銷般的構(gòu)件機(jī)械性的卡合于基板托盤(pán)790以保持基板托盤(pán)790。此場(chǎng)合，基板托盤(pán)790，如圖32(A)所示，在將多個(gè)支承部91的+X側(cè)端部(搬出時(shí)的移動(dòng)方向前端部)彼此連接的連接部792中央部，形成貫通于Z軸方向的孔部792a (或于-Z方向開(kāi)口的凹部)。又，基板托盤(pán)790與上述第2及第6實(shí)施形態(tài)同樣的，由于多個(gè)支承部91被多個(gè)連接部299加以連接而提升了剛性。再者，連接部792，系與圖30(A)及圖30(B)所示的變形例同樣的，將多個(gè)支承部91的+X側(cè)端部上端部加以彼此連接。又，如圖32(B)所示，基板搬出裝置770具有在固定子部72上于X軸方向以既定行程移動(dòng)的可動(dòng)子部75上，插入基板托盤(pán)790的連接部792所形成的孔部792a的銷771、以及使銷771上下動(dòng)的例如氣缸等的致動(dòng)器772。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)(含上述變形例)中，基板搬入裝置雖系使支承基板托盤(pán)兩端部的把持構(gòu)件移動(dòng)于X軸方向(單軸方向)的構(gòu)成，但不限于此構(gòu)成。亦即，上述各實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置，只要基板往基板更換位置的搬送在其他基板的曝光處理等結(jié)束的前完成即可，其搬送速度并無(wú)特別要求(即使提升搬送速度亦不會(huì)對(duì)整體的處理能力的提升有多大幫助)。因此，基板搬入裝置可以是例如具備機(jī)械臂般的構(gòu)成。相對(duì)于此，基板從基板保持具的搬出，如上述第I 第6實(shí)施形態(tài)般，就處理能力提升的觀點(diǎn)而言，使基板保持具往X軸方向(單軸方向)移動(dòng)較佳。不過(guò)，只要能迅速的將基板托盤(pán)從基板保持具搬出的話，其構(gòu)成無(wú)特別限定，可以是例如在基板托盤(pán)設(shè)置可動(dòng)子(磁石單元等)，將基 板托盤(pán)直接以線性馬達(dá)加以驅(qū)動(dòng)的構(gòu)成。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)中，雖然基板P往基板載臺(tái)的搬入及基板P從基板載臺(tái)的搬出皆是在裝載于基板托盤(pán)90等的狀態(tài)下進(jìn)行，但只要能使基板P降下強(qiáng)裝載于基板保持具上、以及使基板P移動(dòng)于與水平面平行的方向而從基板保持具搬出的話，則亦可在不使用基板托盤(pán)90等的基板支承構(gòu)件的狀態(tài)下進(jìn)行。亦即，基板P的搬入例如可在使用非接觸保持裝置(例如白努利夾頭(Bernoulli chuck)等)以非接觸方保持基板P上面的狀態(tài)下進(jìn)行。此外，基板P的搬出，可與上述第I 第6實(shí)施形態(tài)同樣的在基板保持具形成延伸于X軸方向的槽部，于該槽部?jī)?nèi)直接插入基板搬送用機(jī)械臂的手部(參照?qǐng)D17)。又，基板搬入裝置80在使基板托盤(pán)90朝向基板保持具50降下時(shí)(參照?qǐng)D10 (A))，可從把持基板托盤(pán)90的搬入時(shí)移動(dòng)方向前端部的第I搬送單元81a的把持部84a先驅(qū)動(dòng)于-Z方向(使基板托盤(pán)90傾斜降下)。亦即，支承完成曝光的基板P的基板托盤(pán)90由于在基板P的搬出時(shí)往+X方向移動(dòng)，因此可先使-X側(cè)的把持部84a降下。此場(chǎng)合，由于+X側(cè)的把持部84b較-X側(cè)的把持部84a遲降下，因此基板托盤(pán)90從傾斜狀態(tài)成為水平。因此，能將基板P下面與基板保持具50上面之間的氣體一次往基板P的搬出方向(+X方向)排出，以防止在基板P下面與基板保持具50上面之間產(chǎn)生所謂的空氣滯留。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)中，在保持完成曝光處理的基板P的基板載臺(tái)20移動(dòng)至基板更換位置后，托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的氣缸53伸展而頂起基板托盤(pán)90，但亦可作成在基板載臺(tái)20的移動(dòng)中頂起托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的氣缸53。此場(chǎng)合，由于基板載臺(tái)20往基板更換位置的移動(dòng)、與使用托盤(pán)導(dǎo)引裝置52的氣缸53頂起基板托盤(pán)90的動(dòng)作可平行實(shí)施，因此能縮短基板更換時(shí)間。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)中，可在保持完成曝光處理的基板P的基板載臺(tái)20到達(dá)基板更換位置前，開(kāi)始①解除使用基板保持具50的基板P的吸附保持、②基板托盤(pán)90往 上方的移動(dòng)、③使用基板托盤(pán)90的基板P的保持及④基板P從基板保持具50的分離的任一者。亦即，與基板P在曝光動(dòng)作完成后將基板載臺(tái)20移動(dòng)至基板更換位置的動(dòng)作并行，實(shí)施上述① ④的動(dòng)作的至少一部分。如此，即可使上述① ④的用以搬出基板的動(dòng)作時(shí)間與基板載臺(tái)20從曝光位置移動(dòng)至基板更換位置的時(shí)間重迭，亦即增加平行(并行)動(dòng)作以謀求時(shí)間的短縮。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)中，在保持曝光前基板P的基板托盤(pán)90位于完成曝光處理的基板P上方充分離開(kāi)處待機(jī)的情形時(shí)，該基板托盤(pán)90的降下可在基板P從基板保持具50完全取下之前開(kāi)始?；蛘撸嗫稍诨錚從基板保持具50完全取下之前，將保持曝光前基板P的基板托盤(pán)90以不接觸的程度與基板P近接配置。此外，把持部84a、84b從保持曝光前基板P的基板托盤(pán)90的脫離，可在該基板托盤(pán)90被裝載于導(dǎo)件54的時(shí)間點(diǎn)以后的任何時(shí)間點(diǎn)開(kāi)始。又，基板載臺(tái)20從基板更換位置的分離，可在把持部84a、84b從基板托盤(pán)90的脫離開(kāi)始后、回避與把持部84a的接觸的時(shí)間點(diǎn)開(kāi)始。如此，較基板托盤(pán)90對(duì)導(dǎo)件54的裝載之后的上述動(dòng)作的至少一部分，可與為進(jìn)行次一基板P的曝光動(dòng)作的基板載臺(tái)20的移動(dòng)平行實(shí)施。亦即，可在基板P的搬入動(dòng)作中、使用以進(jìn)行基板托盤(pán)90對(duì)導(dǎo)件54的裝載之后的動(dòng)作的時(shí)間與為進(jìn)行次一基板P的曝光動(dòng)作的基板載臺(tái)20的移動(dòng)時(shí)間重迭，亦即，可藉由增加平行(并行)動(dòng)作以謀求時(shí)間的短縮。又，亦可將基板托盤(pán)90的支承部91中連接錐形構(gòu)件96的支承部91 (亦即，透過(guò)錐形構(gòu)件連接于基板搬出裝置70的把持部74的支承部91)，作成較其他支承部91在+X方向較長(zhǎng)。此場(chǎng)合，由于可在基板載臺(tái)20被配置于基板更換位置之前(亦即，往+X方向的移動(dòng)中)，為連接于把持部74而平均實(shí)施基板載臺(tái)20往基板更換位置的移動(dòng)、與使用基板搬出裝置70進(jìn)行的基板托盤(pán)90的搬出，因此能縮短基板更換時(shí)間。又，上述第3實(shí)施形態(tài)中，雖系藉由驅(qū)動(dòng)第I及第2托盤(pán)390a、390b以進(jìn)行基板P的0 z方向的位置對(duì)準(zhǔn)，但基板P的位置對(duì)準(zhǔn)不限于此方法。基板P的位置對(duì)準(zhǔn)亦可藉由下述方法進(jìn)行，亦即，例如在以基板搬入裝置80將支承有基板P的基板托盤(pán)90搬入基板保持具50的上面后，例如以固定于鏡筒平臺(tái)31的多個(gè)(例如二個(gè))光學(xué)感測(cè)器測(cè)定基板P的位置偏差量0zl，并配合該位置偏差量9 zl使基板保持具50于相同方向移動(dòng)(旋轉(zhuǎn))相同的位置偏差量e Zl，將基板P裝載于基板保持具50后，藉由使基板保持具50與位置偏差量Gzl反向移動(dòng)(旋轉(zhuǎn))據(jù)以進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)。此外，此方法可于上述第I 第6實(shí)施形態(tài)的所有形態(tài)中進(jìn)行。又，位置對(duì)準(zhǔn)不僅限于Gz方向的偏差，針對(duì)X軸及Y軸方向的偏差皆能進(jìn)行同樣的修正。但是，此場(chǎng)合需有三個(gè)光學(xué)感測(cè)器。此外，基板P的位置讀取后的基板保持具50的最初的移動(dòng)(與偏差量同方向的移動(dòng))，無(wú)需在基板P停止于基板保持具50上空的狀態(tài)下進(jìn)行，在為了將基板P裝載于基板保持具50上的下降期間進(jìn)行亦可。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)中，雖系基板搬入裝置80使基板托盤(pán)90降下后將基板P交至基板保持具50(參照?qǐng)D10(A))，但亦可使基板保持具50的導(dǎo)件54位于移動(dòng)上限 位置、并將基板托盤(pán)90交至該導(dǎo)件54。此場(chǎng)合，系將從下方支承基板托盤(pán)90的導(dǎo)件54驅(qū)動(dòng)于-Z方向，據(jù)以將基板P裝載于基板保持具50上。因此，能縮短基板搬入裝置80的把持部84a、84b于Z軸方向的移動(dòng)行程，使伸縮裝置85a、85b小型化(導(dǎo)件54于Z軸方向的移動(dòng)行程相同)。又，此種使導(dǎo)件54降下以將基板P裝載于基板保持具50上的情形時(shí)，可使多個(gè)導(dǎo)件54中、例如中央部的導(dǎo)件54先行降下，之后再使其他導(dǎo)件54降下。如此，基板P的中央部即較基板P的端部先與基板保持具50的上面接觸，防止在基板P與基板保持具50之間，產(chǎn)生所謂的空氣滯溜。再者，亦可使基板P的一端先與基板保持具50的上面接觸，之后朝著基板P的另一端側(cè)依序使該基板P接觸基板保持具50的上面，以控制多個(gè)導(dǎo)件54的位置。又，亦可將基板搬入裝置80的一對(duì)把持部84a、84b的各個(gè)作成能往0 y方向旋轉(zhuǎn)，于基板托盤(pán)的搬送中，使用該一對(duì)把持部84a、84b以抑制基板托盤(pán)90中央部因自重而
產(chǎn)生彎曲。又，從外部裝置(例如涂布顯影裝置)搬入的基板P，在裝載于升降裝置65上后，使構(gòu)成該升降裝置65的多個(gè)氣缸66收縮據(jù)以交至基板托盤(pán)90上(參照?qǐng)D12(C)、圖13 (A))，但不限于此，亦可使基板托盤(pán)90上升以將基板P裝載于該基板托盤(pán)90上(基板托盤(pán)90撈起基板P般的方式動(dòng)作)。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)中，雖系使基板P移動(dòng)于鉛直方向以進(jìn)行往基板保持具的搬入、使基板P于水平方向移動(dòng)以進(jìn)行從基板保持具的搬出，但只要基板P的搬入時(shí)及搬出時(shí)的移動(dòng)路徑互異的話，則不限于此，例如亦可使基板P于鉛直方向移動(dòng)以從基板保持具搬出、并使基板P于水平方向移動(dòng)以搬入基板保持具。亦即，亦可使被多個(gè)托盤(pán)導(dǎo)引裝置73 (參照?qǐng)D2)支承的基板托盤(pán)90移動(dòng)于-X方向，以將該基板托盤(pán)90的支承部91從側(cè)方插入基板保持具50的槽部51 (參照?qǐng)D4(A))內(nèi)。又，上述第I 第6實(shí)施形態(tài)中，雖系使二個(gè)基板托盤(pán)90分別在基板載臺(tái)20與基板更換裝置60 (分別參照?qǐng)D2)之間循環(huán)以進(jìn)行基板P的搬出搬入，但不限于此，亦可僅以一個(gè)基板托盤(pán)90進(jìn)行基板P的搬出搬入。此夕卜，亦可在基板P對(duì)基板保持具50的搬出時(shí)及搬入時(shí)，分別以導(dǎo)件54、77使基板托盤(pán)90于X軸方向滑動(dòng)。此場(chǎng)合，可準(zhǔn)備二個(gè)基板托盤(pán)90，在基板P從基板保持具50搬出后，使一基板托盤(pán)90從導(dǎo)件77退出并將支承新的基板P的另一基板托盤(pán)90裝載于導(dǎo)件77上，以將該新的基板P搬送至基板保持具50。又，基板托盤(pán)的從下方支承基板P的棒狀構(gòu)件的支承部91的端部雖系以連接部92加以連接，但不限于此，亦可不具有連接部92 (亦即，可僅以多個(gè)棒狀構(gòu)件從下方支承基板P)。
使用前述基板托盤(pán)的基板的真空吸附，不限于上述各實(shí)施形態(tài)及變形例的基板搬送裝置(基板更換裝置)，亦可適用于例如基板的裝載與卸載的移動(dòng)路徑實(shí)質(zhì)上相同的習(xí)知基板搬送裝置等、與構(gòu)成及移動(dòng)路徑無(wú)關(guān)的，適用于各種基板搬送裝置(基板更換裝置)。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，使用基板托盤(pán)的基板的真空吸附可僅于基板的裝載與卸載的一方進(jìn)行，當(dāng)然亦可不在基板的裝載與卸載的任一方進(jìn)行(亦即，使用基板托盤(pán)的基板的真空吸附并非必須)。例如，可根據(jù)基板的移動(dòng)速度(加速度)及/或基板對(duì)基板托盤(pán)的位移量或其容許值等來(lái)決定是否須要。特別是在后者的情形時(shí)，例如于裝載時(shí)系相當(dāng)于基板的預(yù)對(duì)準(zhǔn)精度、卸載時(shí)則相當(dāng)于基板對(duì)基板托盤(pán)的位移導(dǎo)致的掉落或用 以防止與其他構(gòu)件的碰撞/接觸的容許值。上述各實(shí)施形態(tài)中，用以抑制/防止在基板托盤(pán)移動(dòng)時(shí)的基板與基板托盤(pán)的相對(duì)位移(移動(dòng))的保持構(gòu)件，不限于真空吸附者，亦可取代或與的組合、或以其他方式例如多個(gè)固定部(銷)來(lái)挾持基板、或使至少一個(gè)固定部為可動(dòng)并以該可動(dòng)的固定部相對(duì)其他固定部按壓基板側(cè)面的構(gòu)成、或使用夾具等。上述各實(shí)施形態(tài)中，基板搬入裝置及/或基板搬出裝置(埠部)的至少一部，不一定須設(shè)于曝光裝置內(nèi)，亦可設(shè)置在涂布顯影裝置或與涂布顯影裝置間的界面部等。又，上述各實(shí)施形態(tài)，在搬送對(duì)象物(或曝光對(duì)象物)為外徑500mm以上的基板的其他時(shí)尤其有效。又，照明光亦可以是ArF準(zhǔn)分子雷射光(波長(zhǎng)193nm)、KrF準(zhǔn)分子雷射光(波長(zhǎng)248nm)等的紫外光、F2雷射光(波長(zhǎng)157nm)等的真空紫外光。此外，作為照明光，亦可使用例如DFB半導(dǎo)體雷射或光纖雷射發(fā)出的紅外帶、或可見(jiàn)光帶的單一波長(zhǎng)雷射光以例如摻雜有鉺(或鉺及鐿兩者)的光纖放大器加以放大，并以非線形光學(xué)結(jié)晶將其波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換成紫外光的諧波。此外，亦可使用固體雷射(波長(zhǎng)355nm、266nm)等。又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖系針對(duì)投影光學(xué)系PL為具有多支光學(xué)系的多透鏡方式的投影光學(xué)系的情形作了說(shuō)明，但投影光學(xué)系的數(shù)量不限于此，只要是一個(gè)以上即可。此夕卜，不限于多透鏡方式的投影光學(xué)系，亦可以是使用例如歐夫那(Offner)型的大型反射鏡的投影光學(xué)系等。又，上述各實(shí)施形態(tài)中作為投影光學(xué)系PL，雖系針對(duì)使用投影倍率為等倍系的情形作了說(shuō)明，但不限于此，投影光學(xué)系可以是放大系及縮小系的任一種。又，上述各實(shí)施形態(tài)，雖系針對(duì)曝光裝置為掃描步進(jìn)機(jī)的情形作了說(shuō)明，但不限于此，亦可將上述各實(shí)施形態(tài)適用于步進(jìn)機(jī)等的靜止型曝光裝置。此外，上述各實(shí)施形態(tài)亦能適用于將照射(shot)區(qū)域與照射區(qū)域加以合成的步進(jìn)接合(step & stitch)方式的投影曝光裝置。再者，上述各實(shí)施形態(tài)亦能適用于不使用投影光學(xué)系的近接方式的曝光裝置。又，曝光裝置的用途，不限于將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印至方型玻璃板的液晶用曝光裝置，亦能廣泛的適用于例如半導(dǎo)體制造用的曝光裝置、用以制造薄膜磁頭、微機(jī)器及DNA晶片等的曝光裝置。此外，不僅是制造半導(dǎo)體元件等的微元件，上述各實(shí)施形態(tài)亦能適用于為制造于光曝光裝置、EUV曝光裝置、X射線曝光裝置及電子束曝光裝置等所使用的光罩或標(biāo)線片，將電路圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板或硅晶圓等的曝光裝置。又，曝光對(duì)象的物體不限于玻璃板片，亦可以是例如晶圓、陶瓷基板、或光罩母板等其他物體。又，上述各實(shí)施形態(tài)的基板搬送系統(tǒng)，不限于曝光裝置，亦能適用于例如具備噴墨式的機(jī)能性液體賦予裝置的元件制造裝置、或針對(duì)以曝光裝置進(jìn)行曝光處理后的曝光對(duì)象物(例如基板等)進(jìn)行檢查的檢查裝置等。液晶顯示元件(或半導(dǎo)體元件)等的電子元件，系經(jīng)由進(jìn)行元件的功能性能設(shè)計(jì)的步驟、制作依據(jù)此設(shè)計(jì)步驟的光罩(或標(biāo)線片)的步驟、制作玻璃基板(或晶圓)的步驟、以上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置及其曝光方法將光罩(標(biāo)線片)的圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板的微影步驟、使用曝光后的玻璃基板顯影的顯影步驟、藉由蝕刻來(lái)除去殘留有光阻部分的以外部分的露出構(gòu)件的蝕刻步驟、去除蝕刻完成后不需的光阻的光阻除去步驟、元件組裝步驟、以及檢查步驟等后加以制造。此場(chǎng)合，由于在微影步驟系使用上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置實(shí)施前述曝光方法，以在玻璃基板上形成元件圖案，因此能以良好的生產(chǎn)性制造具有高積體度的元件。此外，援用上述說(shuō)明中所引用的關(guān)于曝光裝置等的所有公報(bào)、國(guó)際公開(kāi)公報(bào)、美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)及美國(guó)專利的揭示作為本說(shuō)明書(shū)記載的一部分。產(chǎn)業(yè)上的可利用性 如以上的說(shuō)明，本發(fā)明的基板搬送裝置、基板搬送方法及基板支承構(gòu)件適于進(jìn)行基板對(duì)基板保持裝置上的搬入及搬出。又，本發(fā)明的曝光裝置及曝光方法適于在基板形成既定圖案。此外，本發(fā)明的元件制造方法適于微元件的生產(chǎn)。
權(quán)利要求
1.ー種基板搬送裝置，具備 搬入裝置，藉由在第I路徑上搬送基板據(jù)以搬入既定基板保持裝置；以及 搬出裝置，藉由在與該第I路徑不同的第2路徑上搬送被保持于該基板保持裝置的該基板，據(jù)以從該基板保持裝置搬出。
2.如權(quán)利要求I所述的基板搬送裝置，其中，該搬入裝置使該基板從該基板保持裝置上方降下，據(jù)以搬入該基板保持裝置； 該搬出裝置系使該基板相對(duì)該基板保持裝置移動(dòng)于與水平面平行的單軸方向的ー側(cè)，據(jù)以從該基板保持裝置搬出。
3.如權(quán)利要求I或2所述的基板搬送裝置，其中，該基板在裝載于既定基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)，被該搬入裝置及該搬出裝置搬送。
4.如權(quán)利要求3所述的基板搬送裝置，其中，該搬入裝置及該搬出裝置的至少一方，包含保持該基板支承構(gòu)件的該單軸方向的一端側(cè)的第I保持構(gòu)件、與保持該基板支承構(gòu)件的另一端側(cè)的第2保持構(gòu)件； 該第I保持構(gòu)件與該第2保持構(gòu)件彼此連結(jié)，以共通的致動(dòng)器加以驅(qū)動(dòng)。
5.如權(quán)利要求3或4所述的基板搬送裝置，其中，該基板在與該基板支承構(gòu)件一起被該搬出裝置從該基板保持裝置搬出后，該基板支承構(gòu)件上即裝載另一基板； 該搬入裝置將裝載有該另一基板的該基板支承構(gòu)件搬送至該基板保持裝置。
6.如權(quán)利要求3至5中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其進(jìn)ー步具備該基板保持裝置； 該基板保持裝置包含具有與水平面平行的保持面的保持構(gòu)件，于該保持面上裝載基板。
7.如權(quán)利要求6所述的基板搬送裝置，其中，該搬入裝置將該基板支承構(gòu)件插入形成在該基板保持裝置的該保持面的槽部?jī)?nèi)，據(jù)以將該基板從該基板支承構(gòu)件上換成裝載于該基板保持裝置上。
8.如權(quán)利要求6或7所述的基板搬送裝置，其中，該基板支承構(gòu)件具有由延伸干與水平面平行的第I方向、且于該水平面內(nèi)在與該第I方向正交的第2方向以既定間隔設(shè)置的多個(gè)棒狀構(gòu)件構(gòu)成并且將該基板從下方加以支承的支承部，該支承部被收容在形成于該保持面的槽部?jī)?nèi)。
9.如權(quán)利要求8所述的基板搬送裝置，其中，該基板支承構(gòu)件進(jìn)一歩具有將該多個(gè)棒狀構(gòu)件的長(zhǎng)邊方向一端彼此加以連接的連接部。
10.如權(quán)利要求8或9所述的基板搬送裝置，其中，該搬入裝置與該基板支承構(gòu)件插入該槽部?jī)?nèi)的動(dòng)作連動(dòng)，將該基板從該基板支承構(gòu)件上交至該基板保持裝置上。
11.如權(quán)利要求10所述的基板搬送裝置，其中，該基板支承構(gòu)件在該基板裝載于該基板保持裝置的該保持面上的狀態(tài)，與該基板下面分離。
12.如權(quán)利要求8至11中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，該支承部包含支承該基板的該第2方向ー側(cè)區(qū)域的第I支承部、與支承該基板的該第2方向另ー側(cè)區(qū)域的第2支承部; 該搬入裝置及該搬出裝置的至少一方藉由控制該第I及第2支承部的該第I方向位置，據(jù)以控制該基板繞與該水平面垂直的軸的位置。
13.如權(quán)利要求8至12中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，該基板支承構(gòu)件進(jìn)一歩具有防止被支承于該支承部的該基板脫落的脫落防止構(gòu)件。
14.如權(quán)利要求13所述的基板搬送裝置，其中，該脫落防止構(gòu)件由從該棒狀構(gòu)件往上方突出的多個(gè)突起狀構(gòu)件所構(gòu)成。
15.如權(quán)利要求8至14中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，該支承部具有吸附保持該基板的吸附部。
16.如權(quán)利要求8至15中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，至少于該支承部施有抑制光反射的表面處理。
17.如權(quán)利要求8至16中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，至少于該支承部施有抑制釋氣發(fā)生的表面處理。
18.如權(quán)利要求8至17中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，該基板支承構(gòu)件在彼此相鄰的該棒狀構(gòu)件長(zhǎng)邊方向中間部，進(jìn)ー步具備架設(shè)在該棒狀構(gòu)件上端部間的補(bǔ)強(qiáng)構(gòu)件。
19.如權(quán)利要求18所述的基板搬送裝置，其中，該補(bǔ)強(qiáng)構(gòu)件被收容在形成于該基板保持裝置的該保持面的凹部?jī)?nèi)。
20.如權(quán)利要求8至19中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，該基板支承構(gòu)件進(jìn)一歩具備在與該水平面平行移動(dòng)時(shí)，使鉛直方向向下的升力作用于該支承部的空カ構(gòu)件。
21.如權(quán)利要求8至20中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，于該基板支承構(gòu)件中，從外部裝置將該基板交至該支承部上的基板轉(zhuǎn)接構(gòu)件可插入彼此相鄰的該棒狀構(gòu)件之間。
22.如權(quán)利要求8至21中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其中，該搬出裝置在該基板支承構(gòu)件的至少一部分被收容在該槽部?jī)?nèi)的狀態(tài)下，藉由使該基板支承構(gòu)件相對(duì)該基板保持裝置移動(dòng)，據(jù)以將該基板從該基板保持裝置搬出。
23.如權(quán)利要求22所述的基板搬送裝置，其中，該基板保持裝置具有從下方支承收容在該槽部?jī)?nèi)的該基板支承構(gòu)件，使該基板支承構(gòu)件往上方移動(dòng)據(jù)以使該基板離開(kāi)該保持面的升降裝置； 該搬出裝置使被該升降裝置支承的該基板支承構(gòu)件相對(duì)該基板保持裝置移動(dòng)。
24.如權(quán)利要求23所述的基板搬送裝置，其中，該升降裝置具有將該基板支承構(gòu)件引導(dǎo)至該第2路徑上的引導(dǎo)部。
25.如權(quán)利要求23或24所述的基板搬送裝置，其中，該升降裝置設(shè)于該保持構(gòu)件。
26.如權(quán)利要求23或24所述的基板搬送裝置，其中，該基板保持裝置具有配置在該保持構(gòu)件下方、將該保持構(gòu)件以既定行程引導(dǎo)于至少與該水平面平行的方向的載臺(tái)裝置； 該升降裝置設(shè)于該載臺(tái)裝置。
27.如權(quán)利要求26所述的基板搬送裝置，其中，于該保持構(gòu)件形成有貫通于鉛直方向的貫通孔； 該升降裝置的一部分插通于該貫通孔內(nèi)。
28.如權(quán)利要求6至27中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置，其具備多個(gè)該基板支承構(gòu)件； 以該搬出裝置將搬出對(duì)象的該基板與該基板支承構(gòu)件一起從該基板保持裝置搬出吋，該搬入裝置則使支承搬入對(duì)象的該基板的另ー該基板支承構(gòu)件位于該基板保持裝置的上方。
29.一種曝光裝置，具備權(quán)利要求6至28項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的基板搬送裝置；以及圖案形成裝置，使用能量束使裝載于該基板保持裝置上的該基板曝光，據(jù)以在該基板形成既定圖案。
30.一種曝光裝置,具備 基板保持裝置，其包含具有與水平面平行的保持面的保持構(gòu)件，于該保持面上裝載基板； 搬入裝置，藉由在第I路徑上搬送基板據(jù)以將基板搬入該基板保持裝置； 搬出裝置，藉由在與該第I路徑不同的第2路徑上搬送被保持于該基板保持裝置的該基板，據(jù)以從該基板保持裝置搬出；以及 曝光系，以能量束使被保持于該基板保持裝置上的該基板曝光。
31.如權(quán)利要求30所述的曝光裝置，其中，該搬入裝置系使該基板從該基板保持裝置上方降下?lián)园崛朐摶灞３盅b置； 該搬出裝置使該基板相對(duì)該基板保持裝置移動(dòng)于與水平面平行的單軸方向的ー側(cè)，據(jù)以從該基板保持裝置搬出。
32.如權(quán)利要求30或31所述的曝光裝置，其中，該基板在裝載于既定基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)被該搬入裝置及該搬出裝置搬送。
33.如權(quán)利要求32所述的曝光裝置，其中，在該基板和該基板支承構(gòu)件一起被該搬出裝置從該基板保持裝置搬出后，于該基板支承構(gòu)件上裝載另一基板； 該搬入裝置將裝載有該另一基板的該基板支承構(gòu)件搬送至該基板保持裝置。
34.如權(quán)利要求32或33所述的曝光裝置，其中，該搬入裝置藉由將該基板支承構(gòu)件插入形成在該基板保持裝置的該保持面的槽部?jī)?nèi)，據(jù)以將該基板從該基板支承構(gòu)件上裝載至該基板保持裝置上。
35.如權(quán)利要求29至34中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該基板系用于平板顯示器裝置。
36.如權(quán)利要求29至35中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該基板的至少ー邊的長(zhǎng)度為500mm以上。
37.一種元件制造方法，其包含 使用權(quán)利要求29至36中任一項(xiàng)所述的曝光裝置使該基板曝光的動(dòng)作；以及 使曝光后的該基板顯影的動(dòng)作。
38.ー種基板搬送方法,其包含 藉由在第I路徑上搬送基板據(jù)以將其搬入既定基板保持裝置的動(dòng)作；以及藉由在與該第I路徑不同的第2路徑上搬送該基板，據(jù)以將該基板從該基板保持裝置搬出的動(dòng)作。
39.如權(quán)利要求38所述的基板搬送方法，其中，該搬入動(dòng)作藉由向下搬送該基板據(jù)以搬入至該基板保持裝置上； 該搬出動(dòng)作使該基板移動(dòng)于與水平面平行的單軸方向據(jù)以從該基板保持裝置搬出。
40.如權(quán)利要求39所述的基板搬送方法，其進(jìn)ー步包含將基板裝載于既定基板支承構(gòu)件上的動(dòng)作； 該搬入動(dòng)作藉由將該基板支承構(gòu)件插入形成于該基板保持裝置的基板保持面的槽部，據(jù)以將該基板從該基板支承構(gòu)件裝載至該基板保持裝置上。
41.如權(quán)利要求40所述的基板搬送方法，其中，該搬出動(dòng)作在該基板支承構(gòu)件的至少一部分被收容在該槽部?jī)?nèi)的狀態(tài)下，移動(dòng)該基板支承構(gòu)件以將該基板從該基板保持裝置搬出。
42.如權(quán)利要求40或41所述的基板搬送方法，其包含在將該基板與該基板支承構(gòu)件ー起從該基板保持裝置搬出后，于該基板支承構(gòu)件上裝載另一基板的動(dòng)作； 該搬入動(dòng)作將裝載有該另一基板的該基板支承構(gòu)件搬送至該基板保持裝置。
43.如權(quán)利要求40至42中任一項(xiàng)所述的基板搬送方法，其中，使用多個(gè)該基板支承構(gòu)件同時(shí)進(jìn)行該搬出動(dòng)作及該搬入動(dòng)作的一部分。
44.如權(quán)利要求43所述的基板搬送方法，其中，將用以支承搬出對(duì)象的該基板的該基板支承構(gòu)件從該基板保持裝置搬出時(shí)，使用以支承搬入對(duì)象的該基板的另ー該基板支承構(gòu)件在該基板保持裝置的上方待機(jī)。
45.—種基板支承構(gòu)件,其包含 支承部，延伸干與水平面平行的第I方向、且由在該水平面內(nèi)與該第I方向正交的第2方向以既定間隔設(shè)置的多支棒狀構(gòu)件構(gòu)成，從下方支承基板；以及 卡合部，連接于該支承部、可與既定搬送裝置卡合； 此基板支承構(gòu)件被該搬送裝置與該基板一起被搬送至具有與該水平面平行的基板裝載面的基板保持裝置，該支承部的至少一部分被收容在形成于該基板裝載面的槽部?jī)?nèi)且相對(duì)該基板保持裝置移動(dòng)于該第I方向的ー側(cè)，據(jù)以和該基板一起從該槽部?jī)?nèi)脫離。
46.如權(quán)利要求45所述的基板支承構(gòu)件，其進(jìn)ー步具備將該多支棒狀構(gòu)件于該第I方向的該ー側(cè)端部加以連接的連接部。
47.如權(quán)利要求45或46所述的基板支承構(gòu)件，其中，與該基板保持裝置插入該槽部?jī)?nèi)的動(dòng)作連動(dòng)，將該基板交付至該基板保持裝置。
48.如權(quán)利要求45至47中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其系在插入該基板保持裝置的槽部?jī)?nèi)的狀態(tài)下，與該基板下面分離。
49.如權(quán)利要求45至48中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其進(jìn)ー步具備防止被支承于該支承部的該基板脫落的脫落防止部。
50.如權(quán)利要求49項(xiàng)的基板支承構(gòu)件，其中，該脫落防止部從該棒狀構(gòu)件往上方突出的多個(gè)突起狀構(gòu)件。
51.如權(quán)利要求45至50中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其中，該支承部具有吸附保持該基板的吸附部。
52.如權(quán)利要求45至51中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其中，至少于該支承部施有抑制光反射的表面處理。
53.如權(quán)利要求45至52中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其中，至少于該支承部施有抑制釋氣發(fā)生的表面處理。
54.如權(quán)利要求45至53中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其進(jìn)ー步具備于彼此相鄰的該棒狀構(gòu)件長(zhǎng)邊方向的中間部分，架設(shè)在該棒狀構(gòu)件上端部間的補(bǔ)強(qiáng)構(gòu)件。
55.如權(quán)利要求54所述的基板支承構(gòu)件，其中，該補(bǔ)強(qiáng)構(gòu)件收容在形成于該基板保持裝置的該基板裝載面部的凹部?jī)?nèi)。
56.如權(quán)利要求45至55中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其進(jìn)ー步具備在與該水平面平行移動(dòng)時(shí)使鉛直方向向下的升力作用于該支承部的空カ構(gòu)件。
57.如權(quán)利要求45至56中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其中，從外部裝置將該基板交付至該支承部上的基板交付構(gòu)件可插入彼此相鄰的該棒狀構(gòu)件間。
58.如權(quán)利要求45至57中任一項(xiàng)所述的基板支承構(gòu)件，其在被收容于該基板保持裝置的該槽部?jī)?nèi)的狀態(tài)下與該基板一起被搬送至既定曝光位置，于該曝光位置進(jìn)行該基板的曝光動(dòng)作。
59.ー種基板保持裝置，其包含具有與水平面平行的保持面、于該保持面上裝載基板的保持構(gòu)件； 于該保持構(gòu)件形成有多個(gè)槽部，此多個(gè)槽部能收容從下方支承該基板的基板支承構(gòu)件的一部分，藉由該基板支承構(gòu)件往與該水平面平行的第I方向ー側(cè)的相對(duì)移動(dòng)而容許該基板支承構(gòu)件的該一部分的脫離。
60.如權(quán)利要求59所述的基板保持裝置，其中，該基板支承構(gòu)件具有延伸于該第I方向且在該水平面內(nèi)與該第I方向正交的第2方向以既定間隔設(shè)置的多支棒狀構(gòu)件，使用該多支棒狀構(gòu)件從下方支承該基板，該多支棒狀構(gòu)件能收容于該多個(gè)槽部。
61.如權(quán)利要求60所述的基板保持裝置，其中，所述槽部個(gè)別的深度設(shè)定為在該基板被裝載于該保持面上的狀態(tài)下，該基板與該多支棒狀構(gòu)件為分離。
62.如權(quán)利要求60或61所述的基板保持裝置，其中，該保持構(gòu)件具有引導(dǎo)構(gòu)件，此引導(dǎo)構(gòu)件在該基板支承構(gòu)件相對(duì)移動(dòng)于該第I方向的一側(cè)時(shí)將該多支棒狀構(gòu)件引導(dǎo)于該第I方向。
63.如權(quán)利要求62所述的基板保持裝置，其中，該引導(dǎo)構(gòu)件在該棒狀構(gòu)件被收容在該槽部?jī)?nèi)的狀態(tài)下，從下方支承該棒狀構(gòu)件。
64.如權(quán)利要求63所述的基板保持裝置，其中，該引導(dǎo)構(gòu)件系隔著微小間隙使該棒狀構(gòu)件浮起。
65.如權(quán)利要求63或64所述的基板保持裝置，其中，該引導(dǎo)構(gòu)件吸附保持該棒狀構(gòu)件。
66.如權(quán)利要求62至65中任一項(xiàng)所述的基板保持裝置，其進(jìn)ー步具備使該引導(dǎo)構(gòu)件于鉛直方向以既定行程上下動(dòng)的升降裝置； 藉由使該引導(dǎo)構(gòu)件上升，據(jù)以使該基板從該保持面分離。
67.如權(quán)利要求66所述的基板保持裝置，其進(jìn)ー步具備配置在該保持構(gòu)件下方，將該保持構(gòu)件以既定行程引導(dǎo)于至少與該水平面平行的方向的載臺(tái)裝置； 升降裝置設(shè)于該載臺(tái)裝置。
68.如權(quán)利要求67所述的基板保持裝置，其中，于該保持構(gòu)件形成有貫通于鉛直方向方向的貫通孔； 該升降裝置的一部分插通于該貫通孔內(nèi)。
69.—種曝光裝置,具備 權(quán)利要求59至68項(xiàng)中任ー項(xiàng)的基板保持裝置；以及 圖案形成裝置，使用能量束使裝載于該基板保持裝置上的該基板曝光，據(jù)以在該基板形成既定圖案。
70.—種曝光裝置,具備 基板保持裝置，包含具有與水平面平行的保持面、于該保持面上裝載基板的保持構(gòu)件，于該保持構(gòu)件形成有多個(gè)槽部；以及曝光系，以能量束使該基板保持裝置上所保持的該基板曝光； 該槽部能收容從下方支承該基板的基板支承構(gòu)件的一部分，藉由該基板支承構(gòu)件往與該水平面平行的第I方向ー側(cè)的相對(duì)移動(dòng)而容許該基板支承構(gòu)件的該一部分的脫離。
71.如權(quán)利要求第70所述的曝光裝置，其中，該基板支承構(gòu)件具有延伸于該第I方向且在該水平面內(nèi)與該第I方向正交的第2方向以既定間隔設(shè)置的多支棒狀構(gòu)件，使用該多支棒狀構(gòu)件從下方支承該基板，該多支棒狀構(gòu)件能收容于該多個(gè)槽部。
72.如權(quán)利要求70或71所述的曝光裝置，其中，該基板系用于平板顯示器裝置。
73.如權(quán)利要求70至72中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該基板的至少ー邊的長(zhǎng)度為500mm以上。
74.—種元件制造方法，其包含 使用權(quán)利要求69至73中任一項(xiàng)所述的曝光裝置使該基板曝光的動(dòng)作；以及 使曝光后的該基板顯影的動(dòng)作。
75.—種曝光方法，以能量束使保持于基板保持裝置上的基板曝光，其包含 將基板以裝載于基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)加以搬送，據(jù)以搬入該基板保持裝置的動(dòng)作；以及 將保持于該基板保持裝置的該基板在裝載于基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)加以搬送，據(jù)以從該基板保持裝置搬出的動(dòng)作； 在該基板往該基板保持裝置的搬入及該基板從該基板保持裝置的搬出的至少一方中，抑制或防止該基板的位置相對(duì)用于該基板搬送的該基板支承構(gòu)件的位移。
76.如權(quán)利要求75所述的曝光方法，其中，該基板位置相對(duì)于該基板支承構(gòu)件的位移的抑制或防止，以該基板支承構(gòu)件將該基板加以真空吸附來(lái)進(jìn)行。
77.如權(quán)利要求75或76所述的曝光方法，其中，該基板位置相對(duì)于該基板支承構(gòu)件的位移的抑制或防止，以多個(gè)固定部將該基板從其側(cè)面?zhèn)燃右詩(shī)A持來(lái)進(jìn)行。
78.如權(quán)利要求77所述的曝光方法，其中，該多個(gè)固定部的至少I(mǎi)個(gè)為可動(dòng)，藉由使用該 可動(dòng)固定部將該基板從其側(cè)面?zhèn)葔航佑谄渌潭ú?，?lái)以多個(gè)所述固定部將該基板從其側(cè)面?zhèn)燃右詩(shī)A持。
79.—種元件制造方法，包含 使用權(quán)利要求75至78中任一項(xiàng)所述的曝光方法使該基板曝光的動(dòng)作；以及 使曝光后的該基板顯影的動(dòng)作。
80.—種曝光裝置,具備 基板保持裝置，用以裝載基板； 搬入裝置，將基板以裝載于基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)加以搬送，據(jù)以搬入該基板保持裝置； 搬出裝置，將保持于該基板保持裝置的該基板在裝載于基板支承構(gòu)件上的狀態(tài)加以搬送，據(jù)以從該基板保持裝置搬出；以及 曝光系，以能量束使保持在該基板保持裝置上的該基板曝光； 在該基板往該基板保持裝置的搬入及該基板從該基板保持裝置的搬出的至少一方中，抑制或防止該基板的位置相對(duì)用于該基板搬送的該基板支承構(gòu)件的位移。
81.如權(quán)利要求80所述的曝光裝置，其中，該基板位置相對(duì)該基板支承構(gòu)件的位移的抑制或防止，以該基板支承構(gòu)件真空吸附該基板據(jù)以進(jìn)行。
82.如權(quán)利要求80或81所述的曝光裝置，其中，該基板位置相對(duì)該基板支承構(gòu)件的位移的抑制或防止，以多個(gè)固定部將該基板從其側(cè)面?zhèn)燃右詩(shī)A持來(lái)進(jìn)行。
83.如權(quán)利要求82所述的曝光裝置，其中，該多個(gè)固定部的至少I(mǎi)個(gè)為可動(dòng)。
84.—種元件制造方法，包含 使用權(quán)利要求80至83中任一項(xiàng)的曝光裝置使該基板曝光的動(dòng)作；以及 使曝光后的該基板顯影的動(dòng)作。
全文摘要
本發(fā)明基板搬出裝置(70)藉由使基板載臺(tái)(20)上裝載的已完成曝光的基板(P)在裝載于被收容在基板保持具(50)內(nèi)的基板托盤(pán)(90)上的狀態(tài)下，移動(dòng)于與水平面平行的單軸方向(X軸方向)據(jù)以從基板保持具(50)搬出。相對(duì)于此，基板搬入裝置(80)則系在將待搬入基板載臺(tái)(20)的未曝光基板(P)裝載于另一基板托盤(pán)(90)上的狀態(tài)下使其在基板更換位置待機(jī)，待完成曝光的基板(P)從基板載臺(tái)(20)搬出后，使該另一基板托盤(pán)(90)降下?lián)詫⑽雌毓獾幕?P)裝載于基板保持具(50)上。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102696099SQ20108005376
公開(kāi)日2012年9月26日 申請(qǐng)日期2010年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月27日
發(fā)明者關(guān)忠, 柳川卓也, 青木保夫 申請(qǐng)人:株式會(huì)社 尼康