專(zhuān)利名稱(chēng)：承載裝置及具有該承載裝置的曝光機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種承載裝置及具有該承載裝置的曝光機(jī)，特別是涉及一種承載盤(pán)可更換地組裝在基座上或由基座上拆卸的承載裝置及具有該承載裝置的曝光機(jī)。
背景技術(shù)：
如圖1及圖2所示，一般曝光機(jī)1包含一機(jī)臺(tái)11，一設(shè)置于機(jī)臺(tái)11上的承載裝置 12、一鎖固于機(jī)臺(tái)11上且位于承載裝置12上方的承載座13，及一設(shè)置于機(jī)臺(tái)11上且位于承載座13上方的曝光頭14，承載座13用以承載一光罩15。承載裝置12包括一馬達(dá)121、 一連接于馬達(dá)121頂端的螺接件122、一螺接于螺接件122上的螺桿123，及一接合于螺桿 123頂端用以承載一待曝光工件16的承載盤(pán)124。在進(jìn)行曝光作業(yè)時(shí)，待曝光工件16會(huì)通過(guò)移載裝置(圖未示)的輸送而被置放在承載盤(pán)IM上，承載裝置12會(huì)將承載盤(pán)IM往上推移，使得承載盤(pán)IM上的待曝光工件16 與承載座13上的光罩15貼平，接著，借由曝光頭14所產(chǎn)生的光線(xiàn)通過(guò)光罩15對(duì)待曝光工件16曝光，使得光罩15上的預(yù)設(shè)圖案能轉(zhuǎn)印到待曝光工件16上。為了穩(wěn)固地承載待曝光工件16，承載盤(pán)124的尺寸大都會(huì)設(shè)計(jì)與待曝光工件16的尺寸相當(dāng)，若要進(jìn)行其它不同尺寸的待曝光工件16的曝光作業(yè)時(shí)，必須將原本的承載裝置12拆卸后，更換上另一個(gè)具有與該待曝光工件16尺寸相當(dāng)?shù)某休d盤(pán)124的承載裝置12，才可進(jìn)行不同尺寸的待曝光工件16的曝光。然而，安裝后的承載裝置12與光罩15及曝光頭14間會(huì)產(chǎn)生誤差，需重新進(jìn)行對(duì)位校正的動(dòng)作，故在曝光作業(yè)時(shí)較為不便，且會(huì)耗費(fèi)大量的工時(shí)，因此，如何構(gòu)思出一種便于拆裝且可更換不同尺寸大小的承載盤(pán)124的設(shè)計(jì)，遂成為本發(fā)明要進(jìn)一步改進(jìn)的主題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的，在于提供一種承載裝置，其承載盤(pán)能方便且迅速地組裝在基座上或由基座上拆卸，借此，當(dāng)待曝光工件尺寸改變時(shí)，便能替換具有對(duì)應(yīng)待曝光工件尺寸的承載盤(pán)。本發(fā)明的另一目的，在于提供一種具有承載裝置的曝光機(jī)，承載裝置的承載盤(pán)能方便且迅速地組裝在基座上或由基座上拆卸，借此，當(dāng)待曝光工件尺寸改變時(shí)，便能替換具有對(duì)應(yīng)待曝光工件尺寸的承載盤(pán)。本發(fā)明的目的及解決背景技術(shù)問(wèn)題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的，依據(jù)本發(fā)明提出的承載裝置，適于承載一待曝光工件，承載裝置包含一基座及一可更換的承載盤(pán)?；ㄒ豁斆?，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于頂面的第一定位件；可更換的承載盤(pán)包括一可承載待曝光工件并與其尺寸相當(dāng)?shù)某休d面、一可抵接于頂面的底面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于底面且可拆卸地與所述第一定位件相接合的第二定位件，借此，當(dāng)待曝光工件尺寸改變時(shí)，便能替換具有對(duì)應(yīng)待曝光工件尺寸的承載面的可更換的承載盤(pán)。本發(fā)明的目的及解決背景技術(shù)問(wèn)題還可以采用以下技術(shù)手段進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
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各第一定位件為定位柱或定位孔其中之一，各第二定位件為定位柱或定位孔其中另一?；€包括一由頂面向下凹陷的凹槽，及一一端與凹槽相連通的第一通孔，承載裝置還包含一安裝于第一通孔另一端的第一氣嘴，第一氣嘴可對(duì)第一通孔及凹槽抽氣，使承載盤(pán)被吸附于基座的頂面?；€包括一一端形成于頂面的第二通孔，承載盤(pán)還包括一貫穿承載面與底面且與第二通孔連通的氣體流道，承載裝置還包含一安裝于第二通孔另一端的第二氣嘴，第二氣嘴可對(duì)第二通孔及氣體流道抽氣，使待曝光工件被吸附于承載盤(pán)的承載面。承載盤(pán)還包括一形成于承載面上的第一溝槽，及多數(shù)個(gè)形成于承載面上且與第一溝槽相連通的第二溝槽，第一溝槽呈十字形且中心處與氣體流道相連通，所述第二溝槽呈同心圓狀地排列且分別具有不同的直徑?；€包括一位于該頂面下方的容置空間，及多數(shù)個(gè)形成于該頂面并與該容置空間連通的第一穿孔，該承載盤(pán)還包括多數(shù)個(gè)貫穿該承載面與該底面且與所述第一穿孔連通的第二穿孔，該承載裝置還包含一穿伸于該容置空間內(nèi)的頂推件，該頂推件包括多數(shù)根分別穿設(shè)于所述第一、第二穿孔用以頂?shù)执毓夤ぜ捻斸?，頂推件可在一各頂針穿出承載面的第一高度位置，及一各頂針位于承載面下方的第二高度位置間往復(fù)運(yùn)動(dòng)。承載裝置還包含一設(shè)置于基座上并可驅(qū)動(dòng)頂推件在第一高度位置與第二高度位置間往復(fù)運(yùn)動(dòng)的汽缸。依據(jù)本發(fā)明提出的具有承載裝置的曝光機(jī)，包括一機(jī)臺(tái)、一承載件、一曝光頭及一承載裝置。承載件設(shè)置于機(jī)臺(tái)上用以承載一光罩；曝光頭設(shè)置于機(jī)臺(tái)上且位于承載件上方； 承載裝置適于承載一待曝光工件，承載裝置包含一基座、一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，及一可更換的承載盤(pán)。基座設(shè)置于承載件下方并包括一頂面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于頂面的第一定位件；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)安裝于基座底端并可驅(qū)使基座上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)；可更換的承載盤(pán)包括一可承載待曝光工件并與其尺寸相當(dāng)?shù)某休d面、一可抵接于頂面的底面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于底面且可拆卸地與所述第一定位件相接合的第二定位件，借此，當(dāng)待曝光工件尺寸改變時(shí)，便能替換具有對(duì)應(yīng)該待曝光工件尺寸的承載面的可更換的承載盤(pán)。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明承載裝置的優(yōu)點(diǎn)及有益效果在于通過(guò)可更換的承載盤(pán)設(shè)計(jì)，使得操作人員能方便且迅速地將承載盤(pán)組裝在基座上或由基座上拆卸，借此，便能替換具有對(duì)應(yīng)待曝光工件尺寸的承載面的可更換的承載盤(pán)。


圖1是一般曝光機(jī)的示意圖；圖2是類(lèi)似圖1的示意圖，說(shuō)明伸縮裝置將待曝光工件往上推移使其平貼光罩；圖3是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的立體圖；圖4是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的承載裝置的立體分解圖；圖5是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的承載盤(pán)的仰視圖；圖6是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的局部放大圖，說(shuō)明承載盤(pán)組裝于基座的第二座體上，且第一定位件為定位柱，第二定位件為定位孔；圖7是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的另一實(shí)施態(tài)樣的局部放大圖，說(shuō)明第一定位件為定位孔，第二定位件為定位柱；圖8是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的剖視圖；圖9是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的剖視圖，說(shuō)明頂推件位在
第一高度位置；圖10是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的剖視圖，說(shuō)明頂推件位
在第二高度位置；圖11是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的作動(dòng)示意圖，說(shuō)明基座、 承載盤(pán)及待曝光工件在一初始位置；圖12是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的作動(dòng)示意圖，說(shuō)明待曝光工件抵壓在光罩底面；圖13是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例的操作示意圖，說(shuō)明承載裝置能替換具有對(duì)應(yīng)待曝光工件尺寸的承載面的承載盤(pán)。圖中2.曝光機(jī)；21.機(jī)臺(tái)；22.承載件；23.曝光頭；31.光罩；32.工件；32，·工件；4.基座；400.承載裝置；41.第一座體；410.弧形凹槽；42.第二座體；420.弧形接合部；421.頂面；422.凹槽；423.槽壁；424.第一定位件；425.第一通孔；426.第一槽部； 427.第二槽部；428.第二通孔；429.容置空間；430.第一穿孔；431.側(cè)向開(kāi)口 ；5.承載盤(pán)； 5’.承載盤(pán)；51.承載面；51’.承載面；52.底面；53.第二定位件；54.氣體流道；55.第一溝槽；56.第二溝槽；57.第二穿孔；6.驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；61.驅(qū)動(dòng)馬達(dá)；62.活動(dòng)架；71.第一氣嘴； 72.第二氣嘴；8.頂推件；81.頂針；9.汽缸。
具體實(shí)施例方式有關(guān)本發(fā)明的前述及其它技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)與功效，在以下配合參考圖式的一個(gè)較佳實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明中，將可清楚的呈現(xiàn)。通過(guò)具體實(shí)施方式
的說(shuō)明，當(dāng)可對(duì)本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定目的所采取的技術(shù)手段及功效得到一更加深入且具體的了解，然而所附圖式只是提供參考與說(shuō)明作用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。在本發(fā)明被詳細(xì)描述前，要注意的是，在以下的說(shuō)明內(nèi)容中，類(lèi)似的組件以相同的
編號(hào)來(lái)表不。如圖3所示，是本發(fā)明具有承載裝置的曝光機(jī)的一較佳實(shí)施例，該曝光機(jī)2包含一機(jī)臺(tái)21、一設(shè)置于機(jī)臺(tái)21上的承載件22、一設(shè)置于機(jī)臺(tái)21上且位于承載件22上方的曝光頭23，及一設(shè)置于機(jī)臺(tái)21上且位于承載件22下方的承載裝置400。承載件22用以承載一光罩31，而承載裝置400頂端用以承載一待曝光工件32，承載裝置400可將待曝光工件32 往上推移并貼平于光罩31底面，借此，曝光頭23所產(chǎn)生的光線(xiàn)能通過(guò)光罩31對(duì)待曝光工件32曝光，使得光罩31上的預(yù)設(shè)圖案能轉(zhuǎn)印到待曝光工件32上，其中，待曝光工件32可為一基板或一晶圓，在本實(shí)施例中以晶圓為例作說(shuō)明。如圖3及圖4所示，承載裝置400包含一基座4、一可更換地設(shè)置于基座4上的承載盤(pán)5，及一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)6。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)6安裝于機(jī)臺(tái)21上，其包括一驅(qū)動(dòng)馬達(dá)61，及一可受驅(qū)動(dòng)馬達(dá)61帶動(dòng)而上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)的活動(dòng)架62。基座4包括一第一座體41，及一設(shè)置于第一座體41上并供承載盤(pán)5組裝的第二座體42，基座4的第一座體41可通過(guò)螺鎖方式鎖固于活動(dòng)架62頂端，借此，使得基座4及承載盤(pán)5可受活動(dòng)架62的帶動(dòng)而上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
6
如圖4、圖5及圖6所示，第二座體42呈圓柱形，其底面凸設(shè)有一弧形接合部420， 第二座體42的弧形接合部420可轉(zhuǎn)動(dòng)地容置于第一座體41頂端的弧形凹槽410內(nèi)，借此， 承載盤(pán)5可通過(guò)第二座體42相對(duì)于第一座體41轉(zhuǎn)動(dòng)，以進(jìn)行角度微調(diào)的動(dòng)作。第二座體 42包括一頂面421，及一由頂面421向下凹陷的凹槽422，第二座體42界定凹槽422的一槽壁423上凸設(shè)有多數(shù)個(gè)第一定位件424。承載盤(pán)5呈圓盤(pán)狀，并包括一可承載待曝光工件 32并與其尺寸相當(dāng)?shù)某休d面51、一位于承載面51相反側(cè)且可抵接于頂面421的底面52， 及多數(shù)個(gè)設(shè)置于底面52的第二定位件53，第二定位件53的數(shù)量與第一定位件424數(shù)量相同且位置相對(duì)應(yīng)，各第二定位件53可拆卸地與各第一定位件424相接合，借此，使得承載盤(pán) 5可更換地組裝定位在基座4的第二座體42上。在本實(shí)施例中，各第一定位件424為一定位柱，而各第二定位件53為一可供該定位柱穿設(shè)的定位孔。當(dāng)然，在設(shè)計(jì)上，如圖7所示， 各第一定位件424也可為一定位孔，而各第二定位件53也可為一穿設(shè)于該定位孔內(nèi)的定位柱?；?的第二座體42還包括一第一通孔425，第一通孔425的一端形成在槽壁423 上并與凹槽422相連通，而第一通孔425另一端用以供承載裝置400的一第一氣嘴71安裝， 第一氣嘴71可與一氣壓裝置(圖未示)相連接，通過(guò)氣壓裝置的作動(dòng)，使得第一氣嘴71可對(duì)第一通孔425及凹槽422抽氣。當(dāng)承載盤(pán)5定位在第二座體42的頂面421時(shí)，通過(guò)第一氣嘴71對(duì)第一通孔425及凹槽422抽氣，使得承載盤(pán)5被向下的吸力吸附于第二座體42的頂面421，借此，承載盤(pán)5能穩(wěn)固地定位在第二座體42的頂面421，且不會(huì)因誤觸被往上抬而造成第二定位件53與第一定位件424分離。較佳地，在本實(shí)施例中，凹槽422具有一呈弧形的第一槽部426，及一位于第一槽部426內(nèi)圍并與其相連通呈十字形的第二槽部427， 通過(guò)凹槽422的第一、第二槽部426、427的設(shè)計(jì)，承載盤(pán)5的底面52靠近周緣處及中間部位均能被穩(wěn)固地吸附，使得承載盤(pán)5的底面52能均勻且平整地抵接在第二座體42的頂面 421，能避免因吸力不均而造成承載盤(pán)5產(chǎn)生歪斜的現(xiàn)象。如圖4、圖6及圖8所示，承載盤(pán)5還包括一貫穿承載面51與底面52的氣體流道 54，基座4的第二座體42還包括一第二通孔428，第二通孔428的一端形成于頂面421并與氣體流道54相連通，而第二通孔428的另一端用以供承載裝置400的一第二氣嘴72安裝， 第二氣嘴72同樣與該氣壓裝置相連接，通過(guò)氣壓裝置的作動(dòng)，使得第二氣嘴72可對(duì)第二通孔428及氣體流道54抽氣。當(dāng)待曝光工件32置放在承載盤(pán)5的承載面51時(shí)，通過(guò)第二氣嘴72對(duì)第二通孔428及氣體流道54抽氣，使得待曝光工件32被向下的吸力吸附于承載盤(pán) 5的承載面51，借此，待曝光工件32能定位在承載盤(pán)5的承載面51。較佳地，承載盤(pán)5還包括一形成于承載面51上的第一溝槽55，及多數(shù)個(gè)形成于承載面51上的第二溝槽56，第一溝槽55呈十字形且中心處與氣體流道54相連通，而所述第二溝槽56呈同心圓狀地排列且分別具有不同的直徑，所述第二溝槽56分別與第一溝槽55相連通，借此，第二氣嘴72能通過(guò)第二通孔428及氣體流道54對(duì)第一、第二溝槽55、56抽氣，使得待曝光工件32能被穩(wěn)固地吸附，同時(shí)能均勻且平整地抵接在承載面51上。如圖4、圖8及圖9所示，基座4的第二座體42還包括一位于頂面421下方的容置空間429，及多數(shù)個(gè)形成于頂面421并與容置空間429相連通的第一穿孔430，而承載盤(pán)5還包括多數(shù)個(gè)貫穿承載面51與底面52的第二穿孔57，第二穿孔57的數(shù)量與第一穿孔430的數(shù)量相同且位置相對(duì)應(yīng)，各第二穿孔57與各第一穿孔430相連通。承載裝置400還包含一頂推件8，及一設(shè)置于第一座體41上并可驅(qū)動(dòng)頂推件8作動(dòng)的汽缸9，頂推件8經(jīng)由一側(cè)向開(kāi)口 431穿伸于容置空間429內(nèi)，頂推件8包括多數(shù)根用以頂?shù)执毓夤ぜ?2的頂針81， 各頂針81穿設(shè)于各第一穿孔430及各第二穿孔57并可頂推待曝光工件32，借由汽缸9的驅(qū)動(dòng)，使得頂推件8可在一頂針81穿出第二穿孔57及承載面51的第一高度位置(如圖9 所示)，及一頂針81位于承載面51下方的第二高度位置(如圖10所示)間往復(fù)運(yùn)動(dòng)。如圖6及圖8所示，欲組裝承載盤(pán)5于基座4的第二座體42上時(shí)，先將承載盤(pán)5 置放于第二座體42的頂面421，并使各第一定位件424穿設(shè)于各第二定位件53內(nèi)，使得承載盤(pán)5定位在第二座體42上且不會(huì)相對(duì)于第二座體42晃動(dòng)。接著，通過(guò)操控第一氣嘴71 對(duì)第一通孔425及凹槽422抽氣，使得承載盤(pán)5能被吸附并使底面52均勻且平整地抵接在第二座體42的頂面421，此時(shí)，即完成承載盤(pán)5的組裝。如圖4、圖8、圖9及圖10所示，曝光機(jī)2在進(jìn)行曝光作業(yè)時(shí)，頂推件8位于第一高度位置，移載裝置(圖未示)會(huì)將待曝光工件32輸送至頂針81的正上方，接著，移載裝置會(huì)帶動(dòng)待曝光工件32下降，當(dāng)待曝光工件32被頂針81頂?shù)謺r(shí)，待曝光工件32即不再繼續(xù)下移。之后，通過(guò)汽缸9驅(qū)動(dòng)頂推件8由第一高度位置沿箭頭I方向下移，當(dāng)頂推件8下移到如圖10所示的第二高度位置時(shí)，待曝光工件32因承載面51的阻擋而置放在承載面51 上，通過(guò)操控氣壓裝置使第二氣嘴72對(duì)第二通孔428、氣體流道54及第一、第二溝槽55、56 抽氣，使得待曝光工件32能被穩(wěn)固地吸附在承載面51上。 如圖11及圖12所示，接著，通過(guò)操控驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)6的驅(qū)動(dòng)馬達(dá)61作動(dòng)，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)6 的活動(dòng)架62會(huì)帶動(dòng)基座4、承載盤(pán)5及待曝光工件32由一初始位置(如圖11所示)沿箭頭II方向向上移動(dòng)。待承載面51上的待曝光工件32抵壓在光罩31底面時(shí)，通過(guò)第二座體42的弧形接合部420可轉(zhuǎn)動(dòng)地容置于第一座體41的弧形凹槽410的設(shè)計(jì)，使得承載盤(pán) 5能通過(guò)第二座體42進(jìn)行角度微調(diào)的動(dòng)作，借此，使得待曝光工件32能平整地貼覆在光罩 31底面。另外，通過(guò)一感測(cè)組件(圖未示)感測(cè)待曝光工件32抵壓在光罩31上的壓力到達(dá)一默認(rèn)值時(shí)，感測(cè)組件會(huì)驅(qū)使驅(qū)動(dòng)馬達(dá)61停止作動(dòng)，使得待曝光工件32不會(huì)被繼續(xù)向上推移，此時(shí)，即可借由曝光頭23(如圖3)及光罩31對(duì)待曝光工件32曝光。待曝光作業(yè)完成后，驅(qū)動(dòng)馬達(dá)61會(huì)驅(qū)動(dòng)活動(dòng)架62帶動(dòng)基座4、承載盤(pán)5及工件32沿箭頭I方向向下移動(dòng)至圖11所示的初始位置，使工件32與光罩31分離。通過(guò)第二氣嘴72停止對(duì)第二通孔428、氣體流道54及第一、第二溝槽55、56抽氣， 可解除工件32被吸附在承載面51上的狀態(tài)。之后，借由汽缸9驅(qū)動(dòng)頂推件8由圖10所示的第二高度位置沿箭頭Π方向上移到圖9所示的第一高度位置，頂推件8的頂針81能將工件頂離承載面51，使得移載機(jī)構(gòu)能將曝光好的工件32移離頂針81，以便頂針81能繼續(xù)承接下一個(gè)待曝光工件。如圖3、圖4、圖6及圖13所示，承載裝置400通過(guò)可更換的承載盤(pán)5的設(shè)計(jì)，使得操作人員欲進(jìn)行不同尺寸的待曝光工件32’(如圖13)的曝光時(shí)，借由操控第一氣嘴71使其停止對(duì)第一通孔425及凹槽422抽氣，接著，將承載盤(pán)5往上抬使第二定位件53與第一定位件424分離后，即可方便且迅速地將承載盤(pán)5拆離基座4的第二座體42，此時(shí)，便能替換具有對(duì)應(yīng)待曝光工件32’尺寸的承載面51’的可更換的承載盤(pán)5’。由于承載裝置400借由基座4及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)6組裝于機(jī)臺(tái)21時(shí)，已與光罩31及曝光頭23間完成對(duì)位校正的動(dòng)作， 因此，通過(guò)前述的組裝步驟將承載盤(pán)5’迅速地組裝在基座4的第二座體42后，即可進(jìn)行曝
8光作業(yè)，不需再進(jìn)行對(duì)位及校正的動(dòng)作，能有效減少操作的工時(shí)。 歸納上述，本發(fā)明的曝光機(jī)2，借由可更換的承載盤(pán)5的設(shè)計(jì)，使得操作人員能方便且迅速地將承載盤(pán)5組裝在基座4的第二座體42上或由第二座體42上拆卸，借此，便能替換具有對(duì)應(yīng)待曝光工件32’尺寸的承載面51’的可更換的承載盤(pán)5’，確實(shí)能達(dá)到本發(fā)明的目的。
權(quán)利要求
1.一種承載裝置，適于承載一待曝光工件；其特征在于該承載裝置包含一基座，及一可更換的承載盤(pán)，該基座包括一頂面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于該頂面的第一定位件，該可更換的承載盤(pán)包括一可承載該待曝光工件并與其尺寸相當(dāng)?shù)某休d面、一可抵接于該頂面的底面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于該底面且可拆卸地與所述第一定位件相接合的第二定位件，借此，當(dāng)該待曝光工件尺寸改變時(shí)，便能替換具有對(duì)應(yīng)該待曝光工件尺寸的承載面的該可更換的承載盤(pán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置，其特征在于各該第一定位件為定位柱或定位孔其中之一，各該第二定位件為定位柱或定位孔其中另一。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置，其特征在于所述基座還包括一由該頂面向下凹陷的凹槽，及一一端與該凹槽相連通的第一通孔，該承載裝置還包含一安裝于該第一通孔另一端的第一氣嘴，該第一氣嘴可對(duì)該第一通孔及該凹槽抽氣，使該承載盤(pán)被吸附于該基座的頂面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置，其特征在于所述基座還包括一一端形成于該頂面的第二通孔，該承載盤(pán)還包括一貫穿該承載面與該底面且與該第二通孔連通的氣體流道，該承載裝置還包含一安裝于該第二通孔另一端的第二氣嘴，該第二氣嘴可對(duì)該第二通孔及該氣體流道抽氣，使待曝光工件被吸附于該承載盤(pán)的承載面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的承載裝置，其特征在于所述承載盤(pán)還包括一形成于該承載面上的第一溝槽，及多數(shù)個(gè)形成于該承載面上且與該第一溝槽相連通的第二溝槽，該第一溝槽呈十字形且中心處與該氣體流道相連通，所述第二溝槽呈同心圓狀地排列且分別具有不同的直徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的承載裝置，其特征在于所述基座還包括一一端形成于該頂面的第二通孔，所述承載盤(pán)還包括一貫穿該承載面與該底面且與該第二通孔連通的氣體流道，該承載裝置還包含一安裝于該第二通孔另一端的第二氣嘴，該第二氣嘴可對(duì)該第二通孔及該氣體流道抽氣，使該待曝光工件被吸附于該承載盤(pán)的承載面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的承載裝置，其特征在于所述承載盤(pán)還包括一形成于該承載面上的第一溝槽，及多數(shù)個(gè)形成于該承載面上且與該第一溝槽相連通的第二溝槽，該第一溝槽呈十字形且中心處與該氣體流道相連通，所述第二溝槽呈同心圓狀地排列且分別具有不同的直徑。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的承載裝置，其特征在于所述基座還包括一位于該頂面下方的容置空間，及多數(shù)個(gè)形成于該頂面并與該容置空間連通的第一穿孔，所述承載盤(pán)還包括多數(shù)個(gè)貫穿該承載面與該底面且與所述第一穿孔連通的第二穿孔，該承載裝置還包含一穿伸于該容置空間內(nèi)的頂推件，該頂推件包括多數(shù)根分別穿設(shè)于所述第一、第二穿孔用以頂?shù)衷摯毓夤ぜ捻斸槪擁斖萍稍谝桓黜斸槾┏鲈摮休d面的第一高度位置，及一各頂針位于該承載面下方的第二高度位置間往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的承載裝置，其特征在于還包含一設(shè)置于該基座上并可驅(qū)動(dòng)該頂推件在該第一高度位置與該第二高度位置間往復(fù)運(yùn)動(dòng)的汽缸。
10.一種具有承載裝置的曝光機(jī)，包括一機(jī)臺(tái)、一設(shè)置于該機(jī)臺(tái)上用以承載一光罩的承載件、一設(shè)置于該機(jī)臺(tái)上且位于該承載件上方的曝光頭，及一適于承載一待曝光工件的承載裝置；其特征在于該承載裝置包含一基座、一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，及一可更換的承載盤(pán)，該基座設(shè)置于該承載件下方并包括一頂面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于該頂面的第一定位件，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)安裝于該基座底端并可驅(qū)使該基座上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)，該可更換的承載盤(pán)包括一可承載該待曝光工件并與其尺寸相當(dāng)?shù)某休d面、一可抵接于該頂面的底面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于該底面且可拆卸地與所述第一定位件相接合的第二定位件，借此，當(dāng)該待曝光工件尺寸改變時(shí)，便能替換具有對(duì)應(yīng)該待曝光工件尺寸的承載面的該可更換的承載盤(pán)。
全文摘要
一種承載裝置，適于承載一待曝光工件，承載裝置包含一基座及一可更換的承載盤(pán)，基座包括一頂面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于頂面的第一定位件，可更換的承載盤(pán)包括一可承載待曝光工件并與其尺寸相當(dāng)?shù)某休d面、一可抵接于頂面的底面，及多數(shù)個(gè)設(shè)置于底面且可拆卸地與所述第一定位件相接合的第二定位件，借此，當(dāng)待曝光工件尺寸改變時(shí)，便能替換具有對(duì)應(yīng)待曝光工件尺寸的承載面的可更換的承載盤(pán)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102213920SQ20101013714
公開(kāi)日2011年10月12日 申請(qǐng)日期2010年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月1日
發(fā)明者鄧志明, 魏榮廷 申請(qǐng)人:億力鑫系統(tǒng)科技股份有限公司