專利名稱：涂漿裝置及涂漿方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在平面面板制造過程中用于在基板上涂漿或滴下液晶的涂漿裝置及 涂漿方法。
背景技術(shù)：
作為以往的涂漿裝置的基板保持機(jī)構(gòu)，提出有這樣的構(gòu)成的基板保持機(jī)構(gòu)，該基 板保持機(jī)構(gòu)在該裝置的支承臺(tái)上設(shè)有X軸臺(tái)，在該X軸臺(tái)上設(shè)有能夠在X軸方向移動(dòng)的Y 軸臺(tái)，在該Y軸臺(tái)上設(shè)有能夠在Y軸方向移動(dòng)且能夠轉(zhuǎn)動(dòng)(即在θ軸方向移動(dòng))的θ軸 臺(tái)，另外，在該θ軸臺(tái)上設(shè)有吸附固定基板的吸附臺(tái)(例如參照專利文獻(xiàn)1)。在記載于該專利文獻(xiàn)1的技術(shù)中，吸附在吸附臺(tái)的基板由Χ、Υ軸臺(tái)、Θ軸臺(tái)調(diào)整位 置、姿勢(shì)，使該基板的各邊與X、Y軸平行且相對(duì)于排出漿料的涂敷頭部的噴嘴成為規(guī)定的 位置關(guān)系，將漿料等排出到基板上的規(guī)定的位置，這些X、Y軸臺(tái)、θ軸臺(tái)由伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)， 該伺服馬達(dá)由控制裝置控制。另外，還提出有這樣的結(jié)構(gòu)的涂漿裝置，該涂漿裝置設(shè)有涂敷頭部，具有門形架 (門形構(gòu)架)，相對(duì)于基板使門形架移動(dòng)，還在門形架上使涂敷頭部移動(dòng)，從而使該涂敷頭 部相對(duì)于基板移動(dòng)(例如參照專利文獻(xiàn)2)。該專利文獻(xiàn)2記載的技術(shù)，更具體地說，在裝置的支承臺(tái)上設(shè)置能夠在X軸方向移 動(dòng)的2臺(tái)門形架，在這些各個(gè)門形架設(shè)置了能夠在這些門形架的橫梁上沿Y軸方向移動(dòng)的 涂敷頭部，這些門形架在X軸方向被驅(qū)動(dòng)，涂敷頭部在Y軸方向受到驅(qū)動(dòng)，從而能夠使涂敷 頭部的噴嘴移動(dòng)到基板上的任意位置。在這里，門形架自身由線性馬達(dá)在支承臺(tái)上沿X軸 方向受到驅(qū)動(dòng)，涂敷頭部也由線性馬達(dá)沿門形架移動(dòng)?；灞晃奖３衷谠O(shè)于支承臺(tái)上的 θ軸臺(tái)上，通過該θ軸臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)，對(duì)基板的朝向進(jìn)行調(diào)整。該θ軸臺(tái)由通常對(duì)金屬塊加工而 獲得的部件構(gòu)成，設(shè)有對(duì)基板進(jìn)行吸附的裝置。[專利文獻(xiàn)1]日本特開平7-275770號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)2]日本專利第3701882號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
在LCD (液晶顯示裝置)等平面面板的領(lǐng)域中，用于形成該面板的玻璃基板的尺寸 的大型化急速發(fā)展，隨之，用于制作該平面面板的涂漿裝置也大型化，上述那樣的對(duì)金屬塊 加工而制造的結(jié)構(gòu)的、作為搭載玻璃基板的基板保持機(jī)構(gòu)的臺(tái)的尺寸過大，質(zhì)量增大，為了 對(duì)其進(jìn)行驅(qū)動(dòng)而需要很多時(shí)間，而且支承該臺(tái)的裝置的支承臺(tái)也大型化、重量化。本發(fā)明的目的在于消除該問題，提供一種能夠相對(duì)于基板的大型化實(shí)現(xiàn)基板保持 機(jī)構(gòu)的輕量化、能夠?qū)崿F(xiàn)包含支承臺(tái)的裝置整體的輕量化的涂漿裝置及涂漿方法。本發(fā)明的另一目的在于提供一種即使在工作時(shí)也能夠在實(shí)施防塵對(duì)策的同時(shí)不 降低涂敷精度、減小設(shè)置空間的涂漿裝置及涂漿方法。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的涂漿裝置在支承臺(tái)上設(shè)置門形架，該門形架能夠移動(dòng)地設(shè)置了 1個(gè)或多個(gè)涂敷頭，該涂敷頭具有充填了漿料的漿料收容筒和從漿料收容筒排 出漿料的噴嘴排出口，在設(shè)置于支承臺(tái)上的基板載置臺(tái)上搭載基板，門形架相對(duì)于該基板 移動(dòng)，從噴嘴排出口將漿料排出在基板上；其中基板載置臺(tái)是設(shè)置了多個(gè)吸附孔的多個(gè) 第1構(gòu)件和多個(gè)第2構(gòu)件正交地組合而構(gòu)成井形架形的結(jié)構(gòu)的臺(tái)，具有XY θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)， 該XY θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)用于使基板載置臺(tái)移動(dòng)及旋轉(zhuǎn)，對(duì)載置在基板載置臺(tái)上的基板的位置、 姿勢(shì)進(jìn)行調(diào)整。本發(fā)明的涂漿裝置在支承臺(tái)上設(shè)置門形架，該門形架能夠移動(dòng)地設(shè)置了 1個(gè)或多 個(gè)涂敷頭，該涂敷頭具有充填了漿料的漿料收容筒和從漿料收容筒排出漿料的噴嘴排出 口，在設(shè)置于支承臺(tái)上的基板載置臺(tái)上搭載基板，門形架相對(duì)于該基板移動(dòng)，從噴嘴排出口 將漿料排出在基板上；其中在基板載置臺(tái)的中心設(shè)置用于θ軸方向的旋轉(zhuǎn)方向的定位 的、由交叉滾子軸承構(gòu)成的θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)，基板載置臺(tái)是多個(gè)第1構(gòu)件和多個(gè)第2構(gòu)件正 交地組合而構(gòu)成井形架形的結(jié)構(gòu)的臺(tái)，在第1、第2構(gòu)件正交的位置設(shè)置XY θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)， 該XY θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)由用于基板載置臺(tái)的Χ、Υ軸方向的定位的正交軸承和用于θ方向的旋 轉(zhuǎn)方向定位的交叉滾子軸承構(gòu)成。在本發(fā)明的涂漿裝置中，能夠在基板載置臺(tái)的外側(cè)將門形架和設(shè)置于支承臺(tái)側(cè) 的、對(duì)使門形架移動(dòng)的機(jī)構(gòu)進(jìn)行支承的部分分離。在本發(fā)明的涂漿裝置中，具有使載置了基板的基板載置臺(tái)移動(dòng)到能夠由設(shè)于門形 架的1個(gè)或多個(gè)涂敷頭涂敷漿料的范圍的外側(cè)的裝置。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的涂漿方法在支承臺(tái)上設(shè)置門形架，該門形架能夠移 動(dòng)地設(shè)置了 1個(gè)或多個(gè)涂敷頭，該涂敷頭具有充填了漿料的漿料收容筒和從漿料收容筒排 出漿料的噴嘴排出口，在設(shè)置于支承臺(tái)上的基板載置臺(tái)上搭載基板，門形架相對(duì)于該基板 移動(dòng)，從噴嘴排出口將漿料排出在基板上；其中基板載置臺(tái)是多個(gè)第1構(gòu)件和多個(gè)第2構(gòu) 件正交地組合而構(gòu)成井形架形的結(jié)構(gòu)的臺(tái)，在基板載置臺(tái)的中心部設(shè)置用于θ軸方向的 旋轉(zhuǎn)方向的定位的、由交叉滾子軸承構(gòu)成的θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)，同時(shí)，在基板載置臺(tái)的中心部 以外的位置具有由正交軸承和交叉滾子軸承構(gòu)成的XY θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)，由設(shè)于第1、第2構(gòu)件 正交的位置的正交軸承將基板載置臺(tái)在Χ、Υ軸方向定位，由設(shè)于第1、第2構(gòu)件正交的位置 的交叉滾子軸承在θ軸方向的旋轉(zhuǎn)方向?qū)遢d置臺(tái)進(jìn)行定位。另外，在本發(fā)明的涂漿方法中，能夠?qū)㈤T形架和設(shè)置于支承臺(tái)側(cè)的、對(duì)使門形架移 動(dòng)的機(jī)構(gòu)進(jìn)行支承的部分分離。另外，在本發(fā)明的涂漿方法中，能夠使載置了基板的基板載置臺(tái)移動(dòng)到能夠由設(shè) 于門形架的涂敷頭涂敷漿料的范圍的外側(cè)。按照本發(fā)明，即使處理的基板大型化，也能夠使搭載基板的臺(tái)輕量化，設(shè)置了該臺(tái) 的支承臺(tái)也能夠輕量化，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置整體的輕量化。另外，隨著該臺(tái)的輕量化，該臺(tái)的驅(qū)動(dòng)力也減小，能夠提高用于基板的對(duì)位的該臺(tái) 的移動(dòng)速度，縮短基板的處理時(shí)間，能夠提高處理效率。另外，隨著上述臺(tái)、支承臺(tái)等的輕量化，能夠在短時(shí)間進(jìn)行裝置的組裝、調(diào)整作業(yè)， 作業(yè)效率提高。另外，上述臺(tái)的驅(qū)動(dòng)部的控制部件、馬達(dá)主體、傳遞機(jī)構(gòu)等可為小的容量，所以，可 實(shí)現(xiàn)它們的緊湊化、經(jīng)濟(jì)性的提高。
另外，在上述臺(tái)、其驅(qū)動(dòng)部等出現(xiàn)較多空洞部，所以，維修、組裝等作業(yè)容易進(jìn)行， 能夠?qū)崿F(xiàn)作業(yè)的效率化。


圖1為表示本發(fā)明的涂漿裝置及方法的第1實(shí)施方式的立體圖。圖2為表示圖1的涂敷頭部的一具體例的立體圖。圖3為表示圖1所示第1實(shí)施方式的主控制系統(tǒng)的一具體例的框圖。圖4為表示圖1所示第1實(shí)施方式的副控制系統(tǒng)的一具體例的框圖。圖5為表示圖1所示第1實(shí)施方式的整體動(dòng)作的一具體例的流程圖。圖6(a)為表示從支承臺(tái)拆下了圖1所示涂漿裝置的門形架的狀態(tài)的一具體例的 立體圖。圖6(b)為表示從支承臺(tái)拆下了圖1所示涂漿裝置的門形架的狀態(tài)的另一具體例 的立體圖。圖7為放大地表示圖1的基板保持機(jī)構(gòu)的一具體例的一部分的立體圖。圖8為表示圖7的吸附板的一具體例的圖。圖9為圖8所示吸附板的沿剖切線A-A的橫剖視圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明為具有門形構(gòu)架(門形架)的橫梁的構(gòu)成，該門形構(gòu)架具有涂敷頭的Y軸 方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該涂敷頭的Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)具有噴嘴的1個(gè)或多個(gè)涂敷頭部進(jìn)行直動(dòng) 導(dǎo)向。玻璃基板逐年增大，隨之，搭載該玻璃基板的X、Y、θ軸的各臺(tái)也大型化，它們的 重量也日趨增加。該臺(tái)的大型化還與作為其驅(qū)動(dòng)源的馬達(dá)的大型化、滾珠絲杠、導(dǎo)向件這樣 的軸承、動(dòng)力傳遞機(jī)構(gòu)的大型化相關(guān)聯(lián)，從而導(dǎo)致相關(guān)的多個(gè)機(jī)構(gòu)部件的大型化。另外，不 止于馬達(dá)驅(qū)動(dòng)器的大容量化、配線規(guī)模的增大化這樣的機(jī)構(gòu)系統(tǒng)的大規(guī)?；€導(dǎo)致包括 控制系統(tǒng)在內(nèi)的基板驅(qū)動(dòng)部的大規(guī)?；Ａ硗?，如基板驅(qū)動(dòng)部大規(guī)?；瑒t還存在重量增大化這樣的問題。在從制造地將裝 置向安裝地等進(jìn)行陸地運(yùn)輸?shù)膱?chǎng)合，利用貨車，存在其裝載重量不能限制在限度內(nèi)的問題， 另外，即使在限度內(nèi)，也還存在需要更大型的貨車的問題。另外，隨著裝置的重量增大，需要 加強(qiáng)裝置的設(shè)置場(chǎng)所的地面狀態(tài)，在加強(qiáng)潔凈室內(nèi)的地面剛性的場(chǎng)合，特別是存在導(dǎo)致成 本增大的問題。因此，在本發(fā)明中，平行排列的在內(nèi)部具有空間的多個(gè)空心構(gòu)件由與其正交的多 個(gè)連接構(gòu)件連接，從而將載置基板的臺(tái)整體上形成為井形架結(jié)構(gòu)的臺(tái)。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)基板 驅(qū)動(dòng)部的輕量化。下面，根據(jù)

本發(fā)明的實(shí)施方式。圖1為在大體X軸方向觀看本發(fā)明的涂漿裝置及方法的一實(shí)施方式的立體圖，符 號(hào)1為支承臺(tái)，符號(hào)la、lb為支承臺(tái)側(cè)面，符號(hào)2a、2b為門形架(門形構(gòu)架)，符號(hào)3a、3b為 橫梁，符號(hào)4a、4b為橫梁側(cè)支承構(gòu)件，符號(hào)5a、5b為支承臺(tái)側(cè)支承構(gòu)件，符號(hào)6a、6b為X軸 方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)，符號(hào)7為磁鐵板，符號(hào)8為基板保持機(jī)構(gòu)，符號(hào)9為涂敷頭設(shè)置面，符號(hào)10為涂敷頭部，符號(hào)11為包含線性軌的Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)，符號(hào)12為Z軸伺服馬達(dá)，符號(hào)13 為Z軸移動(dòng)臺(tái)支承托架，符號(hào)14為Z軸移動(dòng)臺(tái)，符號(hào)15為玻璃基板。在圖1中，為了避免該附圖變得煩雜，僅在圖上出現(xiàn)的部分標(biāo)注符號(hào)，此外的部分 省略符號(hào)。另外，該第1實(shí)施方式涉及在基板面上描繪漿料圖案(密封材料圖案)的涂漿 裝置及方法，當(dāng)然也能夠適用于使液晶滴下到基板上的滴下裝置。在圖1中，在支承臺(tái)1上設(shè)有基板保持機(jī)構(gòu)8，輸送來(lái)的玻璃基板15(以下簡(jiǎn)稱為 基板15)搭載于該基板保持機(jī)構(gòu)8。該基板保持機(jī)構(gòu)8能夠使搭載的基板15在X、Y軸方 向移動(dòng)或轉(zhuǎn)動(dòng)(Θ軸方向的移動(dòng))，這樣，基板15的位置、姿勢(shì)受到微調(diào)。在支承臺(tái)1上的該基板保持機(jī)構(gòu)8的兩側(cè)的下側(cè)，沿支承臺(tái)1的兩側(cè)的邊部設(shè)置 X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a、6b，支承臺(tái)1的該兩側(cè)的邊部沿著X軸方向。這些X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu) 6a、6b分別在這里例如形成線性馬達(dá)，其磁鐵板7設(shè)置在X軸方向。在這些X軸方向移動(dòng) 機(jī)構(gòu)6a、6b上載置了 2個(gè)門形架2a、2b，它們由這些X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a、6b能夠在X軸 方向移動(dòng)。相對(duì)于使用的最大寬度的基板15，為了盡可能地減小支承臺(tái)1的Y軸方向的寬 度(以下稱橫向?qū)挾?以盡可能地小型化，使分別設(shè)置在該橫向?qū)挾确较虻南嘞虻倪叺拇?鐵板7接近支承臺(tái)1的X軸方向的側(cè)面(即左右側(cè)面)la、lb地設(shè)置。在這里，說明圖上的前面?zhèn)鹊拈T形架2b。該門形架2b由在與X軸方向垂直的Y軸 方向長(zhǎng)的橫梁3b和設(shè)于該橫梁3b的兩端部、支承該橫梁2b的支腳狀的2個(gè)橫梁側(cè)支承構(gòu) 件4a、4b構(gòu)成，這些橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b分別安裝在能夠移動(dòng)地設(shè)于X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu) 6a、6b的支承臺(tái)側(cè)支承構(gòu)件(滑動(dòng)件)5a、5b。門形架2b的橫梁3b比支承臺(tái)1的Y軸方向的寬度長(zhǎng)，因此，橫梁3b的兩端部從支 承臺(tái)1的平行于X軸的兩側(cè)的側(cè)面即支承臺(tái)側(cè)面la、lb突出，因此，設(shè)于該橫梁3b的兩端 部的下面的橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b也分別從支承臺(tái)1的該兩側(cè)的支承臺(tái)側(cè)面la、lb突出。 這樣，門形架2b形成為橫梁3b由橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b和支承臺(tái)側(cè)支承構(gòu)件5a、5b將基 板保持機(jī)構(gòu)8抱入那樣的形狀。另一方的門形架2a也夠成為與門形架2b的以上構(gòu)成同樣的構(gòu)成。在門形架2a、2b的橫梁3a、3b的相互面對(duì)的涂敷頭設(shè)置面9分別設(shè)置1個(gè)或多個(gè) 涂敷頭部10。在圖1中，相向側(cè)的門形架2a的涂敷頭設(shè)置面9朝正面?zhèn)鹊乇硎荆?，以?關(guān)于門形架2a說明其涂敷頭設(shè)置面9。在門形架2a的涂敷頭設(shè)置面9沿其面的長(zhǎng)度方向(即Y軸方向)并排地設(shè)置Y軸 方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11的線性軌，在該線性軌安裝有1個(gè)或多個(gè)涂敷頭部10(在這里，僅對(duì)1個(gè) 涂敷頭部10標(biāo)注符號(hào))。在這些涂敷頭部10分別設(shè)有與線性軌一起構(gòu)成的Y軸方向移動(dòng) 機(jī)構(gòu)11的線性馬達(dá)，該線性馬達(dá)使這些涂敷頭部10沿線性軌在Y軸方向移動(dòng)。在各個(gè)的涂敷頭部10的支承臺(tái)，在其背面?zhèn)?涂敷頭設(shè)置面9側(cè))如上述那樣設(shè) 置Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11的線性馬達(dá)，在其表面?zhèn)仍O(shè)置了具有ζ軸伺服馬達(dá)12的Z軸移動(dòng) 臺(tái)支承托架13，設(shè)有由該Z軸伺服馬達(dá)12使涂敷頭部10上下移動(dòng)的Z軸移動(dòng)臺(tái)14。在該 Z軸移動(dòng)臺(tái)14，如后述那樣，安裝有設(shè)置了漿料收容筒(注射器)、噴嘴的噴嘴支承件、測(cè)距 儀、具有照明光源的鏡筒和圖像識(shí)別攝像機(jī)等。以上的構(gòu)成對(duì)前面?zhèn)鹊拈T形架2b的涂敷頭設(shè)置面也同樣。另外，按照該構(gòu)成，由Y 軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11沿Y軸方向在載置于基板保持機(jī)構(gòu)8的基板15上驅(qū)動(dòng)各涂敷頭部10，另外，由X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a、6b沿X軸方向驅(qū)動(dòng)門形架2a、2b，這樣，各涂敷頭部10同樣 在X軸方向受到驅(qū)動(dòng)，在該基板15上同時(shí)描繪多個(gè)同一形狀的漿料圖案。圖2為放大地表示圖1的涂敫頭部10的一具體例的要部的立體圖，符號(hào)16為噴 嘴支承件，符號(hào)17為漿料收容筒，符號(hào)18為噴嘴，符號(hào)19為測(cè)距儀。在該圖中，將設(shè)置了漿料收容筒17、噴嘴18的噴嘴支承件16及測(cè)距儀19設(shè)在Z 軸移動(dòng)臺(tái)14(圖1)。測(cè)距儀19按非接觸式的三角測(cè)距法測(cè)量從噴嘴18的前端部到搭載于基板保持機(jī) 構(gòu)8(圖1)的基板15的表面(上面)的距離。即，在測(cè)距儀19的箱體內(nèi)設(shè)置發(fā)光元件，從 該發(fā)光元件放射的激光在基板15上的測(cè)量點(diǎn)S反射，由同樣設(shè)置在箱體內(nèi)的受光元件受 光，相應(yīng)于該受光位置進(jìn)行測(cè)量。另外，由于在噴嘴18的前端部的正下方存在來(lái)自排出口 的涂料，因此，在避開該剛剛排出的涂料的位置測(cè)量直到基板表面的距離，需要正確地把握 基板的起伏。因此，在基板15上的激光的測(cè)量點(diǎn)S和噴嘴18的正下位置，在基板15上偏 移微小的距離ΔΧ及△ Y，但該微小距離程度的偏移處在基板15的表面凹凸差為能夠忽視 的范圍，所以，在測(cè)距儀19的測(cè)量結(jié)果與從噴嘴18的前端部到基板15的表面(上面)的 距離間基本上不存在差。因此，根據(jù)該測(cè)距儀19的測(cè)量結(jié)果控制Z軸移動(dòng)臺(tái)14，從而能夠 相應(yīng)于基板15的表面凹凸(起伏)將從噴嘴18的前端部到基板15的表面(上面)的距 離(間隔)維持一定。這樣，將從噴嘴18的前端部到基板15的表面(上面)的距離(間隔)維持一定， 而且，將從噴嘴18排出的單位時(shí)間的漿料量維持一定，從而使涂敷描繪在基板15上的漿料
圖案的寬度、厚度變得一樣。雖然未在圖中表示，但實(shí)際上具有能夠照明的光源的鏡筒和圖像識(shí)別攝像機(jī)除了 用于各噴嘴18的平行調(diào)整、間隔調(diào)整外，還為了基板15的對(duì)位、漿料圖案的形狀識(shí)別等，與 基板相向地設(shè)置。返回到圖1，在該實(shí)施方式中，具有控制以上的各部的控制部。即，在支承臺(tái)1的內(nèi) 部，設(shè)置對(duì)驅(qū)動(dòng)各機(jī)構(gòu)的線性馬達(dá)和使臺(tái)移動(dòng)的馬達(dá)進(jìn)行控制的主控制部。在該主控制部， 通過電纜連接副控制部。副控制部對(duì)驅(qū)動(dòng)Z軸移動(dòng)臺(tái)14的Z軸伺服馬達(dá)12進(jìn)行控制。圖3為表示該主控制部的構(gòu)成和其控制的一具體例的框圖，符號(hào)20a為主控制部， 符號(hào)20aa為微機(jī)，符號(hào)20ab為馬達(dá)控制器，符號(hào)20ac為圖像識(shí)別裝置，符號(hào)20ad為外部 接口，符號(hào)20ae為數(shù)據(jù)通信總線，符號(hào)20b為副控制部，符號(hào)21為USB (通用串行總線)存 儲(chǔ)器，符號(hào)22為硬盤，符號(hào)23為監(jiān)視器，符號(hào)24為鍵盤，符號(hào)25為調(diào)節(jié)器，符號(hào)26為閥單 元，符號(hào)27a為門形架移動(dòng)用Y軸線性馬達(dá)用驅(qū)動(dòng)器，符號(hào)27b為涂敷頭部移動(dòng)用X軸線性 馬達(dá)用驅(qū)動(dòng)器，符號(hào)27c為臺(tái)旋轉(zhuǎn)用θ軸馬達(dá)用驅(qū)動(dòng)器，符號(hào)28為通信電纜。在該圖中，主控制部20a內(nèi)裝微機(jī)20aa、馬達(dá)控制器20ab、圖像處理裝置20ac、及 外部接口 20ad，該馬達(dá)控制器20ab控制對(duì)Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11(圖1)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的涂敷頭 部移動(dòng)用Y軸線性馬達(dá)用驅(qū)動(dòng)器(以下簡(jiǎn)稱為Y軸驅(qū)動(dòng)器)27a、對(duì)X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a、 6b(圖1)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的門形架移動(dòng)用X軸線性馬達(dá)用驅(qū)動(dòng)器(以下簡(jiǎn)稱為X軸驅(qū)動(dòng)器)27b、 在θ軸方向?qū)Υ钶d了基板15的基板保持機(jī)構(gòu)8(圖1)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的臺(tái)旋轉(zhuǎn)用θ軸馬達(dá)用 驅(qū)動(dòng)器(以下簡(jiǎn)稱為θ軸驅(qū)動(dòng)器)27c，該圖像處理裝置20ac對(duì)由圖中未表示的圖像識(shí)別 攝像機(jī)獲得的圖像信號(hào)進(jìn)行處理，該外部接口 20ad與副控制部20b、控制涂敷頭部10 (圖1)的漿料涂敷動(dòng)作的調(diào)節(jié)器25、閥單元26進(jìn)行通信，這些微機(jī)20aa、馬達(dá)控制器20ab、圖 像處理裝置20ac、外部接口 20ad通過數(shù)據(jù)通信總線20ae相互連接。在這里，副控制部20b 通過通信電纜28連接在該外部接口 20ad。另外，在主控制部20a連接USB存儲(chǔ)器21、作為外部存儲(chǔ)裝置的硬盤22、監(jiān)視器 23、鍵盤24等。從鍵盤24輸入的數(shù)據(jù)等由監(jiān)視器23顯示，同時(shí)，存儲(chǔ)保管在硬盤22、USB 存儲(chǔ)器21等存儲(chǔ)介質(zhì)。在微機(jī)20aa中，雖然未在圖中表示，但實(shí)際上具有主運(yùn)算部，存儲(chǔ)用于進(jìn)行后述 的涂敷描繪的處理程序的ROM，存儲(chǔ)在主運(yùn)算部的處理結(jié)果、來(lái)自外部接口 20ad、馬達(dá)控制 器20ab的輸入數(shù)據(jù)的RAM，與外部接口 20ad、馬達(dá)控制器20ab進(jìn)行數(shù)據(jù)交換的輸入輸出部寸。這些由Y軸驅(qū)動(dòng)器27a驅(qū)動(dòng)的作為各涂敷頭部10的Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11的線性 馬達(dá)、由X軸驅(qū)動(dòng)器27b驅(qū)動(dòng)的作為門形架2a、2b(圖1)的X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a、6b的線 性馬達(dá)設(shè)有用于檢測(cè)各涂敷頭部10、門形架2a、2b的位置的直尺，將其檢測(cè)結(jié)果分別供給 到Y(jié)軸驅(qū)動(dòng)器27a、X軸驅(qū)動(dòng)器27b，進(jìn)行涂敷頭部10的Y軸方向、X軸方向的位置控制。另 外，同樣，由θ軸驅(qū)動(dòng)器27c驅(qū)動(dòng)的基板保持機(jī)構(gòu)8(圖1)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)內(nèi)裝檢測(cè)該基 板15的旋轉(zhuǎn)量的編碼器，將其結(jié)果供給到θ軸驅(qū)動(dòng)器27c，進(jìn)行基板15的朝向的控制。圖4為表示圖3的副控制部20b的一具體例的框圖，符號(hào)20ba為微機(jī)，符號(hào)20bb 為馬達(dá)控制器，符號(hào)20bc為外部接口，符號(hào)20bd為數(shù)據(jù)通信總線，符號(hào)29為Z軸馬達(dá)用驅(qū) 動(dòng)器，在與上述附圖對(duì)應(yīng)的部分標(biāo)注相同符號(hào)，省略重復(fù)的說明。在該圖中，副控制部20b內(nèi)裝微機(jī)20ba、馬達(dá)控制器20bb、進(jìn)行由測(cè)距儀19 (圖2) 獲得的高度數(shù)據(jù)的輸入、與主控制部20a的信號(hào)傳送的外部接口 20bc，它們通過數(shù)據(jù)通信 總線20bd相互連接。另外，在微機(jī)20ba，雖然未在圖中表示，但實(shí)際上具有主運(yùn)算部，存儲(chǔ) 用于進(jìn)行涂敷描繪時(shí)噴嘴18(圖2)離開基板15的表面的高度控制的處理程序的ROM，存儲(chǔ) 主運(yùn)算部的處理結(jié)果、來(lái)自外部接口 20bc及馬達(dá)控制器20bb的輸入數(shù)據(jù)的RAM，與外部接 口 20bc、馬達(dá)控制器20bb進(jìn)行數(shù)據(jù)交換的輸入輸出部等。由馬達(dá)控制器20bb控制的Z軸 馬達(dá)用驅(qū)動(dòng)器29對(duì)各涂敷頭部10(圖1)設(shè)置，對(duì)其Z軸伺服馬達(dá)12(圖1)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，在 這些Z軸伺服馬達(dá)12內(nèi)安裝有檢測(cè)其旋轉(zhuǎn)量的編碼器，其檢測(cè)結(jié)果返回到Z軸馬達(dá)用驅(qū)動(dòng) 器29，進(jìn)行噴嘴18的高度位置控制。根據(jù)主控制部20a和副控制部20b的聯(lián)合的控制，各馬達(dá)(線性馬達(dá)、Z軸伺服馬 達(dá)、θ軸伺服馬達(dá))根據(jù)從鍵盤24(圖3)輸入、存儲(chǔ)在微機(jī)20aa的RAM的數(shù)據(jù)進(jìn)行移動(dòng)、 旋轉(zhuǎn)，X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a、6b使門形架2a、2b在X軸方向移動(dòng)任意的距離，而且，通過上 下移動(dòng)的Z軸移動(dòng)臺(tái)14(圖1)，由設(shè)于橫梁2a、2b的涂敷頭部10的Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11 使噴嘴18(圖2)在Y軸方向移動(dòng)任意的距離，在其移動(dòng)過程中，按設(shè)定的壓力在漿料收容 筒17 (圖2)繼續(xù)地加壓，從噴嘴18的前端部的排出口排出漿料，在基板15描繪所期望的 漿料圖案。在噴嘴18朝Y軸方向水平移動(dòng)的過程中，測(cè)距儀19測(cè)量噴嘴18與基板15的表 面間的間隔，將其時(shí)常維持為一定間隔地通過Z軸移動(dòng)臺(tái)14的上下移動(dòng)控制噴嘴18。圖5為表示圖1所示實(shí)施方式的整體動(dòng)作的流程圖。在該圖中，如在圖1所示涂漿裝置接通電源(步驟S100)，則首先實(shí)施裝置的初始設(shè)定(步驟S101)。在該初始設(shè)定工序中，在圖1中，驅(qū)動(dòng)Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11、X軸方向 移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a、6b的線性馬達(dá)、Z軸移動(dòng)臺(tái)14，從而使門形架2a、2b在X軸方向移動(dòng)，涂敷頭 部10在Y軸方向移動(dòng)，定位在規(guī)定的基準(zhǔn)位置，另外，使其漿料排出口處于開始漿料涂敷的 位置(即漿料涂敷開始點(diǎn))地將噴嘴18(圖2)的位置設(shè)定在規(guī)定的原點(diǎn)位置，同時(shí)，進(jìn)一 步設(shè)定漿料圖案數(shù)據(jù)、基板位置數(shù)據(jù)、漿料排出結(jié)束位置數(shù)據(jù)。該數(shù)據(jù)的輸入從鍵盤24(圖3)進(jìn)行，輸入的數(shù)據(jù)如上述那樣存儲(chǔ)在內(nèi)裝于微機(jī) 20aa(圖 3)的 RAM。如該初始設(shè)定工序(步驟S101)結(jié)束，則接下來(lái)將基板15搭載于基板保持機(jī)構(gòu) 8 (圖2)使其受到保持(步驟S102)。接著，進(jìn)行基板預(yù)備定位處理(步驟S103)。在該處理中，由圖像識(shí)別攝像機(jī)對(duì)搭 載于基板保持機(jī)構(gòu)8的基板15的定位用標(biāo)記進(jìn)行攝影，通過圖像處理從該圖像信號(hào)求出定 位用標(biāo)記的重心位置，檢測(cè)在基板15的θ軸方向的傾斜，與其相應(yīng)地驅(qū)動(dòng)Y軸驅(qū)動(dòng)器27a、 X軸驅(qū)動(dòng)器27b、θ軸驅(qū)動(dòng)器27c (圖3)，使涂敷頭部10在X、Y軸方向移動(dòng)，另外，修正θ 軸方向的傾斜。由以上步驟，結(jié)束基板預(yù)備定位處理(步驟S103)。然后，進(jìn)行漿料圖案描繪處理(步驟S104)。在該處理中，首先，使噴嘴18的漿料 排出口移動(dòng)到基板15的涂敷開始位置，精密地對(duì)噴嘴位置進(jìn)行定位。然后，使Z軸驅(qū)動(dòng)器 29(圖4)動(dòng)作，將各噴嘴18的高度設(shè)定為漿料圖案描繪高度。根據(jù)噴嘴的初始移動(dòng)距離數(shù) 據(jù)使各噴嘴18下降與初始移動(dòng)距離相當(dāng)?shù)牧?。接著，由測(cè)距儀19測(cè)定基板15的表面高度， 確認(rèn)噴嘴18的前端是否被設(shè)定為描繪漿料圖案的高度，在未能設(shè)定為描繪高度的場(chǎng)合，使 噴嘴18下降微小距離，反復(fù)進(jìn)行上述基板15的表面測(cè)量和噴嘴18下降微小距離的動(dòng)作， 將噴嘴18的前端設(shè)定為漿料圖案的涂敷描繪高度。如以上的處理結(jié)束，則接下來(lái)根據(jù)存儲(chǔ)在微機(jī)20aa(圖3)的RAM的漿料圖案數(shù)據(jù) 和θ軸方向的傾斜的修正，驅(qū)動(dòng)X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a、6b、Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11的線性馬 達(dá)，這樣，在噴嘴18的漿料排出口面對(duì)基板15的狀態(tài)下，相應(yīng)于該漿料圖案數(shù)據(jù)，分別在X、 Y軸方向相對(duì)于基板15移動(dòng)噴嘴18，同時(shí)，在各漿料收容筒17(圖2)按設(shè)定了的壓力加壓 氣體，開始從噴嘴18的漿料排出口排出漿料。這樣，開始漿料圖案在基板15的涂敷。然后，與此同時(shí)，如前面說明的那樣，副控制部20b的微機(jī)20ba從測(cè)距儀19獲取 噴嘴18的漿料排出口與基板15的表面之間的間隔的實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)，測(cè)定基板15的表面的起 伏，相應(yīng)于該測(cè)定值驅(qū)動(dòng)Z軸伺服馬達(dá)12，從而將從基板15的表面離開的噴嘴18的設(shè)定高 度維持為一定。這樣，能夠按所期望的涂敷量涂敷漿料圖案。如以上那樣，進(jìn)行漿料圖案的描繪，對(duì)噴嘴18的漿料排出口是否處于基板15上的 由上述漿料圖案數(shù)據(jù)決定的描繪圖案的終端進(jìn)行判斷，如不處于該終端，則再次返回到基 板的表面起伏的測(cè)定處理，以下，反復(fù)進(jìn)行上述涂敷描繪，在形成的漿料圖案到達(dá)該描繪圖 案的終端之前繼續(xù)進(jìn)行。然后，如到達(dá)該描繪圖案終端，則驅(qū)動(dòng)Z軸伺服馬達(dá)12，使噴嘴18上升，該漿料圖 案描繪工序(步驟S104)結(jié)束。然后，前進(jìn)到基板排出處置(步驟S105)，從圖1所示的基板保持機(jī)構(gòu)8解除基板 15，排出到裝置外。然后，判定是否以上的整個(gè)工序相對(duì)于 為對(duì)象的所有基板15進(jìn)行完畢(步驟S106)，在將相同漿料圖案形成在多片基板的場(chǎng)合，從基板搭載處理(步驟S102)反復(fù)進(jìn)行， 如對(duì)全部基板結(jié)束了這一連串的處理(步驟S106的“是”)，則作業(yè)全部結(jié)束(步驟S107)。返回到圖1，設(shè)于門形架2a、2b的涂敷頭設(shè)置面9的Y軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)11超過多 個(gè)涂敷頭部10在基板上描繪漿料圖案所需的范圍在Y軸方向延伸。這樣，涂敷頭部10能 夠移動(dòng)到從基板15上脫離的位置。在這樣的從基板15脫離了的場(chǎng)所，進(jìn)行各涂敷頭部10 的維修、漿料收容筒17的安裝、拆卸等作業(yè)。為此，各門形架2a、2b的橫梁3a、3b變得比支承臺(tái)1的橫向?qū)挾乳L(zhǎng)，它們的兩端部 從支承臺(tái)1的支承臺(tái)側(cè)面la、lb突出。另外，為了更穩(wěn)定地支承該長(zhǎng)度的橫梁2a、2b，橫梁 側(cè)支承構(gòu)件4a、4b設(shè)在橫梁2a、2b的前端部，分別安裝在支承臺(tái)側(cè)支承構(gòu)件5a、5b。這樣， 特別是橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b也從支承臺(tái)1的支承臺(tái)側(cè)面la、Ib突出?？墒?，例如，隨著液晶面板的大型化，用于漿料圖案的描繪的基板也大面積化，為 了提高這樣的面板的制造效率，同時(shí)在基板15描繪多個(gè)漿料圖案，為此，使用該基板15的 涂漿裝置大型化，其支承臺(tái)1也大型化，但如支承臺(tái)1過于大型化，其橫向?qū)挾茸兊眠^大，則 在例如運(yùn)送涂漿裝置時(shí)，導(dǎo)致不能搭載于運(yùn)輸車輛等問題。為此，對(duì)支承臺(tái)1的橫向?qū)挾仁?加了限制。然而，即使這樣在支承臺(tái)1的橫向?qū)挾仁┘酉拗?、由此能夠?qū)⒅С信_(tái)1搭載在運(yùn) 輸車輛上，即使為了能夠使用大面積的基板而使支承臺(tái)1的橫向?qū)挾葹槟軌蚴褂迷摶?5 的最大程度限制的橫向?qū)挾?，也如圖1所示那樣，門形架2a、2b的橫梁3a、3b的兩側(cè)的前端 部、橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b從支承臺(tái)1的支承臺(tái)側(cè)面la、lb突出，超過支承臺(tái)1的橫向?qū)挾?的限制值，產(chǎn)生同樣的問題。在該實(shí)施方式中，為了消除該問題，形成為支承臺(tái)側(cè)支承構(gòu)件5a、5b和橫梁側(cè)支 承構(gòu)件4a、4b由連接螺栓結(jié)合的構(gòu)成，通過拆卸該連接螺栓，支承臺(tái)側(cè)支承構(gòu)件5a、5b和橫 梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b能夠分離，能夠從支承臺(tái)1拆下門形架2b。另一方的門形架2a也為同 樣的構(gòu)成。圖6(a)為表示從支承臺(tái)1拆下了圖1所示涂漿裝置的門形架2a、2b的狀態(tài)的一 具體例的立體圖，符號(hào)7a、7b為直動(dòng)導(dǎo)向件，符號(hào)30a、30b為在下面設(shè)置了線圈的滑動(dòng)件， 符號(hào)31a、31b為L(zhǎng)形配件，與圖1對(duì)應(yīng)的部分標(biāo)注相同符號(hào)，省略重復(fù)的說明。在該圖中，X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6a包括相互平行地設(shè)置的磁鐵板7和直動(dòng)導(dǎo)向件 7a,以及配置在這些磁鐵板7和直動(dòng)導(dǎo)向件7a上、能夠沿這些磁鐵板7和直動(dòng)導(dǎo)向件7a移 動(dòng)的滑動(dòng)件30a，由磁鐵板7和設(shè)于滑動(dòng)件30a的圖中未表示的部件形成線性馬達(dá)。另外， 同樣，X軸方向移動(dòng)機(jī)構(gòu)6b也包括相互平行地設(shè)置的磁鐵板7和直動(dòng)導(dǎo)向件7b，以及配置 在這些磁鐵板7和直動(dòng)導(dǎo)向件7b上、能夠沿這些磁鐵板7和直動(dòng)導(dǎo)向件7b移動(dòng)的滑動(dòng)件 30b,由磁鐵板7和設(shè)于滑動(dòng)件30b的圖中未表示的部件形成線性馬達(dá)。這些滑動(dòng)件30a、 30b相當(dāng)于圖1中的支承臺(tái)側(cè)支承構(gòu)件5a、5b，其上面構(gòu)成平坦面。另一方面，在設(shè)于門形架2b的橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b，分別在其前端部一體地設(shè) 置L形配件31a、31b，這些L形配件31a、31b的下面構(gòu)成為平坦面。通過將這些L形配件 31a、31b的下面固定在相應(yīng)的滑動(dòng)件30a、30b的上面，從而如圖1所示那樣，成為門形架2b 安裝在支承臺(tái)側(cè)支承構(gòu)件5a、5b的狀態(tài)，因此成為門形架2b安裝在支承臺(tái)1的狀態(tài)，成為 能夠在基板涂敷漿料圖案的狀態(tài)。另外，如圖6所示，解除L形配件31a、31b的下面和滑動(dòng)
11件30a、30b的上面的固定，從而能夠?qū)㈤T形架2b抬起，從支承臺(tái)1拆下。如上述那樣，門形架2b的橫梁3b的兩端部、橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b從支承臺(tái)1的 支承臺(tái)側(cè)面la、Ib突出，橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b的兩端面構(gòu)成為相互面對(duì)的垂直面，在該垂 直的端面安裝L形配件31a、31b的垂直的安裝面。為此，這些L形配件31a、31b從橫梁側(cè) 支承構(gòu)件4a、4b的前端部在水平方向相互面對(duì)地配置，這樣，即使橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b從 支承臺(tái)1的支承臺(tái)側(cè)面la、Ib突出，也能夠分別同時(shí)地使L形配件31a的平坦的下面面對(duì) 設(shè)于磁鐵板7和直動(dòng)導(dǎo)向件7a上的、支承臺(tái)1上的滑動(dòng)件30a的平坦的上面，使L形配件 31b的平坦的下面面對(duì)設(shè)于磁鐵板7和直動(dòng)導(dǎo)向件7b上的支承臺(tái)1上的滑動(dòng)件30b的平坦 的上面。這樣，能夠如上述那樣將門形架2b安裝在滑動(dòng)件30a、30b，或?qū)⑵洳鹣?。這樣，滑動(dòng)件30a、30b的上面部構(gòu)成門形架2b的連接部。另一方的門形架2a也成為同樣的構(gòu)成。圖6(b)為表示從支承臺(tái)1拆下了圖1所示涂漿裝置的門形架2a、2b的狀態(tài)的另 一具體例的立體圖，在與圖6(a)對(duì)應(yīng)的部分標(biāo)注相同符號(hào)，省略重復(fù)的說明。在該圖中，對(duì)于該具體例，在滑動(dòng)件30a、30b分別一體地設(shè)置L形配件3la、31b，這 些L形配件31a、31b能夠與設(shè)于門形架2b的橫梁側(cè)支承構(gòu)件4a、4b分離。如以上那樣，在該具體例中，使得能夠從支承臺(tái)1分離門形架2a、2b，但在該分解 前的狀態(tài)下，在從上面觀看該涂漿裝置的場(chǎng)合，如設(shè)作為門形架2a、2b的長(zhǎng)度的裝置的短 邊的尺寸為A，則現(xiàn)在也被稱為第10代的基樣玻璃基板的尺寸約為2. 85mX3. 05m，在將其 圍住的門形架為一體的場(chǎng)合，裝置的寬度A超過3. 5m，擴(kuò)大到4m左右。為此，在利用一般公 路輸送裝置時(shí)，發(fā)生不能在輸送車輛內(nèi)部收容該裝置的問題。作為該對(duì)應(yīng)，通常討論從支承 臺(tái)1將基板保持機(jī)構(gòu)8也包含在內(nèi)地分割裝置的結(jié)構(gòu)，在該場(chǎng)合，如拆卸或安裝基板保持機(jī) 構(gòu)8，則此時(shí)裝置的組裝精度下降，另外，涂敷位置精度也劣化。然而，在該具體例的構(gòu)成的場(chǎng)合，僅限于門形架2a、2b形成為能夠分解的結(jié)構(gòu)，這 樣，作為裝置，能夠小型化到支承臺(tái)1的橫向?qū)挾鹊某叽鏐。另外，作為門形架2a、2b，可以 為更小的短邊的寬度C，所以，分解后的裝置的最大尺寸能夠?yàn)锽，即使用于2m多的大型基 樣玻璃基板，也能夠抑制為超過3m—些的程度的寬度。結(jié)果，利用一般公路的裝置輸送也 能沒有問題地得到解決。圖7為放大地表示圖1的基板保持機(jī)構(gòu)8的一具體例的一部分的立體圖，符號(hào) 32a 32e為基板載置構(gòu)件，符號(hào)33a 33e為U形構(gòu)件，符號(hào)34a 34e為吸附板，符號(hào) 35a 35d為連接構(gòu)件，符號(hào)36、36a為交叉滾子軸承，符號(hào)37為正交軸承。在該圖中，基板保持機(jī)構(gòu)8在X軸方向按相等間隔配置沿Y軸方向的多個(gè)基板載 置構(gòu)件32a 32e，與這些基板載置構(gòu)件32a 32e正交而且等間隔地配置的多個(gè)連接構(gòu) 件35a 35d連接在基板載置構(gòu)件32a 32e的下面?zhèn)?，由相互正交的這些基板載置構(gòu)件 32a 32e和連接構(gòu)件35a 35d構(gòu)成井形架狀的臺(tái)?；遢d置構(gòu)件32a 32e分別形成為在細(xì)長(zhǎng)的方的U形構(gòu)件33a 33e上載置了 平板狀的細(xì)長(zhǎng)吸附板34a 34e的構(gòu)成，該U形構(gòu)件33a 33e的橫截面形狀為上側(cè)開放 了的U字形，內(nèi)側(cè)為空洞，由這些U形構(gòu)件33a 33e和吸附板34a 34e構(gòu)成內(nèi)部為空洞 的筒狀，其上面由吸附板34a 34e構(gòu)成平坦的面。這些吸附板34a 34e的上面成為基 板的載置面。另外，這些U形構(gòu)件33a 33e的底部分別由連接螺栓(圖中未表示)與細(xì)長(zhǎng)的方的連接構(gòu)件35a 35d固定。位于該井形架狀的臺(tái)的中心部(U形構(gòu)件33a 33e中的位于中心的U形構(gòu)件的 中心位置，或連接構(gòu)件35a 35d中的位于中心的連接構(gòu)件，或井形架狀臺(tái)的中心部的U形 構(gòu)件與連接構(gòu)件的交叉點(diǎn)。在這里，該中央部為U形構(gòu)件33c的中心位置)利用由交叉滾 子軸承36構(gòu)成的臺(tái)旋轉(zhuǎn)構(gòu)件支承，該中心部以外的U形構(gòu)件33a 33e和連接構(gòu)件35a 35d的交叉點(diǎn)分別利用由多個(gè)交叉滾子軸承36a和正交軸承37構(gòu)成的臺(tái)旋轉(zhuǎn)/移動(dòng)構(gòu)件支 承。該臺(tái)移動(dòng)構(gòu)件的交叉滾子軸承36、36a使U形構(gòu)件33a 33e在θ軸方向轉(zhuǎn)動(dòng)，正交 軸承37使U形構(gòu)件33a 33e在X、Y軸方向移動(dòng)，在這里，在正交軸承37上設(shè)置交叉滾子 軸承36a，在該交叉滾子軸承36a上載置U形構(gòu)件33a 33e和連接構(gòu)件35a 35d的交叉 點(diǎn)ο由交叉滾子軸承36、36a和正交軸承37構(gòu)成的臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)以交叉滾子軸承36為 中心使作為井形架狀臺(tái)的基板保持機(jī)構(gòu)8在θ軸方向轉(zhuǎn)動(dòng)，隨著該轉(zhuǎn)動(dòng)，由交叉滾子軸承 36a和正交軸承37，使作為該井形架狀臺(tái)的基板保持機(jī)構(gòu)8的設(shè)置了它們的部分在θ軸方 向轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)，使其在X、Y軸方向移動(dòng)。由該交叉滾子軸承36a和正交軸承37構(gòu)成的臺(tái)移 動(dòng)機(jī)構(gòu)在以設(shè)置了交叉滾子軸承36的井形架狀臺(tái)的中心部為中心點(diǎn)的多個(gè)圓周上按相等 間隔設(shè)置。由這些交叉滾子軸承36a和正交軸承37構(gòu)成的臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)的設(shè)置位置當(dāng)然為U 形構(gòu)件33a 33e與連接構(gòu)件35a 35d的交叉點(diǎn)。也可在該基板保持機(jī)構(gòu)8中的所有U 形構(gòu)件33a 33e與連接構(gòu)件35a 35d的交叉點(diǎn)設(shè)置由該交叉滾子軸承36和正交軸承 37構(gòu)成的臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)。由這些交叉滾子軸承36、36a和正交軸承37構(gòu)成的臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)載置于基板保持 機(jī)構(gòu)8的基板的θ軸方向的姿勢(shì)進(jìn)行微調(diào)，但為了將載置于基板保持機(jī)構(gòu)8的基板從用于 由圖1所示涂敷頭部10描繪漿料圖案的區(qū)域內(nèi)(即裝置內(nèi))輸送到該裝置外，另外，從裝 置外送到該裝置內(nèi)，也可使基板保持機(jī)構(gòu)8在該基板的輸送方向(X軸方向)移動(dòng)。搬入方 向也可為Y軸方向。另外，基板保持機(jī)構(gòu)8的X、Y軸方向的位置微調(diào)通過門形架2a、2b的X軸方向的 位置微調(diào)、涂敷頭部10在這些門形架2a、2b的Y軸方向的位置微調(diào)進(jìn)行。圖8為表示圖7的吸附板34a 34e的一具體例的立體圖，符號(hào)34為吸附板(吸 附板34a 34e的總稱)，符號(hào)38為吸附孔，符號(hào)39為空洞部，符號(hào)40為螺栓孔。在該圖中，在吸附板34，其內(nèi)部遍及其長(zhǎng)度方向整體地構(gòu)成空洞部39，從該空洞 部39連通到上面的吸附孔38按相等間隔設(shè)置多個(gè)。另外，在該空洞部39的兩側(cè)按相等間 隔設(shè)置用于將該吸附板34固定在U形構(gòu)件33 (U形構(gòu)件33a 33e的總稱)的連接螺栓的 螺栓孔40。圖9為圖8所示吸附板34a 34e的沿剖切線A-A的橫剖視圖，符號(hào)41為板主體， 符號(hào)42為連接板，符號(hào)43為配管接頭，符號(hào)44為連接螺栓，對(duì)與圖8對(duì)應(yīng)的部分標(biāo)注相同 符號(hào)，省略重復(fù)的說明。在該圖中，吸附板34由空洞狀的板主體41和在該板主體41的下側(cè)用連接螺栓44 安裝的連接板42構(gòu)成，該板主體的橫截面形狀為下側(cè)開放的U字形，板主體41的開放部由 該連接板42堵塞，從而在吸附板34內(nèi)形成密閉了的空洞部39。在該板主體41的上壁部如 在圖8中也表示的那樣，吸附孔38在板主體41的長(zhǎng)度方向等間隔地設(shè)置。
另外，在連接板42設(shè)有對(duì)空洞部39開放的配管接頭43，在其上連接圖中未表示的 配管軟管。如圖7所示那樣將該吸附板34安裝在U形構(gòu)件33上，將圖中未表示的連接螺 栓插入在該吸附板34的螺栓孔40，擰入到U形構(gòu)件33，從而將吸附板34固定在U形構(gòu)件 33，但在該狀態(tài)下，連接在吸附板34的配管接頭43的未在圖中表示的配管軟管穿過U形構(gòu) 件33的空洞部?jī)?nèi)，被引導(dǎo)至圖中未表示的真空泵。這樣，在由基板載置構(gòu)件32a 32e和連接構(gòu)件35a 35d形成井形架狀臺(tái)的結(jié) 構(gòu)的基板保持機(jī)構(gòu)8上、即基板載置構(gòu)件32a 32e的表面上載置基板，則通過上述的真空 泵工作，通過配管軟管、配管接頭43對(duì)吸附板34的空洞部39內(nèi)進(jìn)行排氣，這樣，由吸附板 34的吸附孔38將基板吸附在吸附板34的上面即基板載置構(gòu)件32a 32e的上面，受到固
定保持。如以上那樣，在本實(shí)施方式中，用細(xì)長(zhǎng)的連接構(gòu)件35a 35d連接細(xì)長(zhǎng)的方的基板 載置構(gòu)件32a 32e，將基板保持機(jī)構(gòu)8形成為井形架狀的存在間隙的臺(tái)狀，所以，即使在使 用大面積的基板的場(chǎng)合，也能夠?qū)崿F(xiàn)基板保持機(jī)構(gòu)8的大幅度的輕量化，實(shí)現(xiàn)將設(shè)置了該 基板保持機(jī)構(gòu)8的支承臺(tái)也包含在內(nèi)的涂漿裝置的輕量化。通過該基板保持機(jī)構(gòu)8的輕量化，能夠迅速地進(jìn)行其移動(dòng)，能夠縮短搭載于該基 板保持機(jī)構(gòu)8的玻璃基板的對(duì)位作業(yè)所需要的時(shí)間，另外，在輸送涂漿裝置之際，不需要從 支承臺(tái)1將輕量化了的該基板保持機(jī)構(gòu)8分離，因此，在運(yùn)送后的該涂漿裝置的安裝時(shí)，不 需要基板保持機(jī)構(gòu)8的安裝作業(yè)，另外，基板保持機(jī)構(gòu)8的調(diào)整所需要的作業(yè)時(shí)間也可在短 時(shí)間內(nèi)進(jìn)行。
權(quán)利要求
一種涂漿裝置，在支承臺(tái)上設(shè)置門形架，該門形架能夠移動(dòng)地設(shè)置了1個(gè)或多個(gè)涂敷頭，該涂敷頭具有充填了漿料的漿料收容筒和從該漿料收容筒排出漿料的噴嘴排出口，在設(shè)置于該支承臺(tái)上的基板載置臺(tái)上搭載基板，該門形架相對(duì)于該基板移動(dòng)，從該噴嘴排出口將漿料排出到基板上；其特征在于該基板載置臺(tái)是設(shè)置了多個(gè)吸附孔的多個(gè)第1構(gòu)件和多個(gè)第2構(gòu)件正交地組合而構(gòu)成井形架形的結(jié)構(gòu)的臺(tái)，具有XYθ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該XYθ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)用于使該基板載置臺(tái)移動(dòng)及旋轉(zhuǎn)，對(duì)載置在該基板載置臺(tái)上的該基板的位置、姿勢(shì)進(jìn)行調(diào)整。
2.一種涂漿裝置，在支承臺(tái)上設(shè)置門形架，該門形架能夠移動(dòng)地設(shè)置了 1個(gè)或多個(gè)涂 敷頭，該涂敷頭具有充填了漿料的漿料收容筒和從該漿料收容筒排出漿料的噴嘴排出口， 在設(shè)置于該支承臺(tái)上的基板載置臺(tái)上搭載基板，該門形架相對(duì)于該基板移動(dòng)，從該噴嘴排 出口將漿料排出到基板上；其特征在于在該基板載置臺(tái)的中心設(shè)置用于θ軸方向的旋轉(zhuǎn)方向的定位的、由交叉滾子軸承構(gòu) 成的θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該基板載置臺(tái)是多個(gè)第1構(gòu)件和多個(gè)第2構(gòu)件正交地組合而構(gòu)成井形架形的結(jié)構(gòu)的臺(tái)，在該第1、第2構(gòu)件正交的位置設(shè)置XY θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該XY θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)由用于該基 板載置臺(tái)的X、Y軸方向的定位的正交軸承和用于θ方向的旋轉(zhuǎn)方向定位的交叉滾子軸承 構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂漿裝置，其特征在于能夠在上述基板載置臺(tái)的外側(cè)將上 述門形架和設(shè)置于上述支承臺(tái)側(cè)的、對(duì)使上述門形架移動(dòng)的機(jī)構(gòu)進(jìn)行支承的部分分離。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的涂漿裝置，其特征在于具有使載置了基板的上述基板 載置臺(tái)移動(dòng)到能夠由設(shè)于上述門形架的1個(gè)或多個(gè)上述涂敷頭涂敷漿料的范圍的外側(cè)的直ο
5.一種涂漿方法，在支承臺(tái)上設(shè)置門形架，該門形架能夠移動(dòng)地設(shè)置了 1個(gè)或多個(gè)涂 敷頭，該涂敷頭具有充填了漿料的漿料收容筒和從該漿料收容筒排出漿料的噴嘴排出口， 在設(shè)置于該支承臺(tái)上的基板載置臺(tái)上搭載基板，該門形架相對(duì)于該基板移動(dòng)，從該噴嘴排 出口將漿料排出到基板上；其特征在于該基板載置臺(tái)是多個(gè)第1構(gòu)件和多個(gè)第2構(gòu)件正交地組合而構(gòu)成井形架形的結(jié)構(gòu)的臺(tái)，在該基板載置臺(tái)的中心部設(shè)置用于θ軸方向的旋轉(zhuǎn)方向的定位的、由交叉滾子軸承 構(gòu)成的θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)，同時(shí)，在該基板載置臺(tái)的中心部以外的位置具有由正交軸承和交叉 滾子軸承構(gòu)成的XY θ軸移動(dòng)機(jī)構(gòu)，由設(shè)于該第1、第2構(gòu)件正交的位置的該正交軸承將該基板載置臺(tái)在Χ、Υ軸方向定位， 由設(shè)于該第1、第2構(gòu)件正交的位置的該交叉滾子軸承在θ軸方向的旋轉(zhuǎn)方向?qū)υ摶遢d 置臺(tái)進(jìn)行定位。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂漿方法，其特征在于能夠?qū)⑸鲜鲩T形架和設(shè)置于上述支 承臺(tái)側(cè)的、對(duì)使上述門形架移動(dòng)的機(jī)構(gòu)進(jìn)行支承的部分分離。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的涂漿方法，其特征在于能夠使載置了上述基板的上述基板載置臺(tái)移動(dòng)到能夠由設(shè)于上述門形架的上述涂敷頭涂敷漿料的范圍的外側(cè)。
全文摘要
本發(fā)明提供涂漿裝置及涂漿方法。能相對(duì)于基板的大型化實(shí)現(xiàn)基板保持機(jī)構(gòu)的小型輕量化，能實(shí)現(xiàn)包含支承臺(tái)的裝置整體輕量化。設(shè)于支承臺(tái)(1)、載置基板的基板保持機(jī)構(gòu)(8)在X軸方向等間隔地配置多個(gè)基板載置構(gòu)件(32a～32e)，多個(gè)基板載置構(gòu)件通過在U形構(gòu)件(33a～33e)上載置平板狀的吸附板(34a～34e)而構(gòu)成，與這些基板載置構(gòu)件正交且等間隔地配置的多個(gè)連接構(gòu)件(35a～35d)連接在基板載置構(gòu)件(32a～32e)的下面?zhèn)?，由這些基板載置構(gòu)件(32a～32e)和連接構(gòu)件(35a～35d)構(gòu)成井形架狀臺(tái)。吸附板(34a～34e)的上面設(shè)有吸附孔，構(gòu)成基板的載置面。基板保持機(jī)構(gòu)(8)由多個(gè)交叉滾子軸承(36、36a)在θ軸方向轉(zhuǎn)動(dòng)，由正交軸承(37)在X、Y軸方向移動(dòng)。
文檔編號(hào)G02F1/1341GK101887193SQ201010126198
公開日2010年11月17日 申請(qǐng)日期2010年2月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月14日
發(fā)明者內(nèi)村滿幸, 前原信二, 神尾正信 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立工業(yè)設(shè)備技術(shù)