專利名稱::液晶顯示裝置用基板和液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
:本發(fā)明涉及一種液晶顯示裝置用基板和液晶顯示裝置。更具體地,本發(fā)明涉及一種適用于VA模式的液晶顯示裝置的液晶顯示裝置用基板。
背景技術(shù):
:CRT(陰極射線管)主要在用于辦公自動化(OA)設(shè)備的各種顯示裝置中使用,辦公自動化(OA)設(shè)備為例如,文字處理器、筆記本大小的個人計算機和個人計算機監(jiān)視器、移動手機終端和電視機。近年來,液晶顯示裝置更廣泛地代替CRT使用,因為它薄、重量輕并且功耗低。液晶顯示裝置通常包括液晶單元和偏振片。偏振片通常具有保護膜和偏振膜,并且它通常通過以下方法得到用碘將由聚乙烯醇膜組成的偏振膜染色,拉伸膜,并且將膜與在兩側(cè)的保護膜層壓。透射型液晶顯示裝置通常包括在液晶單元的兩側(cè)的偏振片,并且有時包括一個或多個光學(xué)補償膜。反射型液晶顯示裝置通常以下列順序包括反射片、液晶單元、一個或多個光學(xué)補償膜和偏振片。液晶單元包括液晶分子、封裝液晶分子的兩個基板、以及對液晶分子施加電壓的電極層。液晶單元根據(jù)液晶分子的取向狀態(tài)的變化切換ON和OFF顯示,并且適用于透射型和反射型,它們的以前提出的顯示模式包括TN(扭曲向列)、IPS(面內(nèi)開關(guān))、0CB(光學(xué)補償彎曲)和VA(垂直取向)、ECB(電控雙折射)和STN(超扭曲向列)。但是,常規(guī)液晶顯示裝置顯示的顏色和對比度根據(jù)視角變化。因此,不能說液晶顯示裝置的視角特性優(yōu)于CRT的視角特性。為了改善視角特性,已經(jīng)使用了用于視角光學(xué)補償?shù)难舆t膜。已經(jīng)提出了將具有適合的光學(xué)性能的光學(xué)補償膜用于上述各種模式的每一種,并且對比度特性優(yōu)異,而沒有視角依賴性的各種LCD。0CB、VA或IPS模式被稱為寬視角模式,并且使用這樣的模式的LCD在全部周圍視角(allaroimdview)均可以提供良好的對比度特性,于是廣泛地被用作家庭屏幕例如TV。此外,近年來,已經(jīng)提出了超過40英寸的寬屏幕。在從前面觀察時提供與TN模式相同的良好顯示特性,而且通過使用光學(xué)補償膜補償視角實現(xiàn)寬的視角特性的VA模式現(xiàn)在成為了最普遍的LCD模式。在VA模式中,寬視角特性是通過使用在膜表面方向上具有正折射率各向異性的單軸取向的延遲片(正a片)和在垂直膜表面的方向上具有光軸的負單軸取向的延遲片(負c片)實現(xiàn)的(參見日本未審查專利出版物(KOKAI)HeiseiNo.10-153802(第12和13頁,圖54))。因為延遲片是使用粘合劑相對于偏振片以規(guī)定的角度粘合而使用的,因此對比度最終由于在具有粘合劑的邊界的反射而降低,該粘合劑具有比偏振片或延遲膜更低的折射率。此外,延遲膜的尺寸隨著溫度和濕度而變化,導(dǎo)致IXD拐角模糊的問題。因此,近年來提出了一些其中在液晶顯示裝置用基板中形成延遲層的方法(例如,JournaloftheSID15/3,2007193-197)。當在液晶顯示裝置用基板中形成延遲層時,在已經(jīng)形成的濾色器層上形成延遲層可能引起諸如以下的問題源自濾色器層表面的不均勻性的延遲層的取向缺陷,和像素的顯示由于由UV輻照或者延遲層形成中的熱處理產(chǎn)生的消色而不足。如例如在日本未審查專利出版物(KOKAI)2008-281989所示,可以通過在形成延遲層之后形成濾色器防止上述問題。但是,沒有同時具有正a片層和負c片層的液晶顯示裝置用基板的實例,其中在形成延遲層之后形成濾色器。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種液晶顯示裝置用基板以及通過所述液晶顯示裝置用基板制備的液晶顯示裝置,所述基板可以提供具有優(yōu)異對比度-視角特性的垂直取向(VA)模式的液晶顯示裝置。本發(fā)明人進行了深入的研究,結(jié)果成功地制備了一種在基板和濾色器層之間具有負c片光學(xué)各向異性層和正a片光學(xué)各向異性層兩者的液晶顯示裝置用基板,并且本發(fā)明人發(fā)現(xiàn),這樣制備的基板十分有助于提高液晶顯示裝置的視角特性。本發(fā)明是基于這種發(fā)現(xiàn)設(shè)計的。因此,本發(fā)明提供如下的[1]至[15]。[1]一種液晶顯示裝置用基板,其在基板和濾色器層之間包括具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層和具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層。[2]根據(jù)[1]所述的液晶顯示裝置用基板,其以下列順序包括所述基板、所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層、所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層,和所述濾色器層。[3]根據(jù)[2]所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層是在具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層上直接形成的,并且所述負單軸光學(xué)各向異性層起著取向?qū)拥淖饔谩4]根據(jù)[1]所述的液晶顯示裝置用基板,其以下列順序包括所述基板、所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層、所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層和所述濾色器層。[5]根據(jù)[1]至[4]中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其包括取向?qū)?、和直接形成于所述取向?qū)由系乃鼍哂性诨宓拿鎯?nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層。[6]根據(jù)[1]至[5]中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層由聚酰亞胺材料組成。[7]根據(jù)[1]至[6]中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層、或所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層是由包含液晶化合物的組合物形成的層,所述液晶化合物具有至少一個反應(yīng)性基團。[8]根據(jù)[7]所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述反應(yīng)性基團是可自由基聚合基團或可陽離子聚合基團。[9]根據(jù)[8]所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述可自由基聚合基團選自丙烯酸類基團和甲基丙烯酸類基團,并且所述可陽離子聚合基團選自乙烯醚基、氧雜環(huán)丁烷基和環(huán)氧基。[10]根據(jù)[7]至[9]中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中用于所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層的所述液晶化合物是盤狀液晶。[11]根據(jù)[7]至[10]中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中用于所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層的所述液晶化合物是棒狀液晶化合物。[12]根據(jù)[7]至[11]中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中用于所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層的所述液晶化合物同時具有至少一個可自由基聚合基團和至少一個可陽離子聚合基團。[13]根據(jù)[1]至[12]中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層的延遲是以與由所述濾色器顯示的顏色對應(yīng)的圖案化方式形成的。[14]一種液晶顯示裝置,該液晶顯示裝置具有根據(jù)[1]至[13]中任一項所述的液晶顯示裝置用基板。[15]根據(jù)[14]所述的液晶顯示裝置,所述液晶顯示裝置使用VA模式作為液晶取向模式。圖1是在實施例中制備的濾色器基板1至8的示意性截面圖。在圖中使用的附圖標記表示下列1玻璃基板;2取向?qū)樱?濾色器層;4黑底(blackmatrix);5光敏性聚合物層;11正a片光學(xué)各向異性層;12負c片光學(xué)各向異性層。具體實施例方式下面的段落將詳細描述本發(fā)明。在說明書中,以“至”表示的范圍是指包括“至”之前和之后的數(shù)值作為最小值和最大值的范圍。應(yīng)指出,對于角度,在本發(fā)明說明書的上下文中的術(shù)語“基本上”是指可以允許相對于精確角度小于士5°的公差。與精確角度的差值優(yōu)選小于4°,更優(yōu)選小于3°。還應(yīng)指出,在本發(fā)明說明書的上下文中的術(shù)語“Re值基本上為0”是指Re值為5nm以下。還應(yīng)指出,在本發(fā)明說明書的上下文中的術(shù)語“可見光”是指波長落入400至700nm的范圍內(nèi)的光。本發(fā)明的液晶顯示裝置用基板的特征在于,其在基板和濾色器層之間具有具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層和具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層。在本發(fā)明說明書中,“具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層”可以被稱為“負c片光學(xué)各向異性層”,而“具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層”可以被稱為“正a片光學(xué)各向異性層”。除另外具體描述外,術(shù)語"液晶顯示裝置用基板"和"基板"在本發(fā)明說明書中不是可互換使用的。下面將詳細描述本發(fā)明的液晶顯示裝置用基板的材料、制備方法等。但是,本發(fā)明不限于這些實施方案。其它實施方案可以通過參照下面的描述和常規(guī)已知的方法實施。本發(fā)明不限于下面所述的實施方案。[基板]用于本發(fā)明的液晶顯示裝置用基板的基板不受特別限制,只要它是透明的即可?;蹇梢允且韵虏牧现械娜魏我环N已知玻璃例如,具有在其表面上形成的氧化硅膜的鈉玻璃板、低膨脹玻璃、非堿性玻璃或石英玻璃;或由聚合物形成的透明基板。在液晶顯示裝置用基板中,基板優(yōu)選具有能經(jīng)受在驅(qū)動液晶時的高溫的耐熱性。作為這種具有耐熱性的基板,優(yōu)選玻璃板、聚酰亞胺、聚醚砜、耐熱性聚碳酸酯、或聚萘二甲酸乙二醇酯。出于價格、透明性和耐熱性的觀點,玻璃板是特別優(yōu)選的?;蹇梢酝ㄟ^初步進行偶聯(lián)處理在與另一層的粘合性方面得到改善。偶聯(lián)處理優(yōu)選通過在日本未審查專利出版物(KOKAI)2000-39033中所述的方法進行?;宓暮穸韧ǔ?yōu)選為100至1200μm,更優(yōu)選300至1000μm,但是不受具體限制。[光學(xué)各向異性層]本發(fā)明的光學(xué)各向異性層不受具體限制,只要該層對在某個方向上入射的光提供基本上不為0的延遲即可,S卩,只要該層具有不被理解為各向同性的光學(xué)特性即可。出于可以容易控制光學(xué)特性的觀點,該層優(yōu)選通過紫外光輻照而固化包含至少一種液晶化合物的液晶層形成。通過改變例如液晶化合物的種類、要混合的取向劑的種類和量、取向?qū)拥念愋秃腿∠驅(qū)幽Σ撂幚淼臈l件以及紫外光輻照的條件,可以將光學(xué)各向異性層的光學(xué)特性控制在所需的范圍內(nèi)。光學(xué)各向異性層的厚度優(yōu)選為0.1至20μm,更優(yōu)選0.5至10μm。下面將說明由含有液晶化合物的組合物形成的光學(xué)各向異性層。[液晶化合物]液晶化合物通常可以根據(jù)分子幾何形狀被分類為棒狀液晶化合物和盤狀液晶化合物。每一個類別還包括低分子類和高分子類。高分子類通常是指聚合度為100以上的高分子(〃KobunshiButsuri-Soten'iDainamikusu(聚合物物理-相變動力學(xué)(PolymerPhysics-PhasetransitionDynamics)),MasaoDoi,2頁,由IwanamiShoten出片反商出版,1992)。在本發(fā)明中,正a片光學(xué)各向異性層優(yōu)選由含有棒狀液晶化合物的組合物形成,而負c片光學(xué)各向異性層優(yōu)選由含有盤狀液晶化合物的組合物或者含有棒狀液晶化合物和手性劑的組合物形成。作為含有液晶化合物的組合物,優(yōu)選固化性液晶組合物,其具有以下優(yōu)點例如,由溫度或濕度引起的變化可以由于組合物通過聚合固化為層而降低。因此,組合物優(yōu)選包含可聚合組分例如具有反應(yīng)性基團的化合物。液晶化合物本身可以是可聚合的,或者其它可聚合單體可以包含于組合物中。液晶化合物本身優(yōu)選是可聚合的,并且該組合物優(yōu)選包含至少一種在單個液晶分子中具有兩個以上反應(yīng)性基團的液晶化合物。液晶組合物可以是兩種以上化合物的混合物,其中至少一種化合物優(yōu)選具有兩個以上的反應(yīng)性基團。液晶化合物無需在最終制備的光學(xué)各向異性層中具有液晶性。例如,在光學(xué)各向異性層中,在組合物中具有至少一個能夠熱反應(yīng)或光反應(yīng)的反應(yīng)性基團的液晶化合物通過在加熱或者光輻照下的反應(yīng)聚合或者交聯(lián)而形成高分子量化合物,不再表現(xiàn)出液晶性。用于形成正單軸光學(xué)各向異性層的液晶化合物的實例包括偶氮甲堿化合物、氧化偶氮基化合物、氰基聯(lián)苯化合物、氰基苯基酯、苯甲酸酯、環(huán)己烷甲酸苯酯、氰基苯基環(huán)己烷化合物、氰基取代的苯基嘧啶化合物、烷氧基取代的苯基嘧啶化合物、苯基二噁烷化合物、二苯乙炔化合物和烯基環(huán)己基芐腈化合物。此外,特別優(yōu)選使用由下式⑴表示的棒狀液晶化合物。在式⑴中,Q1和Q2分別表示反應(yīng)性基團。IAIAL3和L4分別表示單鍵或者二價連接基團,并優(yōu)選L3和L4中的至少一個表示-0-或-0-C0-0-。A1和A2分別表示C2_2Q間隔基團。M表示介基(mesogengroup)。式(I)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>將更詳細地說明用于形成正單軸光學(xué)各向異性層的由下式(I)表示的液晶化合物。在式(I)中,Q1和Q2分別表示反應(yīng)性基團。反應(yīng)性基團的聚合反應(yīng)優(yōu)選為加成聚合(包括開環(huán)聚合)或者縮聚。換言之,反應(yīng)性基團優(yōu)選為能夠進行加成聚合反應(yīng)或縮聚反應(yīng)的官能團。反應(yīng)性基團的實例如下所示。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>L1jL2jL3和L4獨立地表示二價連接基團,優(yōu)選表示選自以下的二價連接基團_0_、-S-、-C0-、-NR2-、-C0-0-、-0-C0-0-、-C0-NR2-、-NR2-CCK-0-C0-,-O-CO-NR2-,-NR2-CO-O-和-NR2-C0-NR2-。R2表示CV7烷基或鹵素原子。優(yōu)選L3和L4中的至少一個表示-0-C0-0-(碳酸酯基)。Q1-L1和Q2-L2-優(yōu)選為CH2=CH-CO-O-,CH2=C(CH3)-C0-0-或CH2=C(Cl)-CO-O-CO-O-,更優(yōu)選CH2=CH-CO-O-。在式中,A1和A2優(yōu)選表示C2_2(1間隔基團。更優(yōu)選它們分別表示C2_12亞烷基、C2_12亞烯基或c2_12亞炔基,還更優(yōu)選它們分別表示c2_12亞烷基。間隔基團優(yōu)選選自鏈基團并且可以含有至少一個不鄰近的氧或硫原子。間隔基團可以具有至少一個取代基如鹵素原子(氟、氯或溴原子)、氰基、甲基和乙基。由M表示的介基的實例包括任何已知的介基。由式(II)表示的介基是優(yōu)選的。式(II)-(-W1-L5)n-ff2-在式中,W1和W2獨立地表示二價環(huán)亞烷基、二價環(huán)亞烯基、二價芳基或二價雜環(huán)基;L5表示單鍵或連接基團。由L5表示的連接基團的實例包括在式(I)中以L1至L4的實例示例的那些以及-CH2-O-和-0-CH2-。在式中,η表示1、2或3。W1和W2的實例包括1,4-環(huán)己烷二基、1,4-亞苯基、嘧啶-2,5_二基、吡啶_2,5_二基、1,3,4-噻唑-2,5-二基、1,3,4-噁二唑-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,5-二基、噻吩-2,5-二基、噠嗪-3,6-二基。1,4_環(huán)己烷二基具有順-反結(jié)構(gòu)同分異構(gòu)體??梢允褂眉冃问降娜魏瓮之悩?gòu)體、同分異構(gòu)體的混合物。但是,反式同分異構(gòu)體是優(yōu)選的。W1和W2可以分別具有至少一個取代基。取代基的實例包括鹵素原子如氟、氯、溴或碘原子;氰基;C1,烷基如甲基、乙基和丙基K1,烷氧基如甲氧基和乙氧基K1,酰基如甲?;鸵阴;籆2,烷氧基羰基如甲氧基羰基和乙氧基羰基;C2_1(l酰氧基如乙酰氧基和丙酰氧基;硝基、三氟甲基和二氟甲基。由式(II)表示的介基的基本骨架的優(yōu)選實例包括但不限于下面所述的那些。這些實例可以具有選自上述中的至少一個取代基。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>由式⑴表示的化合物的實例包括但不限于下述那些。由式⑴表示的化合物可以根據(jù)在TokkohyoNo.hei11-513019或W097/00600的小冊子中所述的方法制備。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>1-25[負單軸光學(xué)各向異性層]作為用于形成負單軸光學(xué)各向異性層的化合物,實例包括盤狀液晶化合物,和聚酰亞胺材料及其前體。作為聚酰亞胺材料,實例包括聚酰亞胺、聚異酰亞胺、聚酯酰亞胺、聚醚酰亞胺和聚酰胺酰亞胺,并且還包括聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚酰胺、聚胺、聚硫代酰胺、聚氨酯、聚脲和聚偶氮甲堿,它們?nèi)烤哂信c上述化合物的性能類似的性能。[盤狀液晶化合物]作為盤狀液晶化合物,實例包括在C.Destrade等,Mol.Cryst.,Vol.171,第111頁(1981)中所述的苯衍生物;在C.Destrade等,Mol.Cryst.,Vol.122,第141頁(1985)和PhysicsLett.,A,第78卷,第82頁(1990)中所述的torxene衍生物;在B.Kohne等,Angew.Chem.,第96卷,第70頁(1984)中所述的環(huán)己烷衍生物;和J.M.Lehn,J.Chem.Commun.,第1794頁(1985)和J.Zhang等,J.Am.Chem.Soc.,第116卷,第2655頁(1994)中所述的氮雜冠醚(azacrown)-基或苯基乙炔-基大環(huán)。上述盤狀(disk-like)化合物通常具有在中心位置的盤狀核和從核呈輻照狀的基團(L),如直鏈烷基或烷氧基或取代的苯甲酰氧基,并且表現(xiàn)出液晶性。當這些分子是均勻取向時,取向分子的聚集體可以表現(xiàn)出在光學(xué)上的負單軸性質(zhì)。但是本發(fā)明不限于這些描述。根據(jù)本發(fā)明,優(yōu)選使用由下式(III)表示的盤狀液晶化合物式(III):D(-L-P)n在式中,D表示盤狀核,L表示二價連接基團,P表示可聚合基團,并且η為4至12的整數(shù)。盤狀核(D)、二價連接基團(L)和可聚合基團(P)的優(yōu)選實例分別是在日本未審查專利出版物(Kokai)2001-4837中所述的(Dl)至(D15)、(Li)至(L25)和(Pl)至(Ρ18);并且在該出版物中關(guān)于盤狀核(D)、二價連接基團(L)和可聚合基團(P)的描述優(yōu)選在此適用。上述盤狀化合物的優(yōu)選實例包括在日本未審查專利出版物(Kokai)2007-121986或W006/104252的至中所述的化合物。[負c片光學(xué)各向異性層的制備方法]當負c片光學(xué)各向異性層由含有液晶化合物的組合物形成時,可以通過以下方法獲得負c片光學(xué)各向異性層將含有液晶化合物(優(yōu)選上述液晶化合物)的組合物涂覆在可以具有一個或多個其它層的基板上,將化合物在形成液晶相的溫度熟化和取向,然后對液晶相施加熱或者輻照光以固定而不改變?nèi)∠?。例如,當使用具有可聚合基團的盤狀液晶化合物時,通過UV輻照或者通過加熱而不改變?nèi)∠?,可以固定其中盤狀分子的盤狀表面的光軸垂直層表面的垂直(homoetropic)取向,從而產(chǎn)生光學(xué)各向異性。當負c片光學(xué)各向異性層由聚酰亞胺材料及其前體形成時,負c片光學(xué)各向異性層可以通過將含有聚酰亞胺材料及其前體的組合物涂覆在基板上并且加熱組合物而獲得,所述基板具有一個或多個其它層。[正a片光學(xué)各向異性層的制備方法]當被用于采用VA模式作為液晶取向模式的液晶顯示裝置時,本發(fā)明的液晶顯示裝置用基板通過包括正a片光學(xué)各向異性層以及負c片光學(xué)各向異性層,可以有助于提高對比度-視角特性。當正a片光學(xué)各向異性層由含有液晶化合物的組合物形成時,正a片光學(xué)各向異性層通??梢酝ㄟ^以下方法獲得將含有液晶化合物的組合物涂覆在可以具有一個或多個其它層的基板上,將化合物在形成液晶相的溫度熟化和取向,然后對液晶相施加熱或者輻照光以固定而不改變?nèi)∠?。正a片光學(xué)各向異性層優(yōu)選在負c片光學(xué)各向異性層上形成,而負c片光學(xué)各向異性層可以在正a片光學(xué)各向異性層上形成。具有取向?qū)拥墓δ艿牟牧蟽?yōu)選用于負c片光學(xué)各向異性層,在負c片光學(xué)各向異性層上,優(yōu)選在負c片光學(xué)各向異性層的表面上進行摩擦處理之后形成正a片光學(xué)各向異性層。[水平取向劑]可以將選自日本未審查專利出版物(Kokai)2007-121986或W006/104252的至W072]段中所述的由式(1)、(2)和(3)表示的化合物中的至少一種化合物加入到含有液晶化合物的組合物中,以基本上使液晶分子水平取向。在本說明書中,術(shù)語“水平取向”是指,對于棒狀液晶分子,其分子長軸和層平面彼此平行,而對于盤狀液晶分子,其核的盤平面和層平面彼此平行。但是,它們無需彼此精確地平行,并且在本說明書中,術(shù)語“水平取向”應(yīng)當被理解為其中分子以相對于層平面小于10度的斜角取向的取向狀態(tài)。斜角優(yōu)選為0至5度,更優(yōu)選0至3度,還更優(yōu)選0至2度,最優(yōu)選0至1度?;谝褂玫囊壕Щ衔锏闹亓?,由式(1)、(2)和(3)表示的化合物的量優(yōu)選為0.01至20重量%,更優(yōu)選為0.01至10重量%,還更優(yōu)選為0.02至1重量%。由上述通式(1)至(3)表示的化合物可以單獨使用,或者它們中的兩種以上可以組合使用。[用于制備涂布液的溶劑]光學(xué)各向異性層可以優(yōu)選通過將涂布液直接涂覆到如下所述的其它層如取向?qū)由隙纬?,涂布液含有液晶化合物以及必要時的如下所述的聚合引發(fā)劑或其它添加劑。用于制備涂布液的溶劑優(yōu)選為有機溶劑。有機溶劑的實例包括酰胺(例如,N,N-二甲基甲酰胺)、亞砜(例如,二甲亞砜)、雜環(huán)化合物(例如,吡啶)、烴(例如,苯、己烷)、烷基鹵(例如,氯仿、二氯甲烷)、酯(例如,乙酸甲酯、乙酸丁酯)、酮(例如,丙酮、甲基乙基酮)和醚(例如,四氫呋喃、1,2_二甲氧基乙烷)。烷基鹵和酮是優(yōu)選的。兩種以上的有機溶劑可以組合使用。[聚合引發(fā)劑]光學(xué)各向異性層優(yōu)選為通過以下方法制備的層將含有液晶化合物的組合物(例如涂布液)涂覆到如下所述的其它層如取向?qū)拥谋砻嫔?,使化合物以表現(xiàn)出所需液晶相的狀態(tài)取向,然后對液晶相施加熱或者輻照光以固定取向。固定優(yōu)選通過液晶化合物中的反應(yīng)性基團的聚合反應(yīng)進行。聚合反應(yīng)包括使用熱聚合引發(fā)劑的熱聚合反應(yīng)和使用光聚合引發(fā)劑的光聚合反應(yīng)。優(yōu)選光聚合反應(yīng)。光聚合引發(fā)劑的實例包括α-羰基化合物(在美國專利2,367,661和2,367,670中所述)、偶姻醚(在美國專利2,448,828中所述)、α-烴取代的芳族偶姻化合物(在美國專利2,722,512中所述)、多核醌化合物(在美國專利3,046,127和2,951,758中所述)、三芳基咪唑二聚體和對氨基苯基酮的組合(在美國專利3,549,367中所述)、吖啶和吩嗪化合物(在日本公開專利出版物(Tokkai)syoNo.60-105667和美國專利4,239,850中所述)和噁二唑化合物(在美國專利4,212,970中所述)。光聚合引發(fā)劑的實例還包括陽離子聚合引發(fā)劑如有機锍鹽、碘鐺鹽、和鱗鹽。作為這些化合物的抗衡離子,優(yōu)選使用銻酸鹽、磷酸鹽等?;谕坎家褐械墓腆w,要使用的光聚合引發(fā)劑的量優(yōu)選為0.01至20重量%,更優(yōu)選0.5至5重量%。用于使液晶分子聚合的輻照優(yōu)選使用UV射線。輻照能優(yōu)選為20mJ/cm2至lOJ/cm2,更優(yōu)選100至800mJ/cm2。輻照可以在惰性氣體如氮氣的氣氛中和/或加熱下進行以促進光聚合反應(yīng)。[光學(xué)各向異性層的后處理]可以進行各種后處理以將制備的光學(xué)各向異性層改性。后處理的實例包括用于改善粘附性的電暈處理、用于改善塑性的增塑劑的添加、用于改善儲存穩(wěn)定性的熱聚合抑制劑的添加和用于改善反應(yīng)性的偶聯(lián)處理。當在光學(xué)各向異性層中的聚合物具有未反應(yīng)的反應(yīng)性基團時,添加適合反應(yīng)性基團的聚合引發(fā)劑也可以是有用的改性方法。例如,通過對采用陽離子光聚合引發(fā)劑聚合具有陽離子反應(yīng)性基團和自由基反應(yīng)性基團的液晶化合物而固定的光學(xué)各向異性層添加自由基光聚合引發(fā)劑,可以促進在之后的圖案化曝光中未反應(yīng)的自由基反應(yīng)性基團的反應(yīng)。作為增塑劑或光聚合引發(fā)劑的添加方法,實例包括將光學(xué)各向異性層浸漬在所需的添加劑的溶液中,以及將所需的添加劑的溶液涂覆到光學(xué)各向異性層上以使溶液滲透。此外,當將其它層涂覆到光學(xué)各向異性層上時,可以將添加劑加入到層的涂布溶液中以滲透到光學(xué)各向異性層中。[取向?qū)覿取向?qū)涌梢杂糜谛纬晒鈱W(xué)各向異性層。取向?qū)泳哂锌刂圃谄渖系囊壕Х肿拥娜∠虻哪芰?,并且只要具有這樣的能力,可以從各種已知的取向?qū)又羞x擇。取向?qū)拥膬?yōu)選實例包括有機化合物(優(yōu)選為聚合物)的摩擦層、無機化合物的傾斜蒸氣沉積層、具有微凹槽的層、通過Langmuir-Blodgett(LB)膜法沉積有機化合物(例如,Ω-二十三烷酸、氯化雙十八烷基甲基銨和硬脂酸甲酯)的層,和通過暴露于電或磁場下被賦予取向功能的層??梢杂糜谛纬扇∠?qū)拥挠袡C化合物的實例包括聚合物如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/馬來酸酐共聚物、聚乙烯醇、聚(N-羥甲基(methyrol)丙烯酰胺)、苯乙烯/乙烯基甲苯共聚物、氯磺化的聚乙烯、硝化纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚酰亞胺、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纖維素、聚乙烯、聚丙烯和聚碳酸酯;和硅烷偶聯(lián)劑。聚合物的優(yōu)選實例包括聚酰亞胺、聚苯乙烯、苯乙烯基聚合物、明膠、聚乙烯醇和具有至少一個烷基(優(yōu)選C6或更長的烷基)的烷基改性的聚乙烯醇。對于取向?qū)拥闹苽?,可以?yōu)選使用聚合物。用于形成取向?qū)拥木酆衔锏姆N類可以根據(jù)液晶取向狀態(tài)的何種類型(特別是斜角多大)是優(yōu)選的而確定。為了形成能夠使液晶分子水平取向的取向?qū)樱蟛唤档腿∠驅(qū)拥谋砻婺?,并且聚合物可以選自已經(jīng)用于取向?qū)拥牡湫途酆衔?。這些聚合物的實例描述于涉及液晶單元或者光學(xué)補償片的各種文獻中。優(yōu)選使用聚乙烯醇、改性的聚乙烯醇、聚丙烯酸、丙烯酸/丙烯酸酯共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮、纖維素和改性的纖維素。用于制備取向?qū)拥牟牧峡梢跃哂兄辽僖环N能夠與光學(xué)各向異性層中的液晶化合物的反應(yīng)性基團反應(yīng)的官能團。具有這樣的官能團的聚合物的實例包括具有包含帶有這樣的官能團的重復(fù)單元的側(cè)鏈的聚合物,以及具有被這樣的官能團取代的環(huán)狀部分的聚合物。更優(yōu)選使用能夠與在界面的液晶化合物形成化學(xué)鍵的取向?qū)樱@樣的取向?qū)拥奶貏e優(yōu)選的實例是在日本公開專利出版物"Tokkaihei"9-152509中所述的改性聚乙烯醇,所述改性聚乙烯醇具有利用酰氯或KarenzMOI(ShowaDenkoK.K的產(chǎn)品)被引入到其側(cè)鏈中的丙烯酸類基團。取向?qū)拥暮穸葍?yōu)選為0.01至5μm,更優(yōu)選0.05至2ym0取向?qū)舆€可以具有作為用于隔絕氧的層的功能。已經(jīng)被用作LCD取向?qū)拥木埘啺纺?,?yōu)選含氟的聚酰亞胺膜也是優(yōu)選的。膜可以通過以下方法形成將以例如HitachiChemicalCo.,Ltd的LQ/LX系列產(chǎn)品或者NISSANCHEMICALINDUSTRIES,LTD的SE系列產(chǎn)品的形式提供的聚(酰胺酸)涂覆到載體的表面上,在100至300°C加熱0.5至1小時以形成聚合物層,和摩擦聚合物層的表面。如上所述,負c片光學(xué)各向異性層可以被用作用于形成正a片光學(xué)各向異性層的液晶化合物的取向?qū)?。摩擦處理可以使用已?jīng)用于使IXD的液晶分子取向的通常步驟的已知技術(shù)進行。特別是,摩擦處理可以通過用紙、紗布、氈、橡膠、尼龍或聚酯纖維等在恒定的方向上摩擦聚合物層的表面而進行。摩擦處理通??梢酝ㄟ^用具有相同的長度和直徑、均勻接枝的纖維的布在一個方向上摩擦聚合物層的表面數(shù)次而進行。在傾斜蒸氣沉積中使用的材料的實例包括金屬氧化物如作為典型材料的Si02、TiO2和ZnO2;氟化物如MgF2;金屬如Au和Al。任何高介電常數(shù)的金屬氧化物可以用于傾斜蒸氣沉積,因此其實例不限于上述材料。無機傾斜沉積膜可以采用沉積設(shè)備制備。液晶化合物在臨時取向?qū)由先∠虿⑶夜潭ㄈ∠蛑?,可以使用粘合劑將光學(xué)各向異性層轉(zhuǎn)移到透明載體上。但是,出于生產(chǎn)率的觀點,光學(xué)各向異性層優(yōu)選在不使用轉(zhuǎn)移法的情況下直接形成。[濾色器層]濾色器層含有黑底和著色層。著色層可以含有例如,紅色著色層(R)、綠色著色層(G)、藍色著色層(B)。用于本發(fā)明的液晶顯示裝置用基板的濾色器層可以通過適當?shù)剡x擇常規(guī)的已知方法形成。實施例下面將通過實施例更詳細描述本發(fā)明。在不偏離本發(fā)明的精神的情況下,可以適當?shù)馗淖冊谙旅娴膶嵤├薪o出的材料、試劑、重量、比例、操作等。因此,本發(fā)明的范圍不限于下面給出的具體實施例。(用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-I的制備)制備下面記錄的組合物,并且通過孔徑為0.2μm的聚丙烯過濾器過濾以獲得用于光學(xué)各向異性層的涂布液c-1。C-1-1根據(jù)在日本未審查專利出版物(KOKAI)2001-166147中所述的方法合成。C-1-2根據(jù)在TetrahedronLett.,第43卷,第6793頁(2002)中所述的方法合成。用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-I的組成(重量%)盤狀液晶化合物(C-1-1)30.0環(huán)氧乙烷改性的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(V#360’來自O(shè)sakaOrganicChemicalIndustry,Ltd.)3.3光學(xué)光聚合引發(fā)劑(Irgacure907,由CibaSpecialtyChemicals生產(chǎn))1.0敏化劑(KayacureDETX,由NipponKayakuCo.,Ltd.生產(chǎn))0.33水平取向劑(C-1-2)0.27甲基乙基酮65.1ORSrXX(CH2)4-OfRO-1VOR(C-1-1)ORΗΝγΝ丫M^^/OR丫^A0RNH/K&R=CH2CH2OCH2CH2C6F13RO^OR(C-1-2)(用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-2的制備)制備下面記錄的組合物,并且通過孔徑為0.2μm的聚丙烯過濾器過濾以獲得用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-2。<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table><formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula>(C-2-1)(用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-3的制備)在干燥的氮氣流下,將反式-1,4-二氨基環(huán)己烷(10.96g)和雙(3_氨基丙基)四甲基二硅氧烷(0.99g)溶解在N-甲基-2-吡咯烷酮(177.28g)中。隨后,使用3,3’,4,4’_聯(lián)苯四甲酸二酐(28.25g)和N-甲基-2-吡咯烷酮(40.OOg)添加到溶液中并且在60°C攪拌3小時。此外,使用鄰苯二甲酸酐(1.18g)添加到溶液中并且在60°C攪拌3小時以獲得澄清的粘性聚酰胺酸溶液。通過孔徑為0.2μm的聚丙烯過濾器過濾溶液以獲得用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-3。(用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-I的制備)制備下面記錄的組合物,并且通過孔徑為0.2μm的聚丙烯過濾器過濾以獲得用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-1。A-1-1根據(jù)在W093/22397中所述的方法合成。<table>tableseeoriginaldocumentpage19</column></row><table>(用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-2的制備)制備下面記錄的組合物,并且通過孔徑為0.2μm的聚丙烯過濾器過濾以獲得用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-2。A-2-1根據(jù)在日本未審查專利出版物(KOKAI)2004-123882中所述的方法合成。<table>tableseeoriginaldocumentpage19</column></row><table><formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula>(A-2-1)(用于光敏性聚合物層的涂布液W-I的制備)制備下面記錄的組合物,并且通過孔徑為0.2μm的聚丙烯過濾器過濾,并且使用濾液作為用于光敏性聚合物層的涂布液W-1。用于形成光敏聚合物層的涂布液W-I的組成(重量%)甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯的無規(guī)共聚物(共聚比例(摩爾比)=35.9/22.4/41.7,重均分子量二38,000)8.05KAYARADDPHA(來自NipponKayakuCo.,Ltd.)4.83自由基聚合引發(fā)劑(2-三氯甲基-5-(對苯乙烯基苯乙烯基)-1,3,4-嗯二唑)0.12對苯二酚單甲醚0.002MegafacF-176-PF(來自DainipponInkandChemicals,Inc.)0.05丙二醇單甲醚乙酸酯34.80甲基乙基酮50.538甲醇1.61(用于光敏性聚合物層的涂布液K-I的制備)通過以下方法獲得用于光敏性聚合物層的涂布液K-I首先根據(jù)在表1中列舉的量將表ι中所列的K顏料分散體和丙二醇單甲醚乙酸酯稱重,并且將它們在24°C(士2°C)混合、以150rpm攪拌混合物10分鐘,然后根據(jù)在表1中列舉的量將甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸(摩爾比)=78/22的無規(guī)共聚物(重均分子量=40,000)、對苯二酚單甲醚、DPHA、2_(三氯甲基)-5-(對苯乙烯基苯乙烯基)-1,3,4_噁二唑和MegafacF-176PF稱重,將它們在25°C(士2°C)以這種順序添加,并且將混合物在40°C(士2°C)以150rpm攪拌30分鐘。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>表1中所列的組成如下。[K顏料分散體的組成]<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>〈實施例1>〈負c片基板1的制備〉將非堿玻璃基板在用被調(diào)節(jié)至25°C的玻璃清潔溶液噴射20秒的同時使用具有尼龍剛毛的旋轉(zhuǎn)刷洗滌,用純水噴霧洗滌,并且用基板預(yù)熱裝置在iocrc加熱2分鐘。隨后,在基板上,通過旋涂涂覆光學(xué)各向異性層的涂布液c-l,并且將涂層加熱干燥,并且在125°C的膜表面溫度熟化3分鐘以獲得均勻的液晶相。然后使用160W/cm空氣冷卻的金屬鹵化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產(chǎn)),在空氣中利用UV輻射以400mW/cm2的功率密度和300mJ/cm2的劑量輻照涂層,以固定取向,從而產(chǎn)生負c片基板1?!簇揷片基板2的制備〉以與負c片基板1類似的方式制備膜厚度為6.5μm的負c片基板2,不同之處在于使用用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-2代替用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-1,并且在涂布和在230°C干燥1小時之后烘焙基板?!簇揷片基板3的制備〉以與負c片基板1類似的方式制備膜厚度為2.0μm的負c片基板3,不同之處在于使用用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-3代替用于光學(xué)各向異性層的涂布液C-1,將涂層在120°C的膜表面溫度干燥20分鐘,然后將基板在240°C烘焙30分鐘。〈實施例2>〈正a片層1的形成〉在負c片基板1上,涂覆并且干燥用于取向?qū)拥耐坎既芤?RN-1199A,由NissanChemicalIndustries,Ltd.生產(chǎn)),將基板在220°C烘焙1小時,并且將得到的取向?qū)舆M行摩擦處理。取向?qū)拥哪ず穸葹?0nm。在取向?qū)由?,涂覆用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-1,并且將涂層在105°C的膜表面溫度干燥2分鐘以獲得液晶相。然后使用160W/cm空氣冷卻的金屬鹵化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產(chǎn)),在空氣中利用UV輻射以400mW/cm2的功率密度和300mJ/cm2的劑量輻照涂層,以固定取向,從而獲得膜厚度為1.2μm的正a片層1?!凑齛片層2的形成〉向負c片基板2的摩擦表面上,涂覆用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-2,將涂層在105°C的膜表面溫度干燥2分鐘以獲得液晶相。然后使用160W/cm空氣冷卻的金屬鹵化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產(chǎn)),在空氣中利用UV輻射以240mW/cm2的功率密度和600mJ/cm2的劑量輻照涂層,以固定取向,從而產(chǎn)生厚度為1.8μm的光學(xué)各向異性層。在該層上,涂覆并且干燥用于光敏性聚合物層的涂布液W-I以獲得厚度為1.0μm的光敏性聚合物層。然后使用具有超高電壓汞燈的接近型曝光設(shè)備(HitachiElectronicsEngineeringCo.,Ltd.的產(chǎn)品)以圖案生成方式將光敏性聚合物層進行曝光,其中垂直固定基板和掩模(其上形成有圖像圖案的石英制成的光掩模),同時保持光掩模的表面和光敏性聚合物層之間彼此離開的距離為200μm,R區(qū)的曝光能為25mJ/cm2,G區(qū)的曝光能為22mJ/cm2,而B區(qū)的曝光能為16mJ/cm2。將基板在230°C馬弗爐中烘焙1小時以獲得具有延遲圖案的正a片層2?!凑齛片層3的形成〉向負c片基板3的摩擦表面上,涂覆用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-2,將涂層在105°C的膜表面溫度干燥2分鐘以獲得液晶相。然后使用160W/cm空氣冷卻的金屬鹵化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產(chǎn)),在空氣中利用UV輻射以240mW/cm2的功率密度和600mJ/cm2的劑量輻照涂層,以固定取向,從而產(chǎn)生厚度為1.8μm的光學(xué)各向異性層。在該層上,涂覆并且干燥用于光敏性聚合物層的涂布液K-I以獲得厚度為2.0μm的光敏性聚合物層。然后使用具有超高電壓汞燈的接近型曝光設(shè)備(HitachiElectronicsEngineeringCo.,Ltd.的產(chǎn)品)以圖案生成方式將光敏性聚合物層進行曝光,其中垂直固定基板和掩模(其上形成有圖像圖案的石英制成的光掩模),同時保持光掩模的表面和光敏性聚合物層之間彼此離開的的距離為200μm,曝光能為500mJ/cm2。之后,使用在0.15MPa的圓錐噴嘴壓力下噴淋的碳酸鈉基顯影溶液(含有0.06mol/L的碳酸氫鈉、相同濃度的碳酸鈉、二丁基萘磺酸鈉、陰離子表面活性劑、消泡劑和穩(wěn)定劑,商品名T-CDl,F(xiàn)ujiPhotoFilmCo.,Ltd.的產(chǎn)品)和2-丙醇的混合溶液將光敏性聚合物層顯影,并且將其進行聚酯刷涂處理,從而獲得黑底。使用具有超高電壓汞燈的接近型曝光設(shè)備(HitachiElectronicsEngineeringCo.,Ltd.的產(chǎn)品)以圖案生成方式將基板進一步進行曝光,其中垂直固定基板和掩模(其上形成有圖像圖案的石英制成的光掩模),同時保持光掩模的表面和光敏性聚合物層之間彼此離開的的距離為200μm,R區(qū)的曝光能為63mJ/cm2,G區(qū)的曝光能為55mJ/cm2,而B區(qū)的曝光能為40mJ/cm2。將基板在230°C烘焙1小時以獲得具有延遲圖案的正a片層3?!磳嵤├?><用于延遲測量的基板1的形成>以與正a片基板1類似的方式制備用于延遲測量的基板1,不同之處在于使用非堿玻璃基板代替負c片基板1,該非堿玻璃基板在用被調(diào)節(jié)至25°C的玻璃清潔溶液噴射20秒的同時使用具有尼龍剛毛的旋轉(zhuǎn)刷洗滌,用純水噴霧洗滌,并且用基板預(yù)熱裝置在100°C加熱2分鐘?!从糜谘舆t測量的基板2-R的形成〉將非堿玻璃基板在用被調(diào)節(jié)至25°C的玻璃清潔溶液噴射20秒的同時用具有尼龍剛毛的旋轉(zhuǎn)刷洗滌,用純水噴霧洗滌,并且用基板預(yù)熱裝置在100°C加熱2分鐘。在基板上,涂覆并且干燥用于取向?qū)拥耐坎既芤?RN-1199A,由NissanChemicalIndustries,Ltd.生產(chǎn)),將基板在220°C烘焙1小時,并且將得到的取向?qū)舆M行摩擦處理。取向?qū)拥哪ず穸葹?0nmo在取向?qū)由?,涂覆用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-2,并且將涂層在105°C的膜表面溫度干燥2分鐘以獲得液晶相。然后使用160W/cm空氣冷卻的金屬鹵化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產(chǎn)),在空氣中利用UV輻射以240mW/cm2的功率密度和600mJ/cm2的劑量輻照涂層,以固定取向,從而獲得膜厚度為1.8μπι的光學(xué)各向異性層。在該層上,涂覆并且干燥用于光敏性聚合物層的涂布液W-I以獲得厚度為1.Oym的光敏性聚合物層。使用具有超高電壓汞燈的接近型曝光設(shè)備(HitachiElectronicsEngineeringCo.,Ltd.的產(chǎn)品)在整個區(qū)域中以25mJ/cm2的曝光能將光敏性聚合物層進行曝光。將基板在230°C馬弗爐中烘焙1小時以獲得用于延遲測量的基板2-R。〈用于延遲測量的基板2-G的形成〉以與用于延遲測量的基板2-R類似的方式制備用于延遲測量的基板2-G,不同之處在于在整個區(qū)域中將22mJ/cm2的曝光能用于曝光?!从糜谘舆t測量的基板2-B的形成〉以與用于延遲測量的基板2-R類似的方式制備用于延遲測量的基板2-B,不同之處在于在整個區(qū)域中將16mJ/cm2的曝光能用于曝光。〈用于延遲測量的基板3-R的形成〉將非堿玻璃基板在用被調(diào)節(jié)至25°C的玻璃清潔溶液噴射20秒的同時用具有尼龍剛毛的旋轉(zhuǎn)刷洗滌,用純水噴霧洗滌,并且用基板預(yù)熱裝置在100°C加熱2分鐘。在基板上,涂覆并且干燥用于取向?qū)拥耐坎既芤?RN-1199A,由NissanChemicalIndustries,Ltd.生產(chǎn)),將基板在220°C烘焙1小時,并且將得到的取向?qū)舆M行摩擦處理。取向?qū)拥哪ず穸葹?0nmo在取向?qū)由希扛灿糜诠鈱W(xué)各向異性層的涂布液A-2,并且將涂層在105°C的膜表面溫度干燥2分鐘以獲得液晶相。然后使用160W/cm空氣冷卻的金屬鹵化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產(chǎn)),在空氣中利用UV輻射以240mW/cm2的功率密度和600mJ/cm2的劑量輻照涂層,以固定取向,從而獲得膜厚度為1.8μπι的光學(xué)各向異性層。在該層上,涂覆并且干燥用于光敏性聚合物層的涂布液K-I以獲得厚度為2.0μm的光敏性聚合物層。之后,使用在0.15MPa的圓錐噴嘴壓力下噴淋的碳酸鈉基顯影溶液(含有0.06mol/L的碳酸氫鈉、相同濃度的碳酸鈉、二丁基萘磺酸鈉、陰離子表面活性劑、消泡劑和穩(wěn)定劑,商品名:T-CDl,FujiPhotoFilmCo.,Ltd.的產(chǎn)品)和2-丙醇的混合溶液將光敏性聚合物層顯影,并且將其進行聚酯刷涂處理。使用具有超高電壓汞燈的接近型曝光設(shè)備(HitachiElectronicsEngineeringCo.,Ltd.的產(chǎn)品)在整個區(qū)域中以63mJ/cm2的曝光能將基板進一步進行曝光。將基板在230°C馬弗爐中烘焙1小時以獲得用于延遲測量的基板3-R?!从糜谘舆t測量的基板3-G的形成〉以與用于延遲測量的基板3-R類似的方式制備用于延遲測量的基板3-G,不同之處在于在整個區(qū)域中將55mJ/cm2的曝光能用于曝光?!从糜谘舆t測量的基板3-B的形成〉以與用于延遲測量的基板3-R類似的方式制備用于延遲測量的基板3-B,不同之處在于在整個區(qū)域中將40mJ/cm2的曝光能用于曝光。(延遲處理)使用纖維光譜儀,通過平行尼科爾方法在550nm的波長測量正向延遲Re(O)和樣品以延遲軸(慢軸)作為旋轉(zhuǎn)軸傾斜士40°的延遲Re(40)和Re(-40)。各個基板的延遲處理結(jié)果在表2中給出。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>將非堿玻璃基板在用被調(diào)節(jié)至25°C的玻璃清潔溶液噴射20秒的同時使用具有尼龍剛毛的旋轉(zhuǎn)刷洗滌,用純水噴霧洗滌,并且用基板預(yù)熱裝置在100°c加熱2分鐘。在玻璃基板上,以與上述類似的方式按這種順序形成正a片層1和負c片層(基板)1。在所得的基板上,通過使用在FujifilmResearch&DevelopmentNo.44(1999)第25頁所述的轉(zhuǎn)印系統(tǒng)(由FujiPhotoFilmCo.,Ltd.生產(chǎn)),形成黑底和三種(RGB)顏色的濾色器,以獲得濾色器基板4。<比較例1>(濾色器基板5的制備)通過使用在FujifilmResearch&DevelopmentNo.44(1999)第25頁所述的轉(zhuǎn)印系統(tǒng)(由FujiPhotoFilmCo.,Ltd.生產(chǎn)),制備在玻璃基板上具有黑底和三色(RGB)濾色器的濾色器基板。在濾色器基板上,以與上述類似的方式按這種順序形成負c片層(基板)1和正a片層1,以獲得濾色器基板5。(濾色器基板6的制備)通過使用在FujifilmResearch&DevelopmentNo.44(1999)第25頁所述的轉(zhuǎn)印系統(tǒng)(由FujiPhotoFilmCo.,Ltd.生產(chǎn)),制備在玻璃基板上具有黑底和三色(RGB)濾色器的濾色器基板。在濾色器基板上,以與上述類似的方式按這種順序形成負c片層(基板)2和正a片層2,以獲得濾色器基板6。調(diào)節(jié)濾色器使得R濾色器在R區(qū)域上,G濾色器在G區(qū)域上,而B濾色器在B區(qū)域上。(濾色器基板7的制備)通過使用在FujifilmResearch&DevelopmentNo.44(1999)第25頁所述的轉(zhuǎn)印系統(tǒng)(由FujiPhotoFilmCo.,Ltd.生產(chǎn)),制備在玻璃基板上具有黑底和三色(RGB)濾色器的濾色器基板。在濾色器基板上,以與上述類似的方式按這種順序形成負c片層3(基板)。然后將負c片層3進行摩擦處理。在該層上,涂覆用于光學(xué)各向異性層的涂布液A-2,并且將涂層在105°C的膜表面溫度干燥2分鐘以獲得液晶相。然后使用160W/cm空氣冷卻的金屬鹵化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產(chǎn)),在空氣中利用UV輻射以240mW/cm2的功率密度和600mJ/cm2的劑量輻照涂層,以固定取向,從而產(chǎn)生厚度為1.8μπι的光學(xué)各向異性層。在該層上,涂覆并且干燥用于光敏性聚合物層的涂布液K-I以獲得厚度為2.0μπι的光敏性聚合物層。之后,使用在0.15MPa的圓錐噴嘴壓力下噴淋的碳酸鈉基顯影溶液(含有0.06mol/L的碳酸氫鈉、相同濃度的碳酸鈉、二丁基萘磺酸鈉、陰離子表面活性劑、消泡劑和穩(wěn)定劑,商品名:T-CDl,FujiPhotoFilmCo.,Ltd.的產(chǎn)品)和2-丙醇的混合溶液將光敏性聚合物層顯影,并且將其進行聚酯刷涂處理。使用具有超高電壓汞燈的接近型曝光設(shè)備(HitachiElectronicsEngineeringCo.,Ltd.的產(chǎn)品)以圖案生成方式將光敏性聚合物層進行曝光,其中垂直固定基板和掩模(其上形成有圖像圖案的石英制成的光掩模),同時保持光掩模的表面和光敏性聚合物層之間彼此離開的的距離為200μm,R區(qū)的曝光能為63mJ/cm2,G區(qū)的曝光能為55mJ/cm2,而B區(qū)的曝光能為40mJ/cm2。將基板在230°C烘焙1小時以獲得具有延遲圖案的正a片層,從而產(chǎn)生濾色器基板7。調(diào)節(jié)濾色器使得R濾色器在R區(qū)域上,G濾色器在G區(qū)域上,而B濾色器在B區(qū)域上。(濾色器基板8的制備)通過使用在FujifilmResearch&DevelopmentNo.44(1999)第25頁所述的轉(zhuǎn)印系統(tǒng)(由FujiPhotoFilmCo.,Ltd.生產(chǎn)),制備在玻璃基板上具有黑底和三色(RGB)濾色器的濾色器基板。在濾色器基板上,以與上述類似的方式按這種順序形成正a片層1和負c片層1,以獲得濾色器基板8。(實施例5=VA模式液晶顯示裝置的制備)通過在濾色器基板1和其上安置TFT層的玻璃基板形式的相對基板上濺射ITO形成透明電極膜。在每一個基板上進一步安置聚酰亞胺取向?qū)印⒑懈趔w粒子的環(huán)氧樹脂密封劑印刷在與被安置在濾色器像素組周圍的黑底框架對應(yīng)的位置,并且將濾色器基板1和相對的基板在lOkg/cm的壓力下粘合在一起。接著,將熱處理在150°C進行90分鐘以固化密封劑,從而產(chǎn)生兩個基板的層壓體。在真空下從基板層壓體中抽出空氣。然后將基板層壓體再次放置在大氣中,并且將液晶注入到兩個基板之間的間隙中,以獲得VA模式液晶單元。將由Sanritz(Ltd.)生產(chǎn)的HLC2-2518偏振片粘合到VA模式液晶單元的兩個表面上。通過以下方法制造顏色可調(diào)的白色三波長熒光燈形式的液晶顯示裝置用冷陰極管背光作為綠色(G),混合5050重量比的BaMg2Al16O27IEu和Mn,以及LaPO4:Ce和Tb形式的熒光體;作為紅色(R),使用Y2O3=Eu;并且作為藍色(B),使用BaMgAl1Q017:EU。將上述配備有偏振片的液晶單元安置在上述背光上,以獲得實施例5的VA模式液晶顯示裝置。(實施例6=VA模式液晶顯示裝置的制備)以與實施例5的方法類似的方法制備實施例6的液晶顯示裝置,不同之處在于使用濾色器基板2代替濾色器基板1。(實施例7=VA模式液晶顯示裝置的制備)以與實施例5的方法類似的方法制備實施例7的液晶顯示裝置,不同之處在于使用濾色器基板3代替濾色器基板1。(實施例8-.VA模式液晶顯示裝置的制備)以與實施例5的方法類似的方法制備實施例8的液晶顯示裝置,不同之處在于使用濾色器基板4代替濾色器基板1。(比較例2=VA模式液晶顯示裝置的制備)以與實施例5的方法類似的方法制備比較例2的液晶顯示裝置,不同之處在于使用濾色器基板5代替濾色器基板1。(比較例3=VA模式液晶顯示裝置的制備)以與實施例5的方法類似的方法制備比較例3的液晶顯示裝置,不同之處在于使用濾色器基板6代替濾色器基板1。(比較例4=VA模式液晶顯示裝置的制備)以與實施例5的方法類似的方法制備比較例4的液晶顯示裝置,不同之處在于使用濾色器基板7代替濾色器基板1。(比較例5=VA模式液晶顯示裝置的制備)以與實施例5的方法類似的方法制備比較例5的液晶顯示裝置,不同之處在于使用濾色器基板8代替濾色器基板1。在表3中給出了實施例5、6、7和8以及比較例2、3、4和5在從正向向右的方向上、在45°右上方向上處于黑色狀態(tài)(在沒有施加的電壓下)的視覺評價結(jié)果。表4樣品視覺評價結(jié)果實施例5盡管在黑色顯示中略微觀察到顏色模糊和光泄露,但是顯示出清晰的圖像。實施例6顯示出清晰的圖像,并且在黑色顯示中沒有觀察到顏色模糊或光泄露。實施例7顯示出清晰的圖像,并且在黑色顯示中沒有觀察到顏色模糊或光泄露。實施例8盡管在黑色顯示中略微觀察到顏色模糊和光泄露,但是顯示出清晰的圖像。比較例2在黑色顯示中觀察到顏色模糊和光泄露,并且未顯示出清晰的圖像。比較例3在黑色顯示中未觀察到顏色模糊,但是觀察到光泄露并且未顯示出清晰的圖像。比較例4在黑色顯示中未觀察到顏色模糊,但是觀察到光泄露并且未顯示出清晰的圖像。比較例5在黑色顯示中觀察到顏色模糊和光泄露,并且未顯示出清晰的圖像。發(fā)明效果本發(fā)明的液晶顯示裝置用基板可以被制備成對濾色器層的性能產(chǎn)生更少的負面影響,并且有助于提高VA模式液晶顯示裝置的對比度_視角特性。權(quán)利要求一種液晶顯示裝置用基板,其在基板和濾色器層之間包括具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層,和具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置用基板,其以下列順序包括所述基板、所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層、所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層、和所述濾色器層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層是在所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層上直接形成的,并且所述負單軸光學(xué)各向異性層起著取向?qū)拥淖饔谩?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置用基板,其以下列順序包括所述基板、所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層、所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層和所述濾色器層。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其包括取向?qū)?、和直接形成于所述取向?qū)由系乃鼍哂性诨宓拿鎯?nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層。6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層由聚酰亞胺材料組成。7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層或所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層是由包含液晶化合物的組合物形成的層,所述液晶化合物具有至少一個反應(yīng)性基團。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述反應(yīng)性基團是可自由基聚合基團或可陽離子聚合基團。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述可自由基聚合基團選自丙烯酸類基團和甲基丙烯酸類基團,并且所述可陽離子聚合基團選自乙烯醚基、氧雜環(huán)丁烷基和環(huán)氧基。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置用基板,其中用于所述具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層的所述液晶化合物是盤狀液晶。11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置用基板,其中用于所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層的所述液晶化合物是棒狀液晶化合物。12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置用基板,其中用于所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層的所述液晶化合物同時具有至少一個可自由基聚合基團和至少一個可陽離子聚合基團。13.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的液晶顯示裝置用基板,其中所述具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層的延遲是以與由所述濾色器顯示的顏色對應(yīng)的圖案化方式形成的。14.一種液晶顯示裝置,該液晶顯示裝置具有根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的液晶顯示裝置用基板。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的液晶顯示裝置,所述液晶顯示裝置使用VA模式作為液晶取向模式。全文摘要本發(fā)明涉及一種液晶顯示裝置用基板和液晶顯示裝置,本發(fā)明的液晶顯示裝置用基板在基板和濾色器層之間包括具有在基板的面內(nèi)方向上的光軸的正單軸光學(xué)各向異性層、和具有在垂直基板表面的方向上的光軸的負單軸光學(xué)各向異性層,其可以提供具有優(yōu)異的對比度-視角特性的垂直取向(VA)模式的液晶顯示裝置。文檔編號G02F1/13363GK101819353SQ201010125938公開日2010年9月1日申請日期2010年2月25日優(yōu)先權(quán)日2009年2月27日發(fā)明者中島正雄,伊藤英明申請人:富士膠片株式會社