專利名稱：帶有薄膜的玻璃基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及例如波長截止濾光片等在玻璃基板的表面形成薄膜的帶有薄膜的玻 璃基板的制造方法。
背景技術(shù)：
以往，已知各種配置在攝像元件受光面一側(cè)的頂截止濾光片等在玻璃基板主面 形成有薄膜的帶有薄膜的玻璃基板。帶有薄膜的玻璃基板大多被貼合在其它構(gòu)件表面使 用。因此，對于在帶有薄膜的玻璃基板而言，要求其主面是平坦的。但是，在玻璃基板上形 成薄膜時，在薄膜形成后，由于薄膜相對于玻璃基板在薄膜的面方向相對地收縮或膨脹，從 而產(chǎn)生薄膜的面方向的膜應(yīng)力，因此存在玻璃基板產(chǎn)生所謂翹曲的問題。鑒于這樣的問題， 在專利文獻1等中提出了減少帶有薄膜的玻璃基板翹曲的方法。例如，在專利文獻1中，公開了在玻璃基板的一個主面上形成有鏡膜的全反射鏡 中，在另一主面上形成用于矯正翹曲的矯正膜。專利文獻1 日本特開2007-241018號公報專利文獻2 日本特開平5-251427號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題但是，在專利文獻1中所公開的翹曲減少方法中，除了鏡膜以外還需要形成矯正 膜，因此增加了需要的薄膜，因而存在帶有薄膜的玻璃基板的制造工序變得繁雜，制造成本 上升的問題。另外，例如在專利文獻2中，作為制造在表面形成有薄膜的半導(dǎo)體基板的方法，公 開了以對半導(dǎo)體基板賦予與由薄膜形成所產(chǎn)生的半導(dǎo)體基板的翹曲相反方向的變形應(yīng)力 的狀態(tài)形成薄膜的方法。在專利文獻2中記載，如果根據(jù)該方法，則薄膜收縮力和施加在半 導(dǎo)體基板上的變形應(yīng)力均等，從而能夠得到平板狀的帶有薄膜的半導(dǎo)體基板。在帶有薄膜的玻璃基板的制造中，也可以考慮使用在上述專利文獻2中所公開的 帶有薄膜的半導(dǎo)體基板的制造方法。但是，在將專利文獻2中記載的方法應(yīng)用于帶有薄膜 的玻璃基板的制造中時，需要在保持對玻璃基板施加變形應(yīng)力的狀態(tài)進行薄膜的形成，存 在薄膜形成的工序變得繁雜的問題。本發(fā)明的目的在于提供一種帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，該制造方法能夠容 易地制造翹曲少的帶有薄膜的玻璃基板。解決問題的方法本發(fā)明相關(guān)的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法的特征在于，其為制造在玻璃基板 的主面上形成有薄膜的帶有薄膜的玻璃基板的方法，在薄膜形成后，通過使薄膜相對于玻 璃基板在薄膜的面方向上相對地膨脹或收縮，使上述玻璃基板變形，該制造方法包括變形 工序和薄膜形成工序，在變形工序中，通過使玻璃基板塑性變形，將玻璃基板的主面制成彎曲形狀，以使在薄膜形成后的最終狀態(tài)下玻璃基板的主面變?yōu)槠教?；在薄膜形成工序中，?經(jīng)塑性變形的玻璃基板的主面上形成薄膜。如果根據(jù)該方法，則在薄膜形成后，通過薄膜相 對于玻璃基板在薄膜的面方向上相對地膨脹或收縮，玻璃基板的主面就變得平坦。由此，能 夠得到翹曲被減少的帶有薄膜的玻璃基板。另外，在本發(fā)明相關(guān)的帶有薄膜的玻璃基板的 制造方法中，不必另外形成用于減少翹曲的薄膜，另外，在薄膜形成工序中也不必保持對玻 璃基板施加變形應(yīng)力的狀態(tài)，所以能夠容易地制造帶有薄膜的玻璃基板。另外，在本發(fā)明中，所謂“薄膜形成后的最終狀態(tài)”，意指帶有薄膜的玻璃基板的制 造完成時的狀態(tài)。例如，在由濺射法和蒸鍍法形成薄膜時，所謂“薄膜形成后的最終狀態(tài)”， 意指薄膜形成后，將形成有薄膜的玻璃基板冷卻到室溫等使用溫度的狀態(tài)。另外，在由溶 膠-凝膠法和旋涂法等濕法形成薄膜時，所謂“薄膜形成后的最終狀態(tài)”，意指所形成的薄 膜的干燥結(jié)束時的狀態(tài)。玻璃基板的塑性變形，例如，可以在將玻璃基板加熱到比變形溫度低50°C的溫度 以上的狀態(tài)下進行。由此，能夠得到變形少的彎曲形狀的玻璃基板，因此，能夠縮小玻璃基 板對薄膜施加應(yīng)力的面內(nèi)分布。薄膜在凸?fàn)钪髅婧桶紶钪髅嬷械哪囊粋€主面上形成取決于薄膜和玻璃基板的組 合。具體而言，在薄膜形成后，薄膜對玻璃基板賦予壓縮應(yīng)力的薄膜和玻璃基板組合時，形 成薄膜的主面優(yōu)選為凸?fàn)?。另一方面，在薄膜形成后，薄膜對玻璃基板賦予拉伸應(yīng)力的薄膜 和玻璃基板組合時，形成薄膜的主面優(yōu)選為凹狀。另外，也可以在玻璃基板的兩個主面上形成薄膜。此時，通過應(yīng)用本發(fā)明，也能夠 得到翹曲少的帶有薄膜的玻璃基板。作為薄膜的形成方法，例如，可以列舉濺射法和蒸鍍法等。在由濺射法和蒸鍍法形 成薄膜時，如果薄膜的熱膨脹系數(shù)和玻璃基板的熱膨脹系數(shù)不同，就會在薄膜形成后的冷 卻工序中，在薄膜收縮量和玻璃基板收縮量之間產(chǎn)生差別，所以就容易在薄膜和玻璃基板 之間產(chǎn)生膜應(yīng)力。由此，容易在玻璃基板上產(chǎn)生翹曲。因此，在使用濺射法或蒸鍍法等形成 薄膜時玻璃基板溫度上升的方法時，本發(fā)明特別有效。另外，在通過疊層多層薄膜來形成薄膜時，薄膜的膜應(yīng)力變得更大，帶有薄膜的玻 璃基板的翹曲有增大的傾向。因此，在通過疊層多層薄膜來形成薄膜時，本發(fā)明特別有效。在本發(fā)明中，玻璃基板的厚度沒有特別限定，但因為玻璃基板的厚度越薄，帶有薄 膜的玻璃基板就越容易在產(chǎn)生翹曲，所以，本發(fā)明在玻璃基板薄的情況下特別有效。本發(fā)明 特別有效的玻璃基板的厚度范圍是0. 1 100mm。在本發(fā)明中，薄膜的厚度沒有特別限定，但因為在相對于玻璃基板薄膜相對厚時， 帶有薄膜的玻璃基板容易產(chǎn)生翹曲，所以，本發(fā)明在相對于玻璃基板的薄膜的相對厚度大 時特別有效。本發(fā)明特別有效的相對于玻璃基板的薄膜的相對厚度((薄膜厚度)/(玻璃 基板厚度))范圍是1/2500 1/20。作為由本發(fā)明制造的帶有薄膜的玻璃基板的具體例子，例如，可以列舉貼附在攝 像元件上的頂截止濾光片。當(dāng)頂截止濾光片翹曲時，就難以在攝像元件上貼附頂截止濾 光片。因此，對于在攝像元件上貼附的頂截止濾光片而言，可接受的翹曲量特別小。因此， 能夠有效抑制翹曲的本發(fā)明可以特別有效地用于貼附在攝像元件的頂截止濾光片的制造 中。
發(fā)明的效果如果根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，該制造方法能 夠容易地制造翹曲少的帶有薄膜的玻璃基板。


圖1是第1實施方式中的帶有薄膜的玻璃基板的剖面圖。
圖2是將形成薄膜前的玻璃基板的剖面圖。
圖3是在玻璃基板的塑性變形中使用的夾具的平面圖。
圖4是圖3中所示的剖切線IV - IV的剖面圖。
圖5是使玻璃基板為彎曲狀態(tài)的玻璃基板的剖面圖。
圖6是攝像元件單元的剖面圖。
圖7是第3實施方式中的帶有薄膜的玻璃基板的剖面圖。
圖8是表示翹曲量測定點的玻璃基板的平面圖。
圖9是表示測定玻璃基板翹曲量的工序的剖面圖。
圖10是表示在實驗例中的保持時間和玻璃基板最大翹曲量的關(guān)系的圖表。
具體實施例方式(第1實施方式)圖1是在本實施方式中作為制造對象的帶有薄膜的玻璃基板1的剖面圖。首先， 參照圖1對帶有薄膜的玻璃基板1的結(jié)構(gòu)進行說明。如圖1所示，帶有薄膜的玻璃基板1具備玻璃基板10。玻璃基板10可以根據(jù)帶有 薄膜的玻璃基板1的特性等適當(dāng)選擇。玻璃基板10例如可以由硼硅酸玻璃基板等構(gòu)成。玻璃基板10具有相互平行的第1和第2主面10a、10b。第1和第2主面10a、10b 分別是平坦的。在第1主面IOa上形成薄膜11。薄膜11可以根據(jù)帶有薄膜的玻璃基板1 的特性等適當(dāng)選擇。例如，在帶有薄膜的玻璃基板1是頂截止濾光片時，可以將薄膜11制 成為頂截止膜。另外，例如在帶有薄膜的玻璃基板1是反射鏡時，可以將薄膜11制成為反 射膜。例如，在帶有薄膜的玻璃基板1是防反射基板時，可以將薄膜11制成為防反射膜。接著，說明帶有薄膜的玻璃基板1的制造方法。圖2是形成薄膜11前的玻璃基板 10的剖面圖。本實施方式的制造方法的特征在于，在形成薄膜11前，通過使玻璃基板10塑 性變形而將玻璃基板10的第1和第2主面10a、10b制成為彎曲形狀，以使圖1所示的薄膜 形成后的最終狀態(tài)下玻璃基板10的第1和第2主面10a、10b變?yōu)槠教?，之后，在玻璃基?10的第1和第2主面10a、10b上形成薄膜11。具體而言，圖2表示在玻璃基板10的彎曲 為凹狀的第1主面IOa上形成薄膜11的情況。一般而言，在玻璃基板上形成薄膜時，與薄膜形成方法無關(guān)地在薄膜上產(chǎn)生膜應(yīng) 力。例如，在使用如濺射法和蒸鍍法等在形成薄膜時玻璃基板溫度上升的方法時，如果薄膜 的熱膨脹系數(shù)和玻璃的熱膨脹系數(shù)不同，在薄膜形成后的冷卻工序中，沿著薄膜的面方向 的收縮量和沿著玻璃基板相同方向的收縮量就會產(chǎn)生差別。因此，在薄膜形成后的冷卻工 序中，在薄膜中產(chǎn)生薄膜的面方向的膜應(yīng)力。因此，例如在平坦的玻璃基板上形成薄膜時， 在冷卻工序中，就會在玻璃基板上產(chǎn)生翹曲。即，玻璃基板的兩個主面變得彎曲。
與此相對，在本實施方式中，如上述那樣，在形成薄膜11前，通過使玻璃基板10塑 性變形而將玻璃基板10的第1和第2主面10a、10b制成為彎曲形狀，以使在薄膜形成后的 最終狀態(tài)下玻璃基板10的第1和第2主面10a、10b變?yōu)槠教?。因此，通過在薄膜形成后產(chǎn) 生的薄膜11的面方向的膜應(yīng)力和玻璃基板10的彈性力，如圖1中所示那樣，在薄膜形成后 的最終狀態(tài)下，第1和第2主面10a、IOb變?yōu)槠教?。因此，可以得到翹曲被抑制的帶有薄膜 的玻璃基板1。另外，如果根據(jù)本實施方式的制造方法，則不必形成用于減少翹曲的薄膜，在薄膜 形成工序中，也不必保持向玻璃基板施加變形應(yīng)力的狀態(tài)，因此，能夠容易地制造帶有薄膜 的玻璃基板1。另外，例如在保持向玻璃基板施加變形應(yīng)力的狀態(tài)下形成薄膜時，在薄膜形成工 序中，擔(dān)心與保持具的接觸以及由保持具對玻璃基板施加的應(yīng)力而導(dǎo)致對玻璃基板產(chǎn)生損 傷和破裂、裂痕。與此相對，在本實施方式中，在薄膜11的形成工序中，不必保持對玻璃基 板10施加變形應(yīng)力的狀態(tài)，所以，能夠防止在玻璃基板10上產(chǎn)生損傷和破裂、裂痕。而且，在保持對玻璃基板施加變形應(yīng)力的狀態(tài)下形成薄膜的方法中，在冷卻工序 中薄膜上產(chǎn)生的膜應(yīng)力大時，在薄膜形成工序中就需要對玻璃基板賦予大的變形應(yīng)力。因 此，在薄膜形成工序中，玻璃基板有可能受到損傷。與此相對，如果根據(jù)本實施方式的制造方法，則在冷卻工序中薄膜上生成的膜應(yīng) 力大時，可以使玻璃基板產(chǎn)生大的塑性變形，而不必對玻璃基板施加大的變形應(yīng)力。這樣就 抑制了在薄膜形成工序中對玻璃基板的損傷。因此，如果根據(jù)本實施方式的制造方法，則即 使在冷卻工序中薄膜11產(chǎn)生大的膜應(yīng)力時，也能夠以很高的優(yōu)良品率制造翹曲被抑制的 帶有薄膜的玻璃基板1。另外，在本實施方式中，玻璃基板10的厚度沒有特別限定，但因為玻璃基板10的 厚度越薄，帶有薄膜的玻璃基板就越容易產(chǎn)生翹曲，所以，本實施方式的帶有薄膜的玻璃基 板的制造方法在玻璃基板的厚度薄時特別有效。本實施方式的帶有薄膜的玻璃基板的制造 方法特別有效的玻璃基板10的厚度范圍是0. 1 10mm。另外，薄膜11的厚度也沒有特別限定，但因為在薄膜11相對于玻璃基板10相對 厚時，帶有薄膜的玻璃基板容易產(chǎn)生翹曲，所以，本實施方式的帶有薄膜的玻璃基板的制造 方法在薄膜相對于玻璃基板的厚度大時特別有效。本實施方式的帶有薄膜的玻璃基板的制 造方法特別有效的薄膜11相對于玻璃基板10的相對厚度的范圍是1/2500 1/20。以下，進一步詳細說明帶有薄膜的玻璃基板1的各制造工序。(使玻璃基板10塑性變形的工序)作為使玻璃基板10塑性變形的方法，例如，可以列舉以下的方法⑴ (5)。(1) 將玻璃基板10加熱到比變形溫度低50°C的溫度以上的溫度使之變形的方法；( 使用成形 模具將玻璃基板10壓制成形的方法；(3)將玻璃基板10的一個主面?zhèn)冗M行離子強化的方 法；(4)將玻璃基板10的一個主面進行研磨的方法；(5)在玻璃基板10的一個主面?zhèn)日丈?氬等離子體的方法。在這些方法中，可以優(yōu)選使用能夠簡單進行、難以對玻璃基板10產(chǎn)生損傷等的 (1)將玻璃基板10加熱到比變形溫度低50°C的溫度以上的溫度使之變形的方法。將玻璃基板10加熱到變形溫度以上使之變形時，具體而言，采用以下程序進行玻璃基板10的塑性變形。圖3是在玻璃基板10的塑性變形中使用的夾具20的平面圖。圖4是在圖3中表 示的剖切線IV - IV的剖面圖。如在圖3和圖4中所示，在夾具20中形成用于安裝玻璃基板 10的開口 20a。在夾具20的開口 20a的周邊部形成環(huán)狀的欠缺部20b。玻璃基板10安裝 在該欠缺部20b中。玻璃基板10以安裝在該欠缺部20b中的狀態(tài)加熱到比玻璃基板10的 變形溫度低50 V的溫度以上的溫度，并保持在該溫度下。圖5是加熱到比變形溫度低50°C的溫度以上的溫度并保持在該溫度下的玻璃基 板10的剖面圖。如圖5中所示，玻璃基板10通過被加熱到比變形溫度低50°C的溫度以上 的溫度并保持在該溫度下，玻璃基板10通過自重而在垂直方向塑性變形為凸?fàn)?。在該狀態(tài) 下，保持安裝在夾具20中的狀態(tài)將玻璃基板10冷卻到室溫，由此能夠得到整體被塑性變形 為彎曲形狀的玻璃基板10。另外，使玻璃基板10塑性變形時的溫度和保持時間可以根據(jù)玻璃基板10的種類 和使玻璃基板10變形的量等適當(dāng)決定。一般而言，玻璃基板10的保持溫度優(yōu)選為比玻璃 基板10的變形溫度低50°C的溫度以上的溫度、軟化點以下的溫度，更優(yōu)選是玻璃化轉(zhuǎn)變溫 度附近或其以下的溫度。使玻璃基板10變形的量，例如，可以預(yù)先測定在具有平坦主面的玻璃基板上形成 薄膜時的玻璃基板的翹曲量，基于該測定結(jié)果以實驗來決定。(薄膜11的成膜工序)薄膜11的成膜方法可以根據(jù)薄膜11的種類等適當(dāng)選擇。作為薄膜11的成膜方 法，例如，可以列舉濺射法和蒸鍍法等氣相法及溶膠-凝膠法和旋涂法等濕法等。在第1和第2主面10a、10b中的哪一個面上形成薄膜11，可以根據(jù)在薄膜形成后 的最終狀態(tài)下的薄膜11的膜應(yīng)力方向決定。例如，在薄膜形成后的最終狀態(tài)下，薄膜11對 玻璃基板10沿著薄膜11的面方向賦予拉伸應(yīng)力時，優(yōu)選在凹狀主面形成薄膜11。另一方 面，在薄膜形成后的最終狀態(tài)下，薄膜11對玻璃基板10沿著薄膜11的面方向賦予壓縮應(yīng) 力時，優(yōu)選在凸?fàn)钪髅嫘纬杀∧?1。本實施方式的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，一般能夠適用于薄膜11形成后 因薄膜11相對于玻璃基板10在薄膜11的面方向膨脹或收縮而使玻璃基板變形的、組合薄 膜11和玻璃基板10的帶有薄膜的玻璃基板。例如，本實施方式的帶有薄膜的玻璃基板的 制造方法也可以適用于在攝像元件上貼附的頂截止濾光片的制造。圖6是在攝像元件2上貼附的具有作為帶有薄膜的玻璃基板的頂截止濾光片1 的攝像元件單元3的剖面圖。攝像元件單元3具備攝像元件2和頂截止濾光片1。例如， 攝像元件2例如由電荷結(jié)合元件(CCD =Charge Coupled Device)和互補型金屬氧化膜半導(dǎo) 體(CMOS Complementary Metal-Oxide Semiconductor device)等構(gòu)成。攝像元件 2 的受 光面加通常平坦地形成。頂截止濾光片1被貼附在該平坦的受光面加上。因此，要求頂 截止濾光片1無翹曲。因此，在頂截止濾光片1的制造中，可以良好地使用能夠抑制翹曲 的本實施方式的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法。另外，在圖6表示的例子中，說明了玻璃基板10的第2主面IOb貼附在攝像元件 2的例子，但也可以將薄膜11的與玻璃基板10相反一側(cè)的表面貼附在攝像元件2上。(第2實施方式)
在上述第1實施方式中，說明了只形成1層薄膜11的例子，但本發(fā)明的帶有薄膜 的玻璃基板的制造方法也適用于在玻璃基板10的主面10a、10b上形成疊層多層薄膜而成 的薄膜疊層體的情況。此時，與只形成1層薄膜11的情況比較，在冷卻工序中對玻璃基板 施加的膜應(yīng)力容易變大。因此，存在帶有薄膜的玻璃基板發(fā)生大的翹曲的傾向。因此，應(yīng)用 本發(fā)明的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法是有效的。作為薄膜疊層體的具體例子，可以列舉^O2膜、TW2膜和Nb2O3膜等高折射率膜和 SiO2膜等低折射率膜交替疊層而得到的多層膜等。(第3實施方式)在上述實施方式中，說明了只在玻璃基板10的一個主面IOa上形成薄膜11的例 子。但本發(fā)明不限于該構(gòu)成。圖7是本實施方式的帶有薄膜的玻璃基板1的剖面圖。如在圖7中所示，可以在 玻璃基板10的第1和第2主面10a、10b的兩個面上形成薄膜lla、llb。在該情況下，也可 以良好地應(yīng)用本發(fā)明的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法。在本實施方式中，薄膜IlaUlb中，在從薄膜形成后到成為最終狀態(tài)期間，薄膜 IlaUlb的面方向的壓縮應(yīng)力大的薄膜在凸?fàn)钪髅嫔闲纬?，拉伸?yīng)力大的薄膜在凹狀主面 形成。(第4實施方式)在上述第1實施方式中，說明了玻璃基板10具有一對平坦主面10a、10b的例子， 但玻璃基板10的形狀沒有特別限定于具有主面10a。例如，第2主面IOb也可以被形成為 凸?fàn)罨虬紶睢?實驗例)在本實驗例中，進行試驗來確認在使玻璃基板10塑性變形的工序中，通過改變將 玻璃基板10保持在變形溫度以上的溫度的保持時間能夠調(diào)節(jié)玻璃基板10的翹曲量。將安裝在圖3和圖4中所示的夾具20中的圓盤狀玻璃基板10(日本電氣硝子株 式會社生產(chǎn)，產(chǎn)品名稱“ABC”，直徑200mm，厚度0. 4mm，變形溫度650°C，玻璃化轉(zhuǎn)變溫 度705°C，軟化溫度950°C )，以15分鐘從室溫升溫到650°C，在650°C只保持規(guī)定的保持 時間，此后，以約10小時冷卻到室溫。接著，在圓周方向以中心角45°的間隔設(shè)定的點A H(參照圖8)上測定所得到的玻璃基板10的翹曲量。具體而言，如在圖9中所示，將玻璃基 板10以朝向固定盤21 —側(cè)為凸?fàn)畹姆绞脚渲迷诠潭ūP21上，通過在各點A H上從固定 盤21和玻璃基板10之間插入厚度規(guī)22 (TSK社生產(chǎn)的No. 75A10)，測定在玻璃基板10的各 點A H上的翹曲量。將測得的各點A H的翹曲量中最大的翹曲量作為玻璃基板10的 最大翹曲量。在圖10中表示使保持時間發(fā)生各種變化進行上述實驗的結(jié)果。如圖10中所示， 可知通過延長保持時間，玻璃基板10的最大翹曲量變大。從該結(jié)果可知，通過使保持時間 變化，能夠調(diào)節(jié)玻璃基板10的最大翹曲量。(實施例1)準備5片圓盤狀的玻璃基板(日本電氣硝子株式會社生產(chǎn)，產(chǎn)品名稱“ABC”，直徑 200mm，厚度0. 4mm，變形溫度650°C，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度705°C，軟化溫度950°C )，采用與 上述實驗例相同的方法測定各玻璃基板的翹曲量。5片玻璃基板的最大翹曲量是Omm 0. 05mmo接著，將各玻璃基板安裝在圖3和圖4所示的夾具20中，以15分鐘從室溫升溫到 650°C，在650°C保持2小時，此后，以約10小時冷卻到室溫。對加熱后的各玻璃基板再次測 定翹曲量。5片玻璃基板的最大翹曲量是0. 45mm 0. 55mm。接著，在加熱后的各玻璃基板的凹狀主面上，以約130°C由濺射法形成膜和 SiO2膜交替疊層合計44層而成的疊層膜，完成帶有薄膜的玻璃基板。另外，ZrO2膜的總膜 厚是約2 μ m, SiO2膜的總膜厚是約3 μ m。測定所得到的帶有薄膜的玻璃基板的翹曲量。5片帶有薄膜的玻璃基板的最大翹 曲量是-0. 05mm 0. 05mm。作為比較例，在平板狀的玻璃基板(日本電氣硝子株式會社生產(chǎn)，產(chǎn)品名稱 “ABC”，直徑200mm，厚度0. 4mm，變形溫度650°C，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度705 °C，軟化溫度 9500C )上，形成與上述實施例1同樣的薄膜，測定翹曲量。在平板狀玻璃基板上形成疊層 膜時的最大翹曲量是約0. 6mm。從以上的結(jié)果可知，通過在薄膜形成前事先使玻璃基板彎曲，能夠降低帶有薄膜 的玻璃基板的翹曲量。(實施例2)準備5片圓盤狀的玻璃基板(日本電氣硝子株式會社生產(chǎn)，產(chǎn)品名稱“ABC”，直徑 200mm，厚度0. 4mm，變形溫度650°C，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度705°C，軟化溫度950°C )，采用與 上述實施例相同的方法測定各玻璃基板的翹曲量。5片玻璃基板的最大翹曲量是Omm 0. 05mmo接著，將各玻璃基板安裝在圖3和圖4所示的夾具20中，以15分鐘從室溫升溫到 650°C，在650°C保持4小時，此后，以約10小時冷卻到室溫。對加熱后的各基板再次測定翹 曲量。5片玻璃基板的最大翹曲量是0.6mm 0.7mm。接著，在加熱后的各玻璃基板的凸?fàn)钪髅嫔?，以約130°C由濺射法形成Nb2O3膜和 SiO2膜交替疊層合計4層而成的防反射疊層膜。Nb2O3膜的總膜厚是約0. 1 μ m，SiO2膜的 總膜厚是約0. 2 μ m。接著，在各玻璃基板的凹狀主面上，以約130°C由濺射法形成Nb2O3膜和SW2膜交 替疊層合計40層而成的紅外線截止疊層膜，完成帶有薄膜的玻璃基板。Nb2O3膜的總膜厚 是約1. 5 μ m，SiO2膜的總膜厚是約2. 5 μ m。測定所得到的帶有薄膜的玻璃基板的翹曲量。5片帶有薄膜的玻璃基板的最大翹 曲量是 0. 15mm 0. 25mm。作為比較例，在平板狀的玻璃基板(日本電氣硝子株式會社生產(chǎn)，產(chǎn)品名稱 “ABC”，直徑200mm，厚度0. 4mm，變形溫度650°C，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度705 °C，軟化溫度 9500C )上，與上述實施例2同樣地形成紅外線截止疊層膜和防反射疊層膜，測定翹曲量。在 平板狀玻璃基板上形成疊層膜時的最大翹曲量是約1mm。從以上的結(jié)果可知，即使在玻璃基板的兩面形成薄膜時，通過在薄膜形成前事先 使玻璃基板彎曲，也能夠降低帶有薄膜的玻璃基板的翹曲量。符號說明1...玻璃基板、2...攝像元件、2a...受光面、3...攝像元件單元、10...玻璃基板、IOa...第 1 主面、IOb...第 2 主面、ll、lla、llb...薄膜、20...夾具、20a...開口、 20b...欠缺部、21...固定盤、22...厚度規(guī)
權(quán)利要求
1.一種帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于其為制造在玻璃基板的主面上形成有薄膜的帶有薄膜的玻璃基板的方法，在所述薄膜 形成后，通過使所述薄膜相對于所述玻璃基板在所述薄膜的面方向上相對地膨脹或收縮， 使所述玻璃基板變形， 所述制造方法包括變形工序，通過使所述玻璃基板塑性變形，將所述玻璃基板的所述主面制成彎曲形狀， 以使在所述薄膜形成后的最終狀態(tài)下所述玻璃基板的所述主面變?yōu)槠教?；?薄膜形成工序，在所述經(jīng)塑性變形的玻璃基板的主面上形成所述薄膜。
2.如權(quán)利要求1所述的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于所述玻璃基板的塑性變形在將所述玻璃基板加熱到低于變形溫度50°C的溫度以上的 溫度的狀態(tài)下進行。
3.如權(quán)利要求1或2所述的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于 所述變形工序是以使所述主面變?yōu)橥範(fàn)畹姆绞绞顾霾ＡЩ逅苄宰冃蔚墓ば颉?br> 4.如權(quán)利要求1或2所述的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于 所述變形工序是以使所述主面變?yōu)榘紶畹姆绞绞顾霾ＡЩ逅苄宰冃蔚墓ば颉?br> 5.如權(quán)利要求1 4中任一項所述的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于 由濺射法或蒸鍍法形成所述薄膜。
6.如權(quán)利要求1 5中任一項所述的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于 通過疊層多層薄膜來形成所述薄膜。
7.如權(quán)利要求1 6中任一項所述的帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于 所述帶有薄膜的玻璃基板是貼附在攝像元件上的紅外線截止濾光片。
全文摘要
本發(fā)明提供一種帶有薄膜的玻璃基板的制造方法，該制造方法能夠容易地制造翹曲少的帶有薄膜的玻璃基板。該制造方法進行變形工序和薄膜形成工序，在該變形工序中，通過使玻璃基板(10)塑性變形而將玻璃基板(10)的主面(10a)制成彎曲形狀，以使薄膜形成后的最終狀態(tài)下玻璃基板(10)的主面(10a)變?yōu)槠教梗辉诒∧ば纬晒ば蛑?，在?jīng)塑性變形的玻璃基板(10)的主面(10a)上形成薄膜(11)。
文檔編號G02B5/28GK102137820SQ20098013420
公開日2011年7月27日 申請日期2009年8月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月1日
發(fā)明者今村努, 岸本曉, 田部昌志 申請人:日本電氣硝子株式會社