專利名稱：顯影設(shè)備和電子照相圖像形成設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯影設(shè)備和包括所述顯影設(shè)備的電子照相圖像形成設(shè)備，所述顯影設(shè) 備用于使在靜電潛像承載構(gòu)件如感光鼓或靜電記錄誘導(dǎo)體上形成的靜電潛像顯影。
背景技術(shù)：
電子照相法通常涉及利用光導(dǎo)電性物質(zhì)，并包括通過各種手段在靜電潛像承載 構(gòu)件(感光鼓)上形成靜電潛像；施加顯影偏壓至顯影區(qū)域；用顯影劑顯影該靜電潛像以 形成調(diào)色劑圖像；根據(jù)需要將該調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印材料如紙上；以及用熱或壓力將該 調(diào)色劑圖像定影至該轉(zhuǎn)印材料上以提供復(fù)制品。在電子照相法中的顯影方法主要分為其中 不需要載體的單組分顯影方法和涉及使用載體的雙組份顯影方法。采用單組分顯影方法的 顯影設(shè)備是有利的，這是因?yàn)橛捎诓恍枰d體，能夠減少由于調(diào)色劑劣化而必須交換調(diào)色 劑的頻率；此外，不需要設(shè)置例如具有用于調(diào)節(jié)調(diào)色劑或載體濃度的機(jī)構(gòu)的顯影設(shè)備，因此 顯影設(shè)備本身能夠減小尺寸和重量。日本專利申請?zhí)亻_2005-157318公開了減小顯影劑(調(diào)色劑)的粒徑和降低顯影 劑的飽和磁化強(qiáng)度，以使復(fù)制品的圖像質(zhì)量更高。然而，當(dāng)減少磁性材料的量并減小顯影劑的粒徑時(shí)，如下所述的所謂過度充電現(xiàn) 象(charge-up phenomenon)易于發(fā)生通過鏡像力(mirror image force)使顯影齊Ll與顯 影套筒表面處于鈍態(tài)(passive state)，因此在感光鼓上的潛像難以用來自顯影套筒的顯 影劑顯影。結(jié)果，圖像濃度的降低可能發(fā)生。為處理顯影劑的過度充電，日本專利申請?zhí)亻_2003-323042提出引入具有樹脂層 的顯影劑承載構(gòu)件，在所述樹脂層中，引入具有0. 20至0. 95的石墨化度p(002)和15至60 的壓痕硬度(indentation hardness)HUT[68]的石墨化顆粒。顯影劑的過度充電通過增強(qiáng) 快速并穩(wěn)定地使顯影劑充電的性能的石墨化顆粒的作用來減輕。然而，根據(jù)本發(fā)明的發(fā)明人進(jìn)行的研究，當(dāng)根據(jù)預(yù)定打印模式從具有小粒徑和小 飽和磁化強(qiáng)度的單組分磁性調(diào)色劑形成電子照相圖像時(shí)，發(fā)生以下現(xiàn)象如圖6所示，暫停 后圖像濃度與暫停前相比較大地波動(dòng)。如此處所用的術(shù)語“預(yù)定打印模式”是指以下打印 條件在連續(xù)打印1，000張以上后，設(shè)定30分鐘至2小時(shí)的暫停時(shí)間，然后再次打印1，000 張以上。本發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)，當(dāng)根據(jù)該打印模式形成電子照相圖像時(shí)，暫停后在第一張上的圖 像濃度極大地高于暫停前的圖像濃度。此外，本發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)通過暫停后連續(xù)進(jìn)行圖像形 成，圖像濃度逐漸返回至?xí)和Ｇ暗膱D像濃度。

發(fā)明內(nèi)容
考慮到前述，本發(fā)明旨在提供能夠抑制如上所述圖像濃度不規(guī)則波動(dòng)的顯影設(shè) 備，和包括該顯影設(shè)備的電子照相圖像形成設(shè)備。本發(fā)明的發(fā)明人已對暫停后發(fā)生的圖像濃度的上述增大進(jìn)行研究。結(jié)果，本發(fā)明 人已發(fā)現(xiàn)所述增大與顯影劑的過度充電之間的相關(guān)性。即，本發(fā)明人認(rèn)為如下通過設(shè)定暫停時(shí)間，使影響由于大量操作而經(jīng)受過度充電的顯影劑的鏡像力變?nèi)?，并且暫停后在打?時(shí)圖像能夠用該顯影劑容易地顯影，由此圖像濃度增大。本發(fā)明的發(fā)明人已基于上述考慮進(jìn)行研究。結(jié)果，本發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)在上述問題的 解決中，特定顯影劑和具有特定表面形狀的顯影劑承載構(gòu)件的組合是有效的。S卩，根據(jù)本發(fā)明的顯影設(shè)備至少包括用于形成靜電潛像的感光鼓；用于顯影靜 電潛像的顯影劑；用于承載并輸送所述顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件；和接近于所述顯影劑承 載構(gòu)件設(shè)置以調(diào)節(jié)通過所述顯影劑承載構(gòu)件承載并輸送的顯影劑量的顯影劑層厚度調(diào)節(jié) 單元，其中所述顯影劑為帶負(fù)電性單組分磁性調(diào)色劑，并包括各自至少包含粘結(jié)劑樹脂和 磁性氧化鐵顆粒的磁性調(diào)色劑顆粒，所述顯影劑在795. 8kA/m的磁場中具有20Am2/kg以上 至40Am2/kg以下的飽和磁化強(qiáng)度，并具有4. 0 μ m以上至8. 0 μ m以下的重均粒徑(D4)，其 中，在所述磁性氧化鐵顆粒中，當(dāng)將所述磁性氧化鐵顆粒溶解以使Fe元素溶解率達(dá)到10質(zhì) 量％時(shí)，F(xiàn)e(2+)量與Fe總量的比X為34%以上至50%以下，所述Fe總量為Fe元素的量； 所述顯影劑承載構(gòu)件至少包括基材、在所述基材上形成的作為表面層的樹脂層，和在所述 基材中設(shè)置的磁性構(gòu)件，所述樹脂層具有負(fù)摩擦帶電的顯影劑，并包含在其結(jié)構(gòu)中具有選 自由-NH2基、=NH基和-NH-鍵組成的組的至少之一的粘結(jié)劑樹脂，用于降低賦予所述顯影 劑以負(fù)摩擦電荷的季銨鹽，各自具有0. 22以上至0. 75以下的石墨化度ρ (002)的石墨化顆 粒，和具有4. 0 μ m至8. 0 μ m的體積平均粒徑的導(dǎo)電性球狀碳顆粒作為用于賦予樹脂層表 面凹凸的顆粒，其中，當(dāng)將在所述顯影劑承載構(gòu)件表面上邊長0. 50mm正方形區(qū)域用與所述 正方形區(qū)域的一邊平行的725條直線，和與所述直線成直角交叉的另外725條直線等分時(shí)， 在其上承載所述顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件的全部區(qū)域具有多個(gè)獨(dú)立的凸部，所述凸部的高 度超過D4/4，相對于在所述725條直線和所述另外725條直線的交叉處測量的三維高度的 平均值(H)，其中在D4/4高度處的所述凸部的面積總和為所述區(qū)域的5%以上至30%以下， 僅從所述凸部測定的算術(shù)平均粗糙度Ra(A)為0. 25 μ m以上至0. 55 μ m以下，以及從除了 所述凸部之外的區(qū)域測定的算術(shù)平均粗糙度Ra(B)為0. 65 μ m以上至1. 20 μ m以下。此外，根據(jù)本發(fā)明的電子照相圖像形成設(shè)備的特征在于包括上述顯影設(shè)備。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，即使在設(shè)置有暫停時(shí)間的非連續(xù)打印模式中，也能夠抑制 圖像濃度的波動(dòng)。


圖1為顯示本發(fā)明的顯影設(shè)備的實(shí)施方案的示意圖。圖2為共焦光學(xué)激光顯微鏡的示意圖。圖3為顯示聚焦時(shí)來自共焦光學(xué)激光顯微鏡的激光光行為的示意圖。圖4為顯示散焦時(shí)來自共焦光學(xué)激光顯微鏡的激光光行為的示意圖。圖5為顯示在本發(fā)明中研磨加工設(shè)備(polishing apparatus)實(shí)例的截面的示意 圖。圖6為在設(shè)置有暫停時(shí)間的非連續(xù)打印模式中圖像濃度變化的說明圖。圖7為示意性顯示在根據(jù)本發(fā)明的顯影劑承載構(gòu)件的樹脂層表面的單位面積中 在[H+(D4/4)]高度處切斷面的平面圖。圖8為示意性顯示沿圖7的線8-8的切斷面的截面圖。
圖9為用于評價(jià)在各實(shí)施例中初期圖像質(zhì)量的圖像的說明圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明的發(fā)明人已對設(shè)置有暫停時(shí)間的非連續(xù)打印模式進(jìn)行研究。結(jié)果，本發(fā)明 人已發(fā)現(xiàn)，當(dāng)在連續(xù)打印1，000張以上后設(shè)置30分鐘至2小時(shí)的暫停時(shí)間時(shí)，在暫停前后 之間易于發(fā)生圖像濃度的差值。如圖6所示，在此情況下濃度差為以下現(xiàn)象暫停后，在 重新開始連續(xù)打印時(shí)的時(shí)間點(diǎn)的圖像濃度高于暫停前的圖像濃度，并且通過連續(xù)打印約 1，000張圖像濃度返回暫停前的圖像濃度。從抑制與暫停前圖像濃度相比暫停后圖像濃度的波動(dòng)的觀點(diǎn)，本發(fā)明人已對顯影 劑的電特性以及顯影劑承載構(gòu)件的組分和表面形狀進(jìn)行研究。保持顯影劑的摩擦帶電量恒定在抑制圖像濃度的波動(dòng)中是有效的。換言之，以下 方法是有效的快速進(jìn)行顯影劑的摩擦帶電，并抑制過度的摩擦帶電?？紤]到前述，本發(fā)明的發(fā)明人已進(jìn)行廣泛研究同時(shí)關(guān)注用于顯影劑的磁性氧化鐵 顆粒和顯影劑承載構(gòu)件的組分，以及顯影劑的粒徑與顯影劑承載構(gòu)件的表面形狀之間的關(guān) 系。結(jié)果，本發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)其中組合特定顯影劑和特定顯影劑承載構(gòu)件的顯影設(shè)備能夠更 好地抑制圖像濃度的上述波動(dòng)。下文中，將通過優(yōu)選實(shí)施方案詳細(xì)地描述本發(fā)明。首先，將參考顯示根據(jù)本發(fā)明的顯影設(shè)備的輪廓截面的圖1進(jìn)行說明。根據(jù)本發(fā) 明的顯影設(shè)備包括顯影劑116;貯存所述顯影劑的容器(顯影劑容器)109 ；用于承載所述顯影劑并用于輸送所述顯影劑至顯影區(qū)域D的顯影劑承載構(gòu)件 105 ；和用于調(diào)節(jié)通過所述顯影劑承載構(gòu)件承載并輸送的顯影劑量的顯影劑層厚度調(diào)節(jié) 構(gòu)件(磁性刮板)107，所述顯影劑層厚度調(diào)節(jié)構(gòu)件接近于所述顯影劑承載構(gòu)件設(shè)置。此外，顯影設(shè)備通過以下步驟形成調(diào)色劑圖像當(dāng)通過磁性刮板107在顯影劑承 載構(gòu)件105上形成顯影劑層時(shí)，將在顯影劑承載構(gòu)件105上的顯影劑輸送至與靜電潛像承 載構(gòu)件106相對的顯影區(qū)域D，然后用輸送的顯影劑顯影在靜電潛像承載構(gòu)件106上的靜電 潛像。<顯影劑>所述顯影劑為具有包含粘結(jié)劑樹脂和磁性氧化鐵顆粒的磁性調(diào)色劑顆粒的帶負(fù) 電性單組分磁性調(diào)色劑，并滿足以下要求(Al)至(A3)(Al)在795. 8kA/m的磁場中飽和磁化強(qiáng)度為20Am2/kg以上至40Am2/kg以下；(A2)重均粒徑(D4)為4. 0 μ m以上至8. 0 μ m以下；禾口(A3)直到Fe元素溶解率達(dá)到10質(zhì)量％時(shí)，F(xiàn)e (2+)量與溶解的磁性氧化鐵顆粒的 Fe總量的比X為34%以上至50%以下。 要求(Al) 當(dāng)飽和磁化強(qiáng)度超過40Am2/kg時(shí)，必須相對大量地加入磁性氧化鐵顆粒，因此由 于調(diào)色劑顆粒之間的磁內(nèi)聚性(magneticcohesiveness)導(dǎo)致圖像易于用比必需量更大量 的顯影劑來顯影，并且圖像缺陷如飛散易于發(fā)生。另一方面，當(dāng)飽和磁化強(qiáng)度小于20Am2/kg時(shí)，通過磁性構(gòu)件的磁結(jié)合力(binding force)變?nèi)?，因此顯影劑承載構(gòu)件輸送力的降低和 不穩(wěn)定化易于發(fā)生，并且圖像缺陷如飛散易于發(fā)生。
要求(A2) 根據(jù)本發(fā)明的帶負(fù)電性單組份磁性調(diào)色劑具有4. 0 μ m以上至8. 0 μ m以下的重均 粒徑(D4)。當(dāng)重均粒徑(D4)小于4. Ομπι時(shí)，在一種調(diào)色劑顆粒中的磁性粉末的量相對減 少，因此使用磁性氧化鐵顆粒的效果變得更小。此外，調(diào)色劑顆粒的表面積增大，因此在連 續(xù)打印時(shí)顯影劑易于經(jīng)受過度充電。因此，對于抑制與暫停前圖像濃度相比暫停后圖像濃 度的波動(dòng)，小于4. Ομπι的重均粒徑(D4)是不利的。另一方面，當(dāng)重均粒徑(D4)超過8. Ομπι 時(shí)，調(diào)色劑顆粒的表面積降低，因此顯影劑的帶電量易于不足。因此，對于抑制圖像濃度的 波動(dòng)或降低，超過8. Ομπι的重均粒徑(D4)是不利的。 要求(A3) 關(guān)于要求(A3)，F(xiàn)e元素溶解率為顯示當(dāng)從它們的表面開始溶解時(shí)磁性氧化鐵顆 粒溶解程度的指標(biāo)。其中Fe元素溶解率為0質(zhì)量％的狀態(tài)為其中沒有磁性氧化鐵顆粒溶 解的狀態(tài)。其中Fe元素溶解率為10質(zhì)量％的狀態(tài)為以下狀態(tài)其中磁性氧化鐵顆粒的表面 溶解以使相對于磁性氧化鐵顆粒的Fe總量剩余90質(zhì)量％的Fe。因此，短語“直到Fe元素 溶解率達(dá)到10質(zhì)量％時(shí)的溶解的Fe總量”是指在磁性氧化鐵顆粒的溶解區(qū)域中存在的Fe 總量。此外，比X為Fe (2+)量與Fe總量的比。此外，其中Fe元素溶解率為100質(zhì)量％的狀態(tài)為其中磁性氧化鐵顆粒完全溶解的 狀態(tài)。當(dāng)比X為小于34%時(shí)，在連續(xù)耐久時(shí)顯影劑易于經(jīng)受過度充電，因此與暫停前圖 像濃度相比暫停后圖像濃度的波動(dòng)易于發(fā)生。當(dāng)比X超過50%時(shí)，磁性氧化鐵顆粒易于氧 化，因此如在前述的情況下，圖像濃度的波動(dòng)易于發(fā)生。此外，在磁性氧化鐵顆粒中，X與Y的比(Χ/Υ)優(yōu)選大于1. 00至1. 30以下，其中 X和Y如下定義Χ表示當(dāng)Fe元素溶解率相對于Fe總量為10質(zhì)量％時(shí)，F(xiàn)e (2+)(下文中也 稱為“表面Fe (2+) ”)的量與溶解的Fe總量的比；Y表示在剩余90質(zhì)量％中Fe(2+)(下文 中也稱為“內(nèi)部Fe(2+)”)的量與Fe總量的比。比X/Y表示在磁性氧化鐵顆粒表面上的Fe (2+)與在磁性氧化鐵顆粒內(nèi)部的 Fe (2+)之間的豐度比。當(dāng)該比X/Y超過1.00時(shí)，在磁性氧化鐵顆粒表面上的Fe(2+)量大 于磁性氧化鐵顆粒內(nèi)部的Fe (2+)量，因此抑制顯影劑過度充電的效果變得更高。此外，當(dāng) 該比X/Y為1. 30以下時(shí)，在磁性氧化鐵顆粒內(nèi)部的Fe (2+)量也變得合適，因此不會(huì)極大地 損失Fe (2+)量的平衡，并且摩擦帶電性能夠容易地變穩(wěn)定。雖然為什么通過使用在它們的表面上具有增大的Fe (2+)量的磁性氧化鐵顆粒的 顯影劑能夠獲得上述效果的原因理論上還沒有闡明，但本發(fā)明的發(fā)明人認(rèn)為原因如下所 述。當(dāng)將具有設(shè)定為落入本發(fā)明中規(guī)定范圍內(nèi)的在它們表面上的Fe (2+)量的磁性氧 化鐵顆粒用于顯影劑時(shí)，F(xiàn)e (2+)與Fe(3+)之間的電荷交換在各磁性氧化鐵顆粒表面附近 有效進(jìn)行。結(jié)果，在各磁性氧化鐵顆粒中的電荷轉(zhuǎn)移變得平穩(wěn)，顯影劑的摩擦帶電性可能變 得更穩(wěn)定。此外，用于本發(fā)明的顯影劑和顯影劑承載構(gòu)件能夠協(xié)同作用從而抑制圖像濃度的波動(dòng)。此外，為了可控制表面Fe (2+)量的比X穩(wěn)定地落入本發(fā)明的范圍內(nèi)，優(yōu)選通過將 金屬元素引入各磁性氧化鐵顆粒內(nèi)形成核顆粒(core particle)，并在核顆粒表面上形成 包含各種金屬元素的涂層。在所有元素中，首先，以下是特別優(yōu)選的由于用于本發(fā)明的顯 影劑與顯影劑承載構(gòu)件的摩擦帶電性穩(wěn)定化，各磁性氧化鐵顆粒在其中包含硅，并且在磁 性氧化鐵顆粒表面上，形成包含硅和鋁的涂層。以硅元素計(jì)在核顆粒中硅的量優(yōu)選0. 20質(zhì)量％以上至1. 50質(zhì)量％以下，或更優(yōu) 選0. 25質(zhì)量％以上至1. 00質(zhì)量％以下，相對于磁性氧化鐵顆粒整體。以Si元素計(jì)在涂層 中硅的量優(yōu)選0. 05質(zhì)量％以上至0. 50質(zhì)量％以下，相對于磁性氧化鐵顆粒整體。此外，以 鋁元素計(jì)在涂層中鋁的量優(yōu)選0. 05質(zhì)量％以上至0. 50質(zhì)量％以下，或更優(yōu)選0. 10質(zhì)量％ 以上至0. 25質(zhì)量％以下，相對于磁性氧化鐵顆粒整體。通過將金屬元素的含量設(shè)定在上述 范圍內(nèi)，用于本發(fā)明的顯影劑與顯影劑承載構(gòu)件的摩擦帶電性易于穩(wěn)定化。此外，考慮到在 磁性調(diào)色劑顆粒中的分散性和黑色調(diào)(blacktint)，對于用于本發(fā)明的磁性氧化鐵顆粒更 優(yōu)選具有八面體形狀。用于本發(fā)明的磁性氧化鐵顆粒具有優(yōu)選0. 10 μ m以上至0. 30 μ m以下，或更優(yōu)選 0. IOym以上至0. 20 μ m以下的平均一次粒徑。通過將磁性氧化鐵顆粒的平均一次粒徑設(shè) 定為0. 20 μ m以下，能夠?qū)⒋判苑勰┚鶆虻胤稚⒂诖判哉{(diào)色劑顆粒中，并且能夠增強(qiáng)抑制 顯影劑的過度充電的效果。此外，通過將磁性氧化鐵顆粒的平均一次粒徑設(shè)定為0. IOum 以上，抑制Fe (2+)被氧化，并且能夠更穩(wěn)定地控制Fe (2+)量。此外，在795. 8kA/m的外部磁場中，磁性氧化鐵顆粒具有優(yōu)選86. OAmVkg以上， 或更優(yōu)選87. 0Am2/kg以上的磁化強(qiáng)度。在此情況下，在顯影套筒上特別有利地形成磁穗 (magneticears)，因而能夠獲得良好的顯影性。要使用的磁性氧化鐵顆粒的含量優(yōu)選20質(zhì)量份以上至150質(zhì)量份以下，或更優(yōu)選 50質(zhì)量份以上至120質(zhì)量份以下，相對于100質(zhì)量份顯影劑的粘結(jié)劑樹脂。通過將該含量 設(shè)定在該范圍內(nèi)，能夠?qū)@影劑的飽和磁化強(qiáng)度控制為期望的值。 生產(chǎn)方法》可將生產(chǎn)磁性顆粒的通常方法用作生產(chǎn)用于本發(fā)明的磁性氧化鐵顆粒的方法。以 下將具體描述特別優(yōu)選的生產(chǎn)方法。用于本發(fā)明的磁性氧化鐵顆粒可通過氧化氫氧化亞鐵漿料產(chǎn)生，所述氫氧化亞 鐵漿料通過將亞鐵鹽的水溶液與堿溶液混合并中和而獲得。要使用的亞鐵鹽僅必須為水溶性鹽，亞鐵鹽的實(shí)例包括硫酸亞鐵和氯化亞鐵。此 外，也優(yōu)選將水溶性硅酸鹽(如硅酸鈉)加入并混合于亞鐵鹽中，以使以硅元素計(jì)的水溶性 硅酸鹽含量可為0. 20質(zhì)量％以上至1. 50質(zhì)量％以下，相對于磁性氧化鐵顆粒的最終總量。接下來，將所得的包含硅元素的亞鐵鹽水溶液混合并用堿溶液中和，以能夠生產(chǎn) 氫氧化亞鐵漿料。此處，可將堿金屬氫氧化物的水溶液如氫氧化鈉的水溶液或氫氧化鉀的 水溶液用作堿溶液。在生產(chǎn)氫氧化亞鐵漿料時(shí)堿溶液的量僅必須依賴于各磁性氧化鐵顆粒的所需形 狀來調(diào)節(jié)。具體地，當(dāng)調(diào)節(jié)該量以使氫氧化亞鐵漿料的PH為小于8.0時(shí)獲得球狀顆粒。此 外，當(dāng)調(diào)節(jié)該量以使PH為8.0以上至9. 5以下時(shí)獲得六面體顆粒；當(dāng)調(diào)節(jié)該量以使pH超過
89. 5時(shí)獲得八面體顆粒?？紤]到前述，適當(dāng)調(diào)節(jié)該量。為了可從如此制備的氫氧化亞鐵漿料中獲得氧化鐵顆粒，進(jìn)行氧化反應(yīng)，同時(shí)將 氧化性氣體，或優(yōu)選空氣吹入該漿料中。在吹入該氧化性氣體期間，通過加熱將該漿料的溫 度保持在優(yōu)選60至100°C，或特別優(yōu)選80至95°C下。重要的是控制氧化反應(yīng)以可將在磁性氧化鐵顆粒中的比X控制為落入本發(fā)明的 范圍內(nèi)。具體地，優(yōu)選隨著氫氧化亞鐵氧化的進(jìn)行逐漸減少吹入的氧化性氣體的量，以使在 最終階段吹入的氣體的量小。在進(jìn)行如上所述的該多階段氧化反應(yīng)時(shí)，可以選擇性地增大 在氧化鐵顆粒表面上的Fe (2+)量。當(dāng)將空氣用作氧化性氣體時(shí)，對于包含100摩爾鐵元素 的漿料，優(yōu)選如下所述控制吹入空氣的量。吹入空氣的量在以下范圍內(nèi)逐漸減少該量為10至80升/min，或優(yōu)選10至50升/min，直到將50%氫氧化亞鐵轉(zhuǎn)化為 氧化鐵；該量為5至50升/min，或優(yōu)選5至30升/min，直到將大于50%至75%以下的氫 氧化亞鐵轉(zhuǎn)化為氧化鐵；該量為1至30升/min，或優(yōu)選2至20升/min，直到將大于75%至90%以下的氫 氧化亞鐵轉(zhuǎn)化為氧化鐵；和在大于90 %的氫氧化亞鐵轉(zhuǎn)化為氧化鐵的階段，該量為1至15升/min，或特別地 2 至 8 升 /min。接下來，將硅酸鈉的水溶液和硫酸鋁的水溶液同時(shí)裝入氧化鐵顆粒的所得漿料 中，并將該混合物的PH調(diào)整為5以上至9以下，以可在各顆粒的表面上形成包含硅和鋁的 涂層。將各自具有涂層的磁性氧化鐵顆粒的所得漿料通過普通方法進(jìn)行過濾、洗滌、干燥和 粉碎處理，以可獲得磁性氧化鐵顆粒。此外，考慮到改進(jìn)在磁性調(diào)色劑顆粒中的磁性氧化鐵 顆粒的細(xì)分散性，在生產(chǎn)磁性氧化鐵顆粒時(shí)優(yōu)選將剪切應(yīng)力(shear stress)施加至該漿 料，從而使磁性氧化鐵顆粒一次松散。接下來，將描述粘結(jié)劑樹脂。作為粘結(jié)劑樹脂，可使用以下化合物苯乙烯類樹脂、 苯乙烯類共聚物樹脂、聚酯樹脂、多元醇樹脂、聚氯乙烯樹脂、酚醛樹脂、天然改性的酚醛樹 脂、天然樹脂改性的馬來酸樹脂、丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、聚醋酸乙烯酯、硅酮樹脂、 聚氨酯樹脂、聚酰胺樹脂、呋喃樹脂、環(huán)氧樹脂、二甲苯樹脂、聚乙烯縮丁醛、萜烯樹脂、香豆 酮-茚樹脂(cumarone-indene resin)和石油類樹脂。其中，優(yōu)選使用的樹脂的實(shí)例包括 苯乙烯類共聚物樹脂、聚酯樹脂、聚酯樹脂和苯乙烯類共聚物樹脂的混合物，或通過聚酯樹 脂和苯乙烯類共聚物樹脂的部分反應(yīng)獲得的雜化樹脂。在聚酯樹脂或雜化樹脂中構(gòu)成聚酯類單元的單體的實(shí)例包括以下化合物。醇組分的實(shí)例包括以下乙二醇；丙二醇；1，3_ 丁二醇；1，4_ 丁二醇；2，3_ 丁二 醇；二甘醇；三甘醇；1，5_戊二醇；1，6_己二醇；新戊二醇；2-乙基-1，3-己二醇；氫化雙酚 A ；以及由以下結(jié)構(gòu)式(1)表示的雙酚衍生物；和由以下結(jié)構(gòu)式(2)表示的二醇。結(jié)構(gòu)式(1) (在結(jié)構(gòu)式中(1)，R表示乙烯或丙烯基，χ和y各自獨(dú)立地表示1以上的整數(shù)，x+y 的平均值為2至10。)結(jié)構(gòu)式(2)
\ — /(在該式中，R'表示-CH2CH2_、-CH2-CH(CH3) _，或-CH2-C(CH3)2_。)酸組分的實(shí)例包括以下苯二羧酸或其酸酐如鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、間苯二甲 酸和鄰苯二甲酸酐；烷基二羧酸或其酸酐如琥珀酸、己二酸、癸二酸和壬二酸；用具有6以 上至小于18個(gè)碳原子的烷基或鏈烯基各自取代的琥珀酸或其酸酐；以及不飽和二羧酸如 富馬酸、馬來酸、檸康酸和衣康酸，或它們的酸酐。此外，聚酯樹脂或聚酯類單元優(yōu)選包括由3價(jià)以上的多價(jià)羧酸或其酸酐和/或3 價(jià)以上的多元醇形成的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。3價(jià)以上的多價(jià)羧酸或其酸酐的實(shí)例包括1，2，4_苯三甲 酸、1，2，4-環(huán)己三酸、1，2，4-萘三羧酸和1，2，4，5-苯四甲酸，和其酸酐或其低級烷基酯。3 價(jià)以上的多元醇的實(shí)例包括1，2，3_丙三醇、三羥甲基丙烷、己三醇和季戊四醇。其中，因?yàn)閷Νh(huán)境變化的優(yōu)異摩擦穩(wěn)定性，特別優(yōu)選芳香族醇如1，2，4_苯三甲酸 和其酸酐。構(gòu)成苯乙烯類共聚物樹脂或雜化樹脂的苯乙烯類共聚物樹脂單元的乙烯基類單 體的實(shí)例包括以下化合物。苯乙烯類如鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、對甲氧基苯乙烯、對苯 基苯乙烯、對氯苯乙烯、3，4_ 二氯苯乙烯、對乙基苯乙烯、2，4_ 二甲基苯乙烯、對正丁基苯 乙烯、對叔丁基苯乙烯、對正己基苯乙烯、對正辛基苯乙烯、對正壬基苯乙烯、對正癸基苯 乙烯和對正十二烷基苯乙烯，及其衍生物；苯乙烯不飽和單烯烴如乙烯、丙烯、丁烯和異丁 烯；不飽和多烯如丁二烯和異戊二烯；乙烯基鹵化物如氯乙烯、1，1-二氯乙烯、溴乙烯和氟 乙烯；乙烯基酯如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯；α -亞甲基脂肪族單羧酸酯如 甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁 酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸硬脂 酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯和甲基丙烯酸二乙氨基乙酯；丙烯酸酯如丙 烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸 十二烷基酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸2-氯乙酯和丙烯酸苯酯；乙烯基醚 如乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚和乙烯基異丁基醚；乙烯基酮如乙烯基甲基酮、乙烯基己基 酮和甲基異丙烯基酮；N-乙烯基化合物如N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咔唑、N-乙烯基吲哚 和N-乙烯基吡咯烷酮；乙烯基萘；和丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯衍生物如丙烯腈、甲基丙烯 腈和丙烯酰胺。此外，可示例以下不飽和二元酸如馬來酸、檸康酸、衣康酸、鏈烯基琥珀酸、富馬 酸和中康酸；不飽和二元酸酸酐如馬來酸酐、檸康酸酐、衣康酸酐和鏈烯基琥珀酸酐；不飽 和二元酸半酯如馬來酸甲酯半酯、馬來酸乙酯半酯、馬來酸丁酯半酯、檸康酸甲酯半酯、檸 康酸乙酯半酯、檸康酸丁酯半酯、衣康酸甲酯半酯、鏈烯基琥珀酸甲酯半酯、富馬酸甲酯半 酯和中康酸甲酯半酯；不飽和二元酸酯如馬來酸二甲酯和富馬酸二甲酯；α，β-不飽和酸如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸和肉桂酸；α，β-不飽和酸酐如巴豆酸酐和肉桂酸酐；上述 α，β-不飽和酸和低級脂肪酸的酸酐；以及各自具有羧基的單體如鏈烯基丙二酸、鏈烯基 戊二酸和鏈烯基己二酸，及其酸酐和其單酯。此外，單體的實(shí)例包括丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯如丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙 烯酸2-羥基乙酯和甲基丙烯酸2-羥基丙酯；和各自具有羥基的單體如4- (1-羥基-1-甲 基丁基)苯乙烯和4-(1_羥基-1-甲基己基)苯乙烯。苯乙烯類共聚物樹脂或苯乙烯類共聚物樹脂單元可具有其中與具有兩個(gè)以上乙 烯基的交聯(lián)劑形成交聯(lián)鍵的交聯(lián)結(jié)構(gòu)。要用于該情況的交聯(lián)劑的實(shí)例包括芳香族二乙烯 基化合物(二乙烯基苯和二乙烯基萘)；通過烷基鏈鍵合的二丙烯酸酯化合物(二丙烯酸 乙二醇酯、二丙烯酸1，3- 丁二醇酯、二丙烯酸1，4- 丁二醇酯、二丙烯酸1，5-戊二醇酯、二 丙烯酸1，6_己二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯，和通過將上述化合物的丙烯酸酯改變?yōu)榧谆?丙烯酸酯得到的那些)；通過各自包含醚鍵的烷基鏈鍵合的二丙烯酸酯化合物(例如，二 丙烯酸二甘醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸四甘醇酯、二丙烯酸聚乙二醇#400酯、二 丙烯酸聚乙二醇#600酯、二丙烯酸二丙二醇酯，和通過將上述化合物的丙烯酸酯改變?yōu)榧?基丙烯酸酯得到的那些)；以及通過各自包含芳香族基團(tuán)和醚鍵的鏈鍵合的二丙烯酸酯化 合物[聚氧乙烯(2)-2，2_雙(4-羥苯基)丙烷二丙烯酸酯、聚氧乙烯(4)-2，2_雙(4-羥 苯基)丙烷二丙烯酸酯，以及通過將上述化合物的丙烯酸酯改變?yōu)榧谆┧狨サ玫降哪?些]；聚酯類二丙烯酸酯化合物(由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的〃 MANDA“)。多官能交聯(lián)劑的實(shí)例包括以下三丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸三羥甲基乙酯、三 丙烯酸三羥甲基丙酯、四丙烯酸四羥甲基甲酯、丙烯酸低聚酯(oligoester acrylate)，以 及通過將上述化合物的丙烯酸酯改變?yōu)榧谆┧狨サ玫降哪切?；氰脲酸三烯丙酯；和?苯三酸三烯丙酯。這些交聯(lián)劑各自可以優(yōu)選0. 01質(zhì)量份以上至10質(zhì)量份以下，或更優(yōu)選0. 03質(zhì)量 份以上至5質(zhì)量份以下的量使用，相對于100質(zhì)量份其他單體組分。在這些交聯(lián)劑中，考 慮到定影性和耐污損性，適合用于粘結(jié)劑樹脂的交聯(lián)劑的實(shí)例包括芳香族二乙烯基化合物 (特別地，二乙烯基苯)和通過各自包含芳香族基團(tuán)和醚鍵的鏈鍵合的二丙烯酸酯化合物。用于聚合苯乙烯類共聚物樹脂或苯乙烯類共聚物樹脂單元的聚合引發(fā)劑的實(shí)例 包括以下2，2'-偶氮二異丁腈、2，2' _偶氮二(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)、2，2'-偶 氮二(2，4_ 二甲基戊腈)、2，2' _偶氮二(2-甲基丁腈)、二甲基_2，2'-偶氮二異丁酯、 1，1' _偶氮二(1-環(huán)己腈)、2_(氨基甲?；嫉?_異丁腈、2，2'-偶氮二(2，4，4_三 甲基戊烷)、2_苯基偶氮-2，4-二甲基-4-甲氧基戊腈、2，2'-偶氮二(2-甲基丙烷)、過 氧化酮如過氧化甲乙酮、過氧化乙酰丙酮和過氧化環(huán)己酮、2，2_ 二(叔丁基過氧基)丁烷、 叔丁基過氧化氫、氫過氧化枯烯、1，1，3，3_四甲基丁基過氧化氫、二叔丁基過氧化物、叔丁 基枯基過氧化物、過氧化二枯基、α，α ‘ -二 (叔丁基過氧化異丙基)苯、異丁基過氧化 物、過氧化辛酰、過氧化癸酰、過氧化月桂酰、過氧化3，5，5-三甲基己酰、過氧化苯甲酰、過 氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二 -2-乙基己酯、過氧化二碳酸二正丙酯、過氧化碳酸 二-2-乙氧基乙酯、過氧化二碳酸二甲氧基異丙酯、二(3-甲基-3-甲氧基丁基)過氧化碳 酸酯、過氧化乙酰環(huán)己基磺酰、過氧乙酸叔丁酯、過氧異丁酸叔丁酯、過氧新癸酸叔丁酯、過 氧-2-乙基己酸叔丁酯、過氧月桂酸叔丁酯、過氧苯甲酸叔丁酯、過氧異丙基碳酸叔丁酯、
11過氧間苯二甲酸二叔丁酯、過氧烯丙基碳酸叔丁酯、過氧-2-乙基己酸叔戊酯、過氧六氫對 苯二酸二叔丁酯和過氧壬二酸二叔丁酯。當(dāng)將雜化樹脂用作粘結(jié)劑樹脂時(shí)，苯乙烯類共聚物樹脂組分和/或聚酯樹脂組分 優(yōu)選包含能夠與兩種樹脂組分反應(yīng)的單體組分。在各自形成聚酯樹脂組分的單體中，能夠 與苯乙烯類共聚物樹脂組分反應(yīng)的單體為，例如，不飽和二羧酸如鄰苯二甲酸、馬來酸、檸 康酸或衣康酸，或所述不飽和二羧酸的酸酐。在各自形成苯乙烯類共聚物樹脂組分的單體 中，能夠與聚酯樹脂組分反應(yīng)的單體為，例如，具有羧基或羥基的單體，或丙烯酸酯或甲基 丙烯酸酯。苯乙烯類共聚物樹脂與聚酯樹脂反應(yīng)的方法優(yōu)選包括以下的方法在包含各自能 夠與所述樹脂之一反應(yīng)的任一種上述單體組分的聚合物存在下，進(jìn)行苯乙烯類共聚物樹脂 和聚酯樹脂的任一個(gè)或兩者的聚合反應(yīng)。在雜化樹脂中聚酯類單元和苯乙烯類共聚物單元之間的質(zhì)量比優(yōu)選50/50至 90/10，或更優(yōu)選60/40至85/15。當(dāng)聚酯類單元和苯乙烯類共聚物單元之間的比落入上述 范圍內(nèi)時(shí)，易于獲得良好的摩擦帶電性，并且顯影劑的貯存穩(wěn)定性和脫模劑的分散性易于 變得合適。此外，從顯影劑的定影性的觀點(diǎn)，在粘結(jié)劑樹脂的四氫呋喃(THF)可溶性物質(zhì)的 GPC中，分別地，重均分子量Mw優(yōu)選5，000以上至1，000, 000以下，重均分子量Mw與數(shù)均分 子量Mn的比Mw/Mn為1以上至50以下。此外，從顯影劑的定影性和貯存穩(wěn)定性的觀點(diǎn)，粘結(jié)劑樹脂具有優(yōu)選45°C以上至 600C以下，或更優(yōu)選45°C以上至58°C以下的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。此外，如上所述的該粘結(jié)劑樹脂可各自單獨(dú)使用?？蛇x地，具有不同軟化點(diǎn)的兩種 樹脂，即高軟化點(diǎn)樹脂(H)和低軟化點(diǎn)樹脂(L)，可作為具有質(zhì)量比H/L為100/0至30/70， 或優(yōu)選100/0至40/60的混合物使用。術(shù)語“高軟化點(diǎn)樹脂”是指具有100°C以上軟化點(diǎn)的 樹脂，術(shù)語“低軟化點(diǎn)樹脂”是指具有低于100°C軟化點(diǎn)的樹脂。優(yōu)選該體系，因?yàn)橐韵略?因能夠相對容易地設(shè)計(jì)顯影劑的分子量分布，并且能夠獲得寬的定影區(qū)域。此外，當(dāng)該質(zhì) 量比落入上述范圍內(nèi)時(shí)，在捏合時(shí)施加適度的剪切應(yīng)力，因此易于獲得磁性氧化鐵顆粒的 良好分散性。在顯影劑中，如果需要可使用脫模劑(蠟)以獲得脫模性。作為蠟，考慮到在磁性 調(diào)色劑顆粒中的分散性和高脫模性，特別優(yōu)選使用烴類蠟如低分子量聚乙烯、低分子量聚 丙烯，微晶蠟和石蠟。如果需要，可單獨(dú)使用一種脫模劑，或可組合使用其兩種以上。作為 實(shí)例給出以下。脂族烴類蠟的氧化物如聚環(huán)氧乙烷蠟或其嵌段共聚物；主要由脂肪酸酯組成的蠟 如巴西棕櫚蠟(carnauba wax)、沙索蠟(sasol wax)和褐煤酸酯蠟；以及部分或全部脫氧 的脂肪酸酯如脫氧巴西棕櫚蠟?？蛇M(jìn)一步示例以下。飽和直鏈脂肪酸如棕櫚酸、硬脂酸 和褐煤酸；不飽和脂肪酸如巴西烯酸、桐酸和十八碳四烯酸；飽和醇如硬脂醇、芳烷基醇、 二十二烷醇、二十四烷醇、二十六烷醇和三十烷醇；長鏈烷基醇；多元醇例如山梨醇；脂肪 酸酰胺例如亞油酸酰胺、油酸酰胺和月桂酸酰胺；飽和脂肪酸雙酰胺例如亞甲基雙硬脂酸 酰胺、亞乙基雙癸酸酰胺、亞乙基雙月桂酸酰銨和六亞甲基雙硬脂酸酰胺；不飽和脂肪酸酰 胺例如亞乙基雙油酸酰胺、六亞甲基雙油酸酰胺、N，N' - 二油基己二酸酰胺和N，N' -二
12油基癸二酸酰胺；芳香族雙酰胺例如間二甲苯雙硬脂酸酰胺和N，N' - 二硬脂?；g苯二 甲酸酰胺；脂肪酸金屬鹽(通常稱為金屬皂)如硬脂酸鈣、月桂酸鈣、硬脂酸鋅和硬脂酸鎂； 用乙烯基類單體如苯乙烯和丙烯酸將脂肪烴類蠟接枝獲得的蠟；脂肪酸和多元醇的部分酯 化的化合物如二十二酸單甘油酯；和通過植物油的氫化獲得的各自具有羥基的甲基酯化合 物。特別優(yōu)選使用的脫模劑包括脂族烴類蠟。脂族烴類蠟的實(shí)例包括以下通過在高 壓下使烯烴進(jìn)行自由基聚合或通過使用齊格勒(Ziegler)催化劑在減壓下聚合烯烴獲得 的低分子量烯烴聚合物；通過熱分解高分子量烯烴聚合物獲得的烯烴聚合物；以及從烴蒸 餾時(shí)由殘余物獲得的合成烴蠟，所述烴通過老化(Age)法從含一氧化碳和氫氣的合成氣體 獲得，和通過該氣體的氫化獲得的合成烴蠟；以及通過使用加壓發(fā)汗法、溶劑法、真空蒸餾 法或分級結(jié)晶法通過分餾這些脂族烴類蠟獲得的蠟。其中，優(yōu)選具有少量分枝的小的飽和 直鏈烴，并特別優(yōu)選通過不包括聚合烯烴的方法合成的烴，這是因?yàn)槠浞肿恿糠植??？墒褂?的脫模劑的具體實(shí)例包括以下BiscoK 商標(biāo))330-P、550-P、660-P 和 TS-200 (Sanyo ChemicalIndustries, Ltd.) ；Hiwax 400P、200P、100P、410P、420P、320P、220P、210P 和 IlOP(Mitsui Chemicals, Inc.) ；Sasol HI、H2、C80、C105 和 C77 (Schumann Sasol) ；HNP-U HNP-3、HNP-9、HNP-10、 HNP-Il 和 HNP-12(NIPPON SEIRO CO. , LTD) ；Unilin(商標(biāo))350,425,550 和 700 以 及 Unisid(商標(biāo))350、425、550 和 700(T0Y0-PETR0LITE)；以及漆脂(haze wax)、蜂賭 (beeswax)、米糠蠟(rice wax)、小燭樹蠟(candelilla wax)和巴西棕櫚蠟(CERARICA NODA Co. , Ltd. ) ο脫模劑可在生產(chǎn)磁性調(diào)色劑顆粒期間熔融_捏合時(shí)加入，或可在生產(chǎn)粘結(jié)劑樹脂 時(shí)加入，因而加入的時(shí)間從現(xiàn)存方法中適當(dāng)選擇。此外，可單獨(dú)使用這些脫模劑的一種，或 可組合使用它們的兩種以上。優(yōu)選以相對于100質(zhì)量份粘結(jié)劑樹脂1質(zhì)量份以上至20質(zhì)量份以下的量加入脫 模劑。當(dāng)該量落入上述范圍內(nèi)時(shí)，能夠充分獲得脫模效果。此外，能夠獲得在磁性調(diào)色劑顆 粒中的良好分散性，并能夠抑制顯影劑對感光構(gòu)件的粘附和顯影構(gòu)件或清潔構(gòu)件表面的污
^fe ο可將電荷控制劑引入顯影劑中以使顯影劑的摩擦帶電性穩(wěn)定化。通常，每100質(zhì) 量份粘結(jié)劑樹脂，優(yōu)選0. 1質(zhì)量份以上至10質(zhì)量份以下，或更優(yōu)選0. 1質(zhì)量份以上至5質(zhì) 量份以下的量加入電荷控制劑，雖然該量依賴于電荷控制劑的種類和用于磁性調(diào)色劑顆粒 的其他組分的物理性質(zhì)而變化。電荷控制劑為用于控制顯影劑為帶負(fù)電性的電荷控制劑或 為用于控制顯影劑為帶正電性的電荷控制劑。在本發(fā)明中，依賴于顯影劑的種類和應(yīng)用，優(yōu) 選使用一種或兩種以上用于控制顯影劑為帶負(fù)電性的電荷控制劑。用于控制顯影劑為帶負(fù)電性的電荷控制劑的實(shí)例包括有機(jī)金屬配合物(如單偶 氮金屬配合物和乙酰丙酮金屬配合物)；和芳香族羥基羧酸或芳香族二羧酸的金屬配合 物或金屬鹽。用于控制顯影劑為帶負(fù)電性的電荷控制劑的其它實(shí)例包括芳香族單羧酸和 聚羧酸，及其金屬鹽和酸酐；酯和苯酚衍生物如雙酚。其中，特別優(yōu)選使用芳香族羥基羧酸 的金屬配合物或金屬鹽，因?yàn)槠涮峁┓€(wěn)定的帶電性能。此外，可使用電荷控制樹脂以及如上 所述的該電荷控制劑。
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可使用的電荷控制劑的具體實(shí)例包括以下Spilon BlackTRH, T_77和 T-95 (Hodogaya Chemical Co.，Ltd.)；以及 B0NTR0N (注冊商標(biāo))S-34、S-44、S-54、E-84、 E-88 禾口 E-89(Orient Chemical Industries, LTD.)。此外，優(yōu)選將外部添加劑加入在顯影劑中的各磁性調(diào)色劑顆粒中，以改進(jìn)帶電穩(wěn) 定性、顯影性、流動(dòng)性和耐久性；特別優(yōu)選外部加入二氧化硅細(xì)粉。二氧化硅細(xì)粉優(yōu)選具有30m2/g以上(特別優(yōu)選50m2/g以上至400m2/g以下)的 通過基于氮?dú)馕降腂ET法的比表面積。二氧化硅細(xì)粉優(yōu)選以相對于100質(zhì)量份磁性調(diào) 色劑顆粒0. 01質(zhì)量份以上至8. 00質(zhì)量份以下，或更優(yōu)選0. 10質(zhì)量份以上至5. 00質(zhì)量份 以下的量使用。二氧化硅細(xì)粉的BET比表面積可通過采用BET多點(diǎn)法同時(shí)使氮?dú)馕街?二氧化硅細(xì)粉表面來計(jì)算。在該測量中可使用比表面積測量設(shè)備(商品名AUT0S0RB1 ； 由 Yuasa Ionics Inc.制造，商品名GEMINI 2360/2375 ；由 Micromeritics Instrument Corporation 造，或商品名Tristar3000 ；由 Micromeritics Instrument Corporation 制造，等)。此外，二氧化硅細(xì)粉可用處理劑處理以使該粉末疏水化或控制摩擦帶電性。處理 劑的實(shí)例包括未改性的有機(jī)硅清漆、改性的有機(jī)硅清漆、未改性的硅油、各種改性的硅油、 硅烷偶聯(lián)劑、各自具有官能團(tuán)的硅烷化合物，和其他有機(jī)硅化合物。如果需要，可向顯影劑中加入其他外部添加劑。該外部添加劑的實(shí)例包括各自用 作帶電助劑、導(dǎo)電性賦予劑、流動(dòng)性賦予劑、抗結(jié)塊劑、用于熱輥的脫模劑、潤滑劑或研磨劑 等的樹脂細(xì)顆粒和無機(jī)細(xì)顆粒。潤滑劑的實(shí)例包括聚氟乙烯粉末、硬脂酸鋅粉末和聚偏二氟乙烯粉末。這些中，優(yōu) 選聚偏二氟乙烯粉末。研磨劑的實(shí)例包括氧化鈰粉末、碳化硅粉末和鈦酸鍶粉末。其中，優(yōu)選鈦酸鍶粉末。流動(dòng)性賦予劑的實(shí)例包括氧化鈦粉末和氧化鋁粉末。其中，優(yōu)選已進(jìn)行疏水化處 理的粉末。導(dǎo)電性賦予劑的實(shí)例包括炭黑粉末、氧化鋅粉末、氧化銻粉末和氧化錫粉末。此外，還可將少量彼此極性相反的白色和黑色微粒用作顯影性改進(jìn)劑。用于本發(fā)明的顯影劑的制造方法不特別限定，顯影劑可通過粉碎法獲得，所述 粉碎法如以下所述的這些。磁性調(diào)色劑顆?？赏ㄟ^以下獲得將粘結(jié)劑樹脂、著色劑和 其他添加劑借助于混合機(jī)如亨舍爾(Henschel)混合機(jī)或球磨機(jī)充分混合；借助于熱 捏合機(jī)如熱輥、捏合機(jī)或擠出機(jī)熔融和捏合該混合物；然后，將捏合的產(chǎn)物冷卻以固化 (solidification)；然后，將固化產(chǎn)物粉碎并分級。此外，如果需要，借助于混合機(jī)如亨舍爾 混合機(jī)將外部添加劑與磁性調(diào)色劑顆粒充分混合，由此獲得顯影劑?；旌蠙C(jī)的實(shí)例包括以下亨舍爾混合機(jī)(由MITUI MINING. Co.，Ltd.制造)； Super混合機(jī)(由KAWATA MFG Co. ,Ltd.制造)；Ribocone (由 0KAWARA CORPORATION制造)； 諾塔(Nauta)混合機(jī)、Turbulizer 和 Cyclomix (由 Hosokawa Micron 制造)；SpiralPin 混 合機(jī)(由 Pacific Machinery & Engineering Co.，Ltd.制造)；和 Loedige 混合機(jī)(由 MATSUB0 Corporation 制造)。捏合機(jī)的實(shí)例包括以下KRC捏合機(jī)(由KurimotoIronworks Co.，Ltd.制造)；Buss共捏合機(jī)(由Buss Co.，Ltd.制造)；TEM型擠出機(jī)(由TOSHIBA MACHINE Co.，Ltd.制造)；TEX 雙軸擠出機(jī)(由 The Japan Steel Works, Ltd.制造)；PCM 捏 合機(jī)(由Ikegai machinery Co.制造)；三輥式磨機(jī)、混合輥磨機(jī)和捏合機(jī)(由Inoue Manufacturing Co. ,Ltd.制造)；Kneadex(Mitsui MiningCo.，Ltd.制造)；MS 型壓力捏合 機(jī)禾口 Kneader-Ruder (由 MoriyamaManufacturing Co. , Ltd.制造)；禾口班伯里(B anbury) 混合機(jī)(由Kobe Steel, Ltd.制造)。磨機(jī)的實(shí)例包括以下反式噴磨機(jī)、Micron Jet禾口 Inomizer (由Hosokawa Micron 制造)；IDS型磨機(jī)和PJM噴磨機(jī)(由NipponPneumatic MFG Co.，Ltd.制造)；交叉噴磨 機(jī)(Cross Jet Mill)(由 Kurimoto Tekkosho KK 制造)；Ulmax(由 Nisso Engineering Co. ,Ltd.制造)；SK Jet O-Mill (由 Seishin Enterprise Co. ,Ltd.制造)；Criptron(由 Kawasaki Heavy Industries, Ltd.制造)；禾口 Turbo 磨機(jī)(由 Turbo Kogyo Co. , Ltd.制 造)；和超級轉(zhuǎn)子(Super Rotor)(由 Nisshin Engineering Inc.制造)。分級機(jī)的實(shí)例包括以下ClaSSiel、超微(Micron)分級機(jī)和Spedic分級機(jī)(由 Seishin Enterprise Co. , Ltd.制造)；Turbo 分級機(jī)(由 Nisshin Engineering Inc.制 造)；超微(Micron)分離機(jī)、Turboprex (ATP)和 TSP 分離機(jī)(由 Hosokawa Micron 制造)； ElbowJet (由 Nittetsu Mining Co.，Ltd.制造)；分散分離機(jī)(由 NipponPneumatic MFG Co. , Ltd.制造)；和YM Microcut (由YasukawaShoji K. K.制造)。用于篩分粗顆粒的篩 分機(jī)的實(shí)例包括以下Ultra sonic (由 Koei Sangyo Co. , Ltd.制造)；Rezona Sieve 和 GyroSifter (由 Tokuju Corporation 制造)；Vibrasonic System(由 Dalton Co. , Ltd.制 造)；Sonicreen (由 Shinto Kogyo K. K.蹄選)；Turbo-Screener (由 Turbo Kogyo Co., Ltd.制造)；Microsifter (由 Makino mfg. co. , Ltd.制造)；以及圓振動(dòng)篩。<顯影劑承載構(gòu)件105>根據(jù)本發(fā)明的顯影劑承載構(gòu)件至少具有基體、在所述基體上形成的作為表面層的 樹脂層，和在所述基體中設(shè)置的磁性構(gòu)件。此外，樹脂層包含以下材料(Bi)至(B4)，并使上 述顯影劑為負(fù)摩擦帶電(Bi)在其結(jié)構(gòu)中具有選自-NH2基、=NH基和-NH-鍵的至少之一的粘結(jié)劑樹脂；(B2)用于降低樹脂層賦予所述顯影劑以負(fù)摩擦電荷的性能的季銨鹽；(B3)具有0. 22以上至0. 75以下石墨化度ρ (002)的石墨化顆粒；以及(Β4)具有4. O μ m至8. O μ m的體積平均粒徑的導(dǎo)電性球狀碳顆粒作為用于賦予樹 脂層表面凹凸的顆粒。此外，在其上承載顯影劑的整個(gè)顯影劑承載構(gòu)件部分具有滿足以下要求(Cl)至 (C3)的表面形狀(Cl)相對于在以下地方測量的三維高度的平均值(H)，存在高于D4/4的多個(gè)獨(dú)立 的凸部在與顯影劑承載構(gòu)件表面上邊長0. 50mm正方形區(qū)域的一邊平行的725條直線和與 該直線成直角交叉的725條直線的交叉點(diǎn)，此時(shí)該正方形區(qū)域通過所述直線等分時(shí)；(C2)在隊(duì)/4高度處的凸部的面積總和為所述區(qū)域面積的5%以上至30%以下；和(C3)僅從所述凸部測定的算術(shù)平均粗糙度Ra(A)為0. 25 μ m以上至0. 55 μ m以 下，從除了所述凸部之外的區(qū)域測定的算術(shù)平均粗糙度Ra(B)為0.65μπι以上至1.20μπι 以下。
要求(B) 作為根據(jù)本發(fā)明的顯影劑承載構(gòu)件表面層的樹脂層包含以下材料(Bi)至(B4)， 并具有賦予上述顯影劑以負(fù)摩擦電荷的上述性能(Bi)在其結(jié)構(gòu)中具有選自-NH2基、=NH基和-NH-鍵的至少之一的粘結(jié)劑樹脂；(B2)用于降低樹脂層賦予所述顯影劑以負(fù)摩擦電荷的性能的季銨鹽；(B3)具有0. 22以上至0. 75以下石墨化度ρ (002)的石墨化顆粒；以及(Β4)具有4. 0 μ m以上至8. 0 μ m以下的體積平均粒徑的導(dǎo)電性球狀碳顆粒作為用 于賦予樹脂層表面凹凸的顆粒。 <要求(B3)石墨化顆粒>>>用于本發(fā)明的石墨化顆粒具有0. 22以上至0. 75以下的石墨化度ρ (002)。石墨化 度ρ(002)稱為富蘭克林(Franklin' s) ρ值，并通過測量從石墨的X-射線衍射光譜得到的 晶面間距(gratingspace)d(002)從以下方程確定d(002) = 3. 440-0. 086 (1_ρ2)。P 值表 示碳的六方網(wǎng)絡(luò)平面堆積的無序部分的比；P值越小，石墨化度越大。當(dāng)石墨化度p(002)為0.22以上至0. 75以下時(shí)，顯影劑的摩擦帶電性變得良好， 可使顯影劑快速地進(jìn)行摩擦帶電。此外，當(dāng)石墨化顆粒的石墨化度落入該范圍內(nèi)時(shí)，由于石 墨化顆粒的硬度增大，能夠改進(jìn)樹脂層的耐研磨性。當(dāng)ρ (002)超過0.75時(shí)，石墨化顆粒的耐研磨性變得優(yōu)良，但它們的導(dǎo)電性和潤滑 性下降。結(jié)果，顯影劑的過度充電易于發(fā)生，因此在暫停前后之間的圖像濃度的波動(dòng)易于發(fā) 生。當(dāng)ρ (002)為小于0.22時(shí)，由于石墨化顆粒的耐研磨性劣化，導(dǎo)致表面的耐研磨性、用 于顯影劑的樹脂層的機(jī)械強(qiáng)度和電荷賦予性可能下降，因此圖像濃度的波動(dòng)易于發(fā)生?？紤]到耐研磨性，石墨化顆粒優(yōu)選通過煅燒中間相碳微球顆?；蛘w中間相浙青 顆粒獲得，或更優(yōu)選通過煅燒整體中間相浙青顆粒獲得的石墨化顆粒。這些顆粒是光學(xué)各 向異性的并由單相組成，因而，能夠增大石墨化度，并且通過將顆粒石墨化獲得的石墨化顆 粒能夠保持聚集的形狀(基本為球狀)。中間相碳微球顆粒和整體中間相浙青顆粒的光 學(xué)各向異性由芳香族分子的層壓產(chǎn)生，該層壓結(jié)構(gòu)的秩序性(order)通過石墨化處理而增 強(qiáng)，由此獲得具有高石墨化度的石墨化顆粒。通過上述方法獲得的石墨化顆粒在其原材料和生產(chǎn)步驟方面與由人造石墨或天 然石墨形成并通常用于在顯影劑承載構(gòu)件表面上的樹脂層的結(jié)晶石墨不同。因此，石墨化 顆粒各自具有與通常使用的結(jié)晶石墨可比的高導(dǎo)電性和高潤滑性，雖然石墨化顆粒具有比 通常使用的結(jié)晶石墨略低的石墨化度。此外，石墨化顆粒具有以下特性石墨化顆粒的形狀 為聚集的形狀而不象通常使用的結(jié)晶石墨的片狀或針狀，各顆粒本身的硬度相對高。因此， 用于本發(fā)明的石墨化顆粒可容易地均勻分散于樹脂層中，因此樹脂層表面可提供均勻的表 面粗糙度和耐研磨性，并且可將樹脂層表面形狀的變化抑制到很小。此外，當(dāng)將石墨化顆粒 用于在顯影劑承載構(gòu)件表面上的樹脂層時(shí)，與使用通常的結(jié)晶石墨的情況相比，能夠改進(jìn) 樹脂層賦予顯影劑以摩擦電荷的性能。當(dāng)將中間相碳微球顆粒用作用于獲得用于本發(fā)明的石墨化顆粒的原材料時(shí)，優(yōu)選 將中間相碳微球顆粒用不會(huì)使顆粒破碎的溫和的力進(jìn)行機(jī)械的一次分散。這是因?yàn)橐种剖?墨化顆粒結(jié)合，并能夠獲得均勻的粒徑。將已經(jīng)歷一次分散的中間相碳微球顆粒在200°C至1，5000C的溫度下在惰性氣氛下進(jìn)行一次加熱處理以碳化。如在前述的情況下，優(yōu)選將已經(jīng)歷一次加熱處理的碳化物用 不會(huì)使碳化物破碎的溫和的力進(jìn)行機(jī)械分散以抑制石墨化顆粒結(jié)合，并能夠獲得均勻的粒徑。將已經(jīng)歷二次分散處理的碳化物在約2，000°C至3，500°C下在惰性氣氛下進(jìn)行二 次加熱處理，由此獲得期望的石墨化顆粒。以下將描述獲得中間相碳微球顆粒的代表性方 法。首先，將煤重油或石油重油在300°C至500°C的溫度下進(jìn)行熱處理，以進(jìn)行縮聚。因而， 生產(chǎn)粗中間相碳微球顆粒。將生產(chǎn)的粗中間相碳微球顆粒進(jìn)行處理如過濾、靜置沉降或離 心分離，以能夠分離中間相碳微球顆粒。其后，將分離的顆粒用溶劑如苯、甲苯或二甲苯洗 滌，進(jìn)一步，干燥。因而，獲得中間相碳微球顆粒。接下來，將描述其中將整體中間相浙青顆粒用作用于獲得用于本發(fā)明的石墨化顆 粒的原材料的情況。為了可使整體中間相浙青顆粒石墨化，首先，將整體中間相浙青顆粒細(xì) 碎為具有2 μ m至25 μ m尺寸的顆粒，并將該細(xì)顆粒在約200°C至350°C下在空氣中進(jìn)行熱 處理，以使該顆粒能夠被輕微地氧化。通過氧化處理使僅整體中間相浙青顆粒表面不熔化， 因此抑制該顆粒在下一步驟中在石墨化熱處理時(shí)熔融或熔融粘附。氧化的整體中間相浙青 顆粒優(yōu)選具有5質(zhì)量％至15質(zhì)量％的氧含量。當(dāng)氧含量小于5質(zhì)量％時(shí)，可促進(jìn)熱處理時(shí) 顆粒的熔融粘附。此外，當(dāng)氧含量超過15質(zhì)量％時(shí)，即使顆粒內(nèi)部被氧化，顆粒也被石墨化 同時(shí)具有破碎的形狀，結(jié)果在一些情況下難以獲得球狀顆粒。接下來，將上述氧化的整體中間相浙青顆粒在約2，000°C至3，500°C下在惰性氣 氛如氮?dú)饣驓鍤庀逻M(jìn)行熱處理，由此獲得期望的石墨化顆粒。獲得整體中間相浙青顆粒的方法為，例如，包括以下的方法通過溶劑分離從煤焦 油浙青提取β-樹脂并將β-樹脂進(jìn)行氫化和重質(zhì)化處理(heavy treatment)以提供整體 中間相浙青顆粒，或包括以下的方法在重質(zhì)化處理后細(xì)碎所得物，并用苯或甲苯等除去溶 劑可溶性物質(zhì)以提供整體中間相浙青顆粒。用于本發(fā)明的整體中間相浙青顆粒優(yōu)選具有95質(zhì)量％以上含量的喹啉可溶性物 質(zhì)。當(dāng)使用具有小于95質(zhì)量％含量的喹啉可溶性物質(zhì)的顆粒時(shí)，顆粒內(nèi)部難以進(jìn)行液相碳 化，因此，進(jìn)行固相碳化，因此顆粒保持它們的破碎形狀，在一些情況下不能獲得球狀顆粒。在包括使用上述原材料之一的生產(chǎn)石墨化顆粒的方法中，石墨化顆粒的煅燒溫度 優(yōu)選2，000°C至3，500°C，或更優(yōu)選2，300°C至3，200°C。當(dāng)煅燒溫度低于2，000°C時(shí)，石墨 化顆粒的石墨化度不充分，并且它們的導(dǎo)電性和潤滑性降低，在一些情況下發(fā)生連續(xù)打印 時(shí)顯影劑的過度充電，因此在暫停前后之間的圖像濃度的波動(dòng)易于發(fā)生。當(dāng)煅燒溫度超過 3，500°C時(shí)，石墨化顆粒可能具有過高的石墨化度。結(jié)果，石墨化顆粒的硬度降低，并且在一 些情況下，由于石墨化顆粒的耐研磨性劣化而導(dǎo)致樹脂層表面的耐研磨性、樹脂層的機(jī)械 強(qiáng)度和樹脂層賦予顯影劑電荷的性能下降，因此圖像濃度易于波動(dòng)。此外，與從原材料之一 生產(chǎn)石墨化顆粒的方法無關(guān)，石墨化顆粒的粒徑分布優(yōu)選通過分級均勻至一定程度，以能 夠使樹脂層表面形狀均勻化。當(dāng)在樹脂層截面中進(jìn)行測量時(shí)，用于本發(fā)明的石墨化顆粒的算術(shù)平均粒徑(Dn) 優(yōu)選0. 50 μ m以上至3. 00 μ m以下。在此情況下，賦予樹脂層表面以均勻粗糙度的效果和 改進(jìn)樹脂層帶電性能的效果高，因此顯影劑能夠快速且穩(wěn)定地帶電。此外，與樹脂層研磨 有關(guān)的顯影劑的過度充電、污染和熔融粘附難以發(fā)生。結(jié)果，能夠有效地抑制圖像濃度的波
17動(dòng)或減小。此外，能夠更有效地抑制暫停前后之間圖像濃度的波動(dòng)。〈《導(dǎo)電劑》〉在本發(fā)明中，為了調(diào)節(jié)樹脂層的體積電阻率的目的，可將導(dǎo)電劑與石墨化顆粒一 起分散并加入樹脂層中。用于本發(fā)明的導(dǎo)電劑為，例如，具有ι μ m以下，或優(yōu)選0. 01至 0.8μπι數(shù)均粒徑的導(dǎo)電性細(xì)顆粒。當(dāng)導(dǎo)電性細(xì)顆粒的數(shù)均粒徑超過Iym時(shí)，其變的難以 控制樹脂層的體積電阻率至低值，并且由于顯影劑的過度充電導(dǎo)致的顯影劑的污染易于發(fā)生。導(dǎo)電劑的實(shí)例包括粉末狀金屬如鋁、銅、鎳和銀的細(xì)顆粒；金屬氧化物如氧化 銻、氧化銦、氧化錫、氧化鈦、氧化鋅、氧化鉬和鈦酸鉀；炭黑如碳纖維、爐黑、燈黑、熱裂炭 黑、乙炔黑和槽黑；碳化物如石墨；和金屬纖維。其中，炭黑，特別是導(dǎo)電性無定形碳合適用于本發(fā)明。這是因?yàn)橐韵略蛱亢诘?導(dǎo)電性特別優(yōu)良，將其加入聚合物材料中以賦予聚合物材料以導(dǎo)電性，并僅通過控制加入 的炭黑的量，使導(dǎo)電性能夠任意改變至一定程度。另外，在本發(fā)明中，該導(dǎo)電性物質(zhì)優(yōu)選相 對于100質(zhì)量份粘結(jié)劑樹脂以1質(zhì)量份至100質(zhì)量份的量加入。當(dāng)該量小于1質(zhì)量份時(shí)， 通常難以降低樹脂層的電阻率至期望水平。當(dāng)該量超過100質(zhì)量份時(shí)，可降低樹脂層的強(qiáng) 度(耐研磨性)，特別是在使用具有亞微米級粒徑的細(xì)粉末的情況下。應(yīng)注意，樹脂層的體積電阻率優(yōu)選104Ω · cm以下，或更優(yōu)選10_3Ω · cm以上至 IO3 Ω · cm以下。當(dāng)樹脂層的體積電阻率超過IO4 Ω · cm時(shí)，在連續(xù)打印時(shí)可能發(fā)生顯影劑 的過度充電，因此暫停前后之間的圖像濃度的波動(dòng)易于發(fā)生?！础兑?Bi)和(B2) >用于本發(fā)明的樹脂層具有在其結(jié)構(gòu)中具有-NH2基、=NH基和-NH-鍵中的至少 之一的粘結(jié)劑樹脂；和用于降低粘結(jié)劑樹脂的負(fù)摩擦帶電賦予性的季銨鹽。將適合用于本發(fā)明的季銨鹽均勻地分散于在其結(jié)構(gòu)中具有-NH2基、=NH基 和-NH-鍵中的至少之一的樹脂中，雖然對于前述的原因不清楚。在通過用熱對樹脂硬化而 進(jìn)行交聯(lián)時(shí)，季銨鹽與-NH2基、=NH基或-NH-鍵進(jìn)行一定相互作用，從而進(jìn)入粘結(jié)劑樹脂 的骨架。然后，其中加入季銨鹽的粘結(jié)劑樹脂開始發(fā)揮季銨離子的抗衡離子的電荷極性。結(jié) 果，樹脂層起到防止在連續(xù)打印耐久時(shí)顯影劑的負(fù)摩擦帶電量逐漸變得過剩的作用，雖然 樹脂層具有上述性能而使根據(jù)本發(fā)明的顯影劑進(jìn)行負(fù)摩擦帶電(下文中稱為“負(fù)摩擦帶電 賦予性”)。即，用于顯影劑的樹脂層的負(fù)摩擦帶電賦予性降低。結(jié)果，能夠控制顯影劑的負(fù) 摩擦帶電量。 <要求(Bi)粘結(jié)劑樹脂 >作為包括-NH2基的物質(zhì)，可列舉以下。由R-NH2表示的伯胺或包括伯胺的多胺，由RCO-NH2表示的伯酰胺或包括伯酰胺的 聚酰胺。作為包括=NH基的物質(zhì)，可列舉以下。由R = NH表示的仲胺或包括仲胺的多胺，和由(RCO)2 = NH表示的仲胺或包括仲 酰胺的聚酰胺。作為包括-NH-鍵的物質(zhì)，可列舉以下。除了上述多胺和聚酰胺之外，示例包括-NHCOO-鍵的聚氨酯。包括一種或兩種以
上如上所述物質(zhì)或包括共聚物形式的這些物質(zhì)的工業(yè)合成樹脂。其中，當(dāng)將樹脂形成樹脂層時(shí)，考慮到多功能性，優(yōu)選各自使用氨作為介質(zhì)的酚 醛樹脂、聚酰胺樹脂和聚氨酯樹脂，考慮到強(qiáng)度，更優(yōu)選酚醛樹脂。具有-NH2基、=NH基 和-NH-鍵之一的酚醛樹脂為，例如，在其生產(chǎn)步驟中通過使用含氮化合物如氨作為催化劑 來生產(chǎn)的酚醛樹脂。將作為催化劑的含氮化合物直接參與聚合反應(yīng)，并且即使在反應(yīng)完成 后也存在于酚醛樹脂中。例如，通常確認(rèn)，當(dāng)在氨催化劑存在下進(jìn)行聚合時(shí)，生產(chǎn)稱作氨甲 階酚醛樹脂(ammonia resol)的中間體；即使在反應(yīng)完成后，氨催化劑也存在于酚醛樹脂 中同時(shí)形成由以下結(jié)構(gòu)式(3)表示的結(jié)構(gòu)。結(jié)構(gòu)式(3) 適合用于本發(fā)明的含氮化合物可為酸性催化劑或堿性催化劑。酸性催化劑的實(shí)例 包括銨鹽或胺鹽如硫酸銨、磷酸銨、氨基磺酸銨、碳酸銨、乙酸銨或馬來酸銨。堿性催化劑 的實(shí)例包括氨；氨基化合物如二甲胺、二乙胺、二異丙胺、二異丁胺、二戊胺、三甲胺、三乙 胺、三正丁胺、三戊胺、二甲基芐基胺、二乙基芐基胺、二甲基苯胺、二乙基苯胺、N，N-二正 丁基苯胺、N, N- 二戊基苯胺、N, N- 二叔戊基苯胺、N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、二乙醇 胺、三乙醇胺、二甲基乙醇胺、二乙基乙醇胺、乙基二乙醇胺、正丁基二乙醇胺、二正丁基乙 醇胺、三異丙醇胺、乙二胺和六亞甲基四胺；吡啶及其衍生物，如吡啶、α “甲基吡啶、β _甲 基吡啶、Y -甲基吡啶和2，4_ 二甲基吡唳，以及2，6_ 二甲基吡啶；如咪唑及其衍生物的含 氮雜環(huán)化合物，例如喹啉化合物、咪唑、2-甲基咪唑、2，4-二甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪 唑、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑和2-十七烷基咪唑。可以通過例如紅外吸收光譜 (IR)或核磁共振光譜(NMR)來分析這些酚醛樹脂的結(jié)構(gòu)。作為聚酰胺樹脂，可優(yōu)選使用以下尼龍6、66、610、11、12、9、13 ；Q2尼龍；包括這
些尼龍作為主要組分的尼龍共聚物；N-烷基改性尼龍；和N-烷氧基烷基改性尼龍。此外， 可優(yōu)選使用以下包括聚酰胺的樹脂，例如，用聚酰胺改性的各種樹脂，如聚酰胺改性酚醛 樹脂，或其中將聚酰胺樹脂用作硬化劑的環(huán)氧樹脂?？蓪⑷魏螛渲瑑?yōu)選用作聚氨酯樹脂，只要該樹脂包括聚氨酯鍵即可。聚氨酯鍵通 過在聚異氰酸酯和多元醇之間的加成聚合反應(yīng)來達(dá)到。用作用于聚氨酯樹脂的主要原材料的聚異氰酸酯的實(shí)例包括二苯基甲烷_4， 4' -二異氰酸酯(MDI)、異氟爾酮二異氰酸酯(isophorone diisocyanate) (IPDI)、聚亞甲 基聚苯基聚異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、1，5_亞萘基二異氰酸酯、4， 4' _ 二環(huán)己基甲烷二異氰酸酯、碳二亞胺改性的二苯基甲烷_4，4' - 二異氰酸酯、三甲基 六亞甲基二異氰酸酯、鄰甲苯胺二異氰酸酯(orthotoluidine diisocyanate)、亞萘基二異 氰酸酯(naphthylene diisocyanate)、二甲苯二異氰酸酯、對苯二異氰酸酯、賴氨酸二異氰 酸酯甲基酯(lysine diisocyanate methyl ester)和二異氰酸二甲酯。用作用于聚氨酯樹脂的主要原材料的多元醇的實(shí)例包括以下聚酯多元醇如聚己二酸乙二醇酯(polyethylene adipate)、聚己二酸丁二醇酯(polybutylene adipate)、聚己二酸二乙二酉享酉旨(polydiethylene glycol adipate)、聚己 二酸己二醇酉旨(polyhexeneadipate)禾口聚己酸內(nèi)酉旨(polycaprolactone ester)；以及聚謎 多元醇如聚丁二醇和聚丙二醇?！础兑?B2)季銨鹽〉》作為季銨鹽，示例由以下結(jié)構(gòu)式(4)表示的物質(zhì)。結(jié)構(gòu)式(4) 在上述結(jié)構(gòu)式(4)中，R1至R4各自獨(dú)立地表示可具有取代基的烷基，或可具有取 代基的芳基或芳烷基，Γ表示酸的陰離子。在上述結(jié)構(gòu)式(4)中由Γ表示的酸離子的實(shí)例 包括有機(jī)硫酸鹽離子、有機(jī)磺酸鹽離子、有機(jī)磷酸鹽離子、鉬酸鹽離子、鎢酸鹽離子和包含 鉬原子或鎢原子的雜多酸。適合用于本發(fā)明的季銨鹽的實(shí)例包括列于以下表I至III的那些。表I
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表II
21 表III 當(dāng)在顯影劑承載構(gòu)件上形成通過組合使用上述季銨鹽和具有特定結(jié)構(gòu)的樹脂形 成的樹脂層時(shí)，樹脂層起到防止顯影劑過度摩擦帶電的作用，由此能夠控制顯影劑的負(fù)摩 擦帶電量。因而，能夠防止在顯影劑承載構(gòu)件上的顯影劑的過度充電，并能夠保持顯影劑的 摩擦帶電穩(wěn)定性。結(jié)果，能夠抑制圖像濃度的波動(dòng)。在樹脂層中季銨鹽的含量優(yōu)選5質(zhì)量份至50質(zhì)量份，相對于100質(zhì)量份在樹脂層 中的粘結(jié)劑樹脂。在此情況下，能夠容易地控制用于本發(fā)明的顯影劑的摩擦帶電量至穩(wěn)定 值。設(shè)定季銨鹽的含量在上述范圍內(nèi)能夠有效地抑制顯影劑的過度充電。此外，能夠抑制 由于顯影劑的摩擦帶電量過度減少導(dǎo)致的圖像濃度的減小。
(B4)導(dǎo)電性球狀碳顆粒y>用于本發(fā)明的凹凸賦予顆粒為具有4.0μπι至8.0μπι體積平均粒徑的導(dǎo)電性球 狀碳顆粒。將導(dǎo)電性球狀碳顆粒加入以降低顯影劑承載構(gòu)件樹脂層的表面粗糙度的變化，以 致難以發(fā)生顯影劑的污染和熔融粘附，并賦予樹脂層表面以如后所述的期望的表面形狀。 此外，導(dǎo)電性球狀碳顆粒與在樹脂層中的石墨化顆粒相互作用以發(fā)揮以下效果導(dǎo)電性球 狀碳顆粒增強(qiáng)石墨化顆粒的帶電性能，增強(qiáng)快速和穩(wěn)定的帶電性，并抑制圖像濃度的波動(dòng)。在用于本發(fā)明的導(dǎo)電性球狀碳顆粒中的術(shù)語“球狀”不限于完美球形，而是指具有 其長軸與其短軸的比為ι. ο至1. 5的顆粒。在本發(fā)明中，更優(yōu)選使用各自具有其長軸與其 短軸的比為1. 0至1. 2的球狀顆粒，特別優(yōu)選使用完美球狀顆粒。當(dāng)使各球形顆粒具有在 上述數(shù)值范圍內(nèi)的其長軸與其短軸的比時(shí)，在樹脂層中球狀顆粒的分散性變好。因此，該球 狀顆粒在以下方面是有效的使樹脂層表面的粗糙度均勻化；穩(wěn)定地賦予顯影劑電荷；并 維持樹脂層的強(qiáng)度。在本發(fā)明中，導(dǎo)電性球狀碳顆粒的長軸和短軸用通過以電子顯微鏡在6，000放大 倍率下拍攝顆粒而獲得的放大照片來測量。測量從放大照片中隨機(jī)選擇的100個(gè)樣品的長軸和短軸，確定顆粒的長軸與短軸的比，并將該比的平均值定義為各顆粒的長軸與短軸的 比。在導(dǎo)電性球狀碳顆粒的體積平均粒徑小于4. Ομπι的情況下，賦予樹脂層表面以 期望的粗糙度和改進(jìn)樹脂層的帶電性能的效果較小，用于本發(fā)明的顯影劑的快速穩(wěn)定帶電 變得不充分，因此圖像濃度的波動(dòng)易于發(fā)生。此外，用于顯影劑的輸送力減小，因此圖像濃 度的下降易于發(fā)生。因此，不優(yōu)選上述情況。在體積平均粒徑超過8. Ομπι的情況下，樹脂 層表面不能獲得期望的粗糙度，難以使用于本發(fā)明的顯影劑充分地帶電，因此圖像濃度的 下降易于發(fā)生。此外，從基于體積的導(dǎo)電性球狀碳顆粒的粒徑分布確定的變異系數(shù)(variation coefficient)優(yōu)選40%以下，或更優(yōu)選30%以下。設(shè)定變異系數(shù)為40%以下使得易于賦 予樹脂層表面以期望的表面形狀。獲得本發(fā)明的導(dǎo)電性球狀碳顆粒的方法優(yōu)選，但不必須限于以下方法的任何一 種。作為獲得用于本發(fā)明的導(dǎo)電性球狀碳顆粒的方法，例如，可列舉以下方法其中將 球狀樹脂顆?；蛑虚g相碳微球煅燒并碳化和/或石墨化，由此獲得各自具有低密度和良好 導(dǎo)電性的球狀碳顆粒。用于球狀樹脂顆粒的樹脂為，例如，酚醛樹脂、萘樹脂、呋喃樹脂、二甲苯樹脂、二
乙烯基苯聚合物、苯乙烯-二乙烯基苯共聚物，或聚丙烯腈。獲得導(dǎo)電性球狀碳顆粒的優(yōu)選方法如下所述。首先，球狀樹脂顆粒表面通過機(jī)械 化學(xué)方法用整體中間相浙青涂布。接著，將涂布的顆粒在氧化性氣氛下進(jìn)行熱處理，然后在 惰性氣氛下或在真空中煅燒以碳化和/或石墨化。因而，獲得內(nèi)部碳化和外部石墨化的導(dǎo) 電性球狀碳顆粒。該方法是優(yōu)選的，這是因?yàn)檫M(jìn)行通過石墨化獲得各導(dǎo)電性球狀碳顆粒的 涂布部分的結(jié)晶化，并改進(jìn)顆粒的導(dǎo)電性。通過上述方法獲得的導(dǎo)電性球狀碳顆粒優(yōu)選用 于本發(fā)明，這是因?yàn)橐@得的導(dǎo)電性球狀碳顆粒的導(dǎo)電性可通過改變煅燒條件來控制。 要求(Cl)至(C3)>>將描述規(guī)定表面形狀的要求(Cl)至(C3)，在其上承載顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件 的全部區(qū)域應(yīng)具有所述表面形狀?！础兑?Cl)>>>當(dāng)將在顯影劑承載構(gòu)件表面上邊長0. 50mm正方形區(qū)域用與該正方形區(qū)域的一邊 平行的725條直線和與前者725條直線成直角交叉的725條直線等分時(shí)，相對于在前725 條直線和后725條直線的交叉處測量的三維高度的平均值(H)，在該正方形區(qū)域中存在高 于隊(duì)/4的多個(gè)獨(dú)立的凸部。對于規(guī)定具有三維高度的樹脂層的表面形狀的原因如下所述。在JIS(B0601-2001)中限定了測量顯影劑承載構(gòu)件表面形狀的方法。 JIS(B0601-2001)僅描述了二維測量方法，本發(fā)明的發(fā)明人認(rèn)為該方法對于精確理解顯影 劑承載構(gòu)件和顯影劑之間的實(shí)際接觸現(xiàn)象是不充分的。此外，顯影劑承載構(gòu)件與具有幾微 米粒徑的顯影劑接觸以進(jìn)行摩擦帶電?？紤]到前述，本發(fā)明的發(fā)明人認(rèn)為當(dāng)顯影劑承載構(gòu) 件表面形狀的三維測量顯微地進(jìn)行時(shí)，顯影劑承載構(gòu)件和顯影劑之間的顯影性關(guān)系可以更 有利的方式呈現(xiàn)。
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三維高度可用共焦光學(xué)激光顯微鏡測量。共焦光學(xué)激光顯微鏡施加從光源發(fā)射的 激光至對象，并基于物鏡位置上的信息測量對象的形狀，其中在共焦位置處通過光接收元 件接收的從對象反射的激光光量變得最大。共焦光學(xué)激光顯微鏡適合用于顯微測量，這是 因?yàn)楣步构鈱W(xué)激光顯微鏡能夠在1 μ m以下間隔測量顯影劑承載構(gòu)件的表面形狀，雖然該 間隔依賴于透鏡的放大倍率而改變。下文中，將通過采用在稍后要描述的實(shí)施例中用于測量顯影劑承載構(gòu)件的樹脂層 表面形狀的共焦光學(xué)激光顯微鏡(商品名VK-8710 ；由KEYENCE CORPORATION制造)作為 實(shí)例，詳細(xì)地描述共焦光學(xué)激光顯微鏡的測量原理。圖2為顯示共焦光學(xué)激光顯微鏡的裝 置構(gòu)造的示意圖。在該圖中的附圖標(biāo)記E示意性顯示了激光光的路徑。由于激光光源201 為點(diǎn)光源，觀察對象(顯影劑承載構(gòu)件)209通過將觀察區(qū)域分割為1,024X768像素用經(jīng) 由X-Y掃描光學(xué)系統(tǒng)202的光源來掃描。來自各像素的反射光經(jīng)由聚光透鏡203通過光接 收元件204來檢測。在此情況下，來自除了聚焦位置之外位置的激光光可通過在聚光透鏡 203和光接收元件204之間設(shè)置的針孔205來除去，因此聚焦位置的位移(高度信息)可用 接收的光量來判斷。具體地，如圖3所示，在聚焦時(shí)，來自觀察對象309的反射光穿過針孔 305進(jìn)入光接收元件304 ；如圖4所示，在散焦時(shí)，僅來自觀察對象409的部分反射光穿過針 孔405進(jìn)入光接收元件404。聚焦的時(shí)間和散焦的時(shí)間可基于接收的光量的差而彼此不同， 由此獲得高度信息。重復(fù)掃描，同時(shí)沿垂直(Z-軸)方向驅(qū)動(dòng)物鏡206，因而，獲得各像素 對于Z-軸位置的反射光量。將反射激光光量變?yōu)樽畲筇幍耐哥R位置定義為透鏡的聚集位 置(物鏡聚焦的位置)，并且將在此情況下的反射激光的光量貯存在存儲(chǔ)器內(nèi)。同時(shí)，將關(guān) 于透鏡位置的信息作為高度信息記憶。因而，獲得在觀察區(qū)域中關(guān)于三維高度的數(shù)據(jù)。在 圖2至4中，附圖標(biāo)記207、208、308和408表示半鏡，附圖標(biāo)記301和401表示激光光源， 附圖標(biāo)記303和403表示聚光透鏡。對于在顯影劑承載構(gòu)件表面上邊長0.50mm正方形區(qū)域在以下位置處測量三維 高度平行于該正方形區(qū)域一邊的725條直線和與該直線垂直的725條直線的交叉處 (725X725)，當(dāng)該正方形區(qū)域通過所述直線等分時(shí)。然后，將這些值的平均值(H)設(shè)定為樹 脂層凹凸?fàn)顟B(tài)的基準(zhǔn)指標(biāo)。然后，使多個(gè)獨(dú)立的凸部存在于該區(qū)域中，所述凸部相對于所述 平均值(H)具有超過顯影劑的重均粒徑D4的四分之一的高度。即，根據(jù)本發(fā)明的本發(fā)明人 進(jìn)行的研究，已發(fā)現(xiàn)具有超過H+(D4/4)高度的凸部極大地有助于顯影劑的摩擦帶電性，同 時(shí)除了凸部之外的部分極大地有助于顯影劑的輸送性。因此，對于控制顯影劑的摩擦帶電 性，重要的前提是具有超過H+(D4/4)高度的多個(gè)獨(dú)立的凸部存在于上述區(qū)域中?！础兑?C2)>>>接下來，根據(jù)要求(C2)，具有超過H+(D4/4)高度的凸部在H+(D4/4)處的面積總 和與上述區(qū)域的面積的比給出凸部和顯影劑彼此接觸的頻率是高或低的指標(biāo)。設(shè)定該值 為5%以上至30%以下，或特別地10%以上至20%以下使凸部與顯影劑彼此接觸的頻率合 適。因此，該要求在控制顯影劑的帶電性中極其重要。此外，設(shè)定該值在該數(shù)值范圍內(nèi)使得 可以充分保證有助于輸送顯影劑的具有H+(D4/4)以下高度的部分的面積。因此，該要求在 維持顯影劑的良好輸送性中也極其重要?！础兑?C3)>>>此外，涉及要求(C3)的僅從具有超過H+(D4/4)高度的上述凸部測定的算術(shù)平均粗糙度Ra(A)確定了在根據(jù)上述要求(Cl)和(C2)的規(guī)定下由于凸部導(dǎo)致的顯影劑的摩擦 帶電性能。因而，設(shè)定上述Ra(A)在0. 25 μ m以上至0. 55 μ m以下的范圍內(nèi)使得由于凸部 和顯影劑之間的接觸導(dǎo)致的摩擦帶電合適。結(jié)果，可將顯影劑充電至對于良好圖像形成充 分的程度同時(shí)抑制由于過度摩擦帶電導(dǎo)致的顯影劑的過度充電。從除了凸部之外的區(qū)域測定的算術(shù)平均粗糙度Ra(B),確定根據(jù)本發(fā)明的顯影劑 承載構(gòu)件的顯影劑輸送性能。設(shè)定上述Ra(B)在0.65μπι以上至1.20μπι以下的范圍內(nèi)使 顯影劑能夠可靠地輸送。此外，能夠抑制由于過大的顯影劑輸送性導(dǎo)致的顯影劑不充分充 H1^ ο此外，指示沒有從其他區(qū)域分離具有超過H+(D4/4)高度的上述凸部而計(jì)算的表 面層表面形狀的算術(shù)平均粗糙度Ra(總)優(yōu)選設(shè)定為落入0. 60 μ m以上至1. 40 μ m以下 的范圍內(nèi)。設(shè)定Ra(總)在該數(shù)值范圍內(nèi)，使得可以調(diào)節(jié)本發(fā)明中凸部的各算術(shù)平均粗糙 度Ra(A)、凸部區(qū)域的面積和凹陷部的算術(shù)平均粗糙度Ra(B)的每一個(gè)在更優(yōu)選的范圍內(nèi)。 即，當(dāng)算術(shù)平均粗糙度Ra(總)為0. 60 μ m以上時(shí)，輸送顯影劑的力難以變得不充分，并且 顯影劑的過度摩擦帶電難以發(fā)生，因此能夠進(jìn)一步抑制圖像濃度的波動(dòng)。當(dāng)算術(shù)平均粗糙 度Ra (總)為1. 40 μ m以下時(shí)，顯影劑的過度輸送和顯影劑的不充分摩擦帶電難以發(fā)生，因 此能夠進(jìn)一步抑制圖像濃度的波動(dòng)。此外，在顯影劑承載構(gòu)件樹脂層的IS0/FDIS14577中定義的通用硬度(universal hardnesses) (HU)的平均值(U)優(yōu)選400N/mm2以上至650N/mm2以下。在本發(fā)明中，樹脂層表 面的通用硬度 HU 根據(jù) IS0/FDIS14577 用由 Fischer Instruments KK 制造的 Fischerscope H100V(商品名)來測量。將在其相對面之間具有136°角的正方金字塔金剛石壓頭用 于該測量。將壓頭壓為膜同時(shí)階段施加測量負(fù)荷，在施加負(fù)荷的狀態(tài)下測量壓痕深度 (indentation d印th)h (單位mm)。通用硬度HU通過將測試負(fù)荷F (單位N)和壓痕深度 h代入以下方程(5)中來確定，在方程(5)中系數(shù)K為1/26.43。方程(5)HU = KX F/h2 [N/mm2]通用硬度HU可用比任何其他硬度(如洛氏(Rockwell)硬度或維氏(Vickers)硬 度)的情況下更小的負(fù)荷來測量。此外，通用硬度HU適合用于評價(jià)具有彈性或塑性的材料 的硬度，這是因?yàn)槟軌颢@得包括彈性或塑性形變組分的硬度。設(shè)定樹脂層表面的通用硬度HU的平均值(U)在上述數(shù)值范圍內(nèi)使得可以充分地 保證樹脂層的耐久性并有效地抑制涉及使用顯影劑的圖像濃度的波動(dòng)。此外，在該水平下 的硬度消除了對于加入大量高硬度顆粒以改進(jìn)耐久性的需要。因此，沒有損害顯影劑通過 樹脂層的摩擦帶電性。 生產(chǎn)樹脂層的方法》接下來，將描述生產(chǎn)滿足上述要求(Bi)至(B4)和(Cl)至(C3)的顯影劑承載構(gòu) 件的樹脂層的方法。滿足上述要求(Bi)至(B4)和(Cl)至(C3)的樹脂層能夠通過例如以下形成將 樹脂層的各組分分散并混合于溶劑中以制備涂布液，施涂該涂布液至基體上，并干燥所得 物以固化或硬化(curing)所得物。此外，在滿足上述要求的顯影劑承載構(gòu)件的獲得中，使 通過干燥來固化或通過硬化獲得的樹脂層表面通過稍后要描述的預(yù)定方法進(jìn)行研磨加工是極其有效的。首先，在形成樹脂層的各組分在涂布液中的分散和混合中，可適當(dāng)使用利用珠粒 的已知分散設(shè)備如砂磨機(jī)、油漆攪拌器(paint shaker)、Dyno磨機(jī)或珠磨機(jī)。在此情況下， 該珠粒具有優(yōu)選0. 8mm以下，或更優(yōu)選0. 6mm以下的粒徑，以可將各組分均勻地分散并混合 于涂布液中。此外，可將已知方法如浸涂法、噴涂法或輥涂法用作施涂所得涂布液至基體的方 法；優(yōu)選噴涂法，以形成用于本發(fā)明的顯影劑承載構(gòu)件的樹脂層的表面形狀。在通過噴涂法施涂時(shí)霧化涂料的方法為例如以下方法的任一種包括使用空氣的 霧化方法、包括使盤等在高速下旋轉(zhuǎn)的機(jī)械霧化方法、包括通過施加壓力至涂布液以使涂 布液與外部空氣碰撞來噴射涂布液自身的霧化方法，和包括使用超聲振動(dòng)的霧化方法。其 中，包括用空氣霧化涂布液的空氣噴射法是形成根據(jù)本發(fā)明的顯影劑承載構(gòu)件樹脂層的優(yōu) 選方法，原因是施加強(qiáng)力而使涂布液轉(zhuǎn)化為細(xì)顆粒，因此涂料能夠容易地均勻施涂。空氣噴涂方法包括將基體垂直升高以使基體平行于噴槍移動(dòng)的方向；保持基體 與噴槍的噴嘴尖端之間的距離恒定，同時(shí)旋轉(zhuǎn)該基體；并施涂涂布液同時(shí)以恒定速度升高 或降低噴槍，在所述涂布液中將各組分分散并混合于所述基體中。噴槍的移動(dòng)速度優(yōu)選 10mm/s以上至50mm/s以下。優(yōu)選將移動(dòng)速度設(shè)定為落入該范圍內(nèi)，原因是能夠容易地降低 施涂時(shí)不均勻或褶皺的程度，因此樹脂層能夠容易地均勻地形成?；w的旋轉(zhuǎn)速度優(yōu)選依 賴于要使用的基體的直徑而適當(dāng)設(shè)定；當(dāng)將旋轉(zhuǎn)速度設(shè)定為500rpm以上至2，OOOrpm以下 時(shí)，施涂不均勻難以發(fā)生，并且能夠容易地獲得期望的表面形狀。此外，基體和噴嘴尖端之間的距離優(yōu)選依賴于要使用的涂布液而適當(dāng)設(shè)定；當(dāng)將 該距離設(shè)定為30mm以上至70mm以下時(shí)，能夠容易地獲得期望的表面形狀。當(dāng)距基體的距 離增大時(shí)，樹脂層的表面形狀易于粗糙化。此外，將樹脂層的厚度設(shè)定為優(yōu)選50 μ m以下，更優(yōu)選40 μ m以下，或還更優(yōu)選 4 μ m至30 μ m，這是因?yàn)闃渲瑢幽軌蚓鶆颍⑶夷軌蛟O(shè)置有適合于本發(fā)明的表面形狀。當(dāng)在涂布液中的固含量降低時(shí)涂膜的表面粗糙度趨于增大。此外，當(dāng)基體與噴槍 的噴嘴尖端之間的距離增加時(shí)，涂膜的表面粗糙度趨于增大。因此，當(dāng)形成具有特定表面形 狀的樹脂層時(shí)，可通過適當(dāng)?shù)卣{(diào)整在涂布液中的固含量和基體與噴槍的噴嘴尖端之間的距 離來形成具有滿足上述要求(Cl)至(C3)的表面形狀的樹脂層。此外，為了獲得用于本發(fā)明的顯影劑承載構(gòu)件，具有通過上述預(yù)定方法獲得的預(yù) 定表面形狀的樹脂層優(yōu)選用在其表面上承載研磨顆粒(abrasive particles)的帶形研 磨劑(abrasive)來研磨加工。圖5為顯示本發(fā)明中的研磨加工設(shè)備實(shí)例的示意性截面 圖。顯影劑承載構(gòu)件501順時(shí)針或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，并使帶形研磨劑502與顯影劑承載構(gòu)件 501壓接，同時(shí)從排出輥503排出。因而，將帶形研磨劑502沿箭頭F所示方向移向卷取輥 (take-uproller) 504。在此情況下，帶形研磨劑502在帶形研磨劑502與顯影劑承載構(gòu)件 501彼此鄰接的位置處對著顯影劑承載構(gòu)件501摩擦。顯影劑承載構(gòu)件501的樹脂層的凸 部主要通過摩擦來研磨，由此能容易地形成根據(jù)本發(fā)明的表面形狀。此外，將帶形研磨劑在鄰接位置處壓向顯影劑承載構(gòu)件的負(fù)荷優(yōu)選設(shè)定為0. IN 以上至0. 5N以下，以能夠控制樹脂層的表面形狀。帶形研磨劑優(yōu)選具有3cm以上至IOcm以下的寬度。當(dāng)將具有在該范圍內(nèi)寬度的帶形研磨劑沿顯影劑承載構(gòu)件的軸向同時(shí)沿箭頭F所示方向移動(dòng)時(shí)，摩擦不均勻能夠減 少，并且能夠容易地控制本發(fā)明中的樹脂層的凸部的面積總和，和凸部的算術(shù)平均表面粗 糙度。帶形研磨劑沿軸向移動(dòng)的速度優(yōu)選依賴于要使用的帶形研磨劑而適當(dāng)設(shè)定；當(dāng)將該 速度設(shè)定為5mm/s以上至60mm/s以下時(shí)，能夠容易地獲得期望的表面形狀。帶形研磨劑沿箭頭F所示方向移動(dòng)的速度優(yōu)選設(shè)定為5mm/s以上至60mm/s以下。 當(dāng)將該速度設(shè)定為落入該范圍內(nèi)時(shí)，帶形研磨劑的新表面和顯影劑承載構(gòu)件適當(dāng)?shù)乇舜四?擦，因此難以發(fā)生摩擦不均勻，并能夠容易地獲得期望的表面形狀。顯影劑承載構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)速度優(yōu)選依賴于要使用的顯影劑承載構(gòu)件的直徑而適當(dāng) 設(shè)定；當(dāng)將該旋轉(zhuǎn)速度設(shè)定為500rpm以上至2，OOOrpm以下時(shí)，難以發(fā)生摩擦不均勻，并能 夠容易地獲得期望的表面形狀?？蓪⑼ㄟ^將由例如氧化鋁、碳化硅、氧化鉻或金剛石制成的研磨顆粒施涂和固定 至由例如聚酯制成的膜上而獲得的產(chǎn)品用作本發(fā)明中的帶形研磨劑。此外，研磨顆粒優(yōu)選 具有0. 5 μ m至15. 0 μ m的平均一次粒徑。用具有在上述數(shù)值范圍內(nèi)的平均一次粒徑的研 磨顆粒研磨樹脂層使得容易控制樹脂層凸部的算術(shù)平均粗糙度Ra(A)為0. 25 μ m以上至 0. 55ym 以下。
基體 >>用于本發(fā)明的顯影劑承載構(gòu)件的基體為圓筒狀構(gòu)件、圓柱狀構(gòu)件或帶狀構(gòu)件。其 中，由剛體如金屬制成的圓筒管或?qū)嵭陌羰莾?yōu)選的，這是因?yàn)槠鋬?yōu)良的加工精度和優(yōu)良的 耐久性?？蓪⑼ㄟ^使非磁性金屬或合金如鋁、不銹鋼或黃銅成型為圓筒形或圓柱形并通過 使所得物進(jìn)行加工如研磨或磨削而獲得的產(chǎn)物適當(dāng)?shù)赜米骰w?？蛇x地，可將通過在所述 基體上形成橡膠層或樹脂層獲得的產(chǎn)物用作本發(fā)明的基體。將該基體高精度地成型或加工，然后使用，以可改進(jìn)圖像的均勻性。例如，基體沿 其縱向的平直度適合為30 μ m以下，優(yōu)選20 μ m以下，或更優(yōu)選10 μ m以下。在顯影劑承載 構(gòu)件(套筒)旋轉(zhuǎn)同時(shí)與感光鼓接觸，并且在其間設(shè)置均勻間隔件(spacer)的情況下，套 筒與感光鼓之間間隙的波動(dòng)優(yōu)選30 μ m以下，更優(yōu)選20 μ m以下，或還更優(yōu)選10 μ m以下。 優(yōu)選將鋁用于顯影劑承載構(gòu)件的基體，這是因?yàn)槠洳牧铣杀炯叭菀准庸ぁ４送?，對于控制樹脂層的表面形狀?yōu)選的是，用于本發(fā)明的基體優(yōu)選具有如基于 JIS(B0601-2001)測量的0. 5 μ m以下的算術(shù)平均粗糙度Ra (基準(zhǔn)長度(Ir) = 4mm)。<電子照相圖像形成設(shè)備和電子照相圖像形成方法>最后，將參考圖1描述使用根據(jù)本發(fā)明的顯影設(shè)備的電子照相圖像形成設(shè)備，和 包括使用該設(shè)備的電子照相圖像形成方法。用于承載靜電潛像的靜電潛像承載構(gòu)件106如感光鼓106沿箭頭B所示方向旋 轉(zhuǎn)。顯影劑承載構(gòu)件105承載貯存在顯影劑容器109中并具有磁性調(diào)色劑顆粒的顯影劑 (磁性調(diào)色劑)116，并沿箭頭A所示方向旋轉(zhuǎn)以輸送顯影劑至顯影區(qū)域D，在所述顯影區(qū)域 D中，顯影劑承載構(gòu)件105和感光鼓106彼此相對。在顯影劑承載構(gòu)件105中，將磁性構(gòu)件 (磁輥)104設(shè)置在顯影套筒103中，以使顯影劑能夠磁性吸引并保持在顯影劑承載構(gòu)件 105上。顯影套筒103通過在作為基體102的金屬圓筒管上形成樹脂層101以覆蓋該管而 獲得。將顯影劑從顯影劑補(bǔ)充容器(未示出)通過顯影劑供給構(gòu)件115(如螺桿
28(screw))進(jìn)給至顯影劑容器109。將顯影劑容器109分割為第一室112和第二室111，攪拌 和輸送構(gòu)件110使進(jìn)給至第一室112的顯影劑經(jīng)過由顯影劑容器109和分隔構(gòu)件113形成 的間隙，以使顯影劑能夠進(jìn)給至第二室111。顯影劑承載構(gòu)件105依靠來自磁輥104的磁力 作用而承載在其上的顯影劑。用于防止顯影劑滯留的攪拌構(gòu)件114設(shè)置在第二室111中。當(dāng)顯影劑包括磁性調(diào)色劑顆粒時(shí)，磁性調(diào)色劑顆粒之間的摩擦和顯影劑與在顯影 劑承載構(gòu)件105表面上的樹脂層101之間的摩擦提供能夠使在感光鼓106上的靜電潛像顯 影的摩擦帶電電荷。安裝由鐵磁性金屬制成的磁性刮板(magnetic blade)(刮刀(doctor blade))作為顯影劑層厚度調(diào)節(jié)構(gòu)件107，以能夠調(diào)節(jié)輸送至顯影區(qū)域D的顯影劑的層厚 度。將磁性刮板107典型地安裝在顯影劑容器109上，以具有從顯影劑承載構(gòu)件105表面 約50 μ m以上至500 μ m以下的間隙而與顯影劑承載構(gòu)件105相對。來自磁輥104的磁極 Nl的磁力線集中在磁性刮板107上，由此在顯影劑承載構(gòu)件105上形成顯影劑的薄層。在 本發(fā)明中，也可使用非磁性顯影劑層厚度調(diào)節(jié)構(gòu)件來代替磁性刮板107。在顯影劑承載構(gòu)件105上形成的顯影劑薄層的厚度優(yōu)選小于在顯影區(qū)域D中的顯 影劑承載構(gòu)件105與感光鼓106之間的最小間隙。此外，將顯影偏壓從作為偏置單元的顯影偏置電源108施加至顯影劑承載構(gòu)件 105，以使通過顯影劑承載構(gòu)件105承載的顯影劑能夠流動(dòng)。當(dāng)將DC電壓用作顯影偏壓時(shí)， 優(yōu)選將靜電潛像的圖像部(通過顯影劑的粘附為可視化的區(qū)域)和背景部的電勢之間的電 壓中間值施加至顯影劑承載構(gòu)件105。為了能夠改進(jìn)顯影圖像的濃度和灰度(gradation)，可將交流偏壓施加至顯影劑 承載構(gòu)件105，以使在顯影區(qū)域D中可形成方向交替轉(zhuǎn)化的振動(dòng)電場。在此情況下，優(yōu)選將 交流偏壓施加至顯影劑承載構(gòu)件105，在所述交流偏壓上疊加具有上述顯影圖像部的電勢 和背景部的電勢之間的中間值的DC電壓組分。
實(shí)施例下文中，將通過實(shí)施例描述本發(fā)明。然而，本發(fā)明不限于這些實(shí)施例。在以下配方 中的術(shù)語“份”和“ ％，，分別表示“質(zhì)量份”和“質(zhì)量％ ”，除非另外說明。下文中，將描述測量涉及本發(fā)明的物理性質(zhì)的方法。<顯影劑>(i)顯影劑(磁性調(diào)色劑)的飽和磁化強(qiáng)度在795. 8kA/m的外部磁場中在25°C的樣品溫度下用振動(dòng)樣品磁力計(jì)(商品名 VSM-P7,由 TOEI INDUS TRY CO.，LTD.制造)進(jìn)行測量。(ii)顯影劑(磁性調(diào)色劑)的重均粒徑D4將粒徑測量裝置(商品名=CoulterMultisizer III ；由 BeckmanCoulter, Inc 制 造)用于測量。將通過使用氯化鈉(一級化學(xué)試劑)制備的約NaCl水溶液用作電解 液。將作為分散劑的約0. 5ml烷基苯磺酸鹽加入至約IOOml電解液。向其中，加入并懸浮 約5mg測量樣品。將其中懸浮樣品的電解液借助于超聲分散裝置分散約1分鐘。其后，測 量樣品的體積和數(shù)量通過使用在上述測量裝置中的100-μ m孔來測量，并計(jì)算體積分布和 數(shù)量分布。從體積分布確定基于重量的重均粒徑(D4)。(iii)直到Fe元素溶解率達(dá)到10質(zhì)量％時(shí)，F(xiàn)e (2+)量與溶解的磁性氧化鐵顆粒的Fe總量的比X將25g作為樣品的磁性氧化鐵顆粒加入至3. 8升去離子水中，將該混合物在200 轉(zhuǎn)/分鐘的攪拌速度下攪拌，同時(shí)在水浴中將其溫度保持在40°C。將通過在去離子水中溶 解424ml鹽酸試劑(特級化學(xué)試劑)(濃度35% )制備的1，250ml鹽酸水溶液加入至所得 漿料中以在攪拌下溶解磁性氧化鐵顆粒。在起始于溶解開始和終結(jié)于當(dāng)磁性氧化鐵顆粒完 全溶解以使該混合物變?yōu)橥该鞯臅r(shí)間點(diǎn)的時(shí)間期間，每10分鐘收集50ml鹽酸水溶液和分 散在該水溶液中的磁性氧化鐵顆粒。其后立即地，將該水溶液用0. l-ym膜過濾器過濾，并 收集濾液。Fe元素的量通過使用25ml收集的濾液用由Shimadzu Corporation制造的等離 子體發(fā)射光譜儀ICP S2000來測定。然后，對于各收集樣品，從以下方程(6)計(jì)算磁性氧化 鐵顆粒的Fe元素溶解率(質(zhì)量％ )。方程(6)Fe元素溶解率(質(zhì)量％) = {在收集的樣品中的(鐵元素濃度(mg/l))/(在完全 溶解時(shí)的鐵元素濃度(mg/1))} X 100此外，F(xiàn)e (2+)濃度通過使用25ml剩余的收集濾液來測量。樣品通過將75ml去離 子水加入至該25ml濾液中來制備，將二苯胺磺酸鈉作為指示劑加入至樣品。然后，該樣品 用0. 05mol/l重鉻酸鉀水溶液進(jìn)行氧化-還原滴定，將樣品著色為紫色的時(shí)間點(diǎn)定義為確 定滴定度的終點(diǎn)。從該滴定度計(jì)算Fe(2+)濃度(mg/1)。在收集各樣品的時(shí)間點(diǎn)處的Fe(2+)量的比，通過使用由上述方法測定的樣品中 的鐵元素濃度和在相同時(shí)間點(diǎn)處從該樣品測定的Fe (2+)濃度從以下方程(7)計(jì)算。方程(7)Fe (2+)量的比(％ ) = {(在收集的樣品中的Fe (2+)濃度(mg/1))/(在收集的樣 品中的鐵元素濃度(mg/1))} XlOO然后，對于各收集的樣品，畫出如此獲得的Fe元素溶解率和Fe(2+)量的比，并通 過平滑連接各點(diǎn)建立"Fe元素溶解率-對-Fe (2+)量的比"圖。通過使用該圖確定直到 Fe元素溶解率達(dá)到10質(zhì)量％時(shí)，F(xiàn)e (2+)量與溶解的Fe總量的比)。(iv)Fe(2+)含量之間的比(X/Y)的計(jì)算該比X (% )通過上述方法確定。通過以下方法計(jì)算在除了直到Fe元素溶解率達(dá)到10質(zhì)量％時(shí)溶解的Fe量之外， 在剩余的90質(zhì)量％中Fe(2+)量與Fe總量的比)。S卩，將在上述X的測量中獲得的當(dāng)磁性氧化鐵顆粒完全溶解時(shí)鐵元素濃度(mg/1) 與當(dāng)Fe元素溶解率為10質(zhì)量％時(shí)鐵元素濃度(mg/1)之間的差，定義為在剩余的90質(zhì)量％ 中的鐵元素濃度(mg/1)。將在上述X的測量中獲得的當(dāng)磁性氧化鐵顆粒完全溶解時(shí)Fe (2+)濃度(mg/1)與 當(dāng)Fe元素溶解率為10質(zhì)量％時(shí)？6(2+)濃度(mg/1)之間的差，定義為在剩余的90質(zhì)量％ 中的Fe(2+)濃度(mg/1)。使用如此獲得的值，從以下方程(8)計(jì)算在除了直到Fe元素溶 解率達(dá)到10質(zhì)量％時(shí)溶解的Fe的量之外，在剩余的90質(zhì)量％中Fe(2+)量與Fe總量的比 Y(Vo)0方程(8)Y(%) = {(完全溶解時(shí)Fe (2+)濃度-當(dāng)鐵元素溶解率為10質(zhì)量％時(shí)？6(2+)
30濃度)/ (完全溶解時(shí)鐵元素濃度_當(dāng)鐵元素溶解率為10質(zhì)量％時(shí)鐵元素濃度)} X 100通過使用如上所述計(jì)算的比)和)來計(jì)算比(Χ/Υ)。(ν)磁性氧化鐵顆粒的異種元素(如硅)的總量的測定將其中已溶解16ml鹽酸試劑(特級化學(xué)試劑)(濃度35 % )的26ml鹽酸水溶液 加入至l.OOg樣品中，以在加熱(在80°C以下)下溶解該樣品。其后，將該溶液靜置冷卻 至室溫。將其中已溶解2ml氫氟酸試劑(特級化學(xué)試劑)(濃度4% )的4ml氫氟酸水溶 液加入至該溶液中，然后使該混合物靜置20分鐘。將IOml TritonX-IOO (濃度10% )(由 ACROS 0RGANICS制造)加入至該混合物中，然后將所得混合物轉(zhuǎn)移至100-ml容量瓶中。將 純水加入至該混合物中，以調(diào)節(jié)全部溶液的體積為100ml。在該溶液試劑中異種元素(如硅)的含量用由ShimadzuCorporation制造的等離 子體發(fā)射光譜儀ICP S2000來測定。(vi)在涂層中異種元素(如硅和鋁)的含量的測定稱量0. 900g樣品，并將25ml的lmol/1的NaOH溶液加入至樣品中。將所得液體 的溫度增高至45°C，同時(shí)攪拌該溶液。因而，將在磁性氧化鐵顆粒表面上的異種元素(如硅 組分和鋁組分)溶解。在將不溶物質(zhì)通過過濾分離后，將純水加入至洗出液中，以使該混合 物的體積為125ml。然后，在洗出液中硅和鋁的量用上述等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)測定。 在涂層中異種元素(如硅組分和鋁組分)的含量通過使用以下方程(9)計(jì)算。方程(9)在涂層中異種元素組分的含量(％ ) = {(在洗出液中的異種元素濃度(g/ 1) X 125 + 1，000) /0. 900 (g)} X 100(vii)在核顆粒中異種元素(如硅)的含量的測定將上述部分(V)中所述的異種元素的總含量與在上述部分(vi)中所述的在涂層中的異種元素的含量之間的差定義為在核顆粒中異種元素 的含量。(viii)磁性氧化鐵顆粒的數(shù)均一次粒徑的測量磁性氧化鐵顆粒用掃描電子顯微鏡(在40，000放大率下)觀察。測量200個(gè)顆 粒的Feret直徑，并測定顆粒的數(shù)均粒徑。在該實(shí)例中，將S-4700 (由Hitachi，Ltd.制造) 用作掃描電子顯微鏡。(ix)粘結(jié)劑樹脂的軟化點(diǎn)的測量粘結(jié)劑樹脂的軟化點(diǎn)用流動(dòng)性評價(jià)設(shè)備(商品名流動(dòng)試驗(yàn)儀(Flow Tester) CFT-500D ；由Shimadzu Corporation制造)遵循JIS K 7210中描述的測量方法來測量。具 體的測量方法示于以下。當(dāng)將具有Icm3體積的樣品用上述流動(dòng)性評價(jià)設(shè)備以6°C /min的 升溫速率下加熱時(shí)，將l，960N/m2(20kg/cm2)的負(fù)荷借助于活塞施加于樣品，以將樣品從具 有Imm直徑和Imm長度的噴嘴擠出。建立在此情況下的柱塞落下量(流動(dòng)值)_溫度曲線。 曲線的高度由h表示，將對應(yīng)于h/2的溫度(一半樹脂流出時(shí)的溫度)定義為軟化點(diǎn)。(χ)借助于GPC的分子量分布測量將柱在40°C下的熱室中穩(wěn)定。使作為溶劑的THF在該溫度下以lml/min的流速 流入該柱中。其后，將約ΙΟΟμΙ的THF樣品溶液注入以進(jìn)行測量。當(dāng)測量樣品的分子量 時(shí)，從借助于幾種單分散聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)樣品制作的校準(zhǔn)曲線的對數(shù)值和計(jì)數(shù)之間的關(guān)系計(jì)算樣品的分子量分布。用于制作校準(zhǔn)曲線的標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯樣品具有例如，約IO2以上至IO7 以下的分子量，優(yōu)選使用至少約十個(gè)標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯樣品。標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯樣品的實(shí)例包括以下TSK標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯(商品名；由TOSOH CORPORATION 制造)，例如，型號 F-850、F_450、F-288、F-128、F-80、F-40、F-20、F-10、F_4、 F-2、F-1、A-5000、A-2500、A-1000 和 A-500。此外，將折光(RI)檢測器用作檢測器。推薦將多個(gè)商購可得的聚苯乙烯凝膠柱 組合用作該柱。商購可得的聚苯乙烯凝膠柱的實(shí)例包括以下Shodex GPC KF-801、802、 803、804、805、806、807和800P(商品名；由 Showa Denko K. K.制造)；TSK gelGlOOOH(Hxl)、 G2000H (Hxl)、G3000H (Hxl)、G4000H (Hxl)、G5000H (Hxl)、G6000H (Hxl)、G7000H (Hxl)，和 TSK guardcolumn (商品名；由 Tosoh Corporation 造)。此外，調(diào)整樣品溶液，以使在THF中可溶的組分的濃度為約0. 8質(zhì)量％，將全部在 25°C的溫度下靜置幾個(gè)小時(shí)。其后，將所得物充分搖動(dòng)以使樣品與TH很好地混合(直到樣 品的附聚物消失)，將所得物再靜置12小時(shí)以上。在此情況下，樣品靜置于THF中的時(shí)間應(yīng) 為24小時(shí)。其后，使所得物通過樣品處理過濾器(孔徑約0.5μπι;例如，可使用Myshori Disk H-25-2(由TosohCorporation制造))，以用作用于GPC的樣品。此外，以這樣的方式 調(diào)整樣品濃度以使樹脂組分的濃度為5mg/ml。(xi)粘結(jié)劑樹脂的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的測量通過使用差示掃描量熱儀(DSC)(商品名MDSC_2920 ；由TA Instruments制造) 根據(jù)ASTM D3418-82在常溫和常濕下進(jìn)行測量。精確稱量并使用2mg以上至IOmg以下，或優(yōu)選約3mg的測量樣品。將樣品裝入鋁 盤中。將空鋁盤用作參比。在30°C以上至200°C以下的測量溫度范圍內(nèi)如下進(jìn)行測量將 測量樣品的溫度以10°C /min的升溫速率一次從30°C升至200°C，然后以10°C /min的降溫 速率從200°C降至30°C，再次以10°C /min的升溫速率升至200°C。將在第二升溫過程期間 所獲DSC曲線中比熱出現(xiàn)變化之前與之后的基線之間的中間線和差示熱曲線的交叉點(diǎn)定 義為粘結(jié)劑樹脂的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg。(xii)THF不溶性物質(zhì)含量的測量稱量1. Og粘結(jié)劑樹脂(該量由"Wl “ g表示)。將稱量的樹脂放置于抽提套管 中(如No. 86R，由Toyo Roshi制造)，并將其裝入索氏(Soxhlet)萃取器中以用200ml THF 將樹脂進(jìn)行索氏萃取20小時(shí)。其后，將萃取的組分在40°C的溫度下真空干燥20小時(shí)，然后 稱重(該量由"W2" g表示)。根據(jù)以下方程(10)計(jì)算THF不溶性物質(zhì)的含量。方程(10)THF不溶性物質(zhì)的含量(質(zhì)量％ ) = [ (W1-W2) /Wl] X 100<顯影劑承載構(gòu)件>(xiii)用共焦光學(xué)激光顯微鏡測量樹脂層的表面形狀樹脂層的表面形狀用通過連接測量部〃 VK-8710" (KEYENCE CORPORATION ；商品 名)、控制器"VK-8700"和控制個(gè)人計(jì)算機(jī)制備的設(shè)備來測量。此外，樹脂層的表面形狀 用觀察應(yīng)用軟件(商品名VK-H1V1 ；由KEYENCEC0RP0RATI0N制造)和形狀分析應(yīng)用軟件 (商品名VK-H1A1 ；由 KEYENCE CORPORATION 制造)來分析。將顯影劑承載構(gòu)件安裝在測量部的工作臺，并通過控制該工作臺的高度進(jìn)行聚焦。在此情況下物鏡的放大率為20。此外，用于該測量的顯影劑承載構(gòu)件具有圓筒形，因此 控制該工作臺以將圓弧的頂點(diǎn)設(shè)定為測量位置。在觀察應(yīng)用軟件上確認(rèn)物鏡對焦。接下來，在觀察應(yīng)用軟件上沿Z-軸方向的測量范圍通過調(diào)節(jié)透鏡位置來限定。將 透鏡位置向上移動(dòng)，將透鏡放置在此位置(高度)以致在整個(gè)觀察區(qū)域中失焦。設(shè)定在此 情況下的透鏡位置作為沿Z-軸方向的測量上限。將透鏡類似地向下移動(dòng)，將在整個(gè)觀察 區(qū)域中透鏡失焦的位置設(shè)定為沿Z-軸方向的測量下限。設(shè)定上下限之后，將沿Z-軸方向 的測量間距設(shè)定為0. Ιμ ，并取得在1,024X768像素(706. 56 μ mX 529. 92 μ m)上的高度 數(shù)據(jù)(三維數(shù)據(jù))。如果在取得的高度數(shù)據(jù)中存在測量值為0的像素，樹脂層沒有正確地測 量，因此通過將測量下限進(jìn)一步向下移動(dòng)再次進(jìn)行測量。類似地，當(dāng)存在測量值等于測量上 限和下限之間的寬度的像素時(shí)，通過將測量上限進(jìn)一步向上移動(dòng)再次進(jìn)行測量。取得的三維數(shù)據(jù)在形狀分析應(yīng)用軟件上分析。首先，進(jìn)行過濾處理和灰度修正， 以能夠除去在測量時(shí)的噪音。通過用5X5像素作為單位經(jīng)簡單平均使數(shù)據(jù)平滑來進(jìn)行過 濾處理。進(jìn)行表面灰度修正和二次曲面修正作為灰度修正。表面灰度修正通過以下進(jìn)行 基于全部區(qū)域的高度數(shù)據(jù)通過最小二乘法確定近似平面；修正灰度以使確定的近似平面水 平。二次曲面修正通過以下進(jìn)行基于全部區(qū)域的高度數(shù)據(jù)通過最小二乘法確定近似曲面； 修正灰度以使確定的近似曲面水平。對于顯影劑承載構(gòu)件表面上邊長0.50mm正方形區(qū)域，測量在本發(fā)明中顯影劑承 載構(gòu)件表面的三維高度，所述顯影劑承載構(gòu)件一側(cè)平行于顯影劑承載構(gòu)件在以下交叉點(diǎn)處 旋轉(zhuǎn)的方向，所述交叉點(diǎn)為平行于所述正方形區(qū)域一邊的725條直線和與該直線成直角交 叉的725條直線的交叉點(diǎn)(725 X 725 = 525，625個(gè)點(diǎn))，當(dāng)所述正方形區(qū)域通過所述直線等 分時(shí)。然后，該高度的平均值(H)為從通過從這些測量值中除去噪音獲得的數(shù)據(jù)確定的平 均值。此外，具有超過H+(D4/4)高度的凸部在H+(D4/4)高度處的面積總和用形狀分析 應(yīng)用軟件的體積/面積程序從已除去噪音的三維數(shù)據(jù)測量。首先，從觀察區(qū)域中指定要測 量的區(qū)域。指定的區(qū)域?yàn)?.50mmX0. 50mm，并將觀察區(qū)域的中心設(shè)定為基準(zhǔn)。接下來，將 值"H+(D4/4)〃輸入作為下限高度，并通過從包括在上限和下限處面積的表面積中減去除 了在上限和下限處面積之外的表面積，來計(jì)算對應(yīng)于H+(D4/4)高度的截面區(qū)域的總面積。算術(shù)平均粗糙度用形狀分析應(yīng)用軟件的表面粗糙度程序從已除去噪音的三維數(shù) 據(jù)來測量。從觀察區(qū)域指定要測量的區(qū)域。指定區(qū)域?yàn)?.50mmX0.50mm，將觀察區(qū)域的中 心設(shè)定為基準(zhǔn)。算術(shù)平均粗糙度Ra由以下方程(11)定義。方程(11)
1 NRa = —/ Zn
NS1(Zn表示值“各點(diǎn)的高度-基準(zhǔn)面的高度”，N表示指定區(qū)域的像素(725X725)的 數(shù)量。將在通過均化關(guān)于指定區(qū)域725X725像素的所有數(shù)據(jù)獲得的高度處的平面定義為 基準(zhǔn)面。)將沒有截止的值定義為測量值，這是因?yàn)樵谑褂迷贘IS B0601-2001中規(guī)定的截止 值(λ c = 0. 8mm)的情況下的測量結(jié)果與不使用截止值的情況下的那些幾乎相同。
類似地，在100點(diǎn)(對于沿顯影劑承載構(gòu)件軸向的各10個(gè)點(diǎn)，沿顯影劑承載構(gòu) 件周向的10個(gè)點(diǎn))處測量粗糙度，并將測量值的平均值定義為從樹脂層的表面形狀確定 的算術(shù)平均粗糙度Ra。通過輸入值"H+(D4/4)"作為下閾值來確定Ra(A)，并通過輸入 值"H+(D4/4)〃作為上閾值來確定Ra(B)。當(dāng)輸入閾值時(shí)，上述算術(shù)平均粗糙度僅用根據(jù) 該閾值選擇的像素來測量。測量值用從已除去噪音的三維數(shù)據(jù)分析，并且指定要分析的區(qū) 域的方法和測量算術(shù)平均粗糙度的方法與上述那些相同。類似地，在100點(diǎn)(對于沿顯影 劑承載構(gòu)件軸向的各10個(gè)點(diǎn)，沿顯影劑承載構(gòu)件周向的10個(gè)點(diǎn))處測量粗糙度，并將測量 值的平均值定義為從樹脂層的表面形狀確定的算術(shù)平均粗糙度Ra(A)或Ra(B)。(xiv)樹脂層的通用硬度樹脂層表面的通用硬度HU根據(jù)IS0/FDIS14577用由FischerInstruments KK制 造的Fischerscope H100V (商品名)通過表面膜物理性質(zhì)測試來測量。將在其相對面之間 具有136°角的金字塔金剛石壓頭用于該測量。將壓頭推入測量樣品同時(shí)階段施加測量負(fù) 荷F (單位N)，在施加負(fù)荷的狀態(tài)下測量壓痕深度h (單位mm)。通用硬度HU通過將對于 h的測量值代入以下方程(12)來確定。方程(12)HU = KX F/h2 [N/mm2]其中K表示值1/26. 43的常數(shù)。將通過在基體表面上形成樹脂層獲得的樣品用于測量；并且優(yōu)選在測量前將測量 用樣品進(jìn)行平滑處理如研磨處理，這是因?yàn)槠谕麡渲瑢颖砻婀饣?，以改進(jìn)測量精確度。因 此，在本發(fā)明中，在測量前，樹脂層的表面用Wrapping Film Sheet#2000 (商品名，Sumitomo 3M Limited，使用具有9 μ m平均一次粒徑的氧化鋁顆粒作為研磨顆粒)進(jìn)行研磨處理以調(diào) 整在研磨處理后的表面粗糙度Ra為0. 2 μ m以下。壓頭的測試負(fù)荷F和最大壓痕深度h各自優(yōu)選落入既不受樹脂層表面的表面粗糙 度影響也不受作為基板的基體影響的范圍?？紤]到前述，在本發(fā)明中，通過施加測試負(fù)荷F 來進(jìn)行測量，以使壓頭的最大壓痕深度h為約1 μ m至2 μ m。在具有溫度23°C和濕度50% 的環(huán)境中在不同的測量點(diǎn)處進(jìn)行測量100次，并將從測量值確定的平均值定義為樹脂層 的通用硬度U。(XV)導(dǎo)電性球狀碳顆粒的體積平均粒徑可將激光衍射型粒徑分布計(jì)(商品名=Coulter L S-230粒徑分布計(jì)；由Beckman Coulter，Inc制造)用作用于測量導(dǎo)電性球狀碳顆粒的粒徑的設(shè)備。在測量中，使用少量模 塊(module)，并使用異丙醇(IPA)作為測量溶劑。首先，將測量設(shè)備的測量體系內(nèi)部用IPA 洗滌約5分鐘，洗滌后進(jìn)行背景功能。接著，將約IOmg測量樣品加入至50mL IPA中。將其 中已懸浮樣品的溶液用超聲分散機(jī)進(jìn)行分散處理約2分鐘，以制備樣品溶液。其后，將該樣 品溶液逐漸加入至測量設(shè)備的測量體系中，并調(diào)節(jié)在該測量體系中的樣品濃度，以使得在 所述設(shè)備屏幕上的PIDS為45%至55%。其后。進(jìn)行測量，并從體積分布確定體積平均粒 徑。(xvi)石墨化顆粒的石墨化度石墨化度ρ (002)通過用由MacScience制造的強(qiáng)力全自動(dòng)X-射線衍射計(jì)“MXP18” 體系(商品名)測量由石墨的X-射線衍射光譜得到的晶面間距d(002)從以下方程(13)來確定。方程(13)d(002) = 3. 440-0. 086 [1-p (002) 2]在測量晶面間距d(002)中，使用CuKa作為X_射線源，并用鎳濾光器除去 CuKii-射線。使用高純硅作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，從C(002)和Si(Ill)衍射圖案上的峰位置計(jì)算晶 面間距d(002)。主要測量條件如下所述。X-射線發(fā)生器18kW測角計(jì)水平測角儀單色儀使用管電壓30.OkV管電流10.0mA測量方法連續(xù)法掃描軸2θ / θ取樣間隔0. 020度
掃描速度6. 000 度 /min發(fā)散狹縫0. 50度散射狹縫0. 50度光接收狹縫0. 30mm(xvii)從樹脂層的截面確定的石墨化顆粒的算術(shù)平均粒徑將顯影劑承載構(gòu)件用聚焦離子束(商品名FB-2000C ；由Hitachi，Ltd.制造)在 垂直于顯影劑承載構(gòu)件軸向的表面上每20nm切斷。將各切斷截面用電子顯微鏡(商品名 H-7500;由Hitachi，Ltd.制造)拍照。當(dāng)在多個(gè)照片上的圖像中各顆粒的長徑和短徑的測 量值總和變?yōu)樽畲髸r(shí)，將該測量值定義為顆粒的形狀，并測量100個(gè)石墨化顆粒的粒徑。將 各顆粒的測量長徑和短徑的平均值定義為顆粒的粒徑。從各粒徑確定算術(shù)平均粒徑。測量 放大率為100，000。(1)顯影劑(磁性調(diào)色劑)的生產(chǎn)<粘結(jié)劑樹脂a-I的生產(chǎn)例>將以下組分作為用于生產(chǎn)聚酯單元的單體和2-乙基己酸錫作為催化劑放入四頸 燒瓶中。對苯二甲酸25mol%十二碳烯基琥珀酸 15mol%偏苯三酸酐7mol%由式(I-I)表示的雙酚衍生物(2. 5-mol環(huán)氧丙烷的加合物)32mol%由式(I-I)表示的雙酚衍生物(2. 5-mol環(huán)氧乙烷的加合物)22mol%該四頸燒瓶設(shè)置有減壓裝置、水分離裝置、氮?dú)庖胙b置、溫度測量裝置和攪拌裝 置，將該混合物在氮?dú)夥障略?30°C的溫度下攪拌。在攪拌期間，相對于100質(zhì)量份上述單 體組分，將25質(zhì)量份用于生產(chǎn)苯乙烯類共聚物樹脂單元的具有以下組成的單體組分和聚合引發(fā)劑(過氧化苯甲酰)的混合物從滴液漏斗中經(jīng)過4小時(shí)逐滴加入至該四頸燒瓶中。苯乙烯83質(zhì)量％丙烯酸2-乙基己酯 15質(zhì)量％丙烯酸2質(zhì)量％將上述材料老化3小時(shí)，同時(shí)保持在130°C的溫度下，然后，將溫度升至230°C，使 這些材料彼此進(jìn)行反應(yīng)。反應(yīng)完成后，將產(chǎn)物從容器中取出并粉碎，由此獲得包含聚酯樹脂 組分、苯乙烯型共聚物樹脂組分和雜化樹脂組分的粘結(jié)劑樹脂a-Ι。表1示出了粘結(jié)劑樹脂 a-Ι的物理性質(zhì)。<粘結(jié)劑樹脂a_2的生產(chǎn)例>將以下組分作為用于生產(chǎn)聚酯單元的單體和2-乙基己酸錫作為催化劑放入四頸 燒瓶中。對苯二甲酸27mol%十二碳烯基琥珀酸 13mol%偏苯三酸酐2mol%由式(I-I)表示的雙酚衍生物(2. 5-mol環(huán)氧丙烷的加合物)32mol%由式(I-I)表示的雙酚衍生物(2. 5-mol環(huán)氧乙烷的加合物)26mol%該四頸燒瓶設(shè)置有減壓裝置、水分離裝置、氮?dú)庖胙b置、溫度測量裝置和攪拌裝 置，將該混合物在氮?dú)夥障略?30°C的溫度下攪拌。在攪拌期間，相對于100質(zhì)量份上述單 體組分，將25質(zhì)量份用于生產(chǎn)苯乙烯類共聚物樹脂單元的具有以下組成的單體組分和聚 合引發(fā)劑(過氧化苯甲酰)的混合物從滴液漏斗中經(jīng)過4小時(shí)逐滴加入至該四頸燒瓶中。苯乙烯83質(zhì)量％丙烯酸2-乙基己酯 15質(zhì)量％丙烯酸2質(zhì)量％將上述材料老化3小時(shí)，同時(shí)保持在130°C的溫度下，然后，將溫度升至230°C，使 該材料與另一材料進(jìn)行反應(yīng)。反應(yīng)完成后，將產(chǎn)物從容器中取出并粉碎，由此獲得包含聚酯 樹脂組分、苯乙烯類共聚物樹脂組分和雜化樹脂組分的粘結(jié)劑樹脂a_2。表1示出了粘結(jié)劑 樹脂a-2的物理性質(zhì)。表 1 <磁性氧化鐵顆粒B-I的生產(chǎn)例>50L包含2. Omol/Im Fe2+的硫酸亞鐵的水溶液通過使用硫酸亞鐵制備。此外，IOL 包含0. 23mol/l Si4+的硅酸鈉的水溶液通過使用硅酸鈉制備，然后加入并混合于硫酸亞鐵 水溶液中。接著，將42L 5. 0-mol/l NaOH水溶液在攪拌下混合于混合的水溶液中，由此獲 得氫氧化亞鐵漿料。將氫氧化亞鐵漿料的PH和溫度分別調(diào)節(jié)至12. 0和90°C，通過將空氣以30L/min的速率吹入漿料中來進(jìn)行氧化反應(yīng)，直到50%的氫氧化亞鐵轉(zhuǎn)化為磁性氧化鐵 顆粒。接下來，將空氣以20L/min的速率吹入漿料中，直到75%的氫氧化亞鐵轉(zhuǎn)化為磁性 氧化鐵顆粒。接下來，將空氣以9L/min的速率吹入漿料中，直到90%的氫氧化亞鐵轉(zhuǎn)化為 磁性氧化鐵顆粒。此外，在當(dāng)磁性氧化鐵顆粒的比超過90%時(shí)的時(shí)間點(diǎn)處，通過將空氣以 6L/min的速率吹入漿料中完成氧化反應(yīng)。由此，獲得包含八面體形狀的核顆粒的漿料。
將0. 094L硅酸鈉水溶液(包含13. 4質(zhì)量％的Si)和0. 288L硫酸鋁水溶液(包 含4.2質(zhì)量％的々1)同時(shí)充入包含所述核顆粒的所得漿料中。其后，將漿料的溫度調(diào)節(jié)至 80°C，并用稀硫酸將漿料的pH調(diào)節(jié)至5以上至9以下，由此在各核顆粒表面上形成包含硅 和鋁的涂層。將所得磁性氧化鐵顆粒通過常規(guī)方法過濾，然后干燥并粉碎，由此獲得磁性氧 化鐵顆粒b-Ι。表3示出了磁性氧化鐵顆粒b-1的物理性質(zhì)。
<磁性氧化鐵顆粒b_2至b_6的生產(chǎn)例>除了如表2所示調(diào)整生產(chǎn)條件之外，以與磁性氧化鐵顆粒b-Ι的生產(chǎn)例相同的方 式各自獲得磁性氧化鐵顆粒b-2至b-6。表3示出了所得磁性氧化鐵顆粒b-2至b-6的物 理性質(zhì)值。在表2中在“吹入空氣的流速”中的各階段表示以下狀態(tài)。第一階段磁性氧化鐵顆粒的生產(chǎn)率為0%以上至50%以下。第二階段磁性氧化鐵顆粒的生產(chǎn)率為高于50%至75%以下。第三階段磁性氧化鐵顆粒的生產(chǎn)率為高于75%至90%以下。第四階段磁性氧化鐵顆粒的生產(chǎn)率為高于90%至達(dá)到100%。<磁性氧化鐵顆粒b_7的生產(chǎn)例>除了以下之外，以與磁性氧化鐵顆粒b-Ι的生產(chǎn)例相同的方式獲得磁性氧化鐵顆 粒b-7 將氫氧化亞鐵漿料的pH調(diào)節(jié)為11. 5 ；氧化反應(yīng)不以階段進(jìn)行，但在90°C和30L/min 下完成。表3示出了所得磁性氧化鐵顆粒b-7的物理性質(zhì)值。表 2 表 3 <顯影劑c-1的生產(chǎn)例>將以下材料借助于亨舍爾混合機(jī)預(yù)混。其后，將該混合物用雙軸捏合擠出機(jī)熔融 和捏合。在此情況下，控制滯留時(shí)間以使捏合樹脂的溫度為150°C。粘結(jié)劑樹脂a-190質(zhì)量份粘結(jié)劑樹脂a_210質(zhì)量份磁性氧化鐵顆粒b_l65質(zhì)量份蠟[費(fèi)-托(Fischer-Tropsch)蠟(具有105 °C的最高吸熱峰溫度，數(shù)均分子量 1，500，重均分子量2，500)] 4質(zhì)量份具有由以下結(jié)構(gòu)式(14)表示的結(jié)構(gòu)的電荷控制劑(帶負(fù)電性電荷控制劑) 2質(zhì)量份結(jié)構(gòu)式(14)
將所得捏合產(chǎn)物冷卻，并用錘磨機(jī)粗碎。其后，將粗碎產(chǎn)物用turbo磨機(jī)粉碎，并 將所得細(xì)碎粉末用利用附壁(Coanda)效應(yīng)的多級分級機(jī)來分級，由此獲得具有重均粒徑 (D4)為6. 1 μ m的帶負(fù)電性磁性調(diào)色劑顆粒。將以下物質(zhì)外部加入并混合于100質(zhì)量份所 得磁性調(diào)色劑顆粒，將該混合物用具有孔徑150 μ m的篩子篩分，由此獲得帶負(fù)電性顯影劑 c-1。表4示出了顯影劑c-1的構(gòu)成和物理性質(zhì)。疏水性二氧化硅細(xì)粉(具有BET比表面積140m2/g，并且相對于100質(zhì)量份二氧化 硅母體，用30質(zhì)量份六甲基二硅氮烷(HMDS)和10質(zhì)量份的二甲基硅油進(jìn)行疏水性處理) 1.0質(zhì)量份鈦酸鍶(具有數(shù)均粒徑1. 2 μ m) 3.0質(zhì)量份<顯影劑c-2至c-17的生產(chǎn)例>除了采用示于表4中的配方之外，以與實(shí)施例1相同的方式各自獲得顯影劑c-2 至c-17。表4顯示了各顯影劑c-2至c-17的構(gòu)成和物理性質(zhì)。表 4 (2)顯影劑承載構(gòu)件的生產(chǎn)〈石墨化顆?！?石墨化顆粒d-Ι的生產(chǎn)例y>將β -樹脂通過溶劑分餾從煤焦油浙青中提取，并進(jìn)行氫化和重質(zhì)化處理。其后， 將溶劑可溶性物質(zhì)用甲苯除去，由此獲得中間相浙青。將整體中間相浙青細(xì)碎，并將最終細(xì) 碎產(chǎn)物在空氣中在約300°C下進(jìn)行氧化處理。其后，將氧化產(chǎn)物在氮?dú)鈿夥障略?，000°C的 煅燒溫度下進(jìn)行熱處理，并進(jìn)一步分級，由此獲得石墨化顆粒d-Ι。表5示出了石墨化顆粒 d-Ι的物理性質(zhì)。 石墨化顆粒d-2的生產(chǎn)例通過使煤型重油進(jìn)行熱處理獲得的中間相碳微球洗滌并干燥。其后，將微球借助 于超微粉碎機(jī)(atomizer mill)機(jī)械分散，并在氮?dú)鈿夥障略?，20(TC下進(jìn)行一次加熱處 理以碳化。接下來，將碳化微球用超微粉碎機(jī)進(jìn)行二次分散。其后，將微球在氮?dú)鈿夥障略?3，100°C的煅燒溫度下進(jìn)行熱處理，并進(jìn)一步分級，由此獲得石墨化顆粒d-2。表5示出了石 墨化顆粒d-2的物理性質(zhì)。 石墨化顆粒d-3至d-7的生產(chǎn)例除了如表2所示調(diào)整用于石墨化顆粒的原料和煅燒溫度之外，以與石墨化顆粒 d-Ι或d-2的生產(chǎn)例相同的方式各自獲得石墨化顆粒d-3至d-7。表5示出了所得石墨化
41顆粒d-3至d-7的物理性質(zhì)值。表 5 導(dǎo)電性球狀碳顆粒》將以下產(chǎn)物用作導(dǎo)電性球狀碳顆粒。e-Ι 使用通過將NICABEADS PC_0520(商品名；Nippon CarbonCo.，Ltd.)分級獲得的 產(chǎn)物(體積平均粒徑=5. 9 μ m)。e-2 使用通過將NICABEADS PC_0520(商品名；Nippon CarbonCo.，Ltd.)分級獲得的 產(chǎn)物(體積平均粒徑=4. 1 μ m)。e-3 使用通過將NICABEADS PC_0520(商品名；Nippon CarbonCo.，Ltd.)分級獲得的 產(chǎn)物(體積平均粒徑=8. 0 μ m)。e-4 使用通過將NICABEADS PC_0520(商品名；Nippon CarbonCo.，Ltd.)分級獲得的 產(chǎn)物(體積平均粒徑=3. 7 μ m)。e-5 使用通過將NICABEADS PC_1020(商品名；Nippon CarbonCo.，Ltd.)分級獲得的 產(chǎn)物(體積平均粒徑=8. 5 μ m)?！刺亢凇祵0KABLACK#5500(商品名，由 TOKAI CARBON CO.，LTD.制造)用作炭黑。<季銨鹽>將以下化合物的任何一種用作季銨鹽。f-Ι 使用在表I中的示例性化合物1。f-2 使用在表I中的示例性化合物2。<粘結(jié)劑樹脂>將以下產(chǎn)物的任何一種用作粘結(jié)劑樹脂。1-1 使用包含通過使用氨催化劑合成的甲階型酚醛樹脂(商品名J-325;由
42Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated.制造)的 40% 甲醇的溶液。1-2 使用通過使用NaOH催化劑合成的甲階型酚醛樹脂(商品名GF 9000 ；由 Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated. )。1-3 使用通過將多元醇(商品名NIPPOLAN5037 ；由 NIPP0NP0LYURETHANE INDUSTRY CO. LTD.制造)和硬化劑(商品名Colonate L ；由 NIPPON P0LYURETHANE INDUSTRY CO. LTD.制造)以10 1的比共混獲得的產(chǎn)物。(3)實(shí)施例(實(shí)施例1)<顯影劑承載構(gòu)件g-Ι的生產(chǎn)>通過以下方法生產(chǎn)要與預(yù)先制備的顯影劑C-I組合的顯影劑承載構(gòu)件g_l。首先， 將以下材料混合，并用橫式砂磨機(jī)(以85%的填充率填充有具有0. 6mm直徑的玻璃珠)處 理該混合物，由此獲得一次分散液h-1。粘結(jié)劑樹脂1-1166. 7質(zhì)量份(固含量100質(zhì)量份)石墨化顆粒b_l90質(zhì)量份炭黑10質(zhì)量份甲醇133. 3質(zhì)量份接下來，將以下材料混合，并用縱式砂磨機(jī)(以50%的填充率填充有具有0. 8mm直 徑的玻璃珠)處理該混合物，由此獲得二次分散液i_l。此外，該分散液用甲醇稀釋，由此獲 得具有固含量37%的涂布液j-1。一次分散液h-1 400質(zhì)量份(固含量200質(zhì)量份)粘結(jié)劑樹脂1-1 250質(zhì)量份(固含量150質(zhì)量份)季銨鹽f-162. 5質(zhì)量份導(dǎo)電性球狀碳顆粒95質(zhì)量份甲醇250質(zhì)量份制備具有長度320mm和外徑24. 5mm的由鋁(Ra = 0. 3 μ m ；基準(zhǔn)長度(Ir) = 4mm) 制成的圓筒狀管作為基體。在將具有長度6mm的基體的兩端部遮蔽后，設(shè)置基體以使其軸 平行于垂直線。然后，將基體以l，200rpm旋轉(zhuǎn)，并將涂布液施涂至基體上同時(shí)以30mm/sec 降低空氣噴槍(商品名GP 05-23 ；由MESAC C0.，LTD.制造)。因而，形成涂膜以在硬化后 具有厚度12 μ m。隨后，將該涂膜在熱風(fēng)干燥爐中在150°C下加熱30分鐘以硬化，由此生產(chǎn) 顯影劑承載構(gòu)件中間體k-Ι。接下來，使顯影劑承載構(gòu)件中間體k-1的表面用示于圖5的 設(shè)備進(jìn)行研磨加工。將具有5cm寬度的帶形研磨劑(商品名=Wrapping Film Sheet#3000 ； 由Sumit0m03M Limited制造)用作研磨劑。然后，在以下條件下進(jìn)行研磨加工帶卷取速 率為15mm/sec、沿套筒軸向研磨劑的進(jìn)給速率為30mm/sec、研磨劑壓向顯影劑承載構(gòu)件中 間體k-Ι的負(fù)荷為0.2N，和顯影劑承載構(gòu)件中間體k-1的旋轉(zhuǎn)數(shù)為l，000rpm。然后，獲得示于表6的具有特定表面形狀的顯影劑承載構(gòu)件g-Ι。上述帶狀研磨劑使用具有5 μ m平均 一次粒徑的氧化鋁顆粒作為研磨劑顆粒。<電子照相圖像形成設(shè)備的形成和使用其的圖像評價(jià)>將磁輥插入所得顯影劑承載構(gòu)件g-Ι中，并將法蘭(flange)連接至載體兩端。安 裝所得物作為電子照相圖像形成設(shè)備(商品名iR6010 ；由Canon Inc.制造)的顯影設(shè)備 的顯影輥。將磁刮刀和顯影劑承載構(gòu)件g_l之間的間隙設(shè)定為250 μ m。此外，將顯影劑C-I作為顯影劑裝入上述電子照相圖像形成設(shè)備中，并進(jìn)行以下 圖像評價(jià)。即，通過以橫送模式(cross-feedmode)在5，000張A4_尺寸紙上連續(xù)打印具 有5%打印百分率的文字圖像來進(jìn)行圖像輸出測試，采取一小時(shí)暫停，通過暫停后在1，000 張上連續(xù)打印該圖像來進(jìn)行圖像輸出測試。其后，通過在達(dá)495，000張上連續(xù)打印該圖像 來進(jìn)行圖像輸出測試，同時(shí)在補(bǔ)充顯影劑或紙期間臨時(shí)采取暫停。此外，通過在達(dá)500，000 張上連續(xù)打印該圖像進(jìn)行圖像輸出測試，采取一小時(shí)暫停，并通過在暫停后在1，000張上 連續(xù)打印該圖像來進(jìn)行圖像輸出測試。對于以下項(xiàng)目進(jìn)行圖像評價(jià)初期圖像濃度、初期 圖像質(zhì)量、在打印5，000張時(shí)在暫停前濃度和暫停后濃度之間的差、在打印5，000張時(shí)暫停 后的濃度恢復(fù)、在打印500,000張時(shí)暫停前后之間的濃度差、在打印500,000張時(shí)暫停后 的濃度恢復(fù)，和在打印5，000張時(shí)圖像濃度與打印500，000張時(shí)圖像濃度之間的差。通過 以下評價(jià)方法基于以下評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行圖像評價(jià)。在常溫、常濕環(huán)境(23°C，50%RH;N/N)中 進(jìn)行圖像評價(jià)。應(yīng)注意，將A4-尺寸的辦公用普通紙(office planner paper)(由Canon MarketingJapan Inc.制造；64g/m2)用于圖像評價(jià)。表7顯示該結(jié)果。(1)初期圖像濃度將實(shí)心圖像在圖像輸出測試的初期輸出，并在五個(gè)點(diǎn)處測量其濃度。該濃度為相 對于濃度為0. 00的白色背景的相對濃度。將測量值的平均值定義為圖像濃度?；跍y量結(jié) 果，根據(jù)以下標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行評價(jià)。圖像濃度用“Macbeth reflection densitometerRD918”(由 Macbeth Co.制造)來測量。A: 1.40 以上B: 1.30 以上至小于 1.40C: 1.00 以上至小于 1.30D 小于 1.00(2)初期圖像質(zhì)量將其尺寸為四磅(point)的示于圖9的漢字圖像在圖像輸出測試的初期輸出，并 通過目視觀察圖像濃度稀疏或飛散基于以下標(biāo)準(zhǔn)評價(jià)圖像質(zhì)量。A 即使用具有放大率10的放大鏡觀察時(shí)，圖像為鮮明的圖像而沒有飛散。B 當(dāng)目視觀察時(shí)圖像鮮明。C 圖像顯示輕微地飛散，但可投入實(shí)際使用而沒有任何問題。D 圖像濃度稀疏且飛散顯著。(3)在打印5，000張時(shí)暫停前后之間的濃度差在圖像輸出測試中在打印5，000張時(shí)輸出實(shí)心圖像，并與上述項(xiàng)目(1)的評價(jià)相 同的方式測量其圖像濃度。在已輸出打印5，000張時(shí)的實(shí)心圖像后，使復(fù)印機(jī)暫停1小時(shí) 同時(shí)打開其電源。暫停后輸出實(shí)心圖像，并與上述項(xiàng)目(1)的評價(jià)相同的方式測量其圖像濃度?；谝韵聵?biāo)準(zhǔn)將打印5，000張時(shí)的圖像濃度與暫停后圖像濃度之間的差分等級來進(jìn) 行評價(jià)。A 濃度差為小于0. 10。B 濃度差為0. 10以上至小于0. 15。C:濃度差為0. 15以上至小于0.20。D 濃度差為0. 20以上。(4)打印5，000張時(shí)暫停后的濃度恢復(fù)在圖像輸出測試中，在上述項(xiàng)目(3)的圖像輸出測試后在1，000張上進(jìn)一步輸出 實(shí)心圖像，并以與上述項(xiàng)目(1)的評價(jià)相同的方式測量它們的圖像濃度。將暫停前后之間 的圖像濃度差為0. 05以下的張數(shù)定義為圖像濃度恢復(fù)的時(shí)間點(diǎn)，并基于以下標(biāo)準(zhǔn)通過將 數(shù)量分等級來進(jìn)行評價(jià)。A 圖像濃度恢復(fù)的張數(shù)為10以下。B 圖像濃度恢復(fù)的張數(shù)為大于10至100以下。C 圖像濃度恢復(fù)的張數(shù)為大于100至500以下。D 圖像濃度恢復(fù)的張數(shù)為大于500至1，000以下。E :即使當(dāng)已打印1，000張，圖像濃度也沒有恢復(fù)。(5)在打印500，000張時(shí)暫停前后之間的濃度差在圖像輸出測試中，以與上述項(xiàng)目(3)相同的方式基于以下標(biāo)準(zhǔn)通過將在打印 500, 000張時(shí)暫停前后之間的濃度差分等級來進(jìn)行評價(jià)。A 濃度差小于0.10。B 濃度差為0. 10以上至小于0. 15。C:濃度差為0. 15以上至小于0.20。D 濃度差為0. 20以上。(6)打印500，000張時(shí)暫停后的濃度恢復(fù)在圖像輸出測試中，以與上述項(xiàng)目(4)相同的方式基于以下標(biāo)準(zhǔn)通過將在打印 500, 000張時(shí)暫停后的濃度恢復(fù)分等級來進(jìn)行評價(jià)。A 圖像濃度恢復(fù)的張數(shù)為10以下。B 圖像濃度恢復(fù)的張數(shù)為大于10至100以下。C 圖像濃度恢復(fù)的張數(shù)為大于100至500以下。D 圖像濃度恢復(fù)的張數(shù)為大于500至1，000以下。E 即使當(dāng)已打印1，000張，圖像濃度也沒有恢復(fù)。(7)在打印10，000張時(shí)的濃度與打印500，000張時(shí)的濃度之間的差在圖像輸出測試中，基于以下標(biāo)準(zhǔn)通過將在打印10，000張時(shí)暫停前的圖像濃度 與打印500，000時(shí)暫停前的圖像濃度之間的差分等級來進(jìn)行評價(jià)。A 濃度差小于0.10。B 濃度差為0. 10以上至小于0. 15。C:濃度差為0. 15以上至小于0.20。D 濃度差為0. 20以上。(實(shí)施例2至8)
要與上述顯影劑承載構(gòu)件g_l組合的顯影劑如表6所示改變。表6顯示了表示涉 及各顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件g-Ι的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用根據(jù)各組合的 電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示該結(jié)果。(實(shí)施例9)要與顯影劑C-I組合的顯影劑承載構(gòu)件g_2如下所述生產(chǎn)。換言之，除了將用于 生產(chǎn)上述顯影劑承載構(gòu)件g-Ι的石墨化顆粒d-Ι改變?yōu)槭w粒d-2之外，以與顯影劑 承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_2。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯 影劑承載構(gòu)件g_2的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載 構(gòu)件g_2彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。 表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例10)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g_3如下所述生產(chǎn)。換言之，除了將用于 生產(chǎn)上述顯影劑承載構(gòu)件g-Ι的石墨化顆粒d-Ι改變?yōu)槭w粒d-3之外，以與顯影劑 承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_3。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯 影劑承載構(gòu)件g_3的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載 構(gòu)件g_3彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。 表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例11)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g_9如下所述生產(chǎn)。換言之，除了將具有 3 μ m平均一次粒徑的帶形研磨劑(商品名Wrapping Film Sheet#4000 ；由Sumitomo 3M Limited制造)用作帶形研磨劑之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承 載構(gòu)件g_9。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g_9的表面形狀的各種數(shù) 值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g_9彼此組合的電子照相圖像形成 設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例I2)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g-10如下所述生產(chǎn)。換言之，除了將具有 9 μ m平均一次粒徑的帶形研磨劑(商品名Wrapping Film Sheet#2000 ；由Sumitomo 3M Limited制造)用作帶形研磨劑之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載 構(gòu)件g-10。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-10的表面形狀的各種數(shù) 值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-10彼此組合的電子照相圖像形成 設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例I3)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g-12如下所述生產(chǎn)。換言之，除了將用于 生產(chǎn)上述顯影劑承載構(gòu)件g-Ι的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-1改變?yōu)?20質(zhì)量份導(dǎo)電性球狀碳顆 粒e_2之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g-Ι相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-12。表6顯示了 表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-12的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中 顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-12彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1 相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例14)
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要與顯影劑C-I組合的顯影劑承載構(gòu)件g-11如下所述生產(chǎn)。換言之，除了將用于 生產(chǎn)上述顯影劑承載構(gòu)件g_l的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-Ι改變?yōu)?0質(zhì)量份導(dǎo)電性球狀碳顆 粒e_3之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-11。表6顯示了 表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-11的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中 顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-11彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1 相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例I5)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g-22如下所述生產(chǎn)。換言之，除了以下之 外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-22 將用于生產(chǎn)上述顯影 劑承載構(gòu)件g_l的季銨鹽f_l改變?yōu)榧句@鹽f_2 ；導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-Ι改變?yōu)?0質(zhì)量份 導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-2 ；將具有3 μ m平均一次粒徑的帶形研磨劑(商品名=Wrapping Film Sheet#4000 ；由Sumitomo 3MLimited制造)用作帶形研磨劑。表6顯示了表示涉及顯影劑 c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-22的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯 影劑承載構(gòu)件g-22彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行 圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例I6)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g-23如下所述生產(chǎn)。換言之，除了以下之 外，以與顯影劑承載構(gòu)件g-22相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-23 使用125質(zhì)量份導(dǎo)電 性球狀碳顆粒e-3來代替用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-22的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e_2 ；將具 有9 μ m平均一次粒徑的帶形研磨劑(商品名WrappingFilm Sheet#2000 ；由Sumitomo 3M Limited制造)用作帶形研磨劑。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g_23 的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-23彼此組合 的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)^ ο(實(shí)施例17)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g-15如下所述生產(chǎn)。換言之，除了以下之 外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-15 將用于生產(chǎn)顯影劑承 載構(gòu)件g_l的季銨鹽的量改變?yōu)?2. 5質(zhì)量份；將用于該生產(chǎn)的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-1 的量改變?yōu)?0質(zhì)量份。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-15的表面形 狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-15彼此組合的電子照 相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例18)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g-16如下所述生產(chǎn)。換言之，除了以下之 外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-16 將用于生產(chǎn)顯影劑承 載構(gòu)件g_l的季銨鹽的量改變?yōu)?25質(zhì)量份；將用于該生產(chǎn)的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-1 的量改變?yōu)?15質(zhì)量份。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-16的表面 形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-16彼此組合的電子 照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例19至22)
要與顯影劑承載構(gòu)件g_l組合的顯影劑如表6所示改變。表6顯示了表示涉及各 顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件g-Ι的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用根據(jù)各組合的電子 照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示該結(jié)果。(實(shí)施例23)要與顯影劑C-I組合的顯影劑承載構(gòu)件g-24如下所述生產(chǎn)。換言之，除了將用于 生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-Ι的粘結(jié)劑樹脂I-I改變?yōu)檎辰Y(jié)劑樹脂1-3之外，以與顯影劑承載 構(gòu)件g-Ι相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-24。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑 承載構(gòu)件g-24的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件 g-24彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表 7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例24)要與顯影劑c-3組合的顯影劑承載構(gòu)件g-21如下所述生產(chǎn)。換言之，除了以下 之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-21 使用25質(zhì)量份導(dǎo) 電性球狀碳顆粒e-2來代替用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-Ι ；將具 有9 μ m平均一次粒徑的帶形研磨劑(商品名Wrapping FilmSheet#2000 ；由Sumitomo 3M Limited制造)用作帶形研磨劑。表6顯示了表示涉及顯影劑c_3的顯影劑承載構(gòu)件g_21 的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-3與顯影劑承載構(gòu)件g-21彼此組合 的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)^ ο(實(shí)施例25)要與顯影劑c-3組合的顯影劑承載構(gòu)件g-20如下所述生產(chǎn)。換言之，除了使用30 質(zhì)量份導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-2代替用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-1 之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-20。表6顯示了表示涉 及顯影劑c-3的顯影劑承載構(gòu)件g-20的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑 c-3與顯影劑承載構(gòu)件g-20彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的 方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例沈)要與顯影劑c-2組合的顯影劑承載構(gòu)件g-18如下所述生產(chǎn)。換言之，除了以下 之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-18 使用125質(zhì)量份導(dǎo) 電性球狀碳顆粒e-3來代替用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-Ι ；將具 有3μπι平均一次粒徑的帶形研磨劑(商品名Wrapping Fi lmSheet#4000 ；由Sumitomo 3M Limited制造)用作帶形研磨劑。表6顯示了表示涉及顯影劑c-2的顯影劑承載構(gòu)件g-18 的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-2與顯影劑承載構(gòu)件g-18彼此組合 的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)^ ο(實(shí)施例27)要與顯影劑c-2組合的顯影劑承載構(gòu)件g-19如下所述生產(chǎn)。換言之，除了將用于 生產(chǎn)根據(jù)上述實(shí)施例26的顯影劑承載構(gòu)件g-18的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e_3的量改變?yōu)?50 質(zhì)量份之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g-18相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-19。表6顯示了表示涉及顯影劑c-2的顯影劑承載構(gòu)件g-19的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中 顯影劑c-2與顯影劑承載構(gòu)件g-19彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1 相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例觀)要與顯影劑C-I組合的顯影劑承載構(gòu)件g_6如下所述生產(chǎn)。換言之，除了以下之 外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_6 將用于生產(chǎn)顯影劑承載 構(gòu)件g-Ι的石墨化顆粒d-1改變?yōu)槭w粒d-4 ；用于該生產(chǎn)的季銨鹽f_l改變?yōu)榧句@鹽 f-2。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-6的表面形狀的各種數(shù)值。此 外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-6彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之 外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(實(shí)施例四)要與顯影劑c-1組合的顯影劑承載構(gòu)件g_7如下所述生產(chǎn)。換言之，除了以下之 外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_7 將用于生產(chǎn)顯影劑承載 構(gòu)件g-Ι的石墨化顆粒d-1改變?yōu)槭w粒d-5 ；用于該生產(chǎn)的季銨鹽f_l改變?yōu)榧句@鹽 f-2。表6顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-7的表面形狀的各種數(shù)值。此 外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-7彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之 外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表7顯示了該結(jié)果。(比較例1至5)要與顯影劑承載構(gòu)件g_l組合的顯影劑如表8所示改變。表9顯示了表示涉及各 顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件g-Ι的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用根據(jù)各組合的電子 照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示該結(jié)果。(比較例6)除了將用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l的石墨化顆粒d-Ι改變?yōu)槭w粒d-6 之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_4。表8顯示了表示涉及 顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-4的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1 與顯影劑承載構(gòu)件g_4彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式 進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例7)除了將用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l的石墨化顆粒d-Ι改變?yōu)槭w粒d-7之 外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_5。表8顯示了表示涉及顯 影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g_5的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑c-1 與顯影劑承載構(gòu)件g_5彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的方式 進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例8)將根據(jù)實(shí)施例28的顯影劑承載構(gòu)件g-6與顯影劑c-3彼此組合。表8顯示了表 示涉及顯影劑c-3的顯影劑承載構(gòu)件g-6的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯 影劑c-3與顯影劑承載構(gòu)件g-6彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相 同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例9)
將根據(jù)實(shí)施例12的顯影劑承載構(gòu)件g-10與顯影劑c-2彼此組合。表8顯示了表 示涉及顯影劑c-2的顯影劑承載構(gòu)件g-10的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯 影劑c-2與顯影劑承載構(gòu)件g-10彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相 同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例10)除了使用125質(zhì)量份導(dǎo)電性球狀碳顆粒e_4代替用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l 的導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-Ι之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件 g-13。表8顯示了表示涉及顯影劑c-2的顯影劑承載構(gòu)件g-13的表面形狀的各種數(shù)值。此 外，除了使用其中顯影劑c-2與顯影劑承載構(gòu)件g-13彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之 外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例11)除了使用65質(zhì)量份導(dǎo)電性球狀碳顆粒e_5代替用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l的 導(dǎo)電性球狀碳顆粒e-Ι之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件 g-14。表8顯示了表示涉及顯影劑c-3的顯影劑承載構(gòu)件g-14的表面形狀的各種數(shù)值。此 外，除了使用其中顯影劑c-3與顯影劑承載構(gòu)件g-14彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之 外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例12)將根據(jù)實(shí)施例15的顯影劑承載構(gòu)件g-22與顯影劑c_3彼此組合。表8顯示了表 示涉及顯影劑c-3的顯影劑承載構(gòu)件g-22的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯 影劑c-3與顯影劑承載構(gòu)件g-22彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相 同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例13)將根據(jù)實(shí)施例16的顯影劑承載構(gòu)件g-23與顯影劑c_2彼此組合。表8顯示了表 示涉及顯影劑c-2的顯影劑承載構(gòu)件g-23的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯 影劑c-2與顯影劑承載構(gòu)件g-23彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相 同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例14)除了以下之外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-17 不使用用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l的季銨鹽；以80質(zhì)量份的量使用導(dǎo)電性球狀碳顆粒 e-Ι。表8顯示了表示涉及顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-17的表面形狀的各種數(shù)值。此 外，除了使用其中顯影劑c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-17彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之 外，以與實(shí)施例1相同的方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。(比較例15)除了將用于生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g_l的粘結(jié)劑樹脂I-I改變?yōu)檎辰Y(jié)劑樹脂1-2之 外，以與顯影劑承載構(gòu)件g_l相同的方式生產(chǎn)顯影劑承載構(gòu)件g-25。表8顯示了表示涉及 顯影劑c-1的顯影劑承載構(gòu)件g-25的表面形狀的各種數(shù)值。此外，除了使用其中顯影劑 c-1與顯影劑承載構(gòu)件g-25彼此組合的電子照相圖像形成設(shè)備之外，以與實(shí)施例1相同的 方式進(jìn)行圖像評價(jià)。表9顯示了該結(jié)果。此外，表10顯示了用于上述實(shí)施例和比較例的各顯影劑承載構(gòu)件g_l至g_7和g-9至g-25的Ra (總)、用于實(shí)施例和比較例的石墨化顆粒的算術(shù)平均粒徑(Dn)，和通用硬 度(HU)。表6 表7 表9 表10 本申請要求2008年2月19日提交的日本專利申請2008-037419的權(quán)益，在此將 其整體引入以作參考。
權(quán)利要求
一種顯影設(shè)備，其至少包括用于使在感光鼓上形成的靜電潛像顯影的顯影劑；用于承載并輸送所述顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件；和接近于所述顯影劑承載構(gòu)件設(shè)置以調(diào)節(jié)通過所述顯影劑承載構(gòu)件承載并輸送的顯影劑量的顯影劑層厚度調(diào)節(jié)單元，其中所述顯影劑為帶負(fù)電性單組分磁性調(diào)色劑，并包括各自至少包含粘結(jié)劑樹脂和磁性氧化鐵顆粒的磁性調(diào)色劑顆粒，所述顯影劑在795.8kA/m的磁場中具有20Am2/kg以上至40Am2/kg以下的飽和磁化強(qiáng)度，并具有4.0μm以上至8.0μm以下的重均粒徑(D4)，其中對于所述磁性氧化鐵顆粒，當(dāng)將所述磁性氧化鐵顆粒溶解以使Fe元素溶解率達(dá)到10質(zhì)量％時(shí)，溶解的Fe(2+)量與溶解的Fe元素總量的比X為34％以上至50％以下；所述顯影劑承載構(gòu)件至少包括基材、在所述基材上形成的作為表面層的樹脂層，和在所述基材上設(shè)置的磁性構(gòu)件，所述樹脂層具有負(fù)摩擦帶電的顯影劑，并包含在其結(jié)構(gòu)中具有選自由 NH2基、＝NH基和 NH 鍵組成的組的至少之一的粘結(jié)劑樹脂，用于降低賦予所述顯影劑以負(fù)摩擦電荷的季銨鹽，各自具有0.22以上至0.75以下的石墨化度p(002)的石墨化顆粒，和具有4.0μm至8.0μm體積平均粒徑的導(dǎo)電性球狀碳顆粒作為用于賦予樹脂層表面凹凸的顆粒，其中當(dāng)將在所述顯影劑承載構(gòu)件表面上邊長0.50mm正方形區(qū)域用與所述正方形區(qū)域的一邊平行的725條直線，和與所述直線成直角交叉的另外725條直線等分時(shí)，在其上承載所述顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件的全部區(qū)域具有多個(gè)獨(dú)立的凸部，所述凸部的高度超過D4/4，相對于在所述725條直線和所述另外725條直線的交叉處測量的三維高度的平均值(H)，其中在D4/4高度處的所述凸部的面積總和為所述區(qū)域的5％以上至30％以下，僅從所述凸部測定的算術(shù)平均粗糙度Ra(A)為0.25μm以上至0.55μm以下，以及從除了所述凸部之外的區(qū)域測定的算術(shù)平均粗糙度Ra(B)為0.65μm以上至1.20μm以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影設(shè)備，其中，直到Fe元素溶解率達(dá)到10質(zhì)量％時(shí)，除了 溶解的所述磁性氧化鐵顆粒的Fe量之外，在剩余的90質(zhì)量％中，F(xiàn)e(2+)量與Fe總量的比 由Y表示時(shí)，比(X/Y)為大于1. 00至1. 30以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影設(shè)備，其中所述粘結(jié)劑樹脂為酚醛樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的顯影設(shè)備，其中，當(dāng)將在所述顯影劑承載構(gòu)件表面 上邊長0. 50mm正方形區(qū)域用與所述正方形區(qū)域的一邊平行的725條直線，和與所述直線成 直角交叉的另外725條直線等分時(shí)，在其上承載顯影劑的所述顯影劑承載構(gòu)件的區(qū)域具有 0. 60 μ m以上至1. 40 μ m以下的算術(shù)平均粗糙度Ra (總)，所述算術(shù)平均粗糙度Ra (總)從 在所述725條直線和所述另外725條直線的交叉處測量的三維高度測定。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的顯影設(shè)備，其中當(dāng)用電子顯微鏡觀察所述樹脂層的截面時(shí)，所述石墨化顆粒的算術(shù)平均粒徑(Dn)為 0. 50 μ m以上至3. 00 μ m以下；以及所述樹脂層的表面的通用硬度(HU)的平均值⑶為400N/mm2以上至650N/mm2以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的顯影設(shè)備，其中將所述樹脂層用在其表面上承載 研磨顆粒的帶形研磨劑進(jìn)行研磨加工。
7.一種電子照相圖像形成設(shè)備，其包括根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的顯影設(shè)備。
全文摘要
提供一種顯影設(shè)備，其甚至在設(shè)置有暫停時(shí)間的非連續(xù)打印模式中也能夠抑制圖像濃度的波動(dòng)。所述顯影設(shè)備至少包括用于使在感光鼓上的靜電潛像顯影的顯影劑、用于承載并輸送所述顯影劑的顯影劑承載構(gòu)件以及接近于所述顯影劑承載構(gòu)件設(shè)置用于調(diào)節(jié)在所述顯影劑承載構(gòu)件上承載并輸送的顯影劑量的顯影劑層厚度調(diào)節(jié)單元。所述顯影劑為帶負(fù)電性單組分磁性調(diào)色劑，其包括各自至少包含粘結(jié)劑樹脂和磁性氧化鐵顆粒的磁性調(diào)色劑顆粒，其具有特定飽和磁化強(qiáng)度、重均粒徑和組成。所述顯影劑承載構(gòu)件具有包含粘結(jié)劑樹脂、季銨鹽、石墨化顆粒和導(dǎo)電性球狀樹脂顆粒的表面層，并具有特定的表面形狀。
文檔編號G03G9/083GK101932978SQ20098000046
公開日2010年12月29日 申請日期2009年2月4日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月19日
發(fā)明者伊藤稔, 吉羽大輔, 大竹智, 島村正良, 明石恭尚, 松田拓真, 若林和仁 申請人:佳能株式會(huì)社