專利名稱：曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是涉及檢測形成于光罩的光罩對準(zhǔn)標(biāo)記(光罩標(biāo)記)，及形成于基板(工
件)的工件對準(zhǔn)標(biāo)記(工件標(biāo)記)，進行對位(對準(zhǔn))使得兩者成為事先所設(shè)定的位置關(guān)系， 并經(jīng)由光罩進行曝光工件的曝光裝置，尤其涉及可縮短對位與對準(zhǔn)曝光的曝光處理整體的 時間的曝光裝置。
背景技術(shù)：
在通過照相平版印刷影印法來制造半導(dǎo)體元件、印刷基板、液晶基板等的圖案的 工序中，使用曝光裝置。曝光裝置是將形成光罩圖案的光罩、及其圖案所轉(zhuǎn)印的基板(以下 也稱為工件)對位于預(yù)定的位置關(guān)系，然后，隔著光罩照射包含曝光光的光。由此，光罩圖 案被轉(zhuǎn)印(曝光)至工件。 在圖8、圖9中，表示將工件(印刷基板)在多個曝光區(qū)域分割，并一面依分割的區(qū) 域移動該工件一面依次進行曝光的曝光裝置。 另外，如圖IO所示，工件被分割成A， B， C， D的4個曝光區(qū)域，對于l個曝光區(qū)域 利用4個工件標(biāo)記(對于區(qū)域A為a， b， c， d，而對于區(qū)域B為b， d， g， h)來進行對位。
光罩與工件必須對準(zhǔn)平面內(nèi)的2個方向(X方向與Y方向)及旋轉(zhuǎn)方向(9方向) 的位置。所以，光罩標(biāo)記(光罩對準(zhǔn)標(biāo)記)與工件標(biāo)記(工件對準(zhǔn)標(biāo)記)，是分別至少需要 兩處。但是，尤其是工件為印刷基板時，則通過在前工序的處理也有朝縱橫方向伸縮的情 形，最近，為了提升對位精度而利用4個對準(zhǔn)標(biāo)記的情形較多。另外，在該情況下，例如以把 光罩標(biāo)記與工件標(biāo)記的各坐標(biāo)的偏移量總和作成最小的方式來進行對位。
如圖8，圖9所示地，曝光裝置主要是由光照射部1、光罩M，保持光罩的光罩平臺 MS、投影透鏡2、載置工件W(參照圖9)而一面依次移動一面進行曝光處理的曝光平臺WS， 檢測光罩標(biāo)記與工件標(biāo)記的準(zhǔn)直顯微鏡IO，控制曝光裝置整體的動作的控制部11所構(gòu)成。
光照射部1是內(nèi)設(shè)放射曝光光的燈(未圖示)。 在光罩M中，形成有曝光(轉(zhuǎn)印)于工件的光罩圖案MP，及使用于與工件的對位的
光罩標(biāo)記MAM。光罩平臺MS是保持光罩M的平臺。 投影透鏡2是將光罩圖案MP投影于工件W上的透鏡。 曝光平臺WS是保持進行曝光處理的工件W的平臺，在表面形成有真空吸附溝槽 (未圖示)等。另外，安裝有使用于檢測光罩標(biāo)記MAM的位置時的反射部件匪(反射鏡)。
另外，在曝光平臺WS上，為了移動工件W以進行光罩M與工件的對位，安裝有XY e
移動機構(gòu)(未圖示)。另外，xye移動機構(gòu)為了在曝光中按照分割工件的區(qū)域而移動，具有
在X方向與Y方向可移動工件的寬度的量的沖程。 準(zhǔn)直顯微鏡10是檢測光罩標(biāo)記MAM與工件標(biāo)記的顯微鏡，按照在1次曝光中所檢 測的對準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)目(在此時是4個)所設(shè)置，但在圖8，圖9僅示出兩個。在準(zhǔn)直顯微鏡 10所檢測的光罩標(biāo)記MAM或工件標(biāo)記，通過控制部11被圖像處理而被演算其位置坐標(biāo)。準(zhǔn) 直顯微鏡10通過準(zhǔn)直顯微鏡移動機構(gòu)(未圖示)可退避插入地構(gòu)成于投影透鏡2與曝光平臺WS之間。 準(zhǔn)直顯微鏡10由半透半反鏡10a、透鏡Ll、 L2與CCD照相機10b構(gòu)成。另外，在 控制部ll，設(shè)有顯示以準(zhǔn)直顯微鏡10顯像的圖像等的監(jiān)視器12。
以下，使用圖8與圖9來說明其曝光順序。 (1)如圖8所示，在工件未載置于曝光平臺WS的狀態(tài)下，將曝光光從光照射部1照 射至光罩M。 形成于光罩的光罩標(biāo)記MAM被投影至曝光平臺的反射鏡匪上。反射鏡匪設(shè)于光 罩標(biāo)記MAM被投影的位置。 (2)在投影透鏡2與曝光平臺WS之間插入準(zhǔn)直顯微鏡10。通過反射鏡匪所反射 的光罩標(biāo)記MAM的投影像通過準(zhǔn)直顯微鏡10的半透半反鏡10a被反射，而被射入CCD照相 機10b。 映出于CCD照相機10b的光罩標(biāo)記MAM像被傳送到控制部11 ，被圖像處理求出其 位置坐標(biāo)之后被存儲。 (3)如圖9所示地，進行曝光處理的工件W通過未圖示的搬運裝置被搬運并被載置 于曝光平臺WS。 (4)準(zhǔn)直顯微鏡10被插入投影透鏡2與曝光平臺WS之間，并檢測工件標(biāo)記WAM。 所檢測的工件標(biāo)記WAM為與在上述(2)所存儲的光罩標(biāo)記MAM成為預(yù)定的位置關(guān)系，移動 曝光平臺WS而進行對位(對準(zhǔn))。 (5)對位結(jié)束之后，退避準(zhǔn)直顯微鏡10，曝光光從光照射部1被照射。光罩圖案MP 通過投影透鏡2被投影在工件W上而被曝光(轉(zhuǎn)印)。 (6)曝光結(jié)束之后，曝光平臺WS朝X方向或Y方向移動，之后被曝光的區(qū)域來到投 影透鏡2的下方。 重復(fù)上述(4) (5)的順序。即，準(zhǔn)直顯微鏡10被插入，而工件標(biāo)記WMA被檢測而被 對位，并被曝光。 同樣地，重復(fù)上述(4)至(6)的順序，當(dāng)工件上被分割的所有區(qū)域被曝光，則其工 件的曝光處理終了。工件被輸出至曝光裝置外面。 最近，工件的印刷基板大型化，如下述的圖4所示地，工件W的曝光區(qū)域，也從以往 的4分割增加至16分割的數(shù)量。如上述那樣，當(dāng)增加所分割的曝光區(qū)域數(shù)目，則在曝光平 臺上進行工件標(biāo)記的檢測與對位的曝光方法中，對位與曝光以串聯(lián)順序進行，因而一枚工 件的曝光處理時間變長。 為了解決該問題，專利文獻1所述的曝光裝置具備用以進行曝光處理的第1平 臺，及可與該第l平臺獨立地動作的用以進行對準(zhǔn)測量的第2平臺。如此，在第l步驟中正 當(dāng)進行工件的曝光處理時，在第2平臺中，取得進行下一曝光處理的工件的位置信息(檢測 工件標(biāo)記)。 采用此種裝置構(gòu)成，則在進行某一工件的曝光處理的期間，因為進行下一工件的
對位，所以可縮短一枚工件的曝光處理開始一直到終了為止的時間。 專利文獻1 :日本特開2005-86093號公報 將表示于圖8及圖9的以往的曝光裝置，如專利文獻1所述的曝光裝置所示地分 成包含進行曝光處理的第1平臺(以下稱為曝光平臺)的曝光處理部，及包含進行對準(zhǔn)測量、即進行工件標(biāo)記檢測的第2平臺(以下稱為對準(zhǔn)平臺)的對準(zhǔn)平臺部，則在對準(zhǔn)平臺部 安裝有對準(zhǔn)平臺，將該平臺朝互相正交的2個方向(XY方向)移動工件的寬度的量的平臺 移動機構(gòu)，及4個準(zhǔn)直顯微鏡。 S卩，如圖4所示那樣，將在工件上分割而形成的16個曝光區(qū)域作為A，B，C，D…N，
0，P，則對準(zhǔn)平臺是一面重復(fù)從曝光區(qū)域A依次朝XY方向移動， 一面通過準(zhǔn)直顯微鏡檢測出 對應(yīng)于各區(qū)域的對準(zhǔn)標(biāo)記。 如上述所示地，曝光平臺是為了曝光被分割的各曝光區(qū)域，必須朝XY方向移動工 件的寬度的量。對此，若對準(zhǔn)平臺也朝XY方向移動工件的寬度的量，則在曝光處理部與對 準(zhǔn)平臺部的兩處需要確保大型工件的寬度的量用于朝XY方向移動的空間。裝置成為極大 型化。 為了防止該問題，若未移動對準(zhǔn)平臺，則這一次，準(zhǔn)直顯微鏡對應(yīng)于所有工件標(biāo) 記，若在圖4的情況下，則需要25個。準(zhǔn)直顯微鏡是精密的光學(xué)儀器而昂貴，因而若使用25 個該儀器，則導(dǎo)致提高裝置的成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決上述問題而做出，本發(fā)明的目的是為了縮短對位及對準(zhǔn)曝光的曝 光處理整體的時間，在具備進行曝光處理的曝光處理部與進行對位的對準(zhǔn)平臺部的曝光裝 置中，將對準(zhǔn)平臺盡可能小型化，低成本化。
在本發(fā)明中，如下解決上述課題。
(1)本發(fā)明的曝光裝置，具有對準(zhǔn)平臺部，檢測工件對準(zhǔn)標(biāo)記的位置，曝光處理
部，具備曝光平臺，該曝光平臺保持著工件對準(zhǔn)標(biāo)記的位置被檢測出的工件，以及，工件移
動機構(gòu)，將工件從對準(zhǔn)平臺部移動至曝光處理部；其中，對準(zhǔn)平臺部包括以下的(a)至(c)。(a)對準(zhǔn)平臺，載置形成有工件對準(zhǔn)標(biāo)記(工件標(biāo)記)的工件。
(b)多個準(zhǔn)直顯微鏡，檢測形成于基板上的工件對準(zhǔn)標(biāo)記(工件標(biāo)記)。
(c)平臺/顯微鏡移動機構(gòu)，使對準(zhǔn)平臺和準(zhǔn)直顯微鏡朝一個軸的方向相對地移
動工件的寬度的量。 另外，也可以設(shè)置通過真空吸附等吸附工件使之不會移動地予以保持的工件保持 部件，在通過上述工件保持部件保持工件的狀態(tài)下，將工件保持部件即工件從對準(zhǔn)平臺的 預(yù)定位置移動至曝光平臺的預(yù)定位置。 在此，在對準(zhǔn)平臺與曝光平臺設(shè)置通過嵌合等將上述工件保持部件機械地定位于 預(yù)定位置的定位單元，當(dāng)將上述工件保持部件從對準(zhǔn)平臺部移動至曝光處理部時，構(gòu)成將 上述工件保持部件通過上述定位單元定位在對準(zhǔn)平臺與曝光平臺上，即使處理容易變形的 工件等時，也可將工件從對準(zhǔn)平臺部位置再現(xiàn)性優(yōu)異地移動至曝光處理部。由此，依據(jù)在對 準(zhǔn)平臺部所檢測的工件對準(zhǔn)標(biāo)記的位置，能夠進行在曝光處理部精度良好地對準(zhǔn)。
(2)也可以在上述(1)中，設(shè)置使準(zhǔn)直顯微鏡移動的第2移動機構(gòu)，通過該移動機 構(gòu)，平臺/顯微鏡移動機構(gòu)構(gòu)成向如下方向移動準(zhǔn)直顯微鏡，該方向是相對于使平臺或準(zhǔn) 直顯微鏡朝一個軸的方向移動的方向正交的方向。 (3)也可以在上述(1)中，對應(yīng)于對準(zhǔn)標(biāo)記數(shù)設(shè)置多個準(zhǔn)直顯微鏡，該對準(zhǔn)標(biāo)記形 成在相對于平臺或準(zhǔn)直顯微鏡移動的方向正交的方向上。
如此地構(gòu)成，平臺/顯微鏡移動機構(gòu)，只要僅在一個軸的方向移動工件的寬度的
量就可以。 發(fā)明效果 在本發(fā)明中，可以獲得如下效果。 (1)設(shè)置平臺/顯微鏡移動機構(gòu)，使對準(zhǔn)平臺與準(zhǔn)直顯微鏡在一個軸的方向相對 移動工件的寬度的量，因而不需要使對準(zhǔn)平臺朝XY方向(兩個軸的方向)移動，可實現(xiàn)裝 置的小型化。 (2)因為能夠相對減少準(zhǔn)直顯微鏡的數(shù)量，因而可以實現(xiàn)裝置成本降低。


圖1是表示本發(fā)明的實施例的曝光裝置的構(gòu)成的圖。 圖2是表示作為定位單元而使用嵌臺，不會發(fā)生位置偏移地以高精度進行搬運的 方法的一例的圖。 圖3是表示本發(fā)明的實施例的對準(zhǔn)平臺部的構(gòu)成的立體圖。 圖4是表示工件的曝光區(qū)域的一例的圖。 圖5是表示工件標(biāo)記檢測用的準(zhǔn)直顯微鏡的構(gòu)成例的圖。 圖6是表示對準(zhǔn)平臺部的第2實施例的圖。 圖7是表示對準(zhǔn)平臺部的第3實施例的圖。 圖8是表示進行工件的依次曝光的以往的曝光裝置的構(gòu)成例的圖(1)。 圖9是表示進行工件的依次曝光的以往的曝光裝置的構(gòu)成例的圖(2)。 圖10是表示被分割成4個曝光區(qū)域的工件的例子的圖。 標(biāo)記說明 1 :光照射部 2 :投影透鏡 3:工件保持部件 4 :準(zhǔn)直顯微鏡 4a :準(zhǔn)直顯微鏡支撐體 10 :準(zhǔn)直顯微鏡 11 :控制部 21 :曝光處理部 22 :對準(zhǔn)平臺部 22a :平臺移動機構(gòu) 221 :直進導(dǎo)件 22b，22c :顯微鏡移動機構(gòu) 23:工件搬運機構(gòu) M :光罩 MS :光罩平臺 WS :曝光平臺 AS :對準(zhǔn)平臺
W :工件
具體實施例方式圖1是表示本發(fā)明的實施例的曝光裝置的構(gòu)成的圖。 針對與表示于上述圖8的以往例相同構(gòu)成的部分，付于同一符號，由光照射部1、 光罩M、保持光罩的光罩平臺MS，投影透鏡2，載置工件W —面依次移動一面進行曝光處理 的曝光平臺WS，檢測光罩標(biāo)記的準(zhǔn)直顯微鏡10，控制曝光裝置整體的動作的控制部11所構(gòu) 成，而其動作與上述同樣。在圖1雖未圖示，但如圖8所示，準(zhǔn)直顯微鏡10是由半透半反鏡 10a、透鏡Ll、 L2及CCD照相機10b所構(gòu)成。 在本實施例中，另外如圖1所示，與包含曝光平臺WS的曝光處理部21不同，設(shè)置 用于重新進行包含對準(zhǔn)平臺AS的工件標(biāo)記的位置檢測的對準(zhǔn)平臺部22。
在對準(zhǔn)平臺部22設(shè)置載置形成工件標(biāo)記WAM的工件W的對準(zhǔn)平臺AS，及檢測工件 標(biāo)記WAM的準(zhǔn)直顯微鏡4。 另外，設(shè)置將對準(zhǔn)平臺AS與準(zhǔn)直顯微鏡4朝1軸方向相對地移動工件的寬度的量 的平臺/顯微鏡移動機構(gòu)的對準(zhǔn)平臺移動機構(gòu)22a。另外，圖1表示設(shè)置用于移動對準(zhǔn)平臺 AS的對準(zhǔn)平臺移動機構(gòu)22a的情況，未表示有關(guān)于移動準(zhǔn)直顯微鏡4的機構(gòu)。
在對準(zhǔn)平臺部22與曝光處理部21之間，設(shè)置將工件W從對準(zhǔn)平臺部AS搬運至曝 光處理部21的工件搬運機構(gòu)23。的在對準(zhǔn)平臺部22所檢測并被存儲的工件標(biāo)記WAM的位 置坐標(biāo)(工件W與平臺AS的位置關(guān)系)與曝光處理部21的工件標(biāo)記WAM的位置坐標(biāo)(工 件W與平臺WS的位置關(guān)系)成為一致的方式(未發(fā)生位置偏移的方式)，工件搬運機構(gòu)23 從對準(zhǔn)平臺部22以高精度搬運至曝光處理部21。 S卩，相對于在對準(zhǔn)平臺部22所檢測出的對準(zhǔn)平臺AS的工件標(biāo)記WAM的位置坐標(biāo) 的關(guān)系，為在曝光平臺21也能維持那樣(相對于在曝光處理部21的平臺WS的工件標(biāo)記 WAM的位置坐標(biāo)一致于相對于對準(zhǔn)平臺22的平臺AS的工件標(biāo)記WAM的位置坐標(biāo))，將工件 W從對準(zhǔn)平臺部22搬運至曝光處理部21。 在對準(zhǔn)平臺部22所檢測的工件標(biāo)記WAM的位置坐標(biāo)與曝光處理部21的工件標(biāo)記 WAM的位置坐標(biāo)成為一致的方式進行搬運，作為搬運機構(gòu)23，也考慮可使用將工件以高精 度定位于預(yù)定位置，例如，可以如下那樣構(gòu)成。 即，上下地分割地構(gòu)成對準(zhǔn)平臺AS與曝光平臺WS，上側(cè)部分以工件保持部件構(gòu) 成，設(shè)置通過嵌合等將上述工件保持部件機械地定位于對準(zhǔn)平臺主體與曝光平臺主體的預(yù) 定位置的定位單元。 在工件保持部件3上設(shè)置真空吸附單元等的固定工件并予以保持的單元，在通過 真空吸附單元吸附工件的狀態(tài)下，將工件保持部件3從對準(zhǔn)平臺部22移動至曝光處理部 21。 此時，通過上述定位單元，上述工件保持部件在對準(zhǔn)平臺主體AS1與曝光平臺主 體上，定位成對于平臺主體成為預(yù)定關(guān)系。 如此地構(gòu)成，即使處理容易產(chǎn)生伸縮或彎曲等的變形的工件等的情形，也可將工 件W從對準(zhǔn)平臺部22位置再現(xiàn)性優(yōu)異地移動至曝光處理部21。 在圖2表示使用嵌合作為上述定位單元，不會產(chǎn)生位置偏移地以高精度進行搬運
7的方法的一例。 如同圖所示，將對準(zhǔn)平臺AS與曝光平臺WS構(gòu)成為可上下分割，將上部分作為真空 吸附工件的工件保持部件3，而將下部分作為對準(zhǔn)平臺主體AS1、曝光平臺主體WS1，而在其 上下，預(yù)先形成凹凸的嵌合。 在對準(zhǔn)平臺部22，將載置工件W的工件保持部件3置于對準(zhǔn)平臺主體AS1，而進行 工件標(biāo)記WAM的位置檢測與存儲。 工件搬運機構(gòu)23在將工件W保持在工件保持部件3的狀態(tài)下，將每一工件保持部 件3搬運至曝光處理部21，并將工件保持部件3嵌合于曝光平臺主體WS1。
因工件保持部件3與對準(zhǔn)平臺主體AS1及曝光平臺WS1的位置關(guān)系不會變更，因 此在對準(zhǔn)平臺部22所存儲的工件標(biāo)記WAM的位置坐標(biāo)，及曝光處理部21的曝光平臺主體 WS1的位置坐標(biāo)一致[即，在對準(zhǔn)平臺所檢測的工件標(biāo)記的位置(Xn， Ym)，直接可搬運至曝 光平臺的(Xn，Ym)位置]。 圖3是表示本發(fā)明的實施例的曝光裝置的對準(zhǔn)平臺部的構(gòu)成的立體圖，圖4是表 示上述工件W的曝光區(qū)域的一例的圖。 如圖3所示，在對準(zhǔn)平臺部22，具有載置形成工件標(biāo)記WAM的工件W的對準(zhǔn)平臺 AS。該平臺AS是由具備用以吸附保持工件W的真空吸附機構(gòu)的工件保持部件3與平臺主 體AS1所構(gòu)成，但在圖3中被省略。另外，在對準(zhǔn)平臺AS也安裝有Y9移動機構(gòu)，該Y9移 動機構(gòu)使所載置的工件W的工件標(biāo)記進入到下述的準(zhǔn)直顯微鏡的視野內(nèi)而用以調(diào)整工件 的位置，但此機構(gòu)也被省略。 在對準(zhǔn)平臺AS上，安裝有作為平臺移動機構(gòu)22a的直進導(dǎo)件221，對準(zhǔn)平臺AS僅 朝圖中箭頭方向的一軸方向(X方向)移動。 另外，在對準(zhǔn)平臺AS的上方配置有用以檢測工件標(biāo)記的多個準(zhǔn)直顯微鏡4 (工件 標(biāo)記檢測用準(zhǔn)直顯微鏡)。準(zhǔn)直顯微鏡4利用門形狀的準(zhǔn)直顯微鏡支撐體4a所支撐。
載置工件W的平臺AS利用直進導(dǎo)件221從門形狀的準(zhǔn)直顯微鏡支撐體4a的下方 朝一個方向(X方向)移動。 準(zhǔn)直顯微鏡4的數(shù)量是對應(yīng)于被載置于平臺AS的工件W的、在相對于平臺AS所
移動的方向正交的方向上形成的工件對準(zhǔn)標(biāo)記WAM的數(shù)量。表示于圖3的本實施例的情形
是設(shè)置5個以便可一并檢測例如表示于圖4的工件W的工件標(biāo)記WAM。 如圖5所示，工件標(biāo)記檢測用的準(zhǔn)直顯微鏡4是由透鏡L3、L4及CCD照相機4b所
構(gòu)成，通過CCD照相機4b進行顯像的工件標(biāo)記像被發(fā)送至裝置的控制部ll，被圖像處理之
后，求出位置坐標(biāo)并被存儲。 使用圖1、圖3、圖4，針對于曝光處理的順序加以說明。另外，將工件從對準(zhǔn)平臺部 的對準(zhǔn)平臺搬運至曝光平臺的工件搬運機構(gòu)能夠搬運工件以使如上述那樣對準(zhǔn)平臺的位 置坐標(biāo)與曝光平臺的位置坐標(biāo)一致。 在曝光處理部21的曝光平臺WS上未載置工件W的狀態(tài)下，將曝光光從光照射部 1照射于光罩M。 被形成于光罩M的光罩標(biāo)記MAM，被投影在曝光平臺WS的反射鏡匪上。將光罩標(biāo) 記檢測用的準(zhǔn)直顯微鏡10插入投影透鏡2與曝光平臺WS之間。通過反射鏡匪所反射的 光罩標(biāo)記MAM的投影像是通過準(zhǔn)直顯微鏡10的半透半反鏡10a被反射而射入至CCD照相機10b。顯示于CCD照相機10b的光罩標(biāo)記MAM像被送至控制部11，被圖像處理之后，求出 其位置坐標(biāo)[例如(Xm，Ym)]并被存儲。該部分與以往例相同。 另外，準(zhǔn)直顯微鏡IO也可以在設(shè)置反射鏡匪的位置進行設(shè)置，以使其埋入曝光平 臺WS。 —方面，工件W被載置于對準(zhǔn)平臺部22的對準(zhǔn)平臺AS。平臺AS沿著平臺移動機 構(gòu)的直進導(dǎo)件221，以工件標(biāo)記WAM所形成的間隔被單步進給。工件標(biāo)記WAM的間隔事先被 存儲在控制部11。直進導(dǎo)件22a使用直動性優(yōu)異的部件。 工件標(biāo)記檢測用的多個準(zhǔn)直顯微鏡4以排列的方式檢測被形成于對于移動的方 向正交的方向的工件標(biāo)記WAM。當(dāng)終了其列的檢測，則以工件標(biāo)記WAM的形成間隔單步進給 平臺AS，并檢測下一列的工件標(biāo)記WAM。 每當(dāng)工件W被單步進給，則被檢測的工件標(biāo)記像被送至控制部ll，被圖像處理之 后，求出其位置坐標(biāo)并被存儲。 當(dāng)求出所有工件標(biāo)記WAM的位置坐標(biāo)，則工件搬運機構(gòu)23將工件W從對準(zhǔn)平臺部 22的對準(zhǔn)平臺AS搬運至曝光處理部21的曝光平臺WS。如上述那樣，搬運機構(gòu)23進行搬 運以使在對準(zhǔn)平臺AS所檢測的位置坐標(biāo)及曝光平臺WS的位置坐標(biāo)一致(或成為事先設(shè)定 的位置關(guān)系)。 另外，如上述那樣，也可以在以工件保持部件3保持工件W的狀態(tài)下，將工件W搬
運至曝光平臺WS。 當(dāng)工件W被載置于曝光平臺WS時，曝光平臺WS朝XYe方向移動，以使在上述被 存儲于控制部11的4個光罩標(biāo)記MAM的位置及第1曝光區(qū)域的4個工件標(biāo)記的位置一致 (或成為事先所設(shè)定的位置關(guān)系)。從光照射部1照射曝光光，光罩圖案通過投影透鏡2被 投影在工件W上，而曝光(轉(zhuǎn)印)第1曝光區(qū)域。 當(dāng)終了第1曝光區(qū)域的曝光時，為了進行第2曝光區(qū)域的曝光，曝光平臺WS朝XY 方向移動。當(dāng)?shù)?曝光區(qū)域來到投影透鏡下方時，移動曝光平臺WS，以使存儲的(4個)光 罩標(biāo)記的位置及第2曝光區(qū)域的(4個)工件標(biāo)記WAM的位置一致(或成為事先所設(shè)定的 位置關(guān)系)，而曝光第2曝光區(qū)域。 以下，重復(fù)上述過程，曝光表示于圖4的被分割的16個曝光區(qū)域。
圖6是表示對準(zhǔn)平臺部的第2實施例的圖。 在表示于圖3的第1實施例中，通過平臺移動機構(gòu)22a，對準(zhǔn)平臺AS相對于準(zhǔn)直顯 微鏡4進行移動。在本實施例中，通過顯微鏡移動機構(gòu)22b ，準(zhǔn)直顯微鏡4相對于對準(zhǔn)平臺 AS進行移動。S卩，直進導(dǎo)件221被安裝于準(zhǔn)直顯微鏡支撐體4a。由此，準(zhǔn)直顯微鏡4朝一 個軸方向(X)方向移動工件的寬度的量。 準(zhǔn)直顯微鏡4以排列的方式檢測形成于相對于移動的方向正交的方向上的對準(zhǔn) 標(biāo)記。當(dāng)終了其列的檢測時，以工件標(biāo)記的形成間隔單步進給準(zhǔn)直顯微鏡支撐體4a，并進行 下一列的工件標(biāo)記的檢測。 第1實施例、第2實施例在對準(zhǔn)平臺部22上，移動工件的寬度的量都僅在一個軸 方向(X方向)，能夠使對準(zhǔn)平臺部22小型化。 另外，工件標(biāo)記檢測用的準(zhǔn)直顯微鏡4，也僅對應(yīng)于形成在相對于平臺AS或準(zhǔn)直 顯微鏡4移動的方向正交的方向上的對準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)量加以設(shè)置就可以，因而可相對減少其
9數(shù)量，可實現(xiàn)裝置成本降低。 圖7是表示對準(zhǔn)平臺部22的第3實施例的圖。 在本實施例中，設(shè)置第2顯微鏡移動機構(gòu)22c ，該第2顯微鏡移動機構(gòu)22c將工件 標(biāo)記檢測用的多個準(zhǔn)直顯微鏡4朝相對于平臺AS與準(zhǔn)直顯微鏡4相對移動的方向正交的 方向移動。 如此所構(gòu)成的情形中，準(zhǔn)直顯微鏡4 一面重復(fù)朝XY方向步進移動一面檢測對準(zhǔn)標(biāo) 記并加以存儲。 對第1、第2實施例進行比較，需要使準(zhǔn)直顯微鏡4向下述方向(Y方向)移動的機 構(gòu)，該方向為相對于平臺AS與顯微鏡4相對地移動的正交的方向。并不是朝Y方向移動對 準(zhǔn)平臺AS，因而基本上對準(zhǔn)平臺部22的大小與第1、第2實施例相同，不會大型化。另外， 準(zhǔn)直顯微鏡4也朝Y方向移動，因而可減少顯微鏡的數(shù)量。 減少準(zhǔn)直顯微鏡的數(shù)量，并朝Y軸方向移動顯微鏡，因而與第1、第2實施例相比 較，在1枚工件中，檢測工件標(biāo)記所需要的時間變長。但是，只要是比在曝光處理部21所進 行的每一枚工件的曝光處理時間還要短的時間就沒有問題。 另外，在圖7中，將相對地移動平臺AS與顯微鏡4工件的寬度的量的移動機構(gòu)，如 第2實施例那樣安裝于顯微鏡側(cè)，但是也可以如第1實施例那樣安裝于平臺側(cè)。
權(quán)利要求
一種曝光裝置，檢測形成于光罩的光罩對準(zhǔn)標(biāo)記和形成于工件的工件對準(zhǔn)標(biāo)記，進行對位以使兩者成為預(yù)定的位置關(guān)系，結(jié)束對位之后，隔著光罩將曝光光照射于工件，將形成于光罩的圖案曝光于工件，其特征在于，上述曝光裝置具備對準(zhǔn)平臺部，該對準(zhǔn)平臺部具有對準(zhǔn)平臺、多個工件對準(zhǔn)標(biāo)記檢測用準(zhǔn)直顯微鏡和平臺/顯微鏡移動機構(gòu)，該對準(zhǔn)平臺保持形成有對準(zhǔn)標(biāo)記的工件，該多個工件對準(zhǔn)標(biāo)記檢測用準(zhǔn)直顯微鏡檢測被保持在對準(zhǔn)平臺上的工件的工件對準(zhǔn)標(biāo)記，該平臺/顯微鏡移動機構(gòu)使對準(zhǔn)平臺和工件對準(zhǔn)標(biāo)記檢測用準(zhǔn)直顯微鏡在一個軸的方向相對地移動工件的寬度的量；曝光處理部，該曝光處理部具有光罩對準(zhǔn)標(biāo)記檢測用顯微鏡和曝光平臺，該光罩對準(zhǔn)標(biāo)記檢測用顯微鏡檢測光罩對準(zhǔn)標(biāo)記，該曝光平臺保持著在對準(zhǔn)平臺部檢測出工件對準(zhǔn)標(biāo)記的位置的工件；以及，工件移動機構(gòu)，該工件移動機構(gòu)將工件從對準(zhǔn)平臺部移動至曝光處理部。
2. 如權(quán)利要求l所述的曝光裝置，其特征在于，在上述工件對準(zhǔn)標(biāo)記檢測用顯微鏡上安裝有第2移動機構(gòu)，該第2移動機構(gòu)使工件對 準(zhǔn)標(biāo)記檢測用顯微鏡在與上述一個軸的方向正交的方向上移動。
3. 如權(quán)利要求l所述的曝光裝置，其特征在于，對應(yīng)于形成在與上述一個軸的方向正交的方向上的各個工件對準(zhǔn)標(biāo)記，分別設(shè)置一個 上述工件對準(zhǔn)標(biāo)記檢測用顯微鏡。
全文摘要
提供一種曝光裝置，具備進行曝光處理的曝光處理部與進行對位的對準(zhǔn)平臺部，能夠盡量使對準(zhǔn)平臺小型化、低成本化。將曝光光從光照射部(1)照射于光罩(M)，在準(zhǔn)直顯微鏡(10)顯像光罩標(biāo)記(MAM)的投影像，求出其位置坐標(biāo)并存儲。一方面，在對準(zhǔn)平臺(AS)上載置工件(W)，以工件標(biāo)記(WAM)所形成的間隔單步進給平臺(AS)或準(zhǔn)直顯微鏡(4)，利用準(zhǔn)直顯微鏡(4)以排列的方式檢測工件標(biāo)記(WAM)，存儲其位置坐標(biāo)。順便，工件搬運機構(gòu)(23)將工件(W)搬運至曝光平臺(WS)，進行對位以使光罩標(biāo)記(MAM)與工件標(biāo)記(WAM)的位置一致，一面移動曝光平臺(WS)，一面依次曝光工件(W)上的各曝光區(qū)域。
文檔編號G03F7/20GK101738873SQ20091021211
公開日2010年6月16日 申請日期2009年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月10日
發(fā)明者井上豐治, 佐藤善彥 申請人:優(yōu)志旺電機株式會社