專利名稱：對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)方法以及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)檢測(cè)形成在掩模上的掩模*對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(掩模標(biāo)記)和形成在工件上
的工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(工件標(biāo)記)，將兩者進(jìn)行對(duì)位使其形成事先設(shè)定的位置關(guān)系(對(duì)準(zhǔn))， 并經(jīng)由掩模將光照射在工件上的曝光裝置中，進(jìn)行工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記檢測(cè)用的檢測(cè)方法及檢 測(cè)裝置。
背景技術(shù)：
通過(guò)光蝕刻制造半導(dǎo)體元件、印刷基板、液晶基板等圖形的步驟中，使用曝光裝 置。曝光裝置是將形成掩模圖形的掩模，及轉(zhuǎn)印其圖形的工件對(duì)位在預(yù)定的位置關(guān)系，之后 經(jīng)掩模照射含曝光光的光。由此，將掩模圖形轉(zhuǎn)印(曝光)到工件上。
曝光裝置的掩模和工件的對(duì)位(位置合廿) 一般是如下進(jìn)行。 通過(guò)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡檢測(cè)形成在掩模上的掩模標(biāo)記和形成在工件上的工件標(biāo)記。進(jìn)行 檢測(cè)數(shù)據(jù)的影像處理，以求得各自位置座標(biāo)，并為了使兩者的位置形成事先設(shè)定的位置關(guān) 系，移動(dòng)掩?；蚬ぜ?lái)進(jìn)行。掩模和工件必須進(jìn)行平面內(nèi)的2方向(X方向與Y方向)及轉(zhuǎn) 動(dòng)方向(e方向)的對(duì)位。因此，分別在2處以上形成掩模標(biāo)記和工件標(biāo)記。
圖9是表示檢測(cè)掩模標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的概略構(gòu)成。此外，如上述掩模標(biāo)記和 工件標(biāo)記分別形成在2處以上，因此對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10也分別對(duì)應(yīng)設(shè)置2處以上，但是同圖中， 僅顯示1個(gè)(1處)。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10是由半透明反射鏡10a、透鏡L1、L2和CCD攝影機(jī)10b 所構(gòu)成。 11是進(jìn)行影像處理等的控制部、12為監(jiān)測(cè)器、W為形成有工件標(biāo)記WAM的工件。同 圖中，工件標(biāo)記WAM的檢測(cè)(圖形搜尋)是如以下進(jìn)行。
A)工件標(biāo)記的登記 在工件標(biāo)記登記WAM的檢測(cè)之前，首先將檢測(cè)的工件標(biāo)記的圖形在控制部11進(jìn)行 登記。 作為工件標(biāo)記WAM，例如使用圖10(a)表示的十字型標(biāo)記，控制部11如圖10(b)所 示，以監(jiān)測(cè)器的1個(gè)像素為單位，包含十字型的標(biāo)記和其背景登記作為一個(gè)圖形。即，同圖 中為了容易說(shuō)明，像素?cái)?shù)雖是為5X5，但是影像中央的5像素是以黑的十字型，其周邊的20 像素是以白色的圖形登記。 具體而言，將形成要檢測(cè)的工件標(biāo)記WAM的采樣基板放置在對(duì)準(zhǔn)顯微鏡之下，照 射照明光將其照明。 通過(guò)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡(例如3倍倍率)10，檢測(cè)登記的工件標(biāo)記WAM。監(jiān)測(cè)器12采用 對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10映出控制部11可影像處理的范圍(例如圖11所示15mmX 15mm的范圍)。
接著，為了可放入登記的工件標(biāo)記WAM整體，在監(jiān)測(cè)器12上以工件標(biāo)記登記用的 假想線(圖11的點(diǎn)線)框起工件標(biāo)記WAM，在控制部11登記工件標(biāo)記WAM。控制部11是以 上述假想線框起的像素為單位，根據(jù)其對(duì)比來(lái)存儲(chǔ)工件標(biāo)記WAM。由此，結(jié)束工件標(biāo)記WAM 的登記作業(yè)。
工件標(biāo)記WAM的大小根據(jù)工件的種類、使用者、工序有著各種的不同，但是，例如 框起工件標(biāo)記WAM的假想線的大小則是如圖11所示常常使用200 m 700 y m的線。
工件標(biāo)記WAM的形狀也因和上述相同的理由而有種種不同，不限于圖IO所示的十 字型。多數(shù)是如圖12(a)所示的圓形和同圖(b)所示以規(guī)則性的圖形為1組作為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 等。無(wú)論如何，設(shè)定登記范圍以包含1個(gè)工件標(biāo)記的圖形整體。
B)圖形搜尋 接著，檢測(cè)實(shí)際的工件標(biāo)記WAM。從對(duì)準(zhǔn)顯微鏡的下方，除去使用在工件標(biāo)記的圖 形登記的采樣基板，放置實(shí)際形成有圖形的基板(工件)。顯微鏡的倍率如上述是與登記圖 形相同的倍率(3倍)。 如圖9所示，經(jīng)由對(duì)準(zhǔn)單元10的半透明反射鏡10a將照明光照射在工件W上的工 件標(biāo)記WAM，利用CCD攝影機(jī)10b進(jìn)行工件標(biāo)記WAM的顯像。并且將顯示在監(jiān)測(cè)器12的工 件標(biāo)記WAM的像輸入到控制部11，以監(jiān)測(cè)器12的像素為單位轉(zhuǎn)換為座標(biāo)數(shù)據(jù)。
控制部11比較上述登記圖形和顯像的工件標(biāo)記WAM的像。例如，在顯像后工件標(biāo) 記的像(檢測(cè)圖形)是如圖10(c)所示的檢測(cè)圖形A的情況下，由于和登記圖形60X—致， 因此辨識(shí)為點(diǎn)數(shù)(相關(guān)值)60。 并且同樣地，在顯像后工件標(biāo)記的像(檢測(cè)圖形)是如圖10(d)所示的檢測(cè)圖形 B的情況下，由于和登記圖形80%—致，因此辨識(shí)為點(diǎn)數(shù)80。另外，在顯像后工件標(biāo)記WAM 的像(檢測(cè)圖形)是如圖10(e)所示的檢測(cè)圖形C的情況下，由于是100%—致，因此辨識(shí) 為點(diǎn)數(shù)100。 如上述，對(duì)監(jiān)測(cè)器所映出的全區(qū)域進(jìn)行圖形搜尋，以點(diǎn)數(shù)最接近100的(最高)位 置辨識(shí)作為工件標(biāo)記WAM的位置(檢測(cè)工件標(biāo)記WAM的位置)，將其位置座標(biāo)作為工件標(biāo)記 的位置座標(biāo)來(lái)進(jìn)行儲(chǔ)存。 具體而言，以對(duì)準(zhǔn)單元10觀察設(shè)置在工件W上的工件標(biāo)記WAM的附近。圖13是 表示此時(shí)由監(jiān)測(cè)器12所投射的實(shí)際工件的區(qū)域的圖。如上述，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡的倍率是和工件 標(biāo)記的圖形登記時(shí)的倍率同樣是3倍。 因此，在監(jiān)測(cè)器12上映出和圖ll相同的范圍(15mmX15mm的范圍)。將此范圍遍 及全區(qū)域，使上述假想線框起登記后的范圍分別以l個(gè)像素移動(dòng)(掃描)，在其各個(gè)位置求 得點(diǎn)數(shù)。 檢索圖13的工件標(biāo)記的區(qū)域內(nèi)(15mm 15mm的范圍)，例如(B)也有形成工件標(biāo) 記以外圖形的情況，或者如(C)有塵埃附著的情況。圖形或塵埃的形狀也有可能恰如所登 記工件標(biāo)記的圖形相似。這種情況下，有時(shí)會(huì)在影像處理區(qū)域內(nèi)檢測(cè)出多個(gè)點(diǎn)數(shù)比較高的 位置。 但是，如上述，控制部11是以假想線框起的像素為單位，根據(jù)其對(duì)比儲(chǔ)存工件標(biāo) 記WAM。由此，圖13的區(qū)域內(nèi)，只要有工件標(biāo)記WAM的存在，其位置(A)的點(diǎn)數(shù)會(huì)形成最高 值。因此，設(shè)定以檢測(cè)出最高點(diǎn)數(shù)的位置作為工件標(biāo)記的位置來(lái)進(jìn)行檢測(cè)。
再者，如上述比較所輸入的圖像和預(yù)先準(zhǔn)備的樣板圖像來(lái)判定其類似度的手法已 種種為人所熟知，必要時(shí)例如可參閱非專利文獻(xiàn)1等。 非專利文獻(xiàn)1 :江尻正員監(jiān)修「圖像處理產(chǎn)業(yè)應(yīng)用總覽，上巻，(基礎(chǔ) 系統(tǒng)技術(shù) 篇)」1994年1月17日，股份公司FUJI TEC腦SYSTEM發(fā)行，初版，p26-p27， p50-p52
4
專利文獻(xiàn)1 :特開平9-82615號(hào)公報(bào)
發(fā)明所要解決的課題 半導(dǎo)體晶片的曝光裝置中，形成在工件即晶片的工件標(biāo)記是和形成在相同面的電 路圖形同樣，多是以光蝕刻所形成。 另一方面，印刷基板的曝光裝置中，會(huì)有以雷射照射或鉆孔器等的機(jī)械加工所形 成①100ym左右的未貫穿孔(凹陷)作為工件標(biāo)記使用的情況。 形成上述基板的孔的檢測(cè)是使用稱為暗背景照明的照明方法。暗背景照明是對(duì)基 板從斜向照射照明光，在基板的上方配置攝影元件。從正上方的照明孔的檢測(cè)困難。
圖14(a)是模式表示通過(guò)圖9的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡，以暗背景照明進(jìn)行形成在基板100 的孔101攝影的情況的圖。此外，同圖中，雖只從圖示的右側(cè)和左側(cè)顯示照明光103，但是實(shí) 際上是對(duì)孔101從360°全方向進(jìn)行照明。 照明光103是對(duì)印刷基板100朝著斜向射入。印刷基板100的表面為擴(kuò)散面，照 射在基板的表面或孔的底部分的照明光103被擴(kuò)散反射，其一部分射入到反射鏡102所反 射的攝影元件(CCD，未圖示)。 另一方面，射入到孔101的壁面的光被擴(kuò)散反射而為壁面所反射的光并未直接射 入到攝影元件(CCD)。 因此，在攝影元件，孔101被以壁的部分和其以外部份(印刷基板的表面和孔的底 部分)不同的明亮度照射。例如圖14(b)表示，壁的部分是呈黑框緣的環(huán)狀，孔的底部分則 是和基板的表面同樣照射呈灰色。 因此，有底的孔理想形成的情況，登記如圖14 (a)的環(huán)狀的圖形作為工件標(biāo)記WAM 的登記圖像。 但是，即使例如想加工成相同形狀的孔時(shí)，以對(duì)準(zhǔn)顯微鏡檢測(cè)后的情況下，攝影手 段(CCD)的呈現(xiàn)方式(形狀或明暗或色調(diào))會(huì)有不同。 其理由之一為所形成的孔的形狀偶然會(huì)有不同的場(chǎng)合圖15是對(duì)印刷基板以雷射
或鉆孔器加工所形成孔形狀的一例。 同圖為孔的剖面圖。 圖15(a)為理想的孔的形狀。但是，根據(jù)雷射或鉆孔器前端的形狀，如圖15(b)表 示，孔的壁也會(huì)有形成斜向(研缽形)。并且，如圖15(c)表示，也會(huì)在孔的邊緣部份產(chǎn)生毛 邊104。 如上述，在印刷基板IOO利用機(jī)械加工所形成的孔會(huì)有其形狀形成不一致的可 能。因此，將該孔作為工件標(biāo)記以對(duì)準(zhǔn)顯微鏡檢測(cè)時(shí)，攝影手段(CCD)的呈現(xiàn)方式不同。
攝影手段(CCD)的呈現(xiàn)方式不同的其他理由是由于孔形成后施以處理所造成。
例如圖15(d)所示，印刷基板在表面會(huì)電鍍銅105等的金屬箔，孔中也被電鍍。通 過(guò)金屬電鍍使表面的反射率變化，因此可根據(jù)電鍍的有無(wú)，攝影手段(CCD)的呈現(xiàn)方式不 同。 并且，如圖15(e)所示，也有在金屬電鍍后的上面粘貼抗蝕膜。抗蝕膜106的厚度 為數(shù)十P m，粘貼該抗蝕膜時(shí)，不能沿著孔的側(cè)面或底面粘貼，會(huì)形成孔的開口的堵塞。
因此，孔的部分是由于抗蝕膜使照明光的反射率或光的反射方向的變化，在未粘 貼抗蝕膜的場(chǎng)合和粘貼有抗蝕膜的場(chǎng)合，攝影機(jī)構(gòu)(CCD)的呈現(xiàn)方式不同。
例如，如圖15(e)所示，粘貼著抗蝕膜的情況，通過(guò)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡所檢測(cè)出的孔的形 狀其整體是以黑圓形顯示。 并且，根據(jù)抗蝕膜的黏合狀態(tài)也會(huì)改變孔中的薄膜松弛狀態(tài)，會(huì)使得攝影機(jī)構(gòu) (CCD)的呈現(xiàn)方式不同。 工件標(biāo)記的呈現(xiàn)方式不同時(shí)，實(shí)際上所攝影的工件標(biāo)記影像和被儲(chǔ)存在控制部的 工件標(biāo)記的影像會(huì)形成不同。 一旦引起上述情況時(shí)，會(huì)使得工件標(biāo)記存在位置的點(diǎn)數(shù)降低， 不能正確檢測(cè)出工件標(biāo)記。 使用圖16加以說(shuō)明。圖16(a)表示的環(huán)狀圖形是作為登記在控制部的工件標(biāo)記 的影像。 圖16(b)是在檢索(搜尋)基板的工件標(biāo)記的區(qū)域內(nèi)存在有工件標(biāo)記，并且與所 登記的影像大致同等呈現(xiàn)方式的情況。此時(shí)，圖16(a)的登記標(biāo)記在圖16(b)的四角所圍 繞的位置大致一致，其點(diǎn)數(shù)例如為9000點(diǎn)(滿點(diǎn)10000)。 圖16(c)是構(gòu)成本發(fā)明課題的情況。在搜尋的區(qū)域內(nèi)存在有工件標(biāo)記，但是根據(jù) 上述的原因呈現(xiàn)方式與登記標(biāo)記不同會(huì)有呈黑圓形顯示的情況。環(huán)的中央部雖是白色，黑 圓形中央部為黑色，因此圖16(c)的四角所圍繞位置的點(diǎn)數(shù)低，例如2000點(diǎn)左右。
圖16(d)是在檢索區(qū)域內(nèi)，存在有非工件標(biāo)記的配線等的黑四角形輪廓的圖形的 情況。此時(shí)，形狀雖然不同，但是中間黑色周邊部為白色的明暗的圖形相似，因此圖16(d) 的四角圍繞的位置的點(diǎn)數(shù)比圖16(c)的情況高，例如是5000點(diǎn)。 圖16(c)和所登記的標(biāo)記雖然呈現(xiàn)方式不同，但由于是工件標(biāo)記必須進(jìn)行檢測(cè)。 但是，圖16(d)并不是工件標(biāo)記，因此不須進(jìn)行工件標(biāo)記的檢測(cè)。 但是，圖16(c)作為工件標(biāo)記加以檢測(cè)時(shí)，控制部中，例如設(shè)定"點(diǎn)數(shù)2000點(diǎn)以上 的情況作為工件標(biāo)記"時(shí)，會(huì)以非工件標(biāo)記的圖16(d)作為工件標(biāo)記加以檢測(cè)。另一方面， 為了不致以圖16(d)作為工件標(biāo)記檢測(cè)而設(shè)定"點(diǎn)數(shù)6000點(diǎn)以上的情況作為工件標(biāo)記"時(shí)， 不能檢測(cè)出作為工件標(biāo)記的圖16(c)。 如上述，以同一形狀形成在工件上的工件標(biāo)記是借著工件標(biāo)記的加工條件或印刷 基板制造步驟上的處理，以攝影元件所照射的呈現(xiàn)方式(形狀或明暗或色調(diào))會(huì)有不同。此 時(shí)，即使以登記的工件標(biāo)記實(shí)際進(jìn)行工件標(biāo)記的檢測(cè)時(shí)，仍會(huì)有不能檢測(cè)的可能。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而完成，本發(fā)明目的是提供一種即使照射在對(duì)準(zhǔn)顯微 鏡的攝影元件所映出的工件標(biāo)記的呈現(xiàn)方式不同，仍可正確檢測(cè)出工件標(biāo)記的工件標(biāo)記的 檢測(cè)方法及裝置。 利用對(duì)準(zhǔn)顯微鏡觀察以突起或凹陷(也含貫穿孔)形成在工件上的工件《對(duì)準(zhǔn)標(biāo)
記(工件標(biāo)記)時(shí)，雖然具有同樣的輪廓，但是會(huì)觀察出一部分有缺陷，色調(diào)*色的濃度*明
暗不同等、呈現(xiàn)方式不同的多個(gè)圖形。以上的多個(gè)圖形中，將作為具有同樣輪廓但色調(diào)*色
的濃度 明暗不同的工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記應(yīng)進(jìn)行檢測(cè)的多個(gè)圖形登記在存儲(chǔ)部。 并且，檢測(cè)形成在工件上的工件標(biāo)記時(shí)，逐一讀取作為工件*對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記應(yīng)檢測(cè)出的
上述多個(gè)登記圖形，比較顯像后工件上的圖形和上述讀取后的登記圖形，評(píng)估兩者的一致度。
S卩，首先，以登記的第1圖形進(jìn)行檢索區(qū)域的搜尋，和工件上的圖形比較求得其點(diǎn) 數(shù)。接著，同樣以登記的第2圖形進(jìn)行檢索區(qū)域的搜尋求得其點(diǎn)數(shù)。重復(fù)此一檢測(cè)，一旦檢 測(cè)出顯示重新設(shè)定的值以上的點(diǎn)數(shù)的登記圖形時(shí)，采用此登記圖形作為對(duì)應(yīng)工件標(biāo)記的圖 形?；蛘?，也可以重復(fù)上述比較，一旦檢測(cè)出顯示最高值的點(diǎn)數(shù)的登記圖形時(shí)，采用此登記 圖形作為對(duì)應(yīng)工件標(biāo)記的圖形。 如上述，一旦顯示獲得最高一致度的登記圖形，或者獲得預(yù)先所設(shè)定值以上的一 致度的登記圖形時(shí)，以和該登記圖形的一致度高的顯像圖形作為工件對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行檢測(cè)， 并儲(chǔ)存其位置。 投影曝光裝置等的曝光裝置中，如上述以檢測(cè)后的圖形作為工件標(biāo)記，進(jìn)行掩模 與工件的對(duì)位，將形成在工件上的掩模圖形轉(zhuǎn)印到工件上。 掩模和工件的對(duì)位是進(jìn)行使得工件載臺(tái)朝著XY方向移動(dòng)，并且以垂直于XY平面 的軸為中心轉(zhuǎn)動(dòng)，使上述所檢測(cè)出工件標(biāo)記的位置座標(biāo)，例如和預(yù)先檢測(cè)所登陸的掩模對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記(掩模標(biāo)記)的位置座標(biāo)一致。
發(fā)明效果 本發(fā)明中，將作為工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記應(yīng)檢測(cè)的復(fù)數(shù)個(gè)登記圖形和顯像后工件上的圖 形進(jìn)行比較，評(píng)估其一致度，并根據(jù)該評(píng)估結(jié)果，以顯像后工件上的圖形作為工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記進(jìn)行檢測(cè)，因此即使因一部分缺陷、色的濃度 明暗不同，導(dǎo)致相同形狀的工件標(biāo)記不同 的呈現(xiàn)方式時(shí)，仍然可以進(jìn)行工件標(biāo)記的確實(shí)檢測(cè)。 因此，即使工件標(biāo)記在工件上形成突起或凹陷，仍可確實(shí)檢測(cè)出工件標(biāo)記，精度良 好地進(jìn)行對(duì)位。


圖1是表示本發(fā)明的應(yīng)用對(duì)象之一的投影曝光裝置的構(gòu)成例的圖。 圖2是說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的工件標(biāo)記的檢測(cè)順序和掩模和工件的對(duì)位的圖(1)。 圖3是說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的工件標(biāo)記的檢測(cè)順序和掩模和工件的對(duì)位的圖(2)。 圖4是說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的工件標(biāo)記的檢測(cè)順序和掩模和工件的對(duì)位的圖(3)。 圖5是表示登記后的工件標(biāo)記和以對(duì)準(zhǔn)顯微鏡所攝影的輸入圖像的例的圖。 圖6是表示工件標(biāo)記的檢測(cè)處理順序的流程圖。 圖7是表示工件標(biāo)記的其他檢測(cè)處理順序的流程圖。 圖8是表示工件標(biāo)記的呈現(xiàn)方式不同的其他例的圖。 圖9是表示對(duì)準(zhǔn)顯微鏡的概略構(gòu)成的圖。 圖10是表示登記圖形和檢測(cè)圖形的一例的圖。 圖11是表示監(jiān)測(cè)器所顯示的圖像的一例子的圖。 圖12是表示工件標(biāo)記的形狀例的圖。 圖13是說(shuō)明圖形搜尋的圖。 圖14是模式表示通過(guò)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡，以暗背景照明攝影形成在基板的孔的情況的 圖。 圖15是表示在印刷基板以雷射或鉆孔加工形成的孔的形狀的例子的圖。 圖16是表示登記后的工件標(biāo)記和檢索區(qū)域的影像的例子的圖。
標(biāo)號(hào)說(shuō)明1 :光照射裝置2 :投影透鏡3 :掩模架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)4 :工件架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)10 :對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10a:半透明反射鏡10b :CCD攝影機(jī)10c :照明機(jī)構(gòu)11 :控制部lla:圖像處理部lib :存儲(chǔ)部lie :比較 評(píng)估部lld:判定部lie :對(duì)位控制部llf :登記部12 :監(jiān)測(cè)器L1、L2 :透鏡M:掩模MAM :掩模 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(掩模標(biāo)記)MS :掩模架W:工件WAM :工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(工件標(biāo)記)WS :工件架
具體實(shí)施例方式圖1是表示本發(fā)明應(yīng)用對(duì)象之一的投影裝置的構(gòu)成例的圖。 在同圖中，MS為掩模架。掩模架(7》夕》于一- )MS上放置保持著形成有掩模標(biāo)記MAM和掩模圖形MP的掩模M。 從光照射裝置1射出曝光光。射出的曝光光是經(jīng)由掩模M、投影透鏡2，照射在載放于工件架(7 —夕7于一 - ) WS上的工件W上，將掩模圖形MP投影在工件W上曝光。
投影透鏡2和工件W之間設(shè)有2處可在同圖的箭頭方向移動(dòng)的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10。掩模圖形MP在工件W上曝光之前，將對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10插入于圖示的位置，檢測(cè)掩模標(biāo)記MAM和形成在工件上的工件標(biāo)記WAM，進(jìn)行掩模M和工件W的對(duì)位。對(duì)位后，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10從工件W上轉(zhuǎn)移。并且，圖1是僅顯示設(shè)有2處內(nèi)的一個(gè)的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡。 對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10是如上述由半透明反射鏡10a、透鏡L1、L2和CCD攝影機(jī)10b所構(gòu)成。為進(jìn)行上述圖14所示的暗背景照明，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡IO設(shè)有對(duì)基板從斜向照射照明光用的照明機(jī)構(gòu)10c。將對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的CCD攝影機(jī)10b所顯像的掩模標(biāo)記MAM像、工件標(biāo)記像等送到控制部ll。 控制部11，具備處理上述CCD攝影機(jī)所顯像的圖像的圖像處理部lla，及存儲(chǔ)
作為工件標(biāo)記應(yīng)檢測(cè)的多個(gè)登記圖形、掩模標(biāo)記等的位置座標(biāo)信息、各種參數(shù)等的存儲(chǔ)部llb。 另外，控制部ll，具備比較 評(píng)估部llc，以CCD攝影機(jī)10b顯像，比較圖像處理部lla進(jìn)行圖像處理后的圖像和登記在存儲(chǔ)部lib的圖像，而求得一致度來(lái)計(jì)算點(diǎn)數(shù)；判定部lld，根據(jù)比較 評(píng)估部llc所獲得的一致度，判定顯像后的工件上的圖形是否為作為工件標(biāo)記所檢測(cè)出的圖形；對(duì)位控制部lle，移動(dòng)工件架WS或掩模架MS(或者其雙方)，使得作為工件標(biāo)記所檢測(cè)圖形的位置座標(biāo)和儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部lib的掩模標(biāo)記像的位置座標(biāo)一致；及登記部llf，用于根據(jù)作業(yè)人員的指示將工件標(biāo)記等登記到存儲(chǔ)部llb。
工件架WS或者掩模架MS是由上述對(duì)位控制部11e所控制的工件架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)4、掩模架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)3所驅(qū)動(dòng)，在XY方向(X，Y :在掩模架MS、工件架WS面上平行且彼此正交的方向)移動(dòng)的同時(shí)，在XY平面上以垂直的軸為中心轉(zhuǎn)動(dòng)。 上述控制部ll連接有監(jiān)測(cè)器12，將上述圖像處理部lla進(jìn)行圖像處理后的圖像顯示在監(jiān)測(cè)器12的畫面上。 圖1中，掩模M和工件W的對(duì)位是如下進(jìn)行。 從光照射裝置1或者未圖示的對(duì)準(zhǔn)光源將照明光照射在掩模M，由對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的CCD攝影機(jī)10b進(jìn)行掩模標(biāo)記MAM像的顯像，送到控制部11?？刂撇?1的影像處理部lla將上述掩模標(biāo)記MAM像轉(zhuǎn)換成位置座標(biāo)儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部llb。 并且，掩模標(biāo)記的檢測(cè)方法提出有種種的方法，必要時(shí)例如可參閱專利文獻(xiàn)1等。
接著，將照明光從對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的照明機(jī)構(gòu)10c照射到工件W，如上述進(jìn)行圖形搜尋，檢測(cè)工件W上的工件標(biāo)記WAM，控制部11求得其位置座標(biāo)。 控制部11移動(dòng)工件架WS(或者掩模架MS，或其雙方)進(jìn)行掩模M和工件W的對(duì)位，使得所儲(chǔ)存掩模標(biāo)記MAM的位置座標(biāo)和檢測(cè)后的工件標(biāo)記WAM的位置座標(biāo)形成預(yù)定的位置關(guān)系。 接著針對(duì)工件標(biāo)記的檢測(cè)順序和掩模的對(duì)位通過(guò)圖2、圖3、圖4進(jìn)行更具體加以說(shuō)明。 (1)首先，檢測(cè)出掩模標(biāo)記MAM的位置。為此如圖2(a)所示，求得對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10視野內(nèi)(視角的范圍內(nèi))的掩模標(biāo)記MAM的位置座標(biāo)(xml、 ym2)。 g卩，以控制部11的圖像處理部lla處理對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的CCD攝影機(jī)10b所攝影的圖像，求得掩模標(biāo)記MAM的位置座標(biāo)(xml、ym2)儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部llb。 (2)將工件標(biāo)記登記到控制部11的存儲(chǔ)部llb。該登記是如下述，作業(yè)人員是以目視進(jìn)行。 將實(shí)際的工件Wl放置在工件架WS上，使用對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10接收工件Wl的表面影像，并以影像處理部lla處理，在監(jiān)測(cè)器12上映出工件W1的表面。 此時(shí)的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10是和實(shí)際檢測(cè)工件標(biāo)記WAM時(shí)相同的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的倍率實(shí)際是和檢測(cè)工件標(biāo)記WAM時(shí)相同的倍率(例如3倍)。并且，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡IO被保持在與檢測(cè)掩模標(biāo)記時(shí)的位置相同的位置，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的視野(視角)也相同。
作業(yè)人員看著所投射的工件W1的圖像，尋找工件標(biāo)記WAM。 一旦發(fā)現(xiàn)作為工件標(biāo)
9記WAM應(yīng)加以登記的圖形時(shí)，和上述"工件標(biāo)記的登記"的說(shuō)明同樣地如圖2 (b-1)所示，為使工件標(biāo)記WAM整體進(jìn)入，在監(jiān)測(cè)器12上以工件標(biāo)記登記用的假想線將工件標(biāo)記WAM框起，例如以目視確定其中央位置，標(biāo)上"+ "等的標(biāo)記。 例如工件標(biāo)記WAM為圓形的場(chǎng)合，以對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10所觀察的圖像例如圖3 (b-2)所示，雖顯示圓形或黑圓，但是作業(yè)人員可根據(jù)這些的圖形，選擇作為工件標(biāo)記WAM應(yīng)登記的圖形。 并且，針對(duì)作為工件標(biāo)記WAM應(yīng)登記的圖形，是以工件標(biāo)記登記用的假想線框起圖形，以此假想線所框起的區(qū)域作為工件標(biāo)記WAM1的圖形像，對(duì)登記部llf賦予登記指令登記到存儲(chǔ)部llb。 另外，以目視來(lái)確定圖形的中心位置，從假想線所形成四角形的例如左上角到圖形的中心位置為止的距離dx、dy作為圖形的位置座標(biāo)，而登記至存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)llb。
在此，如圖3(b-3)所示，圖形中心位置的設(shè)定不正確時(shí)，會(huì)將其錯(cuò)誤位置(+的位置)登記作為工件標(biāo)記位置。 再者，通過(guò)運(yùn)算等自動(dòng)求得圖形中心位置的手法自以往即種種為人所熟知，但是
圖形中心位置的設(shè)定并非以目視，而是以圖像處理部lla通過(guò)圖像處理自動(dòng)求得。 以往是如上所述，是僅登記1個(gè)工件標(biāo)記即結(jié)束工件標(biāo)記WAM的登記。但是，本發(fā)
明是以登記作為工件標(biāo)記應(yīng)登記的、呈現(xiàn)方式不同的、多個(gè)圖形，來(lái)作為工件標(biāo)記。 因此，在持續(xù)登記工件標(biāo)記的情況下，將現(xiàn)在的工件Wl從工件架WS卸下，將確實(shí)
形成相同形狀的工件標(biāo)記WAM的其他第2個(gè)工件標(biāo)記W2載放在工件架WS上。 并且，和上述同樣，通過(guò)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10將工件W2的表面投射在監(jiān)測(cè)器12上，尋找
工件標(biāo)記WAM。所發(fā)現(xiàn)的工件標(biāo)記WAM如果和先前登記的工件標(biāo)記WAM的呈現(xiàn)方式(形狀
或明暗或色調(diào))不同時(shí)，即和上述同樣以工件標(biāo)記登記用的假想線框起，作為第2的工件標(biāo)
記WAM2登記到控制部11的存儲(chǔ)部llb。 接著，從工件架WS卸下工件W2，將第3的工件W3載放在工件架WS上。利用對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10將工件W3的表面投射到監(jiān)測(cè)器12上，尋找工件標(biāo)記WAM。所發(fā)現(xiàn)的工件標(biāo)記WAM如果和至今為止所登記的工件標(biāo)記WAM1或WAM2的呈現(xiàn)方式(形狀或明暗或色調(diào))不同時(shí)，即和上述同樣以工件標(biāo)記登記用的假想線框起，作為第3的工件標(biāo)記WAM3登記到控制部11的存儲(chǔ)部llb。 此后，反復(fù)這些步驟，分別將工件WAM的呈現(xiàn)方式不同的圖形全部存儲(chǔ)到控制部11的存儲(chǔ)部llb。 (3)接著，比較登記后的工件標(biāo)記和工件上的圖形，檢測(cè)工件W上的工件標(biāo)記。
檢測(cè)工件標(biāo)記時(shí)，使用登記到控制部11的存儲(chǔ)部lib的所有工件標(biāo)記WAM1 n，進(jìn)行檢索區(qū)域內(nèi)圖形的檢索(搜尋)。比較《評(píng)估部llc比較上述所登記的工件標(biāo)記WAM1 n和檢索區(qū)域內(nèi)的圖形求得一致度的點(diǎn)數(shù)。判定部lld—旦判定該點(diǎn)數(shù)超過(guò)一定值或者為最高點(diǎn)數(shù)時(shí)，從上述所登記的工件標(biāo)記WAM1 n之中采取該工件標(biāo)記。
并且，以獲得最高一致度的工件標(biāo)記，或者對(duì)應(yīng)獲得預(yù)先所設(shè)定的值以上的一致度的工件標(biāo)記的檢索區(qū)域內(nèi)的圖形作為工件W上的工件標(biāo)記檢測(cè)出，并儲(chǔ)存其位置。
例如，工件標(biāo)記的呈現(xiàn)方式有兩種類，第1的工件標(biāo)記WAM1為環(huán)狀的圖形，第2的工件標(biāo)記WAM2為黑圓狀的圖形時(shí)，使用該兩個(gè)工件標(biāo)記WAM1和WAM2進(jìn)行搜尋。
S卩，首先以第1工件標(biāo)記WAM1進(jìn)行檢索區(qū)域的搜尋得到點(diǎn)數(shù)。接著以第2工件標(biāo) 記WAM2進(jìn)行檢索區(qū)域的搜尋得到點(diǎn)數(shù)。并且，對(duì)位控制部lle使用預(yù)先所設(shè)定的值以上點(diǎn) 數(shù)的工件標(biāo)記，或者使用檢測(cè)出最高點(diǎn)數(shù)的工件標(biāo)記，進(jìn)行掩模和工件的對(duì)位。
工件標(biāo)記的搜尋是如圖4進(jìn)行。 例如以應(yīng)檢索圖4(c-l)所示的矩形區(qū)域P作為應(yīng)檢查的工件標(biāo)記登記到存儲(chǔ)部 llb。 在進(jìn)行工件標(biāo)記搜尋時(shí)，如圖4 (c-2)所示，在對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的視野內(nèi)，例如從視 野的左上端，使得上述圖4(c-l)所示的包含工件標(biāo)記WAM的圖形的縱Y、橫X的矩形區(qū)域P 稍微偏移并且重疊來(lái)尋找一致度高的場(chǎng)所。 并且，在對(duì)準(zhǔn)顯微鏡10的視野內(nèi)檢索一致度高的區(qū)域時(shí)，求得此時(shí)的矩形區(qū)域P 左上的角的座標(biāo)(xl， yl)，加上顯示區(qū)域P內(nèi)的圖形的中心位置的(dx， dy)，作為檢測(cè)出 (xl+dx， yl+dy)的工件標(biāo)記的位置座標(biāo)(xwl，ywl)。 (4)如上述一旦檢測(cè)出工件標(biāo)記的位置座標(biāo)時(shí)，對(duì)位控制部lie是如圖4(d)所示，
為使所檢測(cè)出工件標(biāo)記WAM的位置座標(biāo)(xwl， ywl)和預(yù)先所儲(chǔ)存的工件標(biāo)記的位置座標(biāo)
(xml， yml) —致，移動(dòng)工件架WS或者掩模架MS (或其雙方)，使兩者一致。 再者，上述說(shuō)明中，雖是針對(duì)總括登記多個(gè)工件標(biāo)記WAM，使用這些的工件標(biāo)記
WAMl n，進(jìn)行檢索區(qū)域檢索(搜尋)的場(chǎng)合已作說(shuō)明，但是也可以一邊進(jìn)行工件標(biāo)記的檢
測(cè)和掩模M和工件W的對(duì)位，一邊檢測(cè)出作為工件標(biāo)記應(yīng)登記的圖形后，將其圖形登記作為
工件標(biāo)記。 S卩，首先登記第1工件標(biāo)記WAM，使用登記后的該工件標(biāo)記，檢測(cè)出工件W上的工件 標(biāo)記，使用檢測(cè)出的工件標(biāo)記進(jìn)行對(duì)位。并且，在檢測(cè)該工件標(biāo)記的過(guò)程，一旦檢測(cè)出作為 新的不同呈現(xiàn)方式的工件標(biāo)記應(yīng)登記的圖形后，如上述以此圖形作為工件標(biāo)記WAM登記到 存儲(chǔ)部llb。 接著的工件標(biāo)記的檢測(cè)是使用先前所登記作為工件標(biāo)記應(yīng)登記的圖形和重新登 記的圖形進(jìn)行工件標(biāo)記的檢測(cè)。 接著，使用圖5和圖6的流程圖，針對(duì)工件標(biāo)記的檢測(cè)具體說(shuō)明。在此，登記后的工件標(biāo)記的圖形(登記標(biāo)記)有WAM1和WAM2的2個(gè)(n = 2)，第
1登記標(biāo)記WAM1是如圖5 (a)所示為環(huán)狀的圖形，第2登記標(biāo)記WAM2則是如圖5 (b)表示黑
圓狀的圖形。 (1)如圖5(c)所示，工件標(biāo)記的檢索區(qū)域會(huì)有顯現(xiàn)環(huán)狀工件標(biāo)記的情況下。
(i)搜尋的開始。首先，i =第1的登記圖形，即以第1登記圖形WAM1進(jìn)行檢索區(qū) 域的搜尋(圖6的步驟S1、S2)。 一旦檢測(cè)出圖5(c)的圖形時(shí)，以控制部ll的比較*評(píng)估 部llc比較 評(píng)估第1登記圖形WAM1和圖5(c)的圖形，求得點(diǎn)數(shù)。 第1登記標(biāo)記WAM1由于實(shí)際顯示的圖5(c)的工件標(biāo)記和圖形大致一致，因此可 獲得高的點(diǎn)數(shù)，例如9000點(diǎn)。將該值作為第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存到控制部11的存 儲(chǔ)部11b(步驟S3)。 (ii)前進(jìn)到步驟S4，在i加上1形成i = 2。 N = 2，并非i 〉n，因此以i = 2的 第2登記標(biāo)記WAM2搜尋檢索區(qū)域(步驟Sl、 S2)。 (iii)相對(duì)于第2登記圖形WAM2的黑圓，所顯示工件標(biāo)記的圖形為圖5(c)所示的
11環(huán)狀時(shí)，點(diǎn)數(shù)降低，例如形成2000點(diǎn)。將該值作為第2登記標(biāo)記WAM2的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存到存儲(chǔ)部 11b(步驟S3)。 (iv)前進(jìn)到步驟S4，在i加上1形成i = 3。形成i > n，因此，在控制部11的判 定部lld比較第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)9000點(diǎn)和第2登記標(biāo)記WAM2的點(diǎn)數(shù)2000點(diǎn)。并 且，采用獲得高點(diǎn)數(shù)的第l登記標(biāo)記WAMl作為具有圖5(c)的圖形的工件的工件標(biāo)記。結(jié) 束以上搜尋。 (2)如圖5(d)所示，工件標(biāo)記顯示黑圓狀的場(chǎng)合是如下形成。并且，和上述重復(fù)的 部分省略其說(shuō)明。 (i)首先，以第1登記圖形WAM1搜尋檢索區(qū)域。兩者的圖形不相似，點(diǎn)數(shù)為低的 2000點(diǎn)。將該值作為第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存到存儲(chǔ)部llb。 (ii)接著，以第2登記標(biāo)記WAM2搜尋檢索區(qū)域。第2登記標(biāo)記WAM2和所顯示工 件標(biāo)記在圖形上極為相似，因此獲得高的點(diǎn)數(shù)(9000點(diǎn))。將該值作為第2登記標(biāo)記WAM2 的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存到存儲(chǔ)部llb。 (iii)控制部11的判定部lld比較第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)2000點(diǎn)和第2登記 標(biāo)記WAM2的點(diǎn)數(shù)9000點(diǎn)。并且，采用獲得高點(diǎn)數(shù)的第2登記標(biāo)記WAM2作為圖5 (d)的工 件的工件標(biāo)記。 (3)并非5(e)圖所示的配線等黑四角形的環(huán)狀工件的工件圖形與圖5 (c)或圖 5(d)的工件標(biāo)記混合存在的場(chǎng)合。即使是這樣的場(chǎng)合，仍然可正確檢測(cè)出工件標(biāo)記，在以下 加以說(shuō)明。 (a)圖5(c)的環(huán)狀工件標(biāo)記和圖5(d)的黑四角形的環(huán)狀工件圖形混合存在的場(chǎng)合。 (i)首先，以第1登記圖形WAM1搜尋檢索區(qū)域。相對(duì)于圖5(e)的圖形的點(diǎn)數(shù)為 5000點(diǎn)，相對(duì)于圖5(c)的圖形的點(diǎn)數(shù)為9000點(diǎn)。控制部11的比較*評(píng)估部llc將高的一 方的9000點(diǎn)的點(diǎn)數(shù)作為第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存到存儲(chǔ)部llb。
(ii)接著，以第2登記圖形WAM2搜尋檢索區(qū)域。相對(duì)于圖5(e)的圖形的點(diǎn)數(shù)為 1500點(diǎn)，相對(duì)于圖5(c)的圖形的點(diǎn)數(shù)為2000點(diǎn)。比較《評(píng)估部llc將高的一方的2000點(diǎn) 的點(diǎn)數(shù)作為第2登記標(biāo)記WAM2的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存到存儲(chǔ)部llb。 (iii)控制部11的判定部lld比較第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)9000點(diǎn)和第2登記 標(biāo)記WAM2的點(diǎn)數(shù)2000點(diǎn)。并且采用獲得高點(diǎn)數(shù)的根據(jù)第1登記標(biāo)記WAM1的搜尋結(jié)果的 圖5(c)的圖形作為工件標(biāo)記。 (b)圖5(d)的黑圓的工件標(biāo)記和圖5(e)的黑四角形的環(huán)狀工件圖形混合存在的 情況。 (i)以第1登記圖形WAM1搜尋檢索區(qū)域。相對(duì)于圖5(e)的圖形的點(diǎn)數(shù)為5000 點(diǎn)，相對(duì)于圖5(d)的圖形的點(diǎn)數(shù)為2000點(diǎn)。比較*評(píng)估部llc將高的一方的5000點(diǎn)的點(diǎn) 數(shù)作為第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存到存儲(chǔ)部llb。 (ii)以第2登記圖形WAM2搜尋檢索區(qū)域。相對(duì)于圖5(e)的圖形的點(diǎn)數(shù)為1500 點(diǎn)，相對(duì)于圖5(d)的圖形的點(diǎn)數(shù)為9000點(diǎn)。比較*評(píng)估部llc將高的一方的9000點(diǎn)的點(diǎn) 數(shù)作為第2登記標(biāo)記WAM2的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存到存儲(chǔ)部llb。 (iii)判定部lld比較第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)5000點(diǎn)和第2登記標(biāo)記WAM2的點(diǎn)數(shù)9000點(diǎn)。并且采用獲得高點(diǎn)數(shù)的根據(jù)第2登記標(biāo)記WAM2的搜尋結(jié)果的圖5(d)的圖 形作為工件標(biāo)記。 如上所述，控制部11中，如果采用獲得最高點(diǎn)數(shù)的登記標(biāo)記作為工件標(biāo)記預(yù)先加
以設(shè)定時(shí)，不會(huì)有例如上述黑四角形的環(huán)狀圖形誤作為工件標(biāo)記進(jìn)行檢測(cè)。 再者，檢索區(qū)域?qū)嶋H上不存在著(沒(méi)有黑圓或圓環(huán))工件標(biāo)記的場(chǎng)合，有可能點(diǎn)數(shù)
為5000點(diǎn)的四角形被誤判為黑色工件圖形而作為工件標(biāo)記進(jìn)行檢測(cè)。其對(duì)策是在控制部
11例如可以預(yù)先設(shè)定"僅點(diǎn)數(shù)9000點(diǎn)以上的場(chǎng)合，采用作為工件標(biāo)記"。 如上述，工件標(biāo)記的呈現(xiàn)方式(形狀或明暗或色調(diào))有著種種不同的場(chǎng)合，將其呈
現(xiàn)方式不同的圖形全部進(jìn)行登記。 但是，一旦增加登記圖形(登記標(biāo)記)的數(shù)量時(shí)，在曝光裝置中，掩模和工件的對(duì) 位一并重復(fù)進(jìn)行圖6的流程圖所示的處理(形成i > n為止，針對(duì)所有的登記標(biāo)記進(jìn)行搜 尋，求得點(diǎn)數(shù))時(shí)，工件標(biāo)記的檢測(cè)極為耗時(shí)，其結(jié)果整體會(huì)增長(zhǎng)曝光處理的時(shí)間。即總處 理能力下降。 因此，例如可考慮在登記標(biāo)記i (第i個(gè)登記標(biāo)記)獲得預(yù)先設(shè)定點(diǎn)數(shù)以上的點(diǎn)數(shù) 后，在其階段結(jié)束搜尋，跳過(guò)接著的第i+l個(gè)以后的登記標(biāo)記的搜尋，設(shè)定前進(jìn)到接著的順 序(工件標(biāo)記的位置檢測(cè)和掩模和工件的對(duì)位)。 將此不前進(jìn)到接著的登記標(biāo)記的搜尋所獲得的點(diǎn)數(shù)值稱為"中斷閾值"。 —旦顯示上述"如獲得預(yù)先所設(shè)定點(diǎn)數(shù)以上的點(diǎn)數(shù)后，在其階段結(jié)束搜尋"的流程
圖時(shí)，形成如圖7所示。 在圖7中，工件標(biāo)記的檢測(cè)處理是如下進(jìn)行。 在此，預(yù)先登記n個(gè)工件標(biāo)記的圖形(登記圖形)。預(yù)先在控制部11的存儲(chǔ)部lib 設(shè)定中斷閾值(例如9000點(diǎn))。中斷閾值是應(yīng)可正確檢測(cè)工件標(biāo)記的點(diǎn)數(shù)值，預(yù)先以實(shí)驗(yàn) 等求得。 (i)搜尋開始。以i =第1個(gè)登記圖形的第1登記圖形WAM1搜尋檢索區(qū)域(步驟 Sl、 S2)。比較 評(píng)估部llc將搜尋后的最高點(diǎn)數(shù)作為第1登記標(biāo)記WAM1所檢測(cè)出圖形的 點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部lib (步驟S3)。 (ii)在判定部lld比較儲(chǔ)存后第1登記標(biāo)記WAM1所檢測(cè)出圖形的點(diǎn)數(shù)和中斷閾 值(例如9000點(diǎn))(步驟S4)。 第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)在9000點(diǎn)以上時(shí)，不進(jìn)行第2登記標(biāo)記WAM2以后的搜 尋，采用第1登記標(biāo)記WAM1所檢測(cè)出的圖形作為工件標(biāo)記，結(jié)束搜尋(步驟S6)。
(iii)第1登記標(biāo)記WAM1的點(diǎn)數(shù)小于9000點(diǎn)時(shí)，前進(jìn)到步驟S5，在i加上l，i = 2以第2登記標(biāo)記WAM2搜尋檢索區(qū)域(步驟Sl、 S2)。 將搜尋后的最高點(diǎn)數(shù)作為第2登記標(biāo)記WAM2所檢測(cè)出圖形的點(diǎn)數(shù)儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部 11b(步驟S3)。 (iv)以判定部lld比較儲(chǔ)存后第2登記標(biāo)記WAM2所檢測(cè)出圖形的點(diǎn)數(shù)和中斷閾 值(例如9000點(diǎn))(步驟S4)。第2登記標(biāo)記WAM2所檢測(cè)出圖形的點(diǎn)數(shù)在9000點(diǎn)以上時(shí)， 不進(jìn)行第3登記標(biāo)記WAM3以后的搜尋，采用第2登記標(biāo)記WAM2所檢測(cè)出的圖形作為工件 標(biāo)記，結(jié)束搜尋(步驟S6)。 (v)第2登記標(biāo)記WAM2所檢測(cè)圖形的點(diǎn)數(shù)也小于9000點(diǎn)時(shí)，以第3登記標(biāo)記WAM3進(jìn)行檢索區(qū)域的搜尋。 將此重復(fù)至i =!1為止，一旦檢測(cè)出超過(guò)中斷閾值的圖形時(shí)，采用其圖形作為工件 標(biāo)記(步驟S6)。 如果沒(méi)有超過(guò)中斷閾值的圖形時(shí)，比較由第1登記標(biāo)記WAM1到第n登記標(biāo)記WAMn 所檢測(cè)出圖形的各點(diǎn)數(shù)。并且采用所獲得的最高點(diǎn)數(shù)的第i登記標(biāo)記WAMi檢測(cè)出的圖形 作為工件標(biāo)記(步驟S7)，結(jié)束搜尋。 如上述，預(yù)先設(shè)定中斷閾值時(shí)，不需按照每個(gè)掩模與工件對(duì)位而對(duì)所有登記圖形 進(jìn)行搜尋，因此可縮短工件標(biāo)記的檢測(cè)時(shí)間。 并且，除了中斷閾值的設(shè)定，也可以預(yù)先儲(chǔ)存各登記標(biāo)記的使用次數(shù)，從使用次數(shù) 多的登記標(biāo)記依序進(jìn)行搜尋，或者從近來(lái)(最近)使用的標(biāo)記依序進(jìn)行搜尋等，預(yù)先對(duì)控制 部11附加學(xué)習(xí)功能，可更提高盡快搜尋到高點(diǎn)數(shù)的登記標(biāo)記的可能性，可實(shí)現(xiàn)工件標(biāo)記檢 測(cè)時(shí)間的縮短。 再者，本發(fā)明是以基板形成有底的孔(凹部、凹陷)作為工件*對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(工件標(biāo) 記)使用的場(chǎng)合為例，說(shuō)明在該孔電鍍或粘貼抗蝕劑膜，以對(duì)準(zhǔn)顯微鏡所檢測(cè)出工件標(biāo)記 的不同呈現(xiàn)方式(形狀或明暗或色調(diào))。 但是，不限于孔的場(chǎng)合，也可如圖8(a)表示以形成在基板100的突起107(凸部、 隆起)作為工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記使用的場(chǎng)合，由于工件標(biāo)記的呈現(xiàn)方式變化，因此可運(yùn)用本發(fā) 明。 并且，也有如圖8(b)所示，根據(jù)銅105等的有無(wú)電鍍變化表面的反射率而使得呈 現(xiàn)方式變化的情況。 另外，如圖8(c)表示在突起粘貼抗蝕膜106時(shí)，不能沿著突起的側(cè)面粘貼，可在突 起的側(cè)面形成空間。因此，會(huì)使照明光的反射率或光的反射方向變化，在未粘貼有抗蝕膜的 場(chǎng)合和粘貼有抗蝕膜的場(chǎng)合使得攝影機(jī)構(gòu)(CCD)的呈現(xiàn)方式不同。 此外，根據(jù)抗蝕膜的粘貼狀態(tài)，會(huì)使薄膜的松弛狀態(tài)改變而使得呈現(xiàn)方式變化，在 這些的場(chǎng)合也可以運(yùn)用本發(fā)明。
1權(quán)利要求
一種對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)方法，是以突起或凹陷形成在工件上的工件·對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)方法，其特征為，包含第1步驟，對(duì)工件上的圖形進(jìn)行顯像；第2步驟，逐一讀取事先登記在存儲(chǔ)部的作為工件·對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記而應(yīng)檢測(cè)的多個(gè)登記圖形，比較進(jìn)行了上述顯像的工件上的圖形和上述所讀取了的登記圖形，評(píng)估兩者一致度；及第3步驟，采用進(jìn)行了上述顯像的工件上的圖形，及獲得最高一致度的上述登記圖形或者獲得事先被設(shè)定的值以上的一致度的上述登記圖形，將與該登記圖形的一致度高的顯像圖形作為工件對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行檢測(cè)。
2. —種對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)裝置，是以突起或凹陷形成在工件上的工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè) 裝置，其特征為，具備顯像機(jī)構(gòu)，對(duì)工件上的圖形進(jìn)行顯像；存儲(chǔ)部，登記了作為工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記而應(yīng)檢測(cè)的多個(gè)登記圖形；比較，評(píng)估機(jī)構(gòu)，逐一讀取被儲(chǔ)存在上述存儲(chǔ)部的登記圖形，比較由上述顯像機(jī)構(gòu)進(jìn)行 了顯像的工件上的圖形和上述所讀取了的登記圖形，評(píng)估兩者一致度；及判定機(jī)構(gòu)，根據(jù)上述比較，評(píng)估機(jī)構(gòu)所獲得的一致度，判定進(jìn)行了上述顯像的工件上的 圖形是否是作為工件 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行檢測(cè)的圖形。
全文摘要
本發(fā)明提供一種可進(jìn)行正確的工件標(biāo)記檢測(cè)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)方法及裝置。其解決手段為使用對(duì)準(zhǔn)顯微鏡(10)，進(jìn)行工件(W)的表面影像顯像，將作為工件標(biāo)記(WAM)應(yīng)登記的呈現(xiàn)方式(形狀或明暗或色調(diào))不同的多個(gè)圖形，作為工件標(biāo)記WAM1～n登記到控制部(11)的存儲(chǔ)部(11b)。檢測(cè)工件標(biāo)記時(shí)，使用該工件標(biāo)記WAM1～n，進(jìn)行檢索區(qū)域內(nèi)圖形的檢索，以比較·評(píng)估部(11c)比較所登記的工件標(biāo)記WAM1～n與檢索區(qū)域內(nèi)的圖形求得一致度的點(diǎn)數(shù)，點(diǎn)數(shù)例如超過(guò)預(yù)定值時(shí)，判定該圖形為工件(W)上的工件標(biāo)記(WAM)。對(duì)位控制部(11e)使用該工件標(biāo)記(WAM)進(jìn)行掩模(M)與工件(W)的對(duì)位。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101738882SQ20091021211
公開日2010年6月16日 申請(qǐng)日期2009年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月14日
發(fā)明者筱山理惠 申請(qǐng)人:優(yōu)志旺電機(jī)株式會(huì)社