專利名稱：電子照相感光體、處理盒和圖像形成設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子照相感光體、處理盒和圖像形成設(shè)備。
技術(shù)背景 通常，電子照相圖像形成設(shè)備具有以下結(jié)構(gòu)和步驟。具體地說，圖像形成物如下獲 得通過充電單元對電子照相感光體的表面進行充電而賦予該表面以所需的極性和電位； 通過以形成圖像的方式將該電子照相感光體的帶電的表面暴露于光線下以有選擇地使表 面除電，從而在該表面上形成靜電潛像；通過顯影單元使調(diào)色劑附著于該潛像，從而將該潛 像顯影以形成調(diào)色劑圖像；通過轉(zhuǎn)印單元將該調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到圖像接受介質(zhì)上。近年來，電子照相感光體因為具有可提供高速和高品質(zhì)印刷的優(yōu)勢，所以在復(fù)印 機、激光印刷機等領(lǐng)域得到了更經(jīng)常的應(yīng)用。作為用于這些圖像形成設(shè)備的電子照相感光體，已知有使用諸如硒、硒碲合金、硒 砷合金和硫化鎘等常規(guī)的無機光導(dǎo)電材料的電子照相感光體(無機感光體)。近年來，使用 有機光導(dǎo)電材料的電子照相感光體(有機感光體)由于在低成本制造性和廢棄性方面具有 良好的優(yōu)勢，因此已經(jīng)成為主流。以往將使用電暈充電裝置的電暈充電法用作充電方法。然而，近年來，接觸充電法 由于具有諸如抑制臭氧生成量和耗電量等優(yōu)勢，因此已投入實際應(yīng)用，并被積極使用。在接 觸充電法中，通過將起到充電部件作用的導(dǎo)電性部件與電子照相感光體的表面接觸，或者 通過將該導(dǎo)電性部件靠近電子照相感光體的表面，然后向該充電部件施加電壓，從而使電 子照相感光體的表面帶電。作為向充電部件施加電壓的方法，存在直流法和交流疊加法，直 流法中，僅施加直流電壓，而在交流疊加法中，在施加直流電壓的同時，在直流電壓上疊加 交流電壓。接觸充電法具有諸如使設(shè)備小型化和抑制諸如臭氧等有害氣體的產(chǎn)生等優(yōu)點。作為轉(zhuǎn)印方法，經(jīng)由中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)將調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到記錄紙上的方法適用于各 種各樣的記錄紙，所以已取代以往常用的將調(diào)色劑圖像直接轉(zhuǎn)印到記錄紙上的方法而得到 廣泛的應(yīng)用。在上述相關(guān)技術(shù)中，已存在的問題有，由于使用接觸充電法而導(dǎo)致的感光體的劣 化和磨損以及由于使用接觸充電法和中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)而導(dǎo)致的感光體的刮傷和異物的戳刺。 為了防止這些問題，已提出在電子照相感光體的表面上形成保護層以提高其強度。作為用于形成保護層的材料，已經(jīng)提出以下方案。S卩，例如，日本特許3287678號提出一種在酚醛樹脂中分散有導(dǎo)電性粉末的材料。 日本特開2000-019749號公報提出一種有機-無機雜化材料。日本特開2005-234546號公 報提出一種鏈?zhǔn)骄酆闲圆牧?。日本特開2000-66424號公報提出一種丙烯酸類材料。此外，日本特開2004-240079號公報提出一種由放射線交聯(lián)劑和電荷輸送性物質(zhì) 構(gòu)成的由放射線交聯(lián)的材料。本發(fā)明旨在提供一種電子照相感光體，該電子照相感光體的最外表面層具有高機 械強度，并能夠長時期抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。
此外，本發(fā)明的另一目的是提供處理盒和圖像形成設(shè)備，二者都備有所述電子照 相感光體
發(fā)明內(nèi)容
(1) 一種電子照相感光體，所述電子照相感光體包含導(dǎo)電性基體；形成在所述導(dǎo)電性基體上的感光層；和最外表面層，其為由以下組合物的固化物制成的層，所述組合物包含至少一種由 下式(I)表示的化合物和至少一種具有電荷輸送性和偶氮基的化合物
/R ]
f-HL-)-0-C-C( I )
\ O CH2Jn其中，在式(I)中，F(xiàn)表示具有空穴輸送性的η價有機基團，R表示氫原子或烷基， L表示二價有機基團，η表示大于或等于1的整數(shù)，并且j表示0或1。(2)如(1)所述的電子照相感光體，其中，所述具有電荷輸送性和偶氮基的化合物
是由下式㈧表示的化合物
Ar；1 ( Ar1A
,N-x1|N(A)
R1-N=N-(L2)-C-O-L1X2 \ V-/-L1—0-C-fL2V-N=N-R'
、^ll\ LIl ^ ym3
0LJm2 O其中，在式㈧中，Ar11和Ar12各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳 基；X1表示具有芳環(huán)結(jié)構(gòu)的二價烴基或者具有芳環(huán)結(jié)構(gòu)的二價含雜原子的烴基；X2和X3各 自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的亞芳基；L1和L2各自獨立地表示可以包含支 化或環(huán)結(jié)構(gòu)的二價烴基，或可以包含支化或環(huán)結(jié)構(gòu)的二價含雜原子的烴基；ml和m3各自獨 立地表示0或1 ;m2表示大于或等于1的數(shù)；并且R’表示一價烴基或一價含雜原子的烴基。(3)如⑴所述的電子照相感光體，其中，式⑴中的R是甲基。(4)如⑴所述的電子照相感光體，其中，式⑴中的η是大于或等于2的整數(shù)。(5)如⑴所述的電子照相感光體，其中，式⑴由下式(II)表示 其中，在式(II)中，Ar1 Ar4各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳 基；Ar5表示具有取代基的或不具有取代基的芳基，或具有取代基的或不具有取代基的亞芳 基；D表示-(L) j-O-CO-C(R) = CH2 ；L表示二價有機基團；j表示0或1 ；五個c各自獨立地 表示0或1 ;k表示0或1 ;D的總數(shù)大于或等于1 ；并且R表示氫原子或具有1 5個碳原 子的直鏈或支化的烷基。(6)如(5)所述的電子照相感光體，其中，式(II)中的D的總數(shù)大于或等于4。(7)如(5)所述的電子照相感光體，其中，式(II)中的R是甲基。(8)如(1)所述的電子照相感光體，其中，相對于構(gòu)成最外表面層的組合物，由式 (I)表示的化合物的總含量為大約30重量％以上。(9)如⑵所述的電子照相感光體，其中，式㈧中的Ar11和Ar12各自獨立地是具 有6 16個碳原子的具有取代基的或不具有取代基的芳基。(10)如⑵所述的電子照相感光體，其中，式㈧中的L1表示酯鍵與亞烷基和/ 或亞苯基的組合。(11)如(2)所述的電子照相感光體，其中，式(A)中的L2包含亞烷基或氰基并具 有1 20個碳原子。(12)如⑵所述的電子照相感光體，其中，式㈧中的R’包括亞烷基、酯基、氰基
或羧基。(13)如⑵所述的電子照相感光體，其中，相對于所述組合物中的反應(yīng)性化合物， 由式(A)表示的化合物的含量為大約2重量％ 大約200重量％。(14) 一種處理盒，所述處理盒包含(1) (13)中任一項所述的電子照相感光體；和選自由下述單元組成的組中的至少一種單元對電子照相感光體進行充電的充電 單元、使用調(diào)色劑將形成在電子照相感光體上的靜電潛像顯影的顯影單元和將殘留在電子 照相感光體的表面上的調(diào)色劑除去的調(diào)色劑除去單元。(15) 一種圖像形成設(shè)備，所述圖像形成設(shè)備包含(1) (13)中任一項所述的電子照相感光體；對電子照相感光體進行充電的充電單元；在被充電的電子照相感光體上形成靜電潛像的靜電潛像形成單元；使用調(diào)色劑將形成在電子照相感光體上的靜電潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像的顯 影單元；和將調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印體的轉(zhuǎn)印單元。根據(jù)本發(fā)明涉及(1)的方面，可提供一種電子照相感光體，與不使用具有電荷輸送性和偶氮基的化合物的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度，并且能夠更長時期抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(2)的方面，可提供一種電子照相感光體，與不具有由式(A)表示 的結(jié)構(gòu)的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度，并且能夠更 長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(3)的方面，可提供一種電子照相感光體，與不具有式(I)中R是 甲基的結(jié)構(gòu)的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度，并且能 夠更長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(4)的方面，可提供一種電子照相感光體，與式(I)中η是1的情 況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度，并且能夠更長時期更有 效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(5)的方面，可提供一種電子照相感光體，與式(I)不具有式(II) 的結(jié)構(gòu)的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度，并且能夠更 長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(6)的方面，可提供一種電子照相感光體，與式(I)表示式(II) 中D的總數(shù)小于或等于3時的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機 械強度，并且能夠更長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(7)的方面，可提供一種電子照相感光體，與式(I)不具有式(II) 中R是甲基的結(jié)構(gòu)的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度， 并且能夠更長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(8)的方面，可提供一種電子照相感光體，與相對于形成最外表 面層的組合物，由式(I)表示的化合物的總含量為30重量％ (或者大約30重量％ )以下 的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度，并且能夠更長時期 更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(9)的方面，可提供一種電子照相感光體，與不具有式(A)中Ar11 和Ar12各自代表具有6 16個碳原子的具有取代基的或不具有取代基的芳基并且R表示 甲基的結(jié)構(gòu)的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度，并且能 夠更長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(10)的方面，可提供一種電子照相感光體，與式(A)中L1不表示 酯鍵與亞烷基和/或亞苯基的組合的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更 高的機械強度，并且能夠更長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(11)的方面，可提供一種電子照相感光體，與不具有式㈧中L2 包含亞烷基或氰基并且具有1 20個碳原子的結(jié)構(gòu)的情況相比，所述電子照相感光體的 最外表面層具有更高的機械強度，并且能夠更長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā) 生。根據(jù)本發(fā)明涉及(12)的方面，可提供一種電子照相感光體，與式(A)中R’不包含 亞烷基、酯基、氰基和羧基的情況相比，所述電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械 強度，并且能夠更長時期更有效地抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(13)的方面，可提供一種電子照相感光體，與相對于組合物中的反應(yīng)性化合物，由式㈧表示的化合物的含量不是2重量％ 200重量％的情況相比，所述 電子照相感光體的最外表面層具有更高的機械強度，并且能夠更長時期更有效地抑制濃度 不均勻和重影的發(fā)生。根據(jù)本發(fā)明涉及(14)的方面，可提供一種處理盒，與不具有所述構(gòu)造的情況相 比，所述處理盒能夠長時期獲得穩(wěn)定的圖像。根據(jù)本發(fā)明涉及(15)的方面，可提供一種圖像形成設(shè)備，與不具有所述構(gòu)造的情 況相比，所述圖像形成設(shè)備能夠長時期獲得穩(wěn)定的圖像。


基于以下附圖，將對本發(fā)明的示例性實施方式進行詳細的描述，其中圖1是顯示本發(fā)明的一個示例性實施方式的電子照相感光體的部分橫截面示意 圖；圖2是顯示本發(fā)明的一個示例性實施方式的電子照相感光體的部分橫截面示意 圖；圖3是顯示本發(fā)明的一個示例性實施方式的電子照相感光體的部分橫截面示意 圖；圖4是顯示本發(fā)明的一個示例性實施方式的圖像形成設(shè)備的示意圖；圖5是顯示本發(fā)明的另一個示例性實施方式的圖像形成設(shè)備的示意圖；和圖6A至圖6C是顯示用于評估重影的標(biāo)準(zhǔn)的說明圖。
具體實施例方式[電子照相感光體]本發(fā)明的該示例性實施方式的電子照相感光體是下述電子照相感光體，其至少包 含導(dǎo)電性基體和形成在該導(dǎo)電性基體上的感光層，其中，最外表面層由以下組合物的固化 物制成，所述組合物包含至少一種由式(I)表示的化合物和至少一種具有電荷輸送性和偶 氮基的化合物。在該示例性實施方式的電子照相感光體中，當(dāng)如上所述構(gòu)成時，會使最外表面層 的機械強度提高，并使?jié)舛炔痪鶆蚝椭赜暗陌l(fā)生得到長時期抑制；因此，可以長時期獲得穩(wěn) 定的圖像。其原因并不清楚，但據(jù)推測如下。S卩，當(dāng)感光體的最外表面層由下述固化物形成，而所述固化物是通過固化具有 (甲基)丙烯酰氧基的電荷輸送材料而獲得時，從減少對感光層的損壞的角度考慮，電荷輸 送材料優(yōu)選通過較低能量，例如熱來固化。然而，即使在以如此低的能量固化的固化物中， 也有電荷陷阱形成，在某些情況下可能會由此導(dǎo)致稱作濃度不均勻和重影的圖像缺陷。在該示例性實施方式中，使用了下述組合物，所述組合物包括由式(I)表示的化 合物和起到聚合引發(fā)劑的作用并具有電荷輸送性和偶氮基的化合物的組合，其中所述由式 (I)表示的化合物是具有(甲基)丙烯酰氧基的電荷輸送材料。因而，所述兩種化合物都具 有電荷輸送性，并因具有相似的性能而相容性極佳；因此，可認為，在固化物中較難形成電 荷輸送性局部劣化的區(qū)域。因此可進一步認為，電荷陷阱在固化材料中的形成受到抑制；結(jié)果，當(dāng)最外表面層由這樣一種固化物形成時，就獲得了能夠長時期抑制濃度不均勻和重影 發(fā)生的感光體。如上所述，該示例性實施方式的電子照相感光體具有由下述組合物的固化物制成 的最外表面層，所述組合物包含由式(I)表示的化合物和具有電荷輸送性和偶氮基的化合 物。優(yōu)選的是，該最外表面層構(gòu)成電子照相感光體本身的最上表面，特別優(yōu)選的是，其被形 成為起到保護層作用的層或者起到電荷輸送層作用的層。當(dāng)最外表面層起到保護層的作用時，例如可以舉出下述形式在導(dǎo)電性基體上形 成感光層和作為最外表面層的保護層，并且該保護層由含有由式(I)表示的化合物和具有 電荷輸送性和偶氮基的化合物的組合物的固化物構(gòu)成。另一方面，當(dāng)最外表面層是起到電荷輸送層作用的層時，例如可以舉出下述形式 在導(dǎo)電性基體上形成電荷生成層和作為最外表面層的電荷輸送層，并且該電荷輸送層由包 含由式(I)表示的化合物和具有電荷輸送性和偶氮基的化合物的組合物的固化物構(gòu)成。下面將參照附圖詳細描述當(dāng)最外表面層為起到保護層作用的層時的該示例性實 施方式的電子照相感光體。在附圖中，相同或相應(yīng)部分被設(shè)置為相同的附圖標(biāo)記，本文省略 了對其進行重復(fù)性描述。圖1是顯示示例性實施方式的電子照相感光體的一個優(yōu)選示例性實施方式的橫 截面示意圖。圖2和圖3各自為顯示其它示例性實施方式的電子照相感光體的橫截面示意 圖。圖1中所示的電子照相感光體7A是所謂的功能分離型感光體(或積層型感光 體)，具有下述結(jié)構(gòu)在導(dǎo)電性基體4上形成有底涂層1，然后在底涂層1上依次形成有電荷 生成層2、電荷輸送層3和保護層5。在電子照相感光體7A中，感光層由電荷生成層2和電 荷輸送層3構(gòu)成。圖2中所示的電子照相感光體7B是一種功能分離型感光體，其中，與圖1中所示 的電子照相感光體7A類似，功能分離至電荷產(chǎn)生層2和電荷輸送層3。圖3中所示的電子 照相感光體7C在同一層(單層型感光層6 (電荷生成/電荷輸送層))中含有電荷生成材 料和電荷輸送材料。圖2中所示的電子照相感光體7B具有下述結(jié)構(gòu)在導(dǎo)電性基體4上形成有底涂層 1，然后在底涂層1上依次形成有電荷輸送層3、電荷生成層2和保護層5。在電子照相感光 體7B中，感光層由電荷輸送層3和電荷生成層2形成。此外，圖3中所示的電子照相感光體7C具有下述結(jié)構(gòu)在導(dǎo)電性基體4上形成有 底涂層1，然后在底涂層1上依次形成有單層型感光層6和保護層5。在圖1 3中所示的電子照相感光體7A 7C中，保護層5是在離導(dǎo)電性基體4 最遠側(cè)形成的最外表面層，該最外表面層具有前述預(yù)定的構(gòu)造。在圖1 3中所示的電子照相感光體中，可以形成有底涂層1，也可以不形成底涂層1。下文中，將基于作為代表性實例的圖1中所示的電子照相感光體7A，描述各構(gòu)成要素?！磳?dǎo)電性基體〉
導(dǎo)電性基體4的實例包括使用諸如鋁、銅、鋅、不銹鋼、鉻、鎳、鉬、釩、銦、金或鉬等金屬或其合金構(gòu)成的金屬板、金屬鼓和金屬帶。導(dǎo)電性基體4的實例還包括其上涂布、淀積或?qū)訅河袑?dǎo)電性聚合物、諸如氧化銦等導(dǎo)電性化合物或者諸如鋁、鈀或金等金屬或其 合金的紙張、塑料膜和帶。此處的術(shù)語“導(dǎo)電性”是指體積電阻率小于1013Qcm。當(dāng)電子照相感光體7A用于激光印刷機時，從抑制在用激光束照射時產(chǎn)生的干涉 條紋的角度考慮，優(yōu)選對導(dǎo)電性基體4的表面進行粗糙化，以使其中心線平均粗糙度Ra是 0. 04 μ m至0. 5 μ m。當(dāng)Ra小于0. 04 μ m時，該電子照相感光體具有接近鏡面的表面，因而其 干涉抑制效果傾向于不足。另一方面，當(dāng)Ra大于0. 5 μ m時，即使形成膜，圖像品質(zhì)也傾向 于變得粗糙。當(dāng)將非干涉光用作光源時，不是特別需要粗糙化以抑制干涉條紋的出現(xiàn)。因 此，可以防止出現(xiàn)由于導(dǎo)電性基體4的表面不平整而導(dǎo)致的缺陷，從而獲得良好的耐久性。作為表面粗糙化的方法，優(yōu)選濕式珩磨法，其中將通過在水中懸浮研磨劑而獲得 的懸浮液噴灑在基體上；無心研磨法，其中將基體壓在旋轉(zhuǎn)的磨石上以進行連續(xù)研磨；或 者陽極氧化處理。作為表面粗糙化的另一種方法，也優(yōu)選采用下述方法，其中，無需粗糙化導(dǎo)電性基 體4的表面，在基體的表面上涂布通過在樹脂中分散導(dǎo)電性或半導(dǎo)電性粉末而獲得的分散 液，從而在基體的表面上形成層，層中所分散的顆粒使表面變粗糙。在通過陽極氧化的表面粗糙化處理中，使用鋁作為陽極，在電解液中進行陽極氧 化，從而在該鋁的表面上形成氧化膜。作為電解液，例如可以舉出硫酸溶液或者草酸溶液。 不過，通過陽極氧化形成的多孔性陽極氧化膜本身是化學(xué)活潑的，易于被污染，其電阻隨環(huán) 境變化較大。因此，優(yōu)選進行封孔處理，其中，通過在加壓水蒸汽或沸水(可以加入例如鎳 等的金屬鹽)中的水合作用所致的體積膨脹，將陽極氧化膜的微孔封閉，從而將陽極氧化 膜轉(zhuǎn)化為更穩(wěn)定的水合氧化物。陽極氧化膜的膜厚優(yōu)選是0. 3 μ m 15 μ m。當(dāng)膜厚小于0. 3 μ m時，抵抗注入的阻 隔性能較低，傾向于所述優(yōu)勢不足。另一方面，當(dāng)膜厚大于15ym時，可能因反復(fù)使用而導(dǎo) 致殘留電位上升?？梢允褂盟嵝运芤禾幚砘虿肥幚韺?dǎo)電性基體4。使用含有磷酸、鉻酸和氫氟 酸的酸性處理液的處理如下進行。首先，制備酸性處理液。該酸性處理液中磷酸、鉻酸和氫 氟酸各自的混合比是10重量％ 11重量％的磷酸，3重量％ 5重量％的鉻酸，以及0. 5 重量％ 2重量％的氫氟酸。酸的總濃度優(yōu)選是13. 5重量％ 18重量％。處理溫度優(yōu)選 是42°C 48°C。然而，在保持較高的處理溫度時，與將處理溫度保持為低于以上處理溫度 范圍的情況相比，可以以更高的速度形成更厚的被覆膜。被覆膜的膜厚優(yōu)選是0.3μπι 15 μ m。當(dāng)膜厚小于0. 3 μ m時，抵抗注入的阻隔性能較低，傾向于所述優(yōu)勢不足。另一方面， 當(dāng)膜厚大于15 μ m時，可能因反復(fù)使用而導(dǎo)致殘留電位上升。勃姆石處理可通過將基體在加熱為90°C 100°C的純水中浸漬5分鐘至60分鐘， 或?qū)⒒w與加熱為90°C 120°C的水蒸汽接觸5分鐘至60分鐘來進行。被覆膜的膜厚優(yōu) 選是0. 1 μ m 5 μ m。還可以進一步使用與其它物種相比對被覆膜的溶解性較低的諸如己 二酸、硼酸、硼酸鹽、磷酸鹽、鄰苯二甲酸鹽、馬來酸鹽、苯甲酸鹽、酒石酸鹽或檸檬酸鹽等酸 或鹽的電解液，對該被覆膜進行陽極氧化處理。<底涂層>
底涂層1包括例如粘合劑樹脂中的無機顆粒。作為無機顆粒，優(yōu)選使用具有IO2 Ω MmNlO11Q · cm的粉末電阻(體積電阻率) 的無機顆粒。這是因為，底涂層1需要具備適當(dāng)?shù)碾娮?，以獲得耐漏電性和載流子阻隔性。 當(dāng)無機顆粒的電阻值低于上述范圍的下限時，將無法獲得足夠的耐漏電性，而當(dāng)該電阻值 高于上述范圍的上限值時，可能導(dǎo)致殘留電位的上升。其中，具有上述電阻值的無機顆粒的優(yōu)選實例包括氧化錫、氧化鈦、氧化鋅或氧化 鋯的無機顆粒(導(dǎo)電性金屬氧化物)。特別優(yōu)選氧化鋅。此外，可以對無機顆粒進行表面處理，或者可以將至少兩種經(jīng)不同表面處理的顆 ?；蚓哂胁煌降念w粒混合使用。無機顆粒的體積平均粒徑優(yōu)選是50nm 2000nm (更優(yōu)選是60nm IOOOnm)。無機顆粒優(yōu)選具有10m2/g以上的比表面積(以BET法測得)。當(dāng)比表面積值低于IOm2/時，往往發(fā)生帶電性劣化，導(dǎo)致難以獲得優(yōu)異的電子照相特性。 當(dāng)受體化合物與無機顆粒一起包含在底涂層中時，可以獲得具有優(yōu)異的電特性的 長期穩(wěn)定性和載流子阻隔性的底涂層。作為受體化合物，可以使用任何化合物，只要其能夠提供所需特性即可。受體化合 物的優(yōu)選實例包括電子輸送材料，包括醌類化合物，如氯醌或溴醌；四氰基苯醌二甲烷類 化合物；芴酮類化合物，如2，4，7-三硝基芴酮或2，4，5，7-四硝基_9_芴酮；噁二唑類化合 物，如2- (4-聯(lián)苯基)-5- (4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-雙(4-萘基)-1，3，4-噁二 唑或2，5- 二(4- 二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑；咕噸化合物；噻吩化合物；和聯(lián)苯醌化 合物，如3，3’，5，5’ -四叔丁基聯(lián)苯醌。特別優(yōu)選具有蒽醌結(jié)構(gòu)的化合物。此外，還優(yōu)選使 用具有蒽醌結(jié)構(gòu)的受體化合物，例如羥基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物或氨基羥基蒽醌化 合物。其具體實例包括蒽醌、茜素、醌茜、蒽絳酚和紅紫素。受體化合物的含量可以任意設(shè)定，只要其在能夠獲得所需特性的范圍內(nèi)即可。然 而，相對于無機顆粒，其含量優(yōu)選設(shè)定在0. 01重量％ 20重量％范圍內(nèi)。從抑制電荷蓄積 和無機顆粒絮凝的角度考慮，相對于無機顆粒，其含量更優(yōu)選設(shè)定在0. 05重量％ 10重 量％范圍內(nèi)。當(dāng)無機顆粒絮凝時，導(dǎo)電通路的形成容易產(chǎn)生波動；因此，在反復(fù)使用過程中， 不僅殘留電位上升從而使維持性劣化，而且傾向于產(chǎn)生諸如黑點等圖像缺陷。受體化合物可只添加在底涂層形成用涂布液中，也可以預(yù)先附著于無機顆粒的表 面。作為向無機顆粒的表面賦予受體化合物的方法，可以舉出于法和濕法。當(dāng)采用干法進行表面處理時，在使用具有高剪切力的混合機攪拌無機顆粒的情況 下，將受體化合物直接或通過溶解在有機溶劑中來滴加，或者與干燥空氣或氮氣一起噴霧， 以便能夠無波動地進行處理。當(dāng)加入或噴霧受體化合物時，優(yōu)選在低于或等于溶劑沸點的 溫度進行。在高于或等于溶劑沸點的溫度噴霧受體化合物時，不利之處在于，在無波動地攪 拌之前溶劑會蒸發(fā)，由此受體化合物將局部絮凝，因而難以無波動地進行噴霧。受體化合物 在添加或噴霧之后，還可以進一步在100°c以上的溫度進行焙烤?？梢栽谌魏螠囟群蜁r間范 圍內(nèi)進行焙烤，只要溫度和時間能夠賦予所需的電子照相特性即可。作為濕法，將無機顆粒在溶劑中攪拌后，通過使用超聲波、砂磨機、磨碎機或球磨機等進行分散，隨后加入受體化合物，繼之以攪拌和分散，然后除去溶劑，濕法會無波動地進行。作為除去溶劑的方法，采用的是過濾或蒸餾法。除去溶劑后，還可以在100°c以上的 溫度進行焙烤?？梢栽谌魏螠囟群蜁r間范圍內(nèi)進行焙烤，只要溫度和時間能夠賦予所需的 電子照相特性即可。在濕法中，在加入表面處理劑之前，可以先除去無機顆粒中所含的水 分。作為其實例，可以采用在用于表面處理的溶劑中在攪拌和加熱下除去水分的方法，或者 使用與溶劑進行共沸去除的方法。此外，在加入受體化合物之前，無機顆?？梢赃M行表面處理。表面處理劑可以選自公知的物質(zhì)，只要能夠獲得所需特性即可。其實例包括硅烷偶聯(lián)劑、鈦酸酯偶聯(lián)劑、鋁偶聯(lián) 劑和表面活性劑。特別優(yōu)選硅烷偶聯(lián)劑，因為它能夠賦予優(yōu)異的電子照相特性。此外，優(yōu)選 使用具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑，因為它能為底涂層1賦予優(yōu)異的阻隔性。作為具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑，可以使用任何一種具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑，只要 能夠獲得所需的電子照相感光體特性即可。其具體實例包括Y-氨丙基三乙氧基硅烷、 Ν-β-(氨乙基)-Y-氨丙基甲氧基硅烷、Ν-β-(氨乙基)-Y-氨丙基甲基二甲氧基硅烷和 N，N-雙(β -羥乙基)-γ -氨丙基三乙氧基硅烷，但并不限于此。硅烷偶聯(lián)劑可以以其兩種以上的混合物使用?？梢耘c具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑一起 使用的硅烷偶聯(lián)劑的實例包括乙烯基三甲氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲 氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、Y-縮水甘油氧基丙基三 甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、Y-巰丙基三甲氧基硅烷、Y-氨丙基三乙氧基硅烷、 N-β-(氨乙基)-Y-氨丙基三甲氧基硅烷、Ν-β-(氨乙基)-Y-氨丙基甲基二甲氧基硅 烷、Ν，Ν_雙(β-羥乙基)_ Y-氨丙基三乙氧基硅烷和Y-氯丙基三甲氧基硅烷，但并不限 于此。作為使用表面處理劑的表面處理方法，可以使用任何一種公知的方法。然而，優(yōu)選 使用干法或濕法。此外，受體化合物的添加與使用諸如偶聯(lián)劑等表面處理劑的表面處理可 以同時進行。相對于底涂層1中的無機顆粒，硅烷偶聯(lián)劑的量可以任意設(shè)定，只要能夠獲得所 需的電子照相特性即可。然而，從改善分散性的角度考慮，相對于無機顆粒，硅烷偶聯(lián)劑的 量優(yōu)選為5重量％ 10重量％。底涂層1可以包含粘合劑樹脂。作為底涂層1中包含的粘合劑樹脂，可以使用任何一種公知的粘合劑樹脂，只要 其可以形成優(yōu)異的膜并可以賦予所需特性即可。其實例包括公知的高分子樹脂化合物， 例如縮醛樹脂類，如聚乙烯醇縮丁醛樹脂類、聚乙烯醇樹脂類、酪蛋白、聚酰胺樹脂類、纖維 素樹脂類、明膠、聚氨酯樹脂類、聚酯樹脂類、甲基丙烯酸類樹脂、丙烯酸類樹脂、聚氯乙烯 樹脂類、聚乙酸乙烯酯樹脂類、氯乙烯_乙酸乙烯酯_馬來酸酐樹脂類、有機硅樹脂類、硅 酮-醇酸樹脂類、酚醛樹脂類、苯酚-甲醛樹脂類、三聚氰胺樹脂類或氨基甲酸酯樹脂類；具 有電荷輸送性基團的電荷輸送性樹脂類；和例如聚苯胺樹脂類等導(dǎo)電性樹脂類。其中，優(yōu)選 使用在用于上層的涂布溶劑中不溶的樹脂。其特別優(yōu)選的實例包括酚醛樹脂類、苯酚-甲 醛樹脂類、三聚氰胺樹脂類、氨基甲酸酯樹脂類和環(huán)氧樹脂類。當(dāng)這些樹脂以其兩種以上的 組合使用時，可根據(jù)需要設(shè)定混合比。在底涂層形成用涂布液中，可以任意設(shè)定其表面被賦予了受體化合物的無機顆 粒(被賦予了受體性質(zhì)的金屬氧化物)的量相對于粘合劑樹脂的量的比率，或者無機顆粒的量相對于粘合劑樹脂的量的比率，使其位于能夠賦予所需的電子照相感光體特性的范圍 內(nèi)。在底涂層1中，可以加入各種添加劑，以改善電特性、環(huán)境穩(wěn)定性和圖像品質(zhì)。作為添加劑，可使用公知的物質(zhì)，例如多環(huán)稠合或偶氮類電子輸送性顏料、鋯螯合物、鈦螯合物、鋁螯合物、鈦醇鹽化合物、有機鈦化合物或硅烷偶聯(lián)劑。硅烷偶聯(lián)劑除了如上 所述在無機顆粒的表面處理中使用以外，還可以被加入底涂層形成用涂布液中。作為添加劑的硅烷偶聯(lián)劑的具體實例包括乙烯基三甲氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰 氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β _(3，4_環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、Y-縮 水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、Y-巰丙基三甲氧基硅烷、Y-氨 丙基三乙氧基硅烷、N- β -(氨乙基)-γ -氨丙基三甲氧基硅烷、N- β -(氨乙基)-γ -氨丙 基甲基二甲氧基硅烷、N，N-雙(β-羥乙基)_ Y-氨丙基三乙氧基硅烷和Y-氯丙基三甲 氧基硅烷。此外，鋯螯合物的實例包括鋯丁醇鹽、乙酰乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙酰丙酮鋯 丁醇鹽、乙酰乙酸乙酯鋯丁醇鹽、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、膦酸鋯、辛酸鋯、環(huán)烷酸鋯、月桂 酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸鋯丁醇鹽、硬脂酸鋯丁醇鹽和異硬脂酸鋯丁醇鹽。鈦螯合物的實例包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚體、鈦酸四 (2-乙基己基)酯、乙酰丙酮鈦、聚乙酰丙酮鈦、亞辛基乙醇酸鈦(titanium octylene glycolate)、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、乳酸乙酯鈦、三乙醇胺合鈦和多羥基硬脂酸鈦。鋁螯合物的實例包括鋁異丙醇鹽、單丁氧基鋁二異丙醇鹽、鋁丁醇鹽、乙酰乙酸乙 酯鋁二異丙醇鹽和三(乙酰乙酸乙酯)鋁。這些化合物可以單獨使用，或者作為多種化合物的混合物或縮聚物使用。用于制備底涂層形成用涂布液的溶劑可以任意選自公知的有機溶劑，例如醇溶 齊 、芳香族溶劑、鹵代烴溶劑、酮溶劑、酮-醇溶劑、醚溶劑和酯溶劑。溶劑的具體實例包括普通有機溶劑，例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苯 甲醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁 酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯或甲苯。這些溶劑可以單獨使用或者以其兩種以上的混合物使用。當(dāng)溶劑被混合時，使用 的溶劑可以是任何一種溶劑，只要混合溶劑能夠溶解粘合劑樹脂即可。當(dāng)制備底涂層形成用涂布液時，作為分散無機顆粒的方法，可以使用利用如輥磨 機、球磨機、振動球磨機、磨碎機、砂磨機、膠體磨或涂料混合機等的公知的方法。作為用于設(shè)置底涂層1的涂布方法，可使用諸如刮刀涂布法、繞線棒涂布法、噴涂 法、浸漬涂布法、刮槽涂布法(bead coating method)、氣刀涂布法或幕涂法等常規(guī)方法。通過使用由此獲得的底涂層形成用涂布液，在導(dǎo)電性基體上形成底涂層1。底涂層1的維氏硬度優(yōu)選為35以上。此外，底涂層1的厚度可以任意設(shè)定，只要能夠獲得所需特性即可。然而，底涂層 1的厚度優(yōu)選設(shè)定為15 μ m以上，更優(yōu)選為15 μ m 50 μ m。當(dāng)?shù)淄繉?的厚度小于15 μ m時，可能無法獲得充分的耐漏電性。另一方面，當(dāng)其 厚度大于50 μ m時，在長期使用后容易留下殘留電位，從而容易造成圖像濃度異常。從抑制出現(xiàn)波紋圖像的角度考慮，相對于曝光用激光波長λ，可以將底涂層1的表面粗糙度(10點平均表面粗糙度)調(diào)節(jié)為1/4ΧηΧ λ (η 上層的折射率) 1/2ΧηΧ λ。可以向底涂層1中加入樹脂顆粒，以控制表面粗糙度。作為樹脂顆粒，可以使用有 機硅樹脂顆?；蛘呓?jīng)交聯(lián)的聚甲基丙烯酸甲酯樹脂顆粒。底涂層1優(yōu)選包含粘合劑樹脂和作為無機顆粒的導(dǎo)電性金屬氧化物，并且在厚 度為20 μ m時，相對于波長為950nm的光，具有40 %以下(優(yōu)選為10 % 35 %，更優(yōu)選為 15% 30% )的光透射率。 底涂層1的光透射率如下測量。將底涂層形成用涂布液涂布在玻璃板上，以使其 干燥厚度可為20μπι，然后進行干燥，繼之以使用分光光度計測量獲得的膜對波長為950nm 的光的光透射率。使用光度計測量光透射率時，使用SPECTROPHOTOMETER(U-2000)(商品 名，由日立株式會社制造)作為分光光度計。在通過用于制備底涂層形成用涂布液的輥磨機、球磨機、振動球磨機、磨碎機、砂 磨機、膠體磨或涂料混合機分散無機顆粒時，可以通過調(diào)節(jié)分散時間來控制底涂層的光透 射率。分散時間不受特別限制，可設(shè)定為任意時間，優(yōu)選為5分鐘 1000小時，更優(yōu)選為30 分鐘 10小時。分散時間被設(shè)定得越長，光透射率越傾向于降低?？梢詫Φ淄繉拥谋砻孢M行研磨，以調(diào)整表面粗糙度。研磨方法的實例包括軟皮(buff)研磨法、噴砂法、濕式珩磨法和磨削法等。通過將涂布在導(dǎo)電性基體4上的底涂層形成用涂布液干燥，可以獲得底涂層1。底 涂層形成用涂布液通常在能夠蒸發(fā)溶劑且能夠形成膜的溫度干燥。<電荷生成層>電荷生成層2是含有電荷生成材料和粘合劑樹脂的層。電荷生成材料的實例包括偶氮顏料，例如雙偶氮顏料或三偶氮顏料；稠環(huán)芳香 族顏料，例如二溴蒽嵌蒽醌(dibromoantanthrone)；茈顏料；吡咯并吡咯顏料；酞菁顏料； 氧化鋅；和三方硒。其中，為響應(yīng)近紅外激光曝光，優(yōu)選使用金屬酞菁顏料和無金屬酞菁 顏料作為電荷生成材料。特別是，優(yōu)選日本特開平05-263007號公報和特開平05-279591 號公報所披露的羥基鎵酞菁、日本特開平05-98181號公報所披露的氯鎵酞菁、日本特開 平05-140472號公報和特開平05-140473號公報所披露的二氯錫酞菁以及日本特開平 04-189873號公報所披露的鈦氧基酞菁。此外，為響應(yīng)近紫外激光曝光，優(yōu)選使用諸如二 溴蒽嵌蒽醌等稠環(huán)芳香族顏料、硫靛顏料、紫菜嗪化合物、氧化鋅或三方硒作為電荷生成材 料。作為電荷生成材料，在使用曝光波長為380nm 500nm的光源的情況下，無機顏料 是優(yōu)選的；在使用曝光波長為700nm SOOnm的光源的情況下，金屬酞菁顏料和無金屬酞菁 顏料是優(yōu)選的。作為電荷生成材料，優(yōu)選使用在eoonm 900nm波長范圍的分光吸收光譜中在 SlOnm 839nm的范圍內(nèi)具有最大峰波長的羥基鎵酞菁顏料。該羥基鎵酞菁顏料不同于以 往的V型羥基鎵酞菁顏料，并因具有更優(yōu)異的分散性而優(yōu)選。這樣，與以往的V型羥基鎵酞 菁顏料相比，分光吸收光譜的最大峰波長向短波長側(cè)偏移，此時獲得了其顏料顆粒的晶體 排列得到適當(dāng)控制的微細羥基鎵酞菁顏料。將該羥基鎵酞菁顏料用作電子照相感光體材料 時，可以獲得優(yōu)異的分散性、足夠的感光度、帶電性和暗衰減特性。在SlOnm 839nm范圍內(nèi)具有最大峰波長的羥基鎵酞菁顏料優(yōu)選具有特定范圍的平均粒徑和特定范圍的BET比表面積。具體地說，平均粒徑優(yōu)選是0. 20 μ η以下，更優(yōu)選是 0.01μπι 0. 15 μ m。BET比表面積優(yōu)選為45m2/以上，更優(yōu)選為50m2/g以上，特別優(yōu)選為 55m2/g 120m2/g。所述平均粒徑是體積平均粒徑(d50平均粒徑)，其值通過激光衍射散射 型粒徑分布分析儀(LA-700 商品名，由堀場制作所制造)測量。BET比表面積是使用BET 比表面積分析儀(商品名FLOWSORB 112300，由島津制作所制造)通過氮置換法測量的值。當(dāng)平均粒徑大于0. 20 μ m或比表面積小于45m2/g時，顏料顆粒會變粗大，或者形 成顏料顆粒聚集體。將其用作電子照相感光體材料時，諸如分散性、感光度、帶電性和暗衰 減特性等特性容易劣化，導(dǎo)致圖像缺陷的形成。所述羥基鎵酞菁顏料的最大粒徑(一次粒徑的最大值)優(yōu)選為1. 2 μ m以下，更優(yōu) 選為1. 0 μ m以下，進而更優(yōu)選為0. 3 μ m以下。當(dāng)最大粒徑大于上述范圍時，容易產(chǎn)生小黑 點ο從更可靠地抑制因為電子照相感光體暴露于熒光燈等而導(dǎo)致的濃度不均勻性的 發(fā)生的角度考慮，所述羥基鎵酞菁顏料優(yōu)選平均粒徑為0. 2 μ m以下，最大粒徑為1. 2 μ m以 下，比表面積為45m2/g以上。該羥基鎵酞菁顏料優(yōu)選在使用CuK α特性X射線獲得的X射線衍射譜中在布拉格 角(2 θ 士0.2° )7·5°、9.9° ,12. 5° ,16. 3° ,18. 6° ,25. 1° 和 28. 3° 處具有衍射峰。當(dāng)從25°C加熱至400°C時，該羥基鎵酞菁顏料優(yōu)選的熱重量減少率為2.0% 4.0%，更優(yōu)選為2. 5% 3.8%。該熱重量減少率由熱天平等測得。當(dāng)熱重量減少率超過 4.0%時，羥基鎵酞菁顏料中所含的雜質(zhì)會對電子照相感光體產(chǎn)生不利影響，可能導(dǎo)致感光 度特性、反復(fù)使用時的電位穩(wěn)定性和圖像品質(zhì)劣化。另一方面，當(dāng)熱重量減少率小于2. 0% 時，感光度容易降低。據(jù)認為，其原因在于，羥基鎵酞菁顏料與晶體中所含少量溶劑分子相 互作用，從而表現(xiàn)出增感作用。當(dāng)使用該羥基鎵酞菁顏料作為電子照相感光體的電荷生成材料時，特別有利的 是，感光體可以獲得最佳的感光度和優(yōu)異的光電特性，而且該羥基鎵酞菁在感光層所含的 粘合劑樹脂中的分散性極佳，因而可獲得優(yōu)異的圖像品質(zhì)特性。目前已知的是，在對該羥基鎵酞菁顏料的平均粒徑和BET比表面積做出限定后， 可以抑制初期的霧化或黑點的產(chǎn)生。但仍然存在下述問題，即，更長期的使用會引起霧化或 黑點。如果將上述羥基鎵酞菁顏料與下述預(yù)定的最外表面層(最外表面層由組合物的固化 物構(gòu)成，所述組合物包含由式(I)表示的化合物和具有電荷輸送性和偶氮基的化合物)組 合，則可以抑制因長時期使用所導(dǎo)致的霧化或黑點，而這正是以往的保護層和電荷生成層 組合中所存在的問題。據(jù)認為，通過使用最外表面層，可以抑制因長時期使用而導(dǎo)致的膜磨 損和帶電性劣化的發(fā)生。此外，在減少電荷輸送層的厚度以改善電特性(降低殘留電位) 時，也可以抑制以往的感光體中會產(chǎn)生的霧化或黑點。電荷生成層2中所使用的粘合劑樹脂選自廣泛的絕緣性樹脂，并可以選自有機光 導(dǎo)電性聚合物，例如聚-N-乙烯基咔唑樹脂類、聚乙烯基蒽樹脂類、聚乙烯基芘樹脂類或聚 硅烷。優(yōu)選的粘合劑樹脂的優(yōu)選實例包括聚乙烯醇縮丁醛樹脂類、聚芳酯樹脂類(雙酚和 芳香族二元羧酸的縮聚物)、聚碳酸酯樹脂類、聚酯樹脂類、苯氧基樹脂類、氯乙烯_乙酸乙 烯酯共聚物樹脂類、聚酰胺樹脂類、丙烯酸類樹脂、聚丙烯酰胺樹脂類、聚乙烯基吡啶樹脂 類、纖維素樹脂類、氨基甲酸酯樹脂類、環(huán)氧樹脂類、酪蛋白、聚乙烯醇樹脂類和聚乙烯基吡咯烷酮樹脂類。這些粘合劑樹脂可以單獨使用或者以其兩種以上的混合物使用。電荷生成 材料與粘合劑樹脂的混合比率按重量比計優(yōu)選為10/1 1/10。此處的術(shù)語“絕緣性”是指 體積電阻率為IO13Qcm以上。電荷生成層2可通過使用電荷生成層形成用涂布液來形成，在所述涂布液中，電 荷生成材料與粘合劑樹脂溶解在預(yù)定溶劑中。用于分散的溶劑的實例包括甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纖劑、乙 基溶 纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、 氯仿、氯苯和甲苯。這些溶劑可以單獨使用或者以其兩種以上的混合物使用。作為在溶劑中分散電荷生成材料和粘合劑樹脂的方法，可以使用標(biāo)準(zhǔn)分散法，例 如球磨機分散法、磨碎機分散法或者砂磨機分散法。通過使用所述分散方法，可抑制電荷生 成材料的晶體結(jié)構(gòu)因分散而引起變化。分散時，有效的是將電荷生成材料的平均粒徑設(shè)定為0. 5μπι以下，優(yōu)選為0. 3μπι 以下，更優(yōu)選為0. 15 μ m以下。形成電荷生成層2時，可以使用標(biāo)準(zhǔn)的涂布方法，例如刮刀涂布法、Meyer棒涂布 法、噴涂法、浸漬涂布法、刮槽涂布法、氣刀涂布法或幕涂法。由此獲得的電荷生成層2的膜厚優(yōu)選是0. 1 μ m 5. 0 μ m，更優(yōu)選是0. 2 μ m 2. 0 μ m0〈電荷輸送層〉電荷輸送層3通過包含電荷輸送材料和粘合劑樹脂，或者通過包含高分子電荷輸 送材料而形成。電荷輸送材料的實例包括電子輸送性化合物，例如醌類化合物，如對苯醌、氯醌、 溴醌或蒽醌、四氰基苯醌二甲烷化合物，芴酮類化合物，如2，4，7-三硝基芴酮，咕噸類化合 物，二苯甲酮類化合物，氰基乙烯基化合物和乙烯類化合物；和空穴輸送性化合物，例如三 芳基胺類化合物、聯(lián)苯胺類化合物、芳基烷烴類化合物、芳基取代的乙烯類化合物、芪類化 合物、蒽類化合物和腙類化合物。這些電荷輸送材料可以單獨使用，或者以其兩種以上的混 合物使用，但并不限于此。作為電荷輸送材料，從電荷遷移率的角度考慮，優(yōu)選由下示結(jié)構(gòu)式(a-Ι)表示的 三芳基胺衍生物和由下示結(jié)構(gòu)式(a_2)表示的聯(lián)苯胺衍生物。
Ar01 —
(a-1)
Ar02 vj^(R)3I在結(jié)構(gòu)式(a-1)中，R1表示氫原子或甲基。al表示1或2。Artl1和Artl2各自獨立 地表示具有取代基的或不具有取代基的芳基、-C6H4-C(Ra) = C(R3) (R4)或-C6H4-CH = CH-CH =C(R5) (R6)，R2 R6各自獨立地表示氫原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或者具 有取代基的或不具有取代基的芳基。其中，各基團的取代基的實例包括鹵原子、具有1 5個碳原子的烷基、具有1 5個碳原子的烷氧基或取代有具有1 3個碳原子的烷基的取代氨基。 在結(jié)構(gòu)式(a-2)中，R7和R7’各自獨立地表示氫原子、鹵原子、具有1 5個碳原 子的烷基或具有1 5個碳原子的烷氧基。R8、R8’、R9和R9各自獨立地表示氫原子、鹵原 子、具有1 5個碳原子的烷基、具有1 5個碳原子的烷氧基、取代有具有1個或2個碳 原子的烷基的氨基、具有取代基的或不具有取代基的芳基、-C(R10) = C(Rn) (R12)或-CH = CH-CH = C(R13) (Rm)，R10 R14各自獨立地表示氫原子、具有取代基的或不具有取代基的烷 基或者具有取代基的或不具有取代基的芳基。a2和a3各自獨立地表示0 2的整數(shù)。其中，在由結(jié)構(gòu)式(a-Ι)表示的三芳基胺衍生物和由結(jié)構(gòu)式(a_2)表示的聯(lián)苯胺 衍生物中，特別是，從電荷遷移率、對保護層的粘附性和在前圖像滯后時所產(chǎn)生的殘像(下 文有時也稱為“重影”)的角度考慮，具有"-C6H4-CH = CH-CH = C(R5) (R6)，，的三芳基胺衍 生物和具有“-CH = CH-CH = C(R13) (R14)，，的聯(lián)苯胺衍生物是優(yōu)異的，并且優(yōu)選。電荷輸送層3中所用的粘合劑樹脂的實例包括聚碳酸酯樹脂類、聚酯樹脂類、聚 芳脂樹脂類、甲基丙烯酸類樹脂、丙烯酸類樹脂、聚氯乙烯樹脂類、聚偏二氯乙烯樹脂類、聚 苯乙烯樹脂類、聚乙酸乙烯酯樹脂類、苯乙烯_ 丁二烯共聚物樹脂類、偏二氯乙烯_丙烯腈 共聚物樹脂類、氯乙烯_乙酸乙烯酯共聚物樹脂類、氯乙烯_乙酸乙烯酯_馬來酸酐共聚 物樹脂類、有機硅樹脂類、硅酮_醇酸樹脂類、苯酚_甲醛樹脂類、苯乙烯_醇酸樹脂類、 聚-N-乙烯基咔唑樹脂類和聚硅烷。這些粘合劑樹脂可以單獨使用或者以其兩種以上的混 合物使用。電荷輸送材料與粘合劑樹脂的混合比率按重量比計優(yōu)選是10/1 1/5。粘合劑樹脂不受特別限制。不過，優(yōu)選粘度平均分子量為50000 80000的聚碳 酸酯樹脂和粘度平均分子量為50000 80000的聚芳酯樹脂中的至少一種樹脂，因為容易 獲得優(yōu)異的膜?？梢允褂酶叻肿与姾奢斔筒牧献鳛殡姾奢斔筒牧稀Ｗ鳛楦叻肿与姾奢斔筒牧?，可 以使用具有電荷輸送性的公知的電荷輸送材料，例如聚-N-乙烯基咔唑或聚硅烷。特別是， 特別優(yōu)選日本特開平08-176293號公報和日本特開平08-208820號公報中披露的聚酯電荷 輸送材料，因為它們與其它物種相比具有較高的電荷輸送性。高分子電荷輸送材料可以自 身形成膜，也可以通過與上述粘合劑樹脂混合形成膜。使用含有上述組成材料的電荷輸送層形成用涂布液形成電荷輸送層3。用于電荷輸送層形成用涂布液的溶劑的實例包括普通有機溶劑，例如，如苯、甲 苯、二甲苯或氯苯等芳香烴，如丙酮或2-丁酮等酮類，如二氯甲烷、氯仿或氯化乙烯等鹵代 脂肪烴，以及如四氫呋喃或乙醚等環(huán)式或直鏈的醚類。這些溶劑可以單獨使用或者以其兩 種以上的混合物使用。作為分散上述各組成材料的方法，可以使用公知的方法。作為在將電荷輸送層形成用涂布液涂布在電荷生成層2上時的涂布方法，可使用 諸如刮刀涂布法、Meyer棒涂布法、噴涂法、浸漬涂布法、刮槽涂布法、氣刀涂布法或幕涂法等普通方法。電荷輸送層3的膜厚優(yōu)選是5 μ m 50 μ m，更優(yōu)選是10 μ m 30 μ m。〈保護層〉保護層5是用作電子照相感光體7A的最外表面層的層，形成保護層5可以為最外 表面賦予對磨損或刮傷的耐受性，并可提高調(diào)色劑的轉(zhuǎn)印效率。由于保護層5是最外表面層，因此其為由下述組合物的固化物制成的層，所述組 合物包含至少一種由如下所示的式(I)表示的化合物和至少一種具有電荷輸送性和偶氮 基的化合物。 在式(I)中，F(xiàn)表示具有空穴輸送性的η價有機基團，R表示氫原子或烷基，L表示 二價有機基團，η表示大于或等于1的整數(shù)，并且j表示0或1。(由式(I)表示的化合物)首先描述由式⑴表示的化合物。式(I)中的F表示具有η價的有機基團和具有空穴輸送性的η價有機基團。作為 有機基團，可舉出衍生自芳基胺衍生物的有機基團，即，通過從芳基胺衍生物中脫去η個氫 原子而獲得的有機基團。在芳基胺衍生物中，優(yōu)選衍生自諸如三苯基胺衍生物或四苯基聯(lián) 苯胺衍生物等芳基胺衍生物的η價有機基團。接下來，式(I)中的η表示大于或等于1的整數(shù)。然而，從提高交聯(lián)密度和由此獲 得更高強度的交聯(lián)膜(固化物)的角度考慮，η優(yōu)選大于或等于2，更優(yōu)選大于或等于4。從 涂布液的穩(wěn)定性和電特性的角度考慮，η的上限值優(yōu)選為20，更優(yōu)選為10。將η設(shè)定在上述優(yōu)選范圍內(nèi)后，特別是，當(dāng)使用刮刀清潔器時可減少電子照相感 光體的旋轉(zhuǎn)扭矩；因此，可以抑制發(fā)生對刮刀的損傷和電子照相感光體的磨損。其原因的具 體情況尚不清楚。然而，據(jù)推測，當(dāng)反應(yīng)性官能團的數(shù)目增加時，可以獲得具有高交聯(lián)密度 的固化膜，由此會抑制電子照相感光體的極表面的分子運動，從而減弱與刮刀部件的表面 上的分子之間的相互作用。此外，式(I)中的R表示氫原子或烷基。作為烷基，優(yōu)選具有1 5個碳原子的直 鏈或支化的烷基。其中，R優(yōu)選為甲基。S卩，在由式(I)表示的化合物中，括號中的取代基的端基優(yōu) 選是甲基丙烯酰氧基。雖然其原因尚不清楚，但是本發(fā)明人推測如下。通常，會將高反應(yīng)性的丙烯?；糜诠袒磻?yīng)。然而，據(jù)認為，當(dāng)使用高反應(yīng)性的 丙烯?；鳛槿缡?I)表示的化合物這樣的大體積電荷輸送材料的取代基時，容易發(fā)生不 均一的固化反應(yīng)，結(jié)果形成微觀(或宏觀)的海島結(jié)構(gòu)。在電子領(lǐng)域以外的其它領(lǐng)域，這樣 的海島結(jié)構(gòu)不會成為特別的問題。但是，當(dāng)將海島結(jié)構(gòu)用于電子照相感光體時則會產(chǎn)生問 題，例如其最外表面層不均勻或褶皺或者濃度不均勻。因此，R優(yōu)選是甲基。
據(jù)認為，當(dāng)多個官能團連接在一個電荷輸送結(jié)構(gòu)(式(I)中的F)上時，海島結(jié)構(gòu) 的形成特別顯著。此外，式(I)中的L表示二價有機基團。作為二價有機基團，優(yōu)選包含具有2個以 上碳原子的亞烷基的有機基團。此外，從電特性和機械強度的角度考慮，j優(yōu)選是1。優(yōu)選 這種結(jié)構(gòu)的原因尚不清楚。然而，本發(fā)明人推測如下。S卩，據(jù)認為，在類似于由式(I)表示的化合物使自由基聚合性取代基發(fā)生聚合時， 若聚合中產(chǎn)生的自由基具有容易移動至電荷輸送結(jié)構(gòu)中的F(式(I)中的F)的結(jié)構(gòu)，則產(chǎn) 生的自由基會使電荷輸送功能劣化，從而導(dǎo)致電特性劣化。此外，關(guān)于機械強度，據(jù)認為，當(dāng) 大體積電荷輸送結(jié)構(gòu)與聚合性部位彼此位置靠近并且呈剛性時，聚合性部位將難以相互移 動，從而導(dǎo)致反應(yīng)幾率顯著下降。根據(jù)這些原因，認為 優(yōu)選的是L包含具有兩個以上碳原子 的亞烷基并且j是1。此處，當(dāng)L是包含具有2個以上碳原子的亞烷基的有機基團時，該有機基團可以僅 由具有2個以上碳原子的亞烷基構(gòu)成，也可以由具有2個以上碳原子的亞烷基與諸如亞烯 基、亞炔基、醚、硫醚、酯或亞芳基(例如亞苯基)等二價基團的組合構(gòu)成。從機械強度的角 度考慮，所述亞烷基的碳原子數(shù)的上限值優(yōu)選是20，更優(yōu)選是10。由式(I)表示的化合物優(yōu)選是由如下所示的式(II)表示的化合物。由式(II)表示的化合物特別是在對電荷遷移率和氧化的穩(wěn)定性方面非常優(yōu)異。 其中，在式(II)中，Ar1 Ar4各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳 基，Ar5表示具有取代基的或不具有取代基的芳基，或具有取代基的或不具有取代基的亞芳 基，D表示-(L) j-O-CO-C (R) = CH2, L表示二價有機基團，j表示0或1，五個c各自獨立地 表示0或1，k表示0或1，并且D的總數(shù)大于或等于1。此外，R表示氫原子或具有1 5 個碳原子的直鏈或支化的烷基。式(II)中D的總數(shù)對應(yīng)于式(I)中的n，從如上所述的提高交聯(lián)密度和能夠獲得 機械強度更高的交聯(lián)膜(固化物)的角度考慮，D的總數(shù)優(yōu)選大于或等于2，更優(yōu)選大于或 等于4。如上所述，R優(yōu)選是甲基。在式(II)中，Ar1 Ar4各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳基。 Ar1 Ar4可以彼此相同或彼此不同。此處，除了 D ^(L)j-O-CO-C(R) = CH2之外，作為具有取代基的芳基中的取代基，可 以舉出具有1 4個碳原子的烷基、具有1 4個碳原子的烷氧基、取代有具有1 4個碳 原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7 10個碳原子的芳烷基和鹵原子。
Ar1 Ar4各自優(yōu)選下示結(jié)構(gòu)式(1) (7)中的任一種。下示結(jié)構(gòu)式(1) (7) 是與可以和各Ar1 Ar4相連的“-⑶?！?一起顯示的。此處，“_(D)C”具有與式(II)中的 “-(D)?！毕嗤暮x，并且優(yōu)選實例也與式(II)的優(yōu)選實例相似。 在結(jié)構(gòu)式⑴中，Rtl1表示選自由以下基團組成的組中的一種基團氫原子、具有 1 4個碳原子的烷基、取代有具有1 4個碳原子的烷基的苯基或取代有具有1 4個碳 原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基和具有7 10個碳原子的芳烷基。在結(jié)構(gòu)式(2)和(3)中，R°2 R°4各自獨立地表示選自由以下基團組成的組中的 一種基團氫原子、具有1 4個碳原子的烷基、具有1 4個碳原子的烷氧基、取代有具有 1 4個碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7 10個碳原子的芳烷基和鹵 原子。此外，m表示1 3的整數(shù)。在結(jié)構(gòu)式(7)中，Ar表示具有取代基的或不具有取代基的亞芳基。此處，式(7)中的Ar優(yōu)選由下示結(jié)構(gòu)式⑶或(9)表示。 在結(jié)構(gòu)式⑶和(9)中，R°5和R°6各自獨立地表示選自由以下基團組成的組中的 一種基團氫原子、具有1 4個碳原子的烷基、具有1 4個碳原子的烷氧基、取代有具有 1 4個碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7 10個碳原子的芳烷基和鹵 原子。此外，q各自表示1 3的整數(shù)。在結(jié)構(gòu)式(7)中，τ,表示二價有機連接基團，并且優(yōu)選是由下示結(jié)構(gòu)式(10) (17)中任一結(jié)構(gòu)式所表示的基團。此外，ρ表示0或1。 在結(jié)構(gòu)式(10) (17)中，R°7和R°8各自獨立地表示選自由以下基團組成的組中 的一種基團氫原子、具有1 4個碳原子的烷基、具有1 4個碳原子的烷氧基、取代有具 有1 4個碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7 10個碳原子的芳烷基 和鹵原子；W表示二價基團，r和s各自獨立地表示1 10的整數(shù)，t各自表示1 3的整 數(shù)。此外，結(jié)構(gòu)式(16) (17)中的W優(yōu)選是由(18) (26)表示的二價基團中的任 一種。然而，在式(25)中，u表示O 3的整數(shù)。 在式(II)中，當(dāng)k為0時，Ar5是具有取代基的或不具有取代基的芳基，并且，作為 該芳基，可以舉出與在Ar1 Ar4的描述中所列舉的芳基相似的芳基。當(dāng)k為1時，Ar5是 具有取代基的或不具有取代基的亞芳基，并且，作為該亞芳基，可以舉出通過將從Ar1 Ar4 的描述中所列舉的芳基中脫去預(yù)定位置上的一個氫原子而獲得的亞芳基。下面將顯示由式(I)表示的化合物的具體實例。由式(I)表示的化合物并非完全 限于這些實例。首先顯示的是當(dāng)式(I)中的η是1時的具體實例(化合物i_l i-13)，其不限于 這些實例。
接下來，顯示的是當(dāng)式(I)中的η是2時的具體實例(化合物ii_l ii_23)，其 不限于這些實例。
27 接著，顯示的是當(dāng)式(I)中的η是3時的具體實例(化合物iii_l iii_ll)，其 不限于這些實例。
然后，顯示的是當(dāng)式(I)中的n是4時的具體實例(化合物iv-1 iv-18)、當(dāng)式 (I)中的n是5時的具體實例(化合物v-1)和當(dāng)式(I)中的n是6時的具體實例(化合物 vi-1 vi-2)。

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在化合物i-1 vi-2中，Me表示甲基，Pr表示正丙基，Bu表示正丁基。當(dāng)描述了 單鍵的結(jié)合部位而未描述端部的取代基時，該取代基是甲基。此外，當(dāng)描述了雙鍵的結(jié)合部 位而未描述端部的取代基時，該取代基是=CH2基?？梢砸耘c下述的化合物iv-4的合成路線和化合物iv-17的合成路線基本相似的 方式，合成當(dāng)式(I)中的n大于或等于4時的化合物。下面將顯示化合物iv-4的合成路線和化合物iv-17的合成路線，將其作為當(dāng)式 (I)中的n大于或等于4時的化合物的合成的實例。在下示合成路線中，Me表示甲基。當(dāng)描述了單鍵的結(jié)合部位而未描述端部的取代 基時，端部的取代基是甲基。此外，當(dāng)描述了雙鍵的結(jié)合部位而未描述端部的取代基時，取 代基是=CH2基。
在本發(fā)明的示例性實施方式中，如上所述，作為由式(I)表示的化合物，優(yōu)選使用 η大于或等于2的化合物，更優(yōu)選使用η大于或等于4的化合物。作為由式⑴表示的化合物，可以將η大于或等于4的化合物和η是1 3的化 合物一起使用。當(dāng)將其一起使用時，固化物的機械強度可以得到控制，同時不會使電荷輸送 性劣化。當(dāng)將η大于或等于4的化合物和η是1 3的化合物一起用作由式⑴表示的化 合物時，相對于由式(I)表示的化合物的總含量，η大于或等于4的化合物的含量優(yōu)選為5重量％以上，更優(yōu)選為20重量％以上。相對于形成保護層5時所用的組合物，由式(I)表示的化合物的總含量優(yōu)選為10重量％以上，更優(yōu)選為20重量％以上，進而更優(yōu)選為30重量％ (大約30重量％)以上。在將總含量設(shè)定在此范圍內(nèi)時，可以獲得電特性優(yōu)異的厚固化物。在示例性實施方式中，可以將由式(I)表示的化合物和不具有反應(yīng)性基團的公知 的電荷輸送材料一起使用。不具有反應(yīng)性基團的公知的電荷輸送材料不具有承擔(dān)電荷輸送 的反應(yīng)性基團，因此，所以可實質(zhì)上提高電荷輸送材料的成分濃度，由此進一步有效地改善 電特性。所述公知的電荷輸送材料的實例包括如上所述的構(gòu)成電荷輸送層3的電荷輸送 材料。(具有電荷輸送性和偶氮基的化合物)下面將描述在本發(fā)明的示例性實施方式中使用的具有電荷輸送性和偶氮基的化 合物。在具有電荷輸送性和偶氮基的化合物中，“具有電荷輸送性的化合物”是指根據(jù)飛 行時間法于其中觀察到載流子輸送的化合物。具體而言，電荷輸送材料的優(yōu)選實例包括電 子輸送性化合物，例如醌類化合物，如對苯醌、氯醌、溴醌或蒽醌，四氰基苯醌二甲烷類化合 物，芴酮類化合物，如2，4，7-三硝基芴酮，咕噸類化合物，二苯甲酮類化合物、氰基乙烯基 化合物和乙烯類化合物；和具有三芳基胺類化合物、聯(lián)苯胺類化合物、芳基烷烴類化合物、 芳基取代的乙烯類化合物、芪類化合物、蒽類化合物或腙類化合物的結(jié)構(gòu)的化合物。從電特 性的穩(wěn)定性、耐久性和與基體的匹配性的角度考慮，特別優(yōu)選具有三芳基胺結(jié)構(gòu)的化合物。至于具有電荷輸送性和偶氮基的化合物的偶氮基，其分子中可以包含至少一個偶 氮基。然而，從與式(I)表示的化合物的初始效率和與該化合物的相容性的角度考慮，優(yōu)選 包含1個或2個偶氮基。在本示例性實施方式中，具有電荷輸送性和偶氮基的化合物優(yōu)選是由下示式(A) 表示的化合物。 在式(A)中，Ar11和Ar12各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳基，并 且X1表示具有芳環(huán)結(jié)構(gòu)的二價烴基或者具有芳環(huán)結(jié)構(gòu)的二價含雜原子的烴基。X2和X3各 自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的亞芳基。L1和L2各自獨立地表示可以包含支 化或環(huán)結(jié)構(gòu)的二價烴基，或者可以包含支化或環(huán)結(jié)構(gòu)的二價含雜原子的烴基。ml和m3各自 獨立地表示0或1，m2表示大于或等于1的數(shù)。R’表示一價烴基或一價含雜原子的烴基。Ar11和Ar12各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳基。然而，優(yōu)選具 有6 16個碳原子的具有取代基的或不具有取代基的芳基。該芳基的具體實例包括苯基、 聯(lián)苯基、萘基和芘基。此外，被引入到芳基中的取代基的實例包括甲基、乙基、甲氧基和鹵原 子。
X1表示具有芳環(huán)結(jié)構(gòu)的二價烴基或者具有芳環(huán)結(jié)構(gòu)的二價含雜原子的烴基。所述 烴基和含雜原子的烴基都優(yōu)選具有6 20個碳原子。含雜原子的烴基中的雜原子的實例 包括氧原子和硫原子。X1的具體實例包括亞苯基、亞聯(lián)苯基、亞三聯(lián)苯基、亞萘基、亞甲基二 苯基、亞環(huán)己基二苯基、氧代二苯基和硫代二苯基。由X1表示的烴基和含雜原子的烴基各 自可以具有取代基，取代基的實例包括甲基、乙基、甲氧基和鹵原子。特別是，從電荷輸送性和化學(xué)穩(wěn)定性角度考慮，X1優(yōu)選是具有取代基的或者不具有取代基的亞聯(lián)苯基，更優(yōu)選是3，3’ -取代的亞聯(lián)苯基。X2和X3各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的亞芳基。然而，優(yōu)選具有 6 18個碳原子的具有取代基的或不具有取代基的亞芳基。亞芳基的具體實例包括亞苯 基、亞聯(lián)苯基、亞三聯(lián)苯基和亞萘基。此外，被引入到亞芳基中的取代基的實例包括甲基、乙 基、甲氧基和鹵原子。L1表示二價烴基或二價含雜原子的烴基。所述烴基和含雜原子的烴基各自可以包 含支化或環(huán)結(jié)構(gòu)，并各自優(yōu)選具有1 20個碳原子。含雜原子的烴基中的雜原子的實例包 括氧原子、硫原子和氮原子。特別是，從機械特性的角度考慮，L1優(yōu)選包含酯鍵并具有20個 以下的碳原子，更優(yōu)選是酯鍵與亞烷基和/或亞苯基的組合。L1的具體實例包括如下。 此外，L2各自獨立地表示二價烴基或二價含雜原子的烴基。所述二價烴基和二價 含雜原子的烴基各自可以包含支化或環(huán)結(jié)構(gòu)，并各自優(yōu)選具有1 20個碳原子。含雜原子 的烴基中的雜原子的實例包括氧原子、硫原子和氮原子。特別是，從電特性和聚合引發(fā)能力 的角度考慮，L2優(yōu)選包含亞烷基或氰基并具有1 20個碳原子。L2的具體實例包括如下。
C R’表示一價烴基或含雜原子的烴基。所述烴基和含雜原子的烴基都優(yōu)選具有1 20個碳原子。特別是，從電特性和聚合引發(fā)能力的角度考慮，R’優(yōu)選在其結(jié)構(gòu)中包含亞烷 基、酯基、氰基或羧基。R’的具體實例包括如下。 ml和m3各自獨立地表示0或1，并且m2表示大于或等于1的數(shù)。從電特性和機械強度的角度考慮，m2優(yōu)選為1 1000，更優(yōu)選為5 500。這樣， 當(dāng)m2大于或等于2且由式(A)表示的化合物為聚合物時，會產(chǎn)生混合物，并且m2表示的是 平均值。下面將顯示由式㈧表示的化合物的具體實例(化合物A-I A-13)，但是由式 (A)表示的化合物不限于這些實例。
例。在下示合成路線中，化合物A-6中的m2是5 100的數(shù)。化合物A-6 由式(A)表示的化合物和由式(I)表示的化合物的適當(dāng)組合如下所示。優(yōu)選具有相似結(jié)構(gòu)的化合物的組合。特別是，優(yōu)選三芳基胺類化合物、聯(lián)苯胺類化合物、芳基烷烴類化合物、芳基取代的乙烯類化合物、芪類化合物、蒽類化合物或腙類化合 物的各種組合。由式(A)表示的化合物可以單獨使用，也可以以多種化合物的混合物使用。由式㈧表示的化合物可以與例如如下所示的熱聚合引發(fā)劑一起使用。 可以一起使用的熱聚合引發(fā)劑不受特別限制。然而，為抑制在形成保護層5時感 光層中的感光材料損壞，10小時半衰期溫度優(yōu)選為40°C 110°C。可以一起使用的市售熱聚合引發(fā)劑的實例包括偶氮類引發(fā)劑，例如V_30(10 小時半衰期溫度104°C )、V-40(10小時半衰期溫度88°C )、V-59(10小時半衰期溫度 670C )、V-601 (10小時半衰期溫度:66°C )、V_65(10小時半衰期溫度:51°C )、V_70(10小 時半衰期溫度30°C )、VF-096(10小時半衰期溫度96°C )、Vam-IlO (10小時半衰期溫度 111 °C )或Vam-111 (10小時半衰期溫度111 °C )(商品名，均由和光純藥工業(yè)社制造)， 或者OTazo-15(10小時半衰期溫度61°C )、0Tazq-30、AIBM(10小時半衰期溫度65°C )、 AMBN(10小時半衰期溫度67°C )、ADVN(10小時半衰期溫度52°C )或ACVA(10小時半衰 期溫度68°C )(商品名，均由大塚化學(xué)社制造)；PERTETRA A、PERHEXA HC、PERHEXA C、 PERHEXA V、PERHEXA 22、PERHEXA MC、PERBUTYLH、PERCUMYL H、PERCUMYL P、PERMENTA H、 HPER0CTA H、PERBUTYL C、PERBUTYL D、PERHEXYLD、PERLOYL IB、PERL0YL355、PERLOYL L、 PERLOYL SA、NIPER BW、NIPER BMT-K40/M、PERLOYL IPP, PERLOYL NPP, PERLOYL TCP、 PERLOYL OPP、PERLOYL SBP、PERCUMYL ND、PER0CTA ND、PERHEXYL ND、PERBUTYL ND、 PERBUTYL NHP, PERHEXYL PV、PERBUTYL PV、PERHEXA 250、PER0CTA 0、PERHEXYL 0、 PERBUTYL 0、PERBUTYLL、PERBUTYL 355、PERHEXYL I、PERBUTYL I、PERBUTYL E、PERHEXA 25Z、PERBUTYL A、PERGEXYL Z、PERBUTYL ZT 和 PERBUTYL Z(商品名，均由日油化學(xué)社制 造)；KAYAKETAL AM-C55、TRIG0N0X 36-C75、LAUR0X、PERKAD0X L-W75、PERKAD0XCH-50L、 TRIG0N0X TMBH、KAYACUMEN H、KAYABUTYL H-70、PERKAD0X BC-FF、KAYAHEXA AD、PERKAD0X 14、KAYABUTYL C、KAYABUTYL D,KAYAHEXA YD_E85、PERKAD0X 12_XL25、PERKAD0X 12-EB20、 TRIG0N0X 22-N70、TRIG0N0X 22-70E、TRIG0N0X D-T50、TRIG0N0X 423-C70、KAYAESTER CND-C70、KAYAESTER CND-W50、TRIG0N0X 23-C70、TRIG0N0X 23-W50N、TRIG0N0X 257-C70、 KAYAESTER P-70、KAYASTER TMP0-70、TRIG0N0X 121、KAYAESTER 0、KAYAESTER HTP-65W、 KAYAESTERAN、TRIG0N0X 42、TRIG0N0X F-C50、KAYABUTYL B、KAYACARB0N EH-C70、 KAYACARB0N EH-W60、KAYACARB0NI-20、KAYACARBON BIC-75、TRIGIN0X 117 或 KAYAREN 6-70 (商品名，均由 Kayaku Akzo Corporation.制造)；和 LUPER0X LP (10 小時半衰期 溫度64°C )、LUPER0X 610(10小時半衰期溫度37°C )、LUPER0X188 (10小時半衰期溫 度38°C )、LUPER0X 844(10小時半衰期溫度44°C )、LUPER0X 259(10小時半衰期溫度 460C ) ,LUPER0X 10 (10 小時半衰期溫度48°C )、LUPER0X 701 (10 小時半衰期溫度53°C )、 LUPER0X 11(10 小時半衰期溫度58°C )、LUPER0X 26(10 小時半衰期溫度-JrTC )、LUPER0X 80(10 小時半衰期溫度82°C )、LUPER0X7(10 小時半衰期溫度102°C )、LUPER0X 270(10 小時半衰期溫度102°C )、LUPER0X P (10小時半衰期溫度104°C )、LUPER0X 546(10小 時半衰期溫度46°C )、LUPER0X 554(10小時半衰期溫度55°C )、LUPER0X 575(10小時 半衰期溫度75°C )、LUPER0X TANPO(10小時半衰期溫度96°C )、LUPER0X 555(10小時 半衰期溫度100°C )、LUPER0X 570(10小時半衰期溫度96°C )、LUPER0X TAP(10小時半衰期溫度100°c )、LUPEROX TBIC(10 小時半衰期溫度99°C )、LUPEROX TBEC(10 小時半 衰期溫度100°C )、LUPEROX Jff (10小時半衰期溫度100°C )、LUPEROX TAIC(10小時半 衰期溫度96°C )、LUPEROX TAEC (10小時半衰期溫度99°C )、LUPEROX DC (10小時半衰 期溫度117°C )、LUPEROX 101(10小時半衰期溫度120°C )、LUPEROX F(10小時半衰期 溫度116°C )、LUPEROX DI (10小時半衰期溫度129°C )、LUPEROX 130(10小時半衰期溫 度:131°C )、LUPER0X220(10小時半衰期溫度107 °C )、LUPEROX 230(10小時半衰期溫度 1090C )、LUPEROX 233(10小時半衰期溫度114°C )和LUPEROX 531 (10小時半衰期溫度 930C )(商品名，均由 ArkemaYoshitomi Ltd.制造)。相對于組合物中的反應(yīng)性化合物(由式(I)表示的化合物和其它單體和低聚物)，由式(A)表示的化合物的含量優(yōu)選為0.01重量％ 1000重量％，更優(yōu)選為1重量％ 500 重量％，進而更優(yōu)選為2重量％ (或大約2重量％) 200重量％ (或大約200重量％ )。當(dāng)由式(A)表示的化合物和例如如上所述的熱聚合引發(fā)劑一起使用時，相對于 組合物中的反應(yīng)性化合物(由式(I)表示的化合物和其它單體或低聚物)，其總量優(yōu)選為 0. 01重量％ 10重量％，更優(yōu)選為0. 05重量％ 5重量％，進而更優(yōu)選為0. 1重量％ 2 重量％。下面將描述構(gòu)成用于形成保護層5的組合物的其它組分。為了控制組合物的粘度、膜的機械強度、柔性、平滑性和清潔性，除了由式(I)表 示的化合物和具有電荷輸送性和偶氮基的化合物之外，還可以向該組合物中加入不具有電 荷輸送性的自由基聚合性單體或低聚物。單宮能的自由基聚合性單體的實例包括丙烯酸異丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸異 辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸環(huán)己酯、丙烯酸-2-甲氧基 乙酯、丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、丙烯酸-2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氫糠基酯、丙烯酸苯甲 酯、丙烯酸乙基卡必醇酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸-2-羥基乙酯、丙烯酸-2-羥基丙酯、 丙烯酸-4-羥基丁酯、丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、丙烯酸苯 氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、丙烯酸羥乙基鄰苯基苯酚酯和丙烯酸鄰 苯基苯酚縮水甘油醚酯。雙官能的自由基聚合性單體的實例包括1，4_ 丁二醇二丙烯酸酯、1，6_己二醇二 丙烯酸酯、1，9_壬二醇二丙烯酸酯、2-正丁基-2-乙基-1，3-丙二醇二丙烯酸酯、三丙二 醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、二氧己環(huán)二醇二丙烯酸酯、聚四亞甲基二醇二丙烯酸 酯、乙氧基化雙酚A 二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A 二甲基丙烯酸酯、三環(huán)癸烷甲醇二丙烯酸 酯和三環(huán)癸烷甲醇二甲基丙烯酸酯。三官能或更多官能的自由基聚合性單體的實例包括三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三 羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、丙烯酸季戊四醇酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯EO加合物、丙 三醇三丙烯酸酯PO加合物、磷酸三丙烯酰氧基乙基酯、季戊四醇四丙烯酸酯和乙氧基化異 氰脲酸三丙烯酸酯。自由基聚合性低聚物的實例包括環(huán)氧_丙烯酸酯低聚物、氨基甲酸酯_丙烯酸酯 低聚物和聚酯_丙烯酸酯低聚物。相對于組合物的總固體含量，不具有電荷輸送性的自由基聚合性單體或低聚物的 含量優(yōu)選是0 50重量％，更優(yōu)選是0 40重量％，進而更優(yōu)選是0 30重量％。
可以向用于形成保護層5的組合物中加入表面活性劑，以改善成膜性。作為表面活性劑，可以舉出包含至少一種下述結(jié)構(gòu)的表面活性劑通過聚合具有 氟原子的丙烯酸類單體獲得的結(jié)構(gòu)、具有碳-碳雙鍵和氟原子的結(jié)構(gòu)、氧化亞烷基結(jié)構(gòu)和 分子中具有碳_碳三鍵和羥基的結(jié)構(gòu)。
相對于組合物的固體含量，表面活性劑的含量優(yōu)選為0. 001重量％ 10重量％， 更優(yōu)選為0.01重量％ 5重量％。為了抑制對放電產(chǎn)生的氣體的過量吸收，從而有效抑制因產(chǎn)生的氣體而導(dǎo)致的氧 化的發(fā)生，在用于形成保護層5的組合物中，可以加入另一種熱固性樹脂，例如酚醛樹脂 類、三聚氰胺樹脂類或苯胍胺樹脂類。此外，出于調(diào)節(jié)膜的成膜性、柔性、潤滑性或粘附性等的目的，還可以進一步向用 于形成保護層5的組合物中添加偶聯(lián)劑、硬涂布劑或含氟化合物。添加劑的具體實例包括 各種硅烷偶聯(lián)劑和市售的硅酮硬涂布劑。硅烷偶聯(lián)劑的實例包括乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧 基硅烷、Y-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、Y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅 烷、Y-氨丙基三乙氧基硅烷、Y-氨丙基三甲氧基硅烷、Y-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、 Ν_β _(氨乙基)_ Y -氨丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷和二甲基二 甲氧基硅烷。市售硬涂布劑的實例包括ΚΡ-85、Χ-40-9740和Χ-8239 (商品名，均由Shin-Etsu Silicone Co. ,Ltd.制造)和 AY42_440、AY42_441 和 AY49-208 (商品名，均由 Dow Corning Toray Co.，Ltd.制造)。此外，為了賦予斥水性，可以添加含氟化合物，例如(十三氟-1，1，2，2-四氫辛基) 三甲氧基硅烷、(3,3,3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、3-(七氟異丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、 1H，1H，2H，2H-全氟烷基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟癸基三乙氧基硅烷或1H，1H，2H， 2H-全氟辛基三乙氧基硅烷。硅烷偶聯(lián)劑可以以任意量使用。然而，含氟化合物的量優(yōu)選設(shè)定為不含氟的化合 物的0. 25倍以下。當(dāng)用量大于上述范圍時，交聯(lián)膜的成膜性可能會產(chǎn)生問題。此外，可以向用于形成保護層5的組合物中添加熱塑性樹脂，以改善保護層對放 電氣體的耐受性、機械強度和耐刮擦性，減少扭矩，控制磨損量，延長貯存壽命和控制顆粒 的分散性和粘度。該熱塑性樹脂的實例包括諸如聚乙烯醇縮丁醛樹脂類、聚乙烯醇縮甲醛樹脂類 或部分乙?；木垡蚁┐伎s醛樹脂類(其中丁縮醛被甲縮醛或乙酰乙縮醛部分改性)等聚 乙烯醇縮醛樹脂類(例如S-LEC B，K等(商品名，由積水化學(xué)社制造))、聚酰胺樹脂類、纖 維素樹脂類和聚乙烯基苯酚樹脂類?？紤]到電特性，優(yōu)選聚乙烯醇縮醛樹脂類和聚乙烯基 苯酚樹脂類。該樹脂的重均分子量優(yōu)選是2，000 100，000,更優(yōu)選是5，000 50，000。當(dāng) 該樹脂的分子量小于2，000時，樹脂添加效果傾向于不足。另一方面，當(dāng)該樹脂的分子量超 過100,000時，溶解度下降，傾向于導(dǎo)致添加量受限，并會在涂布過程中引起成膜缺陷。該 樹脂的添加量優(yōu)選是1重量％ 40重量％，更優(yōu)選是1重量％ 30重量％，進而更優(yōu)選是 5重量％ 20重量％。當(dāng)該樹脂的添加量小于1重量％時，樹脂添加效果傾向于不足。另 一方面，當(dāng)其添加量超過40重量％時，在高溫高濕環(huán)境(例如，28°C和85%冊(相對濕度))下容易出現(xiàn)圖像模糊。在用于形成保護層5的組合物中，優(yōu)選添加抗氧化劑，以抑制保護層被充電單元 所產(chǎn)生的諸如臭氧等氧化性氣體劣化。當(dāng)感光體表面的機械強度得到提高，由此使感光體 壽命延長時，感光體將更長時期地與氧化性氣體接觸；因此，耐氧化性需要比以往更強。抗氧化劑優(yōu)選受阻酚抗氧化劑或受阻胺抗氧化劑，并可以使用諸如有機硫抗氧化 齊IJ、亞磷酸鹽(酯)抗氧化劑、二硫代氨基甲酸鹽抗氧化劑、硫脲抗氧化劑或苯并咪唑抗氧 化劑等公知的抗氧化劑?？寡趸瘎┑奶砑恿績?yōu)選為20重量％以下，更優(yōu)選為10重量％以 下。受阻酚抗氧化劑的實例包括2，6- 二叔丁基-4-甲基苯酚、2，5- 二叔丁基氫醌、N， N’-六亞甲基雙(3，5-二叔丁基-4-羥基)氫化肉桂酰胺、3，5_ 二叔丁基-4-羥基-苯甲基 膦酸二乙酯、2，4_雙[(辛基硫代)甲基]-鄰甲酚、2，6_ 二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2’_亞 甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’_亞甲基雙(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4，4’-亞丁 基雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，5- 二叔戊基氫醌、丙烯酸2-叔丁基-6- (3- 丁基-2-羥 基-5-甲基苯甲基)-4-甲基苯基酯和4，4’ -亞丁基雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。
此外，在用于形成保護層5的組合物中，可以加入各種顆粒，以降低殘留電位或改 善保護層的機械強度。作為所述顆粒的實例，可以舉出含硅顆粒。所述含硅顆粒是構(gòu)成元素中包含硅的 顆粒，具體而言，可以舉出膠態(tài)二氧化硅和硅酮顆粒。用作含硅顆粒的膠態(tài)二氧化硅選自包 含平均粒徑為Inm lOOnm、優(yōu)選為IOnm 30nm的膠態(tài)二氧化硅的酸性或堿性水分散液 和有機溶劑(例如醇、酮或酯)分散液。也可以使用市售的膠態(tài)二氧化硅。膠態(tài)二氧化硅 在保護層5中的固體含量不受特別限制。然而，從成膜性、電特性和機械強度的角度考慮， 相對于保護層5中的總固體含量，所使用的膠態(tài)二氧化硅的固體含量為0. 1重量％ 50重 量％，優(yōu)選為0. 1重量％ 30重量％。用作含硅顆粒的硅酮顆粒選自硅酮樹脂顆粒、硅橡膠顆粒和經(jīng)硅酮表面處理的二 氧化硅顆粒，一般使用的是市售的硅酮顆粒。這些硅酮顆粒被形成為球形，其平均粒徑優(yōu)選 為Inm 500nm，更優(yōu)選為IOnm lOOnm。這些硅酮顆粒是具有下述性質(zhì)的微粒，其呈化學(xué) 惰性、在樹脂中的分散性優(yōu)異并且獲得足夠的特性所需的含量很低；因此，可以改善電子照 相感光體的表面性質(zhì)，而不會干擾交聯(lián)反應(yīng)。即，所述硅酮顆粒在包含于強交聯(lián)結(jié)構(gòu)中而不 產(chǎn)生波動的狀態(tài)下，可以改善電子照相感光體表面的潤滑性和斥水性，由此可以長時期保 持優(yōu)異的耐磨損性和耐污染物附著性。相對于保護層5中的總固體含量，保護層5中的硅酮顆粒的含量優(yōu)選為0. 1重 量％ 30重量％，更優(yōu)選為0.5重量％ 10重量％。其它顆粒的實例包括四氟乙烯、三氟乙烯、六氟丙烯、氟乙烯或偏二氟乙烯的 氟類顆粒；由通過將氟樹脂與具有羥基的單體共聚而獲得的樹脂制成的顆粒，例如“第 八屆高分子材料論壇講演預(yù)稿集”第89頁中所述的顆粒；和諸如Zn0-Al203、SnO2-Sb2O3^ In203-Sn02、Zn02_Ti02、Zn0-Ti02、Mg0-Al203、Fe0-Ti02、Ti02、Sn02、In203、Zn0 或 MgO 等半導(dǎo)電 性金屬氧化物。此外，出于相似的目的，也可以添加諸如硅油等油類。硅油的實例包括硅 油，例如二甲基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷或苯基甲基硅氧烷；反應(yīng)性硅油，例如氨基改性 聚硅氧烷、環(huán)氧改性聚硅氧烷、羧基改性聚硅氧烷、卡必醇改性聚硅氧烷、甲基丙烯酰基改性聚硅氧烷、巰基改性聚硅氧烷或苯酚改性聚硅氧烷；環(huán)式二甲基環(huán)硅氧烷，例如六甲基環(huán) 三硅氧烷、八甲基環(huán)四硅氧烷、十甲基環(huán)五硅氧烷或十二甲基環(huán)六硅氧烷；環(huán)式甲基苯基環(huán) 硅氧烷，例如1，3，5-三甲基-1，3，5-三苯基環(huán)三硅氧烷、1，3，5，7-四甲基-1，3，5，7-四苯 基環(huán)四硅氧烷或1，3，5，7，9-五甲基-1，3，5，7,9-五苯基環(huán)五硅氧烷；環(huán)式苯基環(huán)硅氧烷， 例如六苯基環(huán)三硅氧烷；含氟的環(huán)硅氧烷，例如(3，3，3_三氟丙基)甲基環(huán)三硅氧烷；含氫 甲硅烷基的環(huán)硅氧烷，例如甲基氫硅氧烷混合物、五甲基環(huán)五硅氧烷或苯基氫環(huán)硅氧烷；和 含乙烯基的環(huán)硅氧烷，例如五乙烯基五甲基環(huán)五硅氧烷。在用于形成保護層5的組合物中，可以添加金屬、金屬氧化物或炭黑。作為金屬， 可以舉出鋁、鋅、銅、鉻、鎳、銀和不銹鋼，也可以舉出其表面上沉積有上述金屬的塑料顆粒。 金屬氧化物的實例包括氧化鋅、氧化鈦、氧化錫、氧化銻、氧化銦、氧 化鉍、摻雜錫的氧化銦、 摻雜銻或摻雜鉭的氧化錫和摻雜銻的氧化鋯。這些金屬、金屬氧化物或炭黑可以單獨使用， 或者以其兩種以上的組合使用。當(dāng)它們中的兩種以上組合使用時，可以使用簡單的混合物、 其固溶體和熔融形式中的任一種。考慮到保護層的透明性，所述導(dǎo)電性顆粒的平均粒徑優(yōu) 選是0. 3μπι以下，特別優(yōu)選是0. Iym以下。用于形成保護層5的組合物優(yōu)選被制為保護層形成用涂布液。保護層形成用涂布 液可不含溶劑，也可以在需要時包含溶劑，例如醇類，如甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、環(huán)戊醇或環(huán) 己醇；酮類，如丙酮或甲基乙基酮；或者醚類，如四氫呋喃、乙醚或二噁烷。這些溶劑可以單獨使用，也可以以其兩種以上的混合物使用，并且優(yōu)選具有100°C 以下的沸點。作為溶劑，優(yōu)選使用至少一種具有羥基的溶劑(例如醇類)。通過使用諸如刮刀涂布法、繞線棒涂布法、噴涂法、浸漬涂布法、刮槽涂布法、氣刀 涂布法或幕涂法等常規(guī)方法，將包含用于形成保護層5的組合物的保護層形成用涂布液涂 布在電荷輸送層3上，根據(jù)需要，隨后可以在100°C 170°C的溫度加熱以進行固化，由此獲 得固化物。結(jié)果，獲得了由固化物制成的保護層(最外表面層)5。在保護層形成用涂布液固化期間的氧氣濃度優(yōu)選為以下，更優(yōu)選為IOOOppm 以下，進而更優(yōu)選為500ppm以下。除了用于感光體之外，保護層形成用涂布液還可用于例如熒光發(fā)色涂料或者玻璃 表面或塑料表面上的抗靜電膜。使用所述涂布液時，會形成對下層具有優(yōu)異的粘附性的膜， 由此可以抑制因長時期反復(fù)使用而導(dǎo)致的性能劣化。作為電子照相感光體，功能分離型的實例已經(jīng)得到了描述。單層型感光層6(電荷 生成/輸送層)中的電荷生成材料的含量基本上為10重量％ 85重量％，優(yōu)選為20重 量％ 50重量％。電荷輸送材料的含量優(yōu)選為5重量％ 50重量％。以基本上類似于形 成電荷生成層2或電荷輸送層3的方法的方式，實施形成單層型感光層6 (電荷生成/電荷 輸送層)的方法。單層型感光層(電荷生成/電荷輸送層)6的膜厚優(yōu)選設(shè)定為基本上為 5 μ m ~ 50 μ m, ^itizfe^J 10 μ m 40 μ m。在上述的示例性實施方式中，已經(jīng)描述了保護層5是最外表面層的形式，其中所 述最外表面層由包含由式(I)表示的化合物和具有電荷輸送性和偶氮基的化合物的組合 物的固化物制成。然而，在未形成保護層5的層結(jié)構(gòu)的情況下，在該層結(jié)構(gòu)中位于最外表面 的電荷輸送層是最外表面層。[圖像形成設(shè)備/處理盒]
圖4是顯示本發(fā)明的示例性實施方式的圖像形成設(shè)備100的示意性構(gòu)成圖。圖4中所示的圖像形成設(shè)備100包括設(shè)置有電子照相感光體7的處理盒300 ；曝 光設(shè)備(靜電潛像形成單元)9;轉(zhuǎn)印設(shè)備(轉(zhuǎn)印單元)40;和中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)50。在圖像形 成設(shè)備100中，曝光設(shè)備9配置在能夠由處理盒300的開口對電子照相感光體7進行曝光 的位置，轉(zhuǎn)印設(shè)備40配置在隔著中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)50而面向電子照相感光體7的位置，中間轉(zhuǎn) 印介質(zhì)50配置為部分地與電子照相感光體7接觸。圖4中的處理盒300在其殼體中以一體化方式承載了電子照相感光體7、充電設(shè)備 (充電單元)8、顯影設(shè)備(顯影單元)11和清潔設(shè)備13。清潔設(shè)備13包括清潔刮刀(清潔 部件)，清潔刮刀131配置為與電子照相感光體7的表面相接觸。圖4中顯示了下述實例，其中，作為清潔設(shè)備13，提供了將潤滑劑14供給到感光 體7的表面上的纖維狀部件132 (輥)，并使用了協(xié)助清潔的纖維狀部件133 (平面刷)。然 而，它們可以根據(jù)需要進行使用。作為充電設(shè)備8，可以使用采用例如導(dǎo)電性或半導(dǎo)電性充電輥、充電刷、充電膜、充 電橡膠刮刀或充電管等的接觸充電裝置。也可以使用眾所周知的充電裝置，例如非接觸式 輥充電裝置、利用電暈放電的格柵電暈管(Scorotron)電暈充電器或電暈管電暈充電器。盡管圖中沒有顯示，但可以在電子照相感光體7的周圍配置感光體加熱部件，用 于提高電子照相感光體7的溫度，以降低相對溫度，由此提高圖像的穩(wěn)定性。作為曝光設(shè)備9，可以舉出在電子照相感光體7的表面上使用半導(dǎo)體激光束、LED 光或液晶光間光進行所希望的成像曝光的光學(xué)裝置。使用處于感光體的分光感光度范圍內(nèi) 的光源波長。關(guān)于半導(dǎo)體激光的波長，主要使用的是具有約780nm的振動波長的近紅外光。 然而，半導(dǎo)體激光的波長并不限于該波長，也可以使用具有約600nm的振動波長的激光或 作為藍色激光的具有400nm 450nm左右的振動波長的激光。此外，當(dāng)形成彩色圖像時，能 夠輸出多光束的面發(fā)射激光光源也是有效的。作為顯影設(shè)備11，可以使用一般顯影設(shè)備，其中，例如以接觸或不接觸的方式使用 磁性或非磁性的單組分顯影劑或雙組分顯影劑以進行顯影。顯影設(shè)備根據(jù)目的進行選擇， 只要具有上述功能即可。例如，可以是通過使用刷或輥將單組分或雙組分顯影劑附著于感 光體7的公知的顯影裝置。其中，優(yōu)選使用其表面上保持有顯影劑的顯影輥。 下面將描述用于顯影設(shè)備11中的調(diào)色劑。作為這種調(diào)色劑，其平均形狀系數(shù)(形狀系數(shù)=ML2/AX π/4Χ100的個數(shù)平均， 其中，ML表示調(diào)色劑顆粒的最大長度，A表示該調(diào)色劑顆粒的投影面積)優(yōu)選為100 150， 更優(yōu)選是100 140。此外，作為該調(diào)色劑，其體積平均粒徑優(yōu)選是2 μ m 12 μ m，更優(yōu)選 是3 μ m 12 μ m，進而更優(yōu)選是3 μ m 9 μ m。當(dāng)使用滿足上述平均形狀系數(shù)和體積平均 粒徑的調(diào)色劑時，可以獲得具有較高顯影性、轉(zhuǎn)印性和圖像品質(zhì)的圖像。調(diào)色劑的制造方法不受特別限制，只要調(diào)色劑處于滿足所述平均形狀系數(shù)和體積平均粒徑的范圍內(nèi)即可?？梢允褂酶鶕?jù)例如下述方法制造的調(diào)色劑捏合粉碎法，其中，力口 入粘合劑樹脂、著色劑、防粘劑和可根據(jù)需要加入的電荷控制劑，然后捏合、粉碎和分級；通 過機械沖擊或熱能來改變由捏合粉碎法獲得的顆粒的形狀的方法；乳液聚合絮凝法，其中， 將粘合劑樹脂的聚合性單體進行乳液聚合，將獲得的分散液、調(diào)色劑、防粘劑和可根據(jù)需要 加入的電荷控制劑的分散液混合，然后進行絮凝、加熱和融合以獲得調(diào)色劑；懸浮聚合法，其中，將用于獲得粘合劑樹脂的聚合性單體、著色劑和防粘劑以及可根據(jù)需要加入的電荷 控制劑的溶液分散在水性溶劑中以聚合；或者溶解懸浮法，其中，將粘合劑樹脂、著色劑和 防粘劑以及可根據(jù)需要加入的電荷控制劑的溶液懸浮在水性溶劑中以形成顆粒。此外，還可以使用公知的制造方法，例如下述方法，其中，使用通過上述的方法獲 得的調(diào)色劑作為核，使絮凝顆粒進一步附著于其上，然后加熱和融合，以賦予核-殼結(jié)構(gòu)。 作為制造調(diào)色劑的方法，從形狀控制和粒徑分布控制的角度考慮，優(yōu)選其中使用水性溶劑 進行制造的懸浮聚合法、乳液聚合絮凝法和溶解懸浮法，特別優(yōu)選乳液聚合絮凝法。 調(diào)色劑母顆粒通過包含粘合劑材料、著色劑和防粘劑以及可根據(jù)需要加入的二氧 化硅和電荷控制劑而構(gòu)成。用于調(diào)色劑母顆粒中的粘合劑樹脂的實例包括以下單體的均聚物和共聚物；和 通過將二羧酸與二醇共聚而獲得的聚酯樹脂，所述單體例如為苯乙烯類，如苯乙烯或氯苯 乙烯，單烯烴類，如乙烯、丙烯或丁烯，二烯類，如異戊二烯，乙烯基酯類，如乙酸乙烯酯、丙 酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯或丁酸乙烯酯，α-亞甲基脂肪族單羧酸酯類，如丙烯酸甲酯、丙烯 酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基 丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯或甲基丙烯酸十二烷基酯，乙烯基醚類，如乙烯基甲基醚、乙 烯基乙基醚或乙烯基丁基醚，或者乙烯基酮類，如乙烯基甲基酮、乙烯基己基酮或乙烯基異 丙烯基酮。特別典型的粘合劑材料的實例包括聚苯乙烯樹脂類、苯乙烯_丙烯酸烷基酯共聚 物樹脂類、苯乙烯_甲基丙烯酸烷基酯共聚物樹脂類、苯乙烯_丙烯腈共聚物樹脂類、苯乙 烯_ 丁二烯共聚物樹脂類、苯乙烯_馬來酸酐共聚物樹脂類、聚乙烯樹脂類、聚丙烯樹脂類 和聚酯樹脂類。此外，也可以舉出聚氨酯樹脂類、環(huán)氧樹脂類、有機硅樹脂類、聚酰胺樹脂 類、改性松香和石蠟。著色劑的典型實例包括如磁鐵礦和鐵氧體等磁性粉末、炭黑、苯胺藍、深灰藍、 鉻黃、群青藍、杜邦油紅、喹啉黃、亞甲基藍氯化物、酞菁藍、孔雀石綠草酸鹽、燈黑、玫瑰紅、 C. I.顏料紅48:1、C. I.顏料紅122、C. I.顏料紅57:1、C. I.顏料黃97、C. I.顏料黃17、 C. I.顏料藍15:1和C. I.顏料藍15:3。防粘劑的典型實例包括低分子量聚乙烯、低分子量聚丙烯、費托合成蠟、褐煤蠟、 巴西棕櫚蠟、米糠蠟和小燭樹蠟。作為電荷控制劑，可以使用公知的電荷控制劑，這些電荷控制劑包括偶氮金屬絡(luò) 合物、水楊酸金屬絡(luò)合物和含有極性基團的樹脂型電荷控制劑。當(dāng)通過濕法制造調(diào)色劑顆 粒時，從控制離子強度和減少廢液污染的角度考慮，優(yōu)選使用難溶于水的材料。此外，該調(diào) 色劑可以是含有磁性材料的磁性調(diào)色劑或不含磁性材料的非磁性調(diào)色劑中的任一種?？梢酝ㄟ^使用亨舍爾混合機或V型攪拌機混合上述調(diào)色劑母顆粒和外部添加劑， 來制造用于顯影設(shè)備11的調(diào)色劑。此外，當(dāng)調(diào)色劑母顆粒通過濕法制造時，添加劑也可以 通過濕法進行外部添加。在用于顯影設(shè)備11的調(diào)色劑中，可以加入潤滑性顆粒。潤滑性顆粒的實例包括 固體潤滑劑，例如石墨、二硫化鉬、滑石、脂肪酸或脂肪酸金屬鹽；低分子量聚烯烴，例如聚 丙烯、聚乙烯或聚丁烯；通過加熱可軟化的硅酮；脂肪酸酰胺，例如油酸酰胺、芥子酸酰胺、 蓖麻油酸酰胺或硬脂酸酰胺；植物蠟，例如巴西棕櫚蠟、米糠蠟、小燭樹蠟、日本蠟或霍霍巴油；動物蠟，例如蜂蠟；礦物蠟和石油蠟，例如褐煤蠟、地蠟、純白地蠟、石蠟、微晶蠟或費托 合成蠟；和它們的改性產(chǎn)物。這些潤滑性顆?？梢詥为毷褂茫蛘咭云鋬煞N以上的組合使 用。潤滑性顆粒的體積平均粒徑優(yōu)選是0. 1 μ m 10 μ m。通過粉碎具有上述化學(xué)結(jié)構(gòu)的產(chǎn) 品，可以使粒徑均等。潤滑性顆粒向調(diào)色劑中的添加量優(yōu)選是0. 05重量％ 2. 0重量％， 更優(yōu)選是0. 1重量％ 1.5重量％。在用于顯影設(shè)備11的調(diào)色劑中，可以加入無機顆粒、有機顆?；蛘咄ㄟ^將無機顆 粒附著于有機顆粒而獲得的復(fù)合顆粒，以除去電子照相感光體的表面上的附著物和劣化 物。
無機顆粒的優(yōu)選實例包括各種無機氧化物、氮化物和硼化物，例如二氧化硅、氧化 鋁、氧化鈦、氧化鋯、鈦酸鋇、鈦酸鋁、鈦酸鍶、鈦酸鎂、氧化鋅、氧化鉻、氧化鈰、氧化銻、氧化 鎢、氧化錫、氧化碲、氧化錳、氧化硼、碳化硅、碳化硼、碳化鈦、氮化硅、氮化鈦或氮化硼。此外，可以使用下述物質(zhì)對上述無機顆粒進行疏水化鈦偶聯(lián)劑，例如鈦酸四丁基
酯、鈦酸四辛基酯、鈦酸異丙基三異硬脂?；ァ惐榛交酋；佀狨セ螂p(二 辛基焦磷酸酯)氧乙酸酯鈦酸酯；或者硅烷偶聯(lián)劑，例如氨乙基)氨丙基三甲氧基 硅烷、Y-(2-氨乙基)氨丙基甲基二甲氧基硅烷、Y -甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、 N- β - (N-乙烯基苯甲基氨基乙基)-Y -氨丙基三甲氧基硅烷鹽酸鹽、六甲基二硅氮烷、甲 基三甲氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、異丁基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、辛基三甲 氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、鄰甲基苯基三 甲氧基硅烷或?qū)谆交籽趸柰?。此外，也?yōu)選使用利用硅油或諸如硬脂酸鋁、硬脂 酸鋅或硬脂酸鈣等高級脂肪酸的金屬鹽疏水化的無機顆粒。有機顆粒的實例包括苯乙烯樹脂顆粒、苯乙烯丙烯酸類樹脂顆粒、聚酯樹脂顆粒 和氨基甲酸酯樹脂顆粒。關(guān)于粒徑，上述顆粒的體積平均粒徑優(yōu)選是5nm lOOOnm，更優(yōu)選是5nm 800nm，進而更優(yōu)選是5nm 700nm。當(dāng)體積平均粒徑小于上述下限值時，磨損能力傾向于不 足。另一方面，當(dāng)其大于所述上限值時，電子照相感光體的表面容易受到刮傷。此外，上述 的顆粒和潤滑性顆粒的添加量的總和優(yōu)選是0. 6重量％以上。作為添加到調(diào)色劑中的其它無機氧化物，可以使用一次粒徑為40nm以下的小粒 徑無機氧化物，以控制粉末流動性或?qū)崿F(xiàn)電荷控制，優(yōu)選進而向其中添加粒徑大于上述粒 徑的無機氧化物以降低附著性和控制充電。關(guān)于這些無機顆粒，可以使用公知的顆粒。然 而，優(yōu)選將二氧化硅與氧化鈦一起使用，以精確地控制充電。此外，對小粒徑無機顆粒進行 表面處理后，分散性將得到提高，并且改善粉末流動性的作用也得到加強。此外，也可以添 加諸如碳酸鈣或碳酸鎂等碳酸鹽或者諸如水滑石等無機礦物，以除去放電產(chǎn)物。電子照相用彩色調(diào)色劑可通過與載體混合進行使用。此處所使用的載體的實例包 括鐵粉、玻璃珠、鐵氧體粉末和鎳粉，以及在它們的表面上具有樹脂涂層的載體。所述彩色 調(diào)色劑與載體的混合比率可以適當(dāng)設(shè)定。作為轉(zhuǎn)印設(shè)備40，也可以使用眾所周知的充電裝置，例如使用帶、輥、膜或橡膠刮 刀等的接觸轉(zhuǎn)印充電裝置，或者利用電暈放電的格柵電暈管電暈充電器或電暈管電暈充電
ο作為中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)50，可以使用由半導(dǎo)電性聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯或橡膠制成的帶(中間轉(zhuǎn)印帶)。作為中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)50的形式，除了帶之外， 也可以使用鼓。除了上述各種設(shè)備，圖像形成設(shè)備100可以具有例如使用光對感光體7除電的光
除電器。圖5是顯示本發(fā)明的另一個示例性實施方式的圖像形成設(shè)備120的示意性橫截面 圖。 圖5所示的圖像形成設(shè)備120是具有四個處理盒300的串聯(lián)型全色圖像形成設(shè)備。圖像形成設(shè)備120具有四個彼此并排配置在中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)50上的處理盒300，并 且具有每種顏色使用一個電子照相感光體的構(gòu)成。圖像形成設(shè)備120具有與圖像形成設(shè)備 100相似的構(gòu)成，不同之處在于，圖像形成設(shè)備120形成了一個串聯(lián)型系統(tǒng)。在將本發(fā)明的電子照相感光體用于串聯(lián)型圖像形成設(shè)備時，四個感光體的電特性 得到穩(wěn)定化；因此，可以獲得長時期色平衡優(yōu)異的圖像品質(zhì)。此外，在本發(fā)明的該示例性實施方式的圖像形成設(shè)備(處理盒)中，顯影設(shè)備(顯 影單元)優(yōu)選具有顯影輥，所述顯影輥是沿與電子照相感光體的移動方向(旋轉(zhuǎn)方向)相 反的方向移動的顯影劑保持體。此處，該顯影輥的表面上具有保持顯影劑的管狀顯影套筒， 可以舉出具有設(shè)有限制性部件以限制供給至顯影套筒的顯影劑的量的構(gòu)成的顯影設(shè)備。當(dāng) 顯影設(shè)備的顯影輥沿著與電子照相感光體的旋轉(zhuǎn)方向相反的方向移動(旋轉(zhuǎn))時，停留在 顯影輥與電子照相感光體之間的調(diào)色劑將摩擦該電子照相感光體的表面。此外，在對殘留 于電子照相感光體上的調(diào)色劑進行清潔的情況中，例如，當(dāng)為了增強對具有近似球形的調(diào) 色劑的清潔能力而增加刮刀的擠壓力時，電子照相感光體的表面會受到強烈摩擦。以往所知的電子照相感光體會因摩擦而受到嚴(yán)重的損傷；因此，容易產(chǎn)生磨損、刮 傷或調(diào)色劑成膜，由此導(dǎo)致圖像劣化。而使用本發(fā)明的電子照相感光體時，其表面的機械強 度因本發(fā)明的特定電荷輸送材料(特別是，能夠通過提高反應(yīng)性官能團的數(shù)量而以高濃度 含有，從而獲得高交聯(lián)密度的材料)的交聯(lián)物而提高，并且因電特性優(yōu)異而形成厚膜，所以 能夠長時期保持高圖像品質(zhì)。據(jù)認為，可以非常長時期地抑制所述放電產(chǎn)物的堆積。在本發(fā)明的示例性實施方式的圖像形成設(shè)備中，從更長時期地抑制放電產(chǎn)物的 堆積的角度考慮，顯影套筒與感光體之間的間距優(yōu)選設(shè)定為200 μ m 600 μ m,更優(yōu)選為 300μπι 500μπι。此外，出于相似考慮，顯影套筒與限制性刮刀(即用于限制顯影劑的量 的限制性部件)之間的間距優(yōu)選設(shè)定為300 μ m 1000 μ m,更優(yōu)選為400 μ m 750 μ m。此外，從長時期抑制放電產(chǎn)物堆積的角度考慮，顯影輥表面的移動速度的絕對值 優(yōu)選設(shè)定為感光體表面的移動速度的絕對值(處理速度)的1. 5倍 2. 5倍，更優(yōu)選為1. 7 倍 2.0倍。在本發(fā)明的示例性實施方式的圖像形成設(shè)備(處理盒)中，優(yōu)選的是，顯影設(shè)備 (顯影單元)包含具有磁性體的顯影劑保持體，并使用包含磁性載體和調(diào)色劑的雙組分顯 影劑使靜電潛像顯影。以此構(gòu)成，與使用單組分顯影劑特別是非磁性單組分顯影劑的情況 相比，可以獲得圖像品質(zhì)更加漂亮的彩色圖像，由此可以以更高的水平實現(xiàn)高圖像品質(zhì)和 高耐久性。實施例
下面將參照實施例更加詳細地描述本發(fā)明。然而，本發(fā)明并不限于這些實施例。根 據(jù)高分子合成化學(xué)和電子照相技術(shù)的公知的知識，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對下示實施例增加 修改。[合成例1:4，4'-偶氮雙(4-氰戊酸氯化物)的合成] 首先，用冰冷卻140ml亞硫酰氯，并逐漸地向其中加入48g的4，4'-偶氮雙(4_氰 戊酸)。將獲得的混合物在30°C加熱6小時，并在減壓下蒸餾掉過量的亞硫酰氯。使用氯 仿重結(jié)晶殘留物，由此獲得22g的4，4' _偶氮雙(4-氰戊酸氯化物)晶體。[合成例2具有電荷輸送性和偶氮基的化合物(化合物A-6)的合成] 首先，在氮氣流下，將IOOg的N，N'-雙(對，間-二甲基苯基)-N，N'-雙[對 (2-甲氧基羰基乙基)苯基]_[對三聯(lián)苯]_4，4' - 二胺、200g乙二醇和2g四丁氧基鈦加 熱并回流4小時。接下來，在將反應(yīng)容器內(nèi)的壓力逐漸降低至Imm Hg的同時將該溶液加熱 至225°C，由此蒸餾掉過量的乙二醇，隨后按原樣繼續(xù)反應(yīng)4小時。然后，冷卻至室溫，并向 反應(yīng)液中加入二氯甲烷以溶解不溶物，繼之以在甲醇中再沉淀，由此獲得90g的兩個末端 均具有羥基的預(yù)聚物。所獲預(yù)聚物的重均分子量為25，000。接下來，將40g該預(yù)聚物和0. 5g三乙胺溶解在120ml 二氯乙烷中，然后冷卻至0°C 以下。向其中逐滴加入通過將12g由合成例1中獲得的4，4'-偶氮雙(4-氰戊酸氯化物) 溶解在40ml 二氯甲烷中獲得的溶液。使所得混合物在室溫反應(yīng)1小時，隨后使其在30°C反 應(yīng)5小時。然后，蒸餾掉溶劑，通過加入四氫呋喃溶解該反應(yīng)產(chǎn)物而獲得溶液，向甲醇中逐 滴加入該溶液，隨后攪拌1小時，之后過濾出沉淀的固體。將該再沉淀操作再重復(fù)兩遍。干 燥殘留物，由此獲得34g具有電荷輸送性和偶氮基的化合物(化合物A-6)。[合成例3具有電荷輸送性和偶氮基的化合物(化合物A-10)的合成]首先，在氮氣流下，將IOOg的N，N'-雙(對，間-二甲基苯基)-N，N'-雙[對 (2-甲氧基羰基乙基)苯基]_[3，3，- 二甲基_1，1，-聯(lián)苯基]_4，4〃 - 二胺、200g乙二醇 和5g四丁氧基鈦加熱并回流3小時。接下來，將該溶液加熱至225°C，同時將反應(yīng)容器內(nèi) 的壓力逐漸降低至Imm Hg，并蒸餾掉過量的乙二醇，隨后按原樣繼續(xù)反應(yīng)4小時。然后，在 冷卻至室溫后，向反應(yīng)液中加入二氯甲烷以溶解不溶物，繼之以在甲醇中再沉淀，由此獲得 92g的兩個末端均具有羥基的預(yù)聚物。所獲預(yù)聚物的重均分子量為30000。 接下來，將40g該預(yù)聚物和0. 5g三乙胺溶解在120ml 二氯乙烷中，然后冷卻至0°C 以下。向其中逐滴加入通過將IOg由合成例1中獲得的4，4'-偶氮雙(4-氰戊酸氯化物) 溶解在40ml 二氯甲烷中獲得的溶液。使所得混合物在室溫反應(yīng)1小時，隨后使其在30°C反 應(yīng)5小時。然后，蒸餾掉溶劑，通過加入四氫呋喃溶解該反應(yīng)產(chǎn)物而獲得溶液，向甲醇中逐 滴加入該溶液，隨后攪拌1小時，之后過濾出沉淀的固體。將該再沉淀操作再重復(fù)兩遍。干 燥殘留物，由此獲得35g具有電荷輸送性和偶氮基的化合物(化合物A-10)。[實施例1](底涂層的制備)首先，將100重量份的氧化鋅(平均粒徑70nm，比表面積15m2/g，由TEIKA Co.， Ltd.制造)和500重量份的四氫呋喃混合并攪拌，向其中加入1. 3重量份的硅烷偶聯(lián)劑(商 品名KBM503，由信越化學(xué)社制造)，然后攪拌2小時。之后，在減壓下蒸餾掉四氫呋喃，然 后在120°C焙烤3小時，由此獲得使用硅烷偶聯(lián)劑表面處理過的氧化鋅。
接下來，將110重量份經(jīng)表面處理的該氧化鋅和500重量份的四氫呋喃混合并攪 拌，向其中加入在50重量份的四氫呋喃中溶解有0. 6重量份茜素而獲得的溶液，然后在 50°C攪拌5小時。之后，在減壓下過濾添加有茜素的氧化鋅，然后在60°C在減壓下干燥，由 此獲得添加有茜素的氧化鋅。接下來，通過將60重量份的添加有茜素的氧化鋅、13. 5重量份的硬化劑(封端異 氰酸酯，商品名SUMIDULE 3175，由 Sumitomo-BayerUrethane Co.，Ltd.制造)禾Π 15 重量 份的縮丁醛樹脂(商品名S-LEC BM-I,由積水化學(xué)社制造)在85重量份的甲基乙基酮中 混合獲得溶液，將38重量份的該溶液與25重量份的甲基乙基酮混合，然后使用帶有直徑為 ImmΦ的玻璃珠的砂磨機分散2小時，由此獲得分散液。向所得分散液中加入0. 005重量份的二月桂酸二辛基錫和40重量份的有機硅樹 脂顆粒(商品名:T0SPEARL 145，由GE-Toshiba Silicone Co. ,Ltd.制造)，由此獲得底涂 層形成用涂布液。通過浸漬將該涂布液涂布在直徑為30mm、長度為340mm、厚度為Imm的鋁 基體上，然后在170°C干燥和固化40分鐘，由此獲得19 μ m厚的底涂層。(電荷生成層的制備)首先，使用帶有直徑為Imm Φ的玻璃珠的砂磨機將下述混合物分散4小時，所述混 合物包含15重量份的作為電荷生成材料的羥基鎵酞菁(在使用CuKa特性X射線獲得的 X射線衍射譜中至少在布拉格角(2 θ 士 0.2° )7.3°、16.0°、24. 9°和28.0°處具有衍射 峰)、10重量份的氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚物樹脂(商品名VMCH，由Nippon Unicar Co.， Ltd.制造)和200重量份的乙酸正丁酯。向所得分散液中加入175重量份的乙酸正丁酯 和180重量份的甲基乙基酮，然后進行攪拌，由此獲得電荷生成層形成用涂布液。通過浸 漬在底涂層上涂布該電荷生成層形成用涂布液，然后在室溫(25°C )干燥，由此形成膜厚為 0.2μπι的電荷生成層。(電荷輸送層的制備)首先，將55重量份的由式(I)表示的化合物(化合物i_l)和45重量份的具有電 荷輸送性和偶氮基的化合物(由式(A)表示的化合物；化合物A-6)溶解在600重量份的四 氫呋喃(THF)中，然后再將1重量份的氟碳表面活性劑(商品名KL-600，由共榮社化學(xué)社 制造)于其中溶解，由此獲得電荷輸送層形成用涂布液。在電荷生成層上涂布該涂布液，然 后在氧氣濃度基本上為IOOppm的氛圍下在150°C加熱45分鐘，由此形成20 μ m厚的電荷輸 送層(最外表面層)。根據(jù)所述方法，獲得了電子照相感光體。該感光體被稱作感光體1。[評估]-圖像品質(zhì)的評估-
將如上所述制得的電子照相感光體安裝在“DocuCentre-II C7500” (彩色/單色 復(fù)合設(shè)備)(商品名，由富士施樂株式會社制造)中，然后在10°c和15% RH的環(huán)境下進行 圖像評估測試(1)。之后，在同一環(huán)境下，連續(xù)印刷10000張5%半色調(diào)圖像。印刷10000張后，在同一 環(huán)境下進行圖像評估測試(2)。隨后，將該圖像形成設(shè)備在27°C和80% RH的環(huán)境下放置24小時，然后在同一環(huán) 境下進行圖像評估測試(3)。
在圖像評估測試(1)、(2)和(3)中，對濃度不均勻性、條紋、圖像劣化和重影進行 評估。在圖像形成測試中，使用的是P SHEET(商品名，由Fuji Xerox OfficeSupply Co.，Ltd.制造，A4尺寸，橫送)。評估結(jié)果如表3中所示。 (濃度不均勻性的評估)使用5%半色調(diào)樣品目視評估濃度不均勻性。A:優(yōu)異。B:觀察到部分不均勻。C 觀察到導(dǎo)致圖像品質(zhì)問題的濃度不均勻。(條紋的評估)使用5%半色調(diào)樣品目視評估條紋。A:優(yōu)異。B 部分條紋。C 觀察到導(dǎo)致圖像品質(zhì)問題的條紋。(圖像劣化的評估)與以上測試一起，圖像劣化也進行了如下評估。使用5%半色調(diào)樣品目視評估圖像劣化。A:優(yōu)異。B 在連續(xù)印刷測試過程中未發(fā)現(xiàn)圖像劣化的問題，但是在放置24小時后發(fā)現(xiàn)了 問題。C 甚至在連續(xù)印刷測試過程中也發(fā)現(xiàn)了問題。(重影的評估)通過在除電光被強行關(guān)閉的狀態(tài)(不進行感光體的除電的狀態(tài))下印刷如圖6A 中所示的具有“G”和黑色區(qū)域的圖表及隨后目視觀察字母“G”出現(xiàn)在黑色區(qū)域的程度來評
估重影。A 如圖6A中所示，優(yōu)異或非常輕微。B 如圖6B中所示，略微明顯。C:如圖6C中所示，可清晰地確認。(表面觀察)在圖像品質(zhì)測試(1)、(2)和(3)中進行了各觀察之后，觀察電子照相感光體的表 面，并進行如下評估。A 優(yōu)異，S卩，即使在20倍的放大率下也既未發(fā)現(xiàn)刮傷又未發(fā)現(xiàn)附著。B 在20倍的放大率下發(fā)現(xiàn)少量刮傷或附著。C 肉眼觀察到刮傷或附著。[實施例2 13，比較例1]以與實施例1基本上相似的方式制作感光體2 13和Cl，不同之處在于，根據(jù)如 下所示的表3和表4，改變構(gòu)成電荷輸送層形成用涂布液的各種材料和它們的混合量。結(jié)果 如表5和表6中所示。
在表3中，同時顯示了實施例1中的各種材料和它們的混合量。[表 3] [表 4] 下面將描述表3 和表 4 中的 “CTM-l”、“DA-r，、“PC(Z)，，和“AIBN，，。
'CTM-I :N,N' - 二苯基-N，N'-雙(3-甲基苯基)-[1，1 ‘-聯(lián)苯基]-4，4' -二 胺
· DA-I 乙氧基化雙酚A 二丙烯酸酯· PC(Z)雙酚(Z)聚碳酸酯(粘度平均分子量40000，由三菱瓦斯化學(xué)工業(yè)社制 造)· AIBN 偶氮二異丁腈(熱聚合引發(fā)劑，由大塚化學(xué)社制造)[實施例14]以與實施例1基本上相似的方式，在鋁基體上配置底涂層和電荷生成層。然后，向800重量份的氯苯中加入45重量份的N，N' - 二苯基_N，N'-雙(3-甲 基苯基)-[1，1'-聯(lián)苯基]-4，4' _ 二胺和55重量份的雙酚Z聚碳酸酯樹脂(粘度平均 分子量50000)并使它們于其中溶解，由此獲得電荷輸送層形成用涂布液。在電荷生成層 上涂布該涂布液，然后在130°C干燥45分鐘，由此形成膜厚為15 μ m的電荷輸送層。接下來，通過噴涂在上述電荷輸送層上涂布實施例1中所使用的電荷輸送層形成 用涂布液，然后在氧氣濃度基本上為IOOppm的氛圍下在150°C加熱45分鐘，由此形成5 μ m 厚的保護層(最外表面層)。根據(jù)上述這種方法，獲得了電子照相感光體。該感光體被稱作感光體14。以與實施例1基本上相似的方式評估感光體14，其結(jié)果如表6中所示。[比較例2]以與實施例1基本上相似的方式，在鋁基體上配置底涂層和電荷生成層。然后，將 45重量份的N，N' - 二苯基-N，N'-雙(3-甲基苯基)-[1，1'-聯(lián)苯基]-4，4' -二胺 (CTM-I)和60重量份的雙酚Z聚碳酸酯(PC (Z)，粘度平均分子量40000，由三菱瓦斯化學(xué) 工業(yè)社制造)溶解在800重量份的THF中，由此獲得電荷輸送層形成用涂布液。在電荷生 成層上涂布該涂布液，然后在130°C干燥45分鐘，由此形成膜厚為20 μ m的電荷輸送層。將根據(jù)該方法獲得的電子照相感光體稱作感光體C2。以與實施例1基本上相似的方式評估感光體C2，其結(jié)果如表6中所示。由表5和表6發(fā)現(xiàn)了下述內(nèi)容。
即，在設(shè)有各實施例中獲得的感光體的圖像形成設(shè)備中，發(fā)現(xiàn)從印刷初始階段時的圖像品質(zhì)評估測試(1)到反復(fù)印刷后的圖像品質(zhì)評估測試(2)，關(guān)于濃度不均勻性、條 紋、圖像劣化和重影的性質(zhì)都是優(yōu)異的。還發(fā)現(xiàn)，各實施例的感光體的表面狀態(tài)在所有圖像 品質(zhì)評估測試(1)和圖像品質(zhì)評估測試(2)中都是優(yōu)異的。此外，當(dāng)在高溫高濕下保存后 進行圖像品質(zhì)評估測試(3)時，未發(fā)現(xiàn)濃度不均勻性、條紋、圖像劣化、重影和表面狀態(tài)的 實際問題。另一方面，發(fā)現(xiàn)在比較例1中，在印刷初始階段時的圖像評估測試(1)、反復(fù)印刷后的圖像品質(zhì)測試(2)和在高溫高濕下保存后的圖像品質(zhì)評估測試(3)中都產(chǎn)生了導(dǎo)致實 際問題的重影。此外，比較例2在圖像品質(zhì)評估測試(1)和圖像品質(zhì)評估測試⑵中的表面狀態(tài) 很差，并且感光體的最外表面層的機械強度很低，也就是說，發(fā)現(xiàn)了存在實際問題。
權(quán)利要求
一種電子照相感光體，所述電子照相感光體包含導(dǎo)電性基體；形成在所述導(dǎo)電性基體上的感光層；和最外表面層，所述最外表面層是由下述組合物的固化物制成的層，所述組合物包含至少一種由下式(I)表示的化合物和至少一種具有電荷輸送性和偶氮基的化合物其中，在式(I)中，F(xiàn)表示具有空穴輸送性的n價有機基團，R表示氫原子或烷基，L表示二價有機基團，n表示大于或等于1的整數(shù)，并且j表示0或1。F2009101711565C0000011.tif
2.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其中，所述具有電荷輸送性和偶氮基的化合 物是由下式㈧表示的化合物 其中，在式(A)中，Ar11和Ar12各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳基； X1表示具有芳環(huán)結(jié)構(gòu)的二價烴基或具有芳環(huán)結(jié)構(gòu)的二價含雜原子的烴基；X2和X3各自獨立 地表示具有取代基的或不具有取代基的亞芳基；L1和L2各自獨立地表示包含支化或環(huán)結(jié)構(gòu) 的或者不包含支化或環(huán)結(jié)構(gòu)的二價烴基，或者包含支化或環(huán)結(jié)構(gòu)的或者不包含支化或環(huán)結(jié) 構(gòu)的二價含雜原子的烴基；ml和m3各自獨立地表示O或1 ;m2表示大于或等于1的數(shù)；并 且R’表示一價烴基或一價含雜原子的烴基。
3.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其中，式(I)中的R是甲基。
4.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其中，式(I)中的η是大于或等于2的整數(shù)。
5.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其中，式⑴由下式(II)表示 其中，在式(II)中，Ar1 Ar4各自獨立地表示具有取代基的或不具有取代基的芳基； Ar5表示具有取代基的或不具有取代基的芳基，或者具有取代基的或不具有取代基的亞芳 基；D表示-(L) j-O-CO-C(R) = CH2 ；L表示二價有機基團；j表示O或1 ；五個c各自獨立地 表示O或1 ;k表示O或1 ;D的總數(shù)大于或等于1 ；并且R表示氫原子或具有1 5個碳原子的直鏈或支化的烷基。
6.如權(quán)利要求5所述的電子照相感光體，其中，式(II)中的D的總數(shù)大于或等于4。
7.如權(quán)利要求5所述的電子照相感光體，其中，式(II)中的R是甲基。
8.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，其中，相對于構(gòu)成所述最外表面層的所述組 合物，由式(I)表示的化合物的總含量為30重量％以上。
9.如權(quán)利要求2所述的電子照相感光體，其中，式㈧中的Ar11和Ar12各自獨立地是 具有6 16個碳原子的具有取代基的或不具有取代基的芳基。
10.如權(quán)利要求2所述的電子照相感光體，其中，式(A)中的L1表示酯鍵與亞烷基和/ 或亞苯基的組合。
11.如權(quán)利要求2所述的電子照相感光體，其中，式(A)中的L2包含亞烷基或氰基并具 有1 20個碳原子。
12.如權(quán)利要求2所述的電子照相感光體，其中，式(A)中的R’包括亞烷基、酯基、氰基或羧基。
13.如權(quán)利要求2所述的電子照相感光體，其中，相對于所述組合物中的反應(yīng)性化合 物，由式(A)表示的化合物的含量為2重量％ 200重量％。
14.一種處理盒，所述處理盒包括權(quán)利要求1 13中任一項所述的電子照相感光體；和至少一種單元，所述至少一種單元選自由下述單元組成的組對所述電子照相感光體 進行充電的充電單元；使用調(diào)色劑將形成在所述電子照相感光體上的靜電潛像顯影的顯影 單元；和將殘留在所述電子照相感光體的表面上的調(diào)色劑除去的調(diào)色劑除去單元。
15.一種圖像形成設(shè)備，所述圖像形成設(shè)備包括 權(quán)利要求1 13中任一項所述的電子照相感光體； 對所述電子照相感光體進行充電的充電單元；在被充電的所述電子照相感光體上形成靜電潛像的靜電潛像形成單元； 使用調(diào)色劑將形成在所述電子照相感光體上的所述靜電潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像 的顯影單元；和將所述調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印體的轉(zhuǎn)印單元。
全文摘要
本發(fā)明涉及電子照相感光體、處理盒和圖像形成設(shè)備。本發(fā)明旨在提供一種電子照相感光體，該電子照相感光體的最外表面層具有高機械強度，并能夠長時期抑制濃度不均勻和重影的發(fā)生，該電子照相感光體包含導(dǎo)電性基體；形成在該導(dǎo)電性基體上的感光層；和最外表面層，該最外表面層是由下述組合物的固化物制成的層，所述組合物包含至少一種由下式(I)表示的化合物和至少一種具有電荷輸送性和偶氮基的化合物，其中，在式(I)中，F(xiàn)表示具有空穴輸送性的n價有機基團，R表示氫原子或烷基，L表示二價有機基團，n表示大于或等于1的整數(shù)，并且j表示0或1。
文檔編號G03G15/01GK101846896SQ20091017115
公開日2010年9月29日 申請日期2009年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月27日
發(fā)明者土井孝次, 山田涉, 巖崎真宏, 平野明, 額田克己 申請人:富士施樂株式會社