專(zhuān)利名稱(chēng)：曝光機(jī)臺(tái)的制作方法
曝光機(jī)臺(tái)
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種曝光機(jī)臺(tái)，其曝光分布范圍涵蓋基板的曝光范圍， 以使基板能夠均勻曝光。
背景技術(shù)：
一般而言，液晶顯示器的制程(Liquid-Crystal Display, LCD)通常需經(jīng) 過(guò)多次的微影(Photo Lithography)、曝光(Exposing)以及蝕刻(Etching) 等制程，液晶顯示器的制程是先在液晶面板的表面上涂布光阻 (Photoresist),然后再通過(guò)曝光制程以光源照射，使掩模的圖案轉(zhuǎn)移至涂 布光阻的液晶面板上，以使光阻的化學(xué)性質(zhì)因光源的照射而產(chǎn)生變化。再經(jīng) 由顯影(Development)的步驟以去光阻劑將曝光過(guò)的光阻從液晶面板上移 除，以形成對(duì)應(yīng)于掩模的線路布局，進(jìn)而完成圖案轉(zhuǎn)移，以便進(jìn)行后續(xù)的蝕 刻等制程。
以目前的曝光制程技術(shù)而言，半成品的液晶面板通常會(huì)經(jīng)由曝光機(jī)臺(tái)以 進(jìn)行曝光動(dòng)作，而曝光機(jī)臺(tái)上的輸送機(jī)會(huì)運(yùn)送半成品的液晶面板以朝向燈管 的方向前進(jìn)。為了使燈管所發(fā)出的光源能均勻地散布于半成品的液晶面板 上，所以燈管的長(zhǎng)度必須能涵蓋整個(gè)半成品的液晶面板的寬度(是垂直于面 板運(yùn)送方向)。當(dāng)半成品的液晶面板被輸送至燈管下時(shí)，藉此均勻的光源使 半成品的液晶面板能順利地進(jìn)行曝光。
近年來(lái)隨著液晶顯示技術(shù)發(fā)展的進(jìn)步，液晶面板也朝向制作大尺寸的趨 勢(shì)前進(jìn)。如此一來(lái)，在進(jìn)行曝光制程時(shí)，勢(shì)必?zé)艄芤残柙鲩L(zhǎng)。然而，較長(zhǎng)的 燈管在制作上的困難度較高，且制造成本也相對(duì)的增加。此外，由于燈管所
4發(fā)出的光源是通過(guò)燈管內(nèi)的氣體結(jié)合后所釋放出的紫外線光照射涂布在燈 管內(nèi)壁的熒光粉，以激發(fā)出可見(jiàn)光。所以若當(dāng)燈管變長(zhǎng)時(shí)，涂布在燈管內(nèi)的 熒光粉均勻性會(huì)不易控制，使燈管的發(fā)光均勻性不佳，進(jìn)而導(dǎo)致燈管所散發(fā) 出光的范圍無(wú)法涵蓋液晶面板的曝光范圍而造成曝光不均的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上的問(wèn)題，本發(fā)明提供一種燈管組，藉以解決先前技術(shù)中液晶面 板的尺寸增加時(shí)而燈管的長(zhǎng)度也需增長(zhǎng)，不僅增加制造的成本并且使燈管的 發(fā)光均勻度降低，進(jìn)而導(dǎo)致燈管的照射范圍無(wú)法涵蓋整個(gè)液晶面板而造成液 晶面板的曝光不均。
本發(fā)明揭露一種燈管組，裝設(shè)于一曝光機(jī)臺(tái)上。曝光機(jī)臺(tái)具有一輸送裝 置，用以運(yùn)送一基板沿著一方向至燈管組的位置進(jìn)行一曝光制程?；寰哂?平行于方向的一縱長(zhǎng)邊界及垂直于方向的一橫寬邊界，并由橫寬邊界定義出 --橫寬線及由縱長(zhǎng)邊界定義出一縱長(zhǎng)線。燈管組包括有沿著橫寬線并列的多 個(gè)燈管，且位于橫寬線上的這些燈管所構(gòu)成的光分布范圍涵蓋基板的橫寬邊 界的曝光范圍。
本發(fā)明的燈管組利用沿著橫寬線并列的多個(gè)燈管所構(gòu)成的光分布范圍 來(lái)涵蓋基板的橫寬邊界的曝光范圍，取代了現(xiàn)有中用于曝光的單一燈管，因 此本案相較于現(xiàn)有技術(shù)而言，本發(fā)明的燈管組具有較佳的曝光均勻性。
以上的關(guān)于本發(fā)明內(nèi)容的說(shuō)明及以下的實(shí)施方式的說(shuō)明用以示范與解 釋本發(fā)明的精神與原理，并且提供本發(fā)明的專(zhuān)利申請(qǐng)范圍更進(jìn)一步的解釋。


圖1為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的燈管組對(duì)基板進(jìn)行曝光的立體示意圖； 圖2為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的燈管組對(duì)基板進(jìn)行曝光的平面示意圖；以
及
圖3至圖7為圖1的燈管組采用不同排列方式的結(jié)構(gòu)示意圖。主要組件符號(hào)說(shuō)明
10 ..............曝光機(jī)臺(tái)
20 ..............基板
22 .............. 縱長(zhǎng)邊界
24 .............. 橫寬邊界
100 .............. 燈管組
110 .............. 輸送裝置
120 .............. 燈管
Dl .............. 方向
Wl、 W2、 W3…Wn..... 橫寬線
Ll、 L2、 L3…Lm..... 縱長(zhǎng)線
e .............. 夾角
具體實(shí)施方式

圖l及圖2為根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的燈管組對(duì)基板進(jìn)行曝光的示意圖。 請(qǐng)參閱圖1及圖2，本實(shí)施例的曝光機(jī)臺(tái)10具有一輸送裝置110，此輸送裝 置110用以運(yùn)送一基板20。燈管組IOO裝設(shè)于曝光機(jī)臺(tái)IO上，且該燈管組 IOO設(shè)置于該輸送裝置IIO之上，用以對(duì)基板20進(jìn)行曝光?；?0為沿著 一方向D1輸送至燈管組100的下進(jìn)行曝光。其中，本發(fā)明所揭露的基板20 可為玻璃基板、電路板、晶圓等需要進(jìn)行曝光顯影制程的電子半成品，但并 不以此為限。于以下本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明中，將以薄膜晶體管數(shù)組基板(Thin Film Transistor array, TFT array)做為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，然而所附 圖式僅提供參考與說(shuō)明用，并非用以限制本發(fā)明的保護(hù)范疇。
上述的曝光制程為在基板20的表面均勻涂布光阻(未繪示)，將基板20 透過(guò)輸送裝置110運(yùn)送至燈管組100的位置，以燈管組100的光源照射基板 20，使掩模(未繪示)的圖案轉(zhuǎn)移至涂布光阻的基板20上，的后再進(jìn)行后續(xù)的蝕刻等制程。此外，由于光阻是光敏感性的化學(xué)物質(zhì)，當(dāng)光阻接觸特定波 長(zhǎng)的光時(shí)會(huì)發(fā)生化學(xué)變化，而使得光阻受光照射處會(huì)分解成可以被顯影劑洗 掉的狀態(tài)。
基板20具有一縱長(zhǎng)邊界22以及一橫寬邊界24?？v長(zhǎng)邊界22例如為基 板20的長(zhǎng)度，橫寬邊界24例如為基板20的寬度，其中縱長(zhǎng)邊界22為平行 于方向D1，而縱長(zhǎng)邊界22為垂直于方向Dl。定義垂直于方向Dl的多條等 長(zhǎng)且相互平行的橫寬線Wl、 W2…Wn，和定義平行于方向Dl的多條等長(zhǎng)且相 互平行的縱長(zhǎng)線Ll、 L2、 L3…Lm，其中橫寬線W1、 W2…Wn和縱長(zhǎng)線Ll、 L2、 L3…Lm相交于多個(gè)交錯(cuò)點(diǎn)，且該復(fù)數(shù)交錯(cuò)點(diǎn)由至少一橫寬線與至少二縱長(zhǎng)線 所相交，至少一橫寬線垂直于方向D1及至少二縱長(zhǎng)線平行于方向D1。所述 縱長(zhǎng)線Ll、L2、L3…Lm沿平行于該方向Dl等分該曝光區(qū)，該橫寬線W1、W2… Wn沿垂直于該方向Dl等分該曝光區(qū)基板。燈管組100包括多個(gè)燈管120， 這些燈管120的中心設(shè)置于橫寬線Wl、 W2…Wn和縱長(zhǎng)線Ll、 L2、 L3…Lm的 交錯(cuò)點(diǎn)，且多個(gè)交錯(cuò)點(diǎn)上的燈管120范圍涵蓋基板20的范圍。進(jìn)一步地說(shuō)， 由于基板20在進(jìn)行曝光制程時(shí)，基板20需要經(jīng)過(guò)燈管組100的照射以進(jìn)行 曝光，若燈管組100的照射范圍不足則可能造成基板20的曝光不均。因此， 由多個(gè)燈管120所構(gòu)成的光分布范圍需涵蓋整個(gè)基板20的曝光范圍，因此 每一橫寬線Wl、 W2…Wn的長(zhǎng)度以大于或等于基板20的橫寬邊界24為佳。 其中該曝光區(qū)域面積等于大于該基板面積。在本實(shí)施例中，燈管120是以紫 外光或黃光來(lái)進(jìn)行照射。需注意的是，本發(fā)明所提的燈管組ioo是應(yīng)用于基 板20的曝光制程，但并不以此為限定。換言之，燈管組100亦可使用在其
它如半導(dǎo)體制程的曝光。
如圖2與圖3所示，多個(gè)燈管120為沿著每一橫寬線W1、 W2…Wn排列，
其中每一多個(gè)燈管120與方向Dl夾角為0度。
于另一實(shí)施例中，如圖4所示，多個(gè)燈管120為排列于橫寬線W1、 W2、 W3、 W4…Wn和縱長(zhǎng)線Ll、 L2、 L3…Lm的交錯(cuò)點(diǎn)上，但鄰近于每一具有燈管 120的交錯(cuò)點(diǎn)不具有燈管120，因此多個(gè)燈管120為彼此間隔排列，每一多個(gè)燈管120為垂直于方向Dl。
于再一實(shí)施例中，如圖5所繪示，多個(gè)燈管120為排列于橫寬線W1、W2、 W3…Wn和縱長(zhǎng)線Ll、 L2、 L3…Lm的交錯(cuò)點(diǎn)上，其中每一燈管120與方向Dl 夾角為90度，且燈管120的長(zhǎng)度小于橫寬線Wl、 W2、 W3…Wn。以多個(gè)燈管 的長(zhǎng)度小于或等于橫寬線的長(zhǎng)度的1/2為佳。如此可減少燈管的長(zhǎng)度，即能 達(dá)到均勻曝光的功效。
于又一實(shí)施例，如圖6所示，多個(gè)燈管120為彼此平行排列于橫寬線Wl、 W2、 W3…Wn和縱長(zhǎng)線Ll、 L2、 L3…Lm的交錯(cuò)點(diǎn)上，每一多個(gè)燈管120與方 向Dl具有夾角e，其中夾角6為0度至90度之間。
于一實(shí)施例，如圖7所示，多個(gè)燈管120為彼此平行排列于橫寬線Wl、 W2、 W3…Wn和縱長(zhǎng)線Ll、 L2、 L3…Lm的交錯(cuò)點(diǎn)上，但鄰近于每一具有燈管 120的交錯(cuò)點(diǎn)不具有燈管120，因此多個(gè)燈管120為彼此間隔排列，每一多 個(gè)燈管120與方向Dl具有一夾角9 ，其中夾角9為0度至90度之間。
以上數(shù)個(gè)實(shí)施例可根據(jù)實(shí)際光源照射情況更改每一橫寬線Wl、 W2、 W3… Wn之間距，和每一縱長(zhǎng)線L1、 L2、 L3…Lm的間距，進(jìn)而使得多個(gè)燈管120 之間的距離得以調(diào)整，使得基板20曝光能夠均勻。
由上述燈管組100不同的排列型態(tài)可知，這些排列于橫寬線Wl、 W2、 W3…Wn和縱長(zhǎng)線Ll、 L2、 L3…Lm的交錯(cuò)點(diǎn)上的多個(gè)燈管120，不論是平行 或垂直于方向D1，又或是與輸送方向Dl具一夾角e，多個(gè)燈管120所發(fā)出 光的分布范圍皆能涵蓋基板20的曝光范圍，使基板20經(jīng)由輸送至燈管組100 進(jìn)行曝光時(shí)，可以達(dá)到均勻的曝光效果。在本實(shí)施例中，本發(fā)明對(duì)于燈管120 的排列順序與排列型態(tài)并不局限，在依據(jù)本發(fā)明的其它實(shí)施例中也可以其它 實(shí)施態(tài)樣來(lái)表示。
綜上所述，由于本發(fā)明的燈管組利用排列于橫寬線和縱長(zhǎng)線的交錯(cuò)點(diǎn)上
的多個(gè)燈管所構(gòu)成的光分布范圍來(lái)涵蓋基板的橫寬邊界的曝光范圍，相較于 現(xiàn)有技術(shù)而言，本發(fā)明改善了習(xí)知制作長(zhǎng)燈管的困難且具有降低制造成本的
優(yōu)點(diǎn)。此外，由于本發(fā)明的燈管組可以多種排列組合型態(tài)以構(gòu)成光的分布范
8圍，是以本發(fā)明具有較佳的曝光均勻性。
雖然本發(fā)明以前述的實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明。在不 脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，所為的更動(dòng)與潤(rùn)飾，均屬本發(fā)明的專(zhuān)利保護(hù)范 圍。關(guān)于本發(fā)明所界定的保護(hù)范圍請(qǐng)參考所附的申請(qǐng)專(zhuān)利范圍。
權(quán)利要求
1. 一種曝光機(jī)臺(tái)，是用于對(duì)沿一方向行進(jìn)的一基板進(jìn)行曝光，包括一輸送裝置，沿該方向輸送該基板；以及一燈管組，設(shè)置于該輸送裝置的一曝光區(qū)上，用以曝光該基板，其中該燈管組具有多個(gè)燈管，每一所述燈管具有一中心點(diǎn)，其中所述燈管的每一該中心點(diǎn)對(duì)應(yīng)于每一所述交錯(cuò)點(diǎn)所設(shè)置，其中該復(fù)數(shù)交錯(cuò)點(diǎn)由至少一橫寬線與至少二縱長(zhǎng)線所相交，該至少一橫寬線垂直于該方向及該至少二縱長(zhǎng)線平行于該方向，所述多個(gè)燈管分布范圍涵蓋該曝光區(qū)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述縱長(zhǎng)線沿平行于該方向等分該曝光區(qū)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，該橫寬線沿垂直于該方向 等分該曝光區(qū)基板。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，該曝光區(qū)域面積等于大于 該基板面積。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述燈管以平行于該方向設(shè)置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述燈管以垂直于該方向設(shè)置。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述燈管以與該方向呈一夾角設(shè)置。
8. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，該多個(gè)燈管彼此平行排列 所述交錯(cuò)點(diǎn)上。
9. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，位于所述交錯(cuò)點(diǎn)上所排列 的所述燈管的長(zhǎng)度小于該基板的長(zhǎng)度。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，該夾角的角度為0度至 90度。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，該多個(gè)燈管的長(zhǎng)度 小于橫寬線的長(zhǎng)度。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)臺(tái)，其特征在于，該多個(gè)燈管的長(zhǎng)度 小于或等于橫寬線的長(zhǎng)度的1/2。
全文摘要
一種曝光機(jī)臺(tái)，用于對(duì)沿一方向行進(jìn)的一基板進(jìn)行曝光。該曝光機(jī)臺(tái)包括輸送裝置，沿該方向輸送該基板，燈管組，具有多個(gè)燈管，該燈管組設(shè)置于該輸送裝置之上，用以曝光該基板，其中該多個(gè)燈管設(shè)置于多個(gè)交錯(cuò)點(diǎn)，該復(fù)數(shù)交錯(cuò)點(diǎn)由至少一橫寬線與至少二縱長(zhǎng)線所相交，該至少一橫寬線垂直于該方向及該至少二縱長(zhǎng)線平行于該方向，所述多個(gè)燈管分布范圍涵蓋該基板。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101498900SQ20091012873
公開(kāi)日2009年8月5日 申請(qǐng)日期2009年3月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月12日
發(fā)明者溫孟川, 王仁智, 趙志鴻, 鄭德勝 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司