一種曝光的制造方法
【專利摘要】本實用新型實施例公開了一種曝光機(jī)，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，能夠避免感光材料揮發(fā)出的物質(zhì)沉積在平面鏡上。該曝光機(jī)，包括平面鏡以及設(shè)置于所述平面鏡下方的隔離結(jié)構(gòu)，所述隔離結(jié)構(gòu)上與掩膜板上的圖案相應(yīng)的位置處透光。
【專利說明】一種曝光機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種曝光機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002] 在液晶顯示器的制作過程中，需要經(jīng)常使用曝光機(jī)對待曝光基板上的感光材料進(jìn) 行曝光，以形成特定結(jié)構(gòu)。
[0003] 具體地，曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)如圖1所示，其主要包括光源Γ、凹面鏡2'、平面鏡3'、掩 膜板4'以及用于支撐掩膜板4'的掩膜臺5'。其中，光源Γ發(fā)射出的發(fā)散的光線照射到 凹面鏡2'上，經(jīng)凹面鏡2'反射后形成平行光，再經(jīng)平面鏡3'反射后形成與掩膜板4'相垂 直的平行光，該部分平行光透過掩膜板4'上的圖案照射到待曝光基板5'上，使待曝光基板 5'上的感光材料6'曝光，進(jìn)而經(jīng)過后續(xù)的顯影、刻蝕等步驟，形成特定結(jié)構(gòu)。
[0004] 發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術(shù)中，在使用曝光機(jī)對待曝光基板5'進(jìn)行曝光的過程中，待曝 光基板5'上的感光材料6'會揮發(fā)出一些物質(zhì)，掩膜板4'未遮蓋的區(qū)域內(nèi)的感光材料5'揮 發(fā)出的物質(zhì)會沉積在平面鏡3'上，造成平面鏡3'的污染及老化，影響曝光機(jī)的曝光效果。 實用新型內(nèi)容
[0005] 本實用新型所要解決的技術(shù)問題在于提供一種曝光機(jī)，能夠避免感光材料揮發(fā)出 的物質(zhì)沉積在平面鏡上。
[0006] 為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種曝光機(jī)，該曝光機(jī)采用如下技術(shù)方 案：
[0007] -種曝光機(jī)包括平面鏡，還包括：設(shè)置于所述平面鏡下方的隔離結(jié)構(gòu)，所述隔離結(jié) 構(gòu)上與掩膜板上的圖案相應(yīng)的位置處透光。
[0008] 所述隔離結(jié)構(gòu)與所述掩膜板同層設(shè)置，所述隔離結(jié)構(gòu)上設(shè)置有開口。
[0009] 所述隔離結(jié)構(gòu)上除所述開口所在區(qū)域外的其他區(qū)域不透光。
[0010] 所述隔離結(jié)構(gòu)位于所述掩膜板上方，所述掩膜板正上方所在區(qū)域的所述隔離結(jié)構(gòu) 透光，其他區(qū)域的所述隔離結(jié)構(gòu)不透光。
[0011] 透光的所述隔離結(jié)構(gòu)的材質(zhì)為石英，不透光的所述隔離結(jié)構(gòu)的材質(zhì)為不銹鋼或者 亞克力。
[0012] 所述曝光機(jī)還包括冷卻結(jié)構(gòu)。
[0013] 所述冷卻結(jié)構(gòu)包括設(shè)置于所述曝光機(jī)頂部的第一冷卻結(jié)構(gòu)單元和設(shè)置于所述隔 離結(jié)構(gòu)的所述不透光區(qū)域上的第二冷卻結(jié)構(gòu)單元。
[0014] 所述曝光機(jī)還包括光源和凹面鏡，所述光源發(fā)射的發(fā)散的光線經(jīng)過所述凹面鏡反 射形成平行光，再經(jīng)所述平面鏡反射形成與所述隔離結(jié)構(gòu)垂直的平行光。
[0015] 所述曝光機(jī)還包括載物臺，所述載物臺用于支撐待曝光基板。
[0016] 所述隔離結(jié)構(gòu)為板狀。
[0017] 本實用新型實施例提供了一種曝光機(jī)，該曝光機(jī)包括平面鏡以及設(shè)置于平面鏡下 方的隔離結(jié)構(gòu)，其中，隔離結(jié)構(gòu)上與掩膜板上的圖案相應(yīng)的位置處透光。在使用曝光機(jī)對待 曝光基板曝光的過程中，待曝光基板上的感光材料揮發(fā)出的物質(zhì)被隔離結(jié)構(gòu)阻擋，而無法 到達(dá)平面鏡，因此，能夠避免感光材料揮發(fā)出的物質(zhì)沉積在平面鏡上，避免了平面鏡的污染 及老化，保證了曝光機(jī)的曝光效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018] 為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例 描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新 型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根 據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0019] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的曝光機(jī)的示意圖；
[0020] 圖2為本實用新型實施例中的曝光機(jī)的示意圖一；
[0021] 圖3為本實用新型實施例中的曝光機(jī)的示意圖二。

【具體實施方式】
[0022] 下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行 清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施 例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲 得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。
[0023] 本實用新型實施例提供了一種曝光機(jī)，該曝光機(jī)能夠避免感光材料揮發(fā)出的物質(zhì) 沉積在平面鏡上。下面結(jié)合附圖對曝光機(jī)進(jìn)行詳細(xì)的描述。
[0024] 具體地，如圖2和圖3所示，該曝光機(jī)包括平面鏡1以及設(shè)置于平面鏡1下方的隔 離結(jié)構(gòu)2,隔離結(jié)構(gòu)2上與掩膜板3上的圖案相應(yīng)的位置處透光。其中，隔離結(jié)構(gòu)2優(yōu)選為 板狀。在使用具有上述結(jié)構(gòu)的曝光機(jī)對待曝光基板4曝光的過程中，待曝光基板4上的感 光材料41揮發(fā)出的物質(zhì)被隔離結(jié)構(gòu)2阻擋，而無法到達(dá)平面鏡1，因此，能夠避免感光材料 41揮發(fā)出的物質(zhì)沉積在平面鏡1上，避免了平面鏡1的污染及老化，保證了曝光機(jī)的曝光效 果。
[0025] 進(jìn)一步地，根據(jù)曝光過程中，掩膜板3與隔離結(jié)構(gòu)2之間的位置關(guān)系的不同，本實 用新型實施例提供了兩種不同的方案，具體如下：
[0026] 方案一，如圖2所示，隔離結(jié)構(gòu)2與掩膜板3同層設(shè)置，隔離結(jié)構(gòu)2上設(shè)置有開口， 掩膜板3位于開口中。方案一中光線不需要透過隔離結(jié)構(gòu)2,光線直接照射到掩膜板3上， 使得光線具有較高的利用率。進(jìn)一步優(yōu)選地，隔離結(jié)構(gòu)2上除開口所在區(qū)域外的其他區(qū)域 不透光，因此，隔離結(jié)構(gòu)2整個隔離結(jié)構(gòu)2的材質(zhì)可以為成本較低的不銹鋼或者亞克力。在 曝光過程中，待曝光基板4位于掩膜板3正下方，也就是開口正下方，當(dāng)需要對掩膜板3進(jìn) 行清洗或者更換時，需要將掩膜板3取出進(jìn)行相應(yīng)的操作，此時，待曝光基板4與平面鏡1 之間無任何阻擋物，待曝光基板4上的感光材料41揮發(fā)出的物質(zhì)仍會沉積到平面鏡1上， 造成平面鏡1的污染和老化。
[0027] 方案二，如圖3所示，隔離結(jié)構(gòu)2位于掩膜板3上方，掩膜板3正上方所在區(qū)域的 隔離結(jié)構(gòu)2透光，其他區(qū)域的隔離結(jié)構(gòu)2不透光。此時，透光的隔離結(jié)構(gòu)2的材質(zhì)優(yōu)選為石 英，以使得其具有高的透光性，進(jìn)而滿足待曝光基板4上的感光材料41曝光所需的光強(qiáng)。不 透光的隔離結(jié)構(gòu)2的材質(zhì)優(yōu)選為成本較低的不銹鋼或者亞克力。使用方案二中的曝光機(jī)在 對待曝光基板4曝光的過程中，將掩膜板3取出進(jìn)行清洗或者更換時，待曝光基板4與平面 鏡1之間仍有隔離結(jié)構(gòu)2阻擋，待曝光基板4上的感光材料41揮發(fā)出的物質(zhì)沉積到隔離結(jié) 構(gòu)2上，而無法到達(dá)平面鏡1，從而完全避免了平面鏡1被污染的狀況。
[0028] 需要說明的是，本實用新型實施例提供的方案一和方案二僅是兩種具有凸出優(yōu)點 的優(yōu)選的實施例，本實用新型中提供的曝光機(jī)在曝光過程中的掩膜板3和隔離結(jié)構(gòu)2的位 置關(guān)系并不局限于以上所述的方案一和方案二。
[0029] 進(jìn)一步地，在曝光過程中，為了維持待曝光基板4的溫度穩(wěn)定，本實用實施例中的 曝光機(jī)還包括冷卻結(jié)構(gòu)5,冷卻結(jié)構(gòu)5用于維持曝光機(jī)內(nèi)的溫度穩(wěn)定，以確保待曝光基板4 的溫度穩(wěn)定，進(jìn)而保證顯示裝置具有較好的性能和品質(zhì)。進(jìn)一步地，為了保證更好的冷卻效 果，本實用新型實施例中的冷卻結(jié)構(gòu)5包括設(shè)置于曝光機(jī)頂部的第一冷卻結(jié)構(gòu)單元51和設(shè) 置于隔離結(jié)構(gòu)2的不透光區(qū)域上的第二冷卻結(jié)構(gòu)單元52。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型實 施例增加了距離待曝光基板4較近的第二冷卻結(jié)構(gòu)單元52,因此，具有更好的冷卻效果。
[0030] 此外，曝光機(jī)還包括光源6和凹面鏡7,光源6發(fā)射的發(fā)散的光線經(jīng)過凹面鏡7反 射形成平行光，再經(jīng)平面鏡1反射形成與隔離結(jié)構(gòu)2垂直的平行光，該部分平行光依次透過 隔離結(jié)構(gòu)2與掩膜板3,照射到待曝光基板4上，使待曝光基板4上的感光材料41曝光。
[0031] 進(jìn)一步地，曝光機(jī)還包括載物臺8,載物臺8用于支撐待曝光基板4。
[0032] 本實用新型實施例提供了一種曝光機(jī)，該曝光機(jī)包括平面鏡以及設(shè)置于平面鏡下 方的隔離結(jié)構(gòu)，其中，隔離結(jié)構(gòu)上與掩膜板上的圖案相應(yīng)的位置處透光。在使用曝光機(jī)對待 曝光基板曝光的過程中，待曝光基板上的感光材料揮發(fā)出的物質(zhì)被隔離結(jié)構(gòu)阻擋，而無法 到達(dá)平面鏡，因此，能夠避免感光材料揮發(fā)出的物質(zhì)沉積在平面鏡上，避免了平面鏡的污染 及老化，保證了曝光機(jī)的曝光效果。
[0033] 以上所述，僅為本實用新型的【具體實施方式】，但本實用新型的保護(hù)范圍并不局限 于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本實用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化 或替換，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán) 利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種曝光機(jī)，包括平面鏡，其特征在于，還包括：設(shè)置于所述平面鏡下方的隔離結(jié) 構(gòu)，所述隔離結(jié)構(gòu)上與掩膜板上的圖案相應(yīng)的位置處透光。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述隔離結(jié)構(gòu)與所述掩膜板同層設(shè)置， 所述隔離結(jié)構(gòu)上設(shè)置有開口。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述隔離結(jié)構(gòu)上除所述開口所在區(qū)域 外的其他區(qū)域不透光。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述隔離結(jié)構(gòu)位于所述掩膜板上方，所 述掩膜板正上方所在區(qū)域的所述隔離結(jié)構(gòu)透光，其他區(qū)域的所述隔離結(jié)構(gòu)不透光。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光機(jī)，其特征在于，透光的所述隔離結(jié)構(gòu)的材質(zhì)為石英，不 透光的所述隔離結(jié)構(gòu)的材質(zhì)為不銹鋼或者亞克力。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，還包括冷卻結(jié)構(gòu)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述冷卻結(jié)構(gòu)包括設(shè)置于所述曝光機(jī) 頂部的第一冷卻結(jié)構(gòu)單元和設(shè)置于所述隔離結(jié)構(gòu)的所述不透光區(qū)域上的第二冷卻結(jié)構(gòu)單 J Li 〇
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，還包括光源和凹面鏡，所述光源發(fā)射的 發(fā)散的光線經(jīng)過所述凹面鏡反射形成平行光，再經(jīng)所述平面鏡反射形成與所述隔離結(jié)構(gòu)垂 直的平行光。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，還包括載物臺，所述載物臺用于支撐待 曝光基板。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，所述隔離結(jié)構(gòu)為板狀。
【文檔編號】G03F7/20GK203849555SQ201420270549
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年5月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月26日
【發(fā)明者】吳洪江, 袁劍峰 申請人:北京京東方顯示技術(shù)有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司