專利名稱：摩擦輥及用該摩擦輥對陣列基板用基板進行摩擦的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種摩擦輥，尤其是涉及能夠同時制造多個高品質(zhì)取向膜的摩擦輥 及用該摩擦輥對陣列基板用基板進行摩擦的方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器由液晶面板、偏光板及背光模組構(gòu)成，其中，背光模組向液晶面板 提供平面光，液晶面板由陣列基板、彩膜基板及陣列基板和彩膜基板之間的液晶層構(gòu) 成，液晶面板的上下方各設(shè)有一個偏光板，偏光板的作用是將光變成偏極光，兩個偏光 板的透光軸可按照需要設(shè)置成相互垂直或水平。制造液晶面板需要經(jīng)過陣列基板制造工藝、對盒工藝、切割工藝以及研磨工 藝。陣列基板制造工藝，是通過構(gòu)圖工藝完成。所謂的構(gòu)圖工藝包括光刻膠涂覆、 掩模、曝光、顯影、刻蝕、光刻膠剝離等工藝。實際生產(chǎn)出的陣列基板是一個大型的陣 列基板用基板，此大型基板包括多個陣列基板區(qū)域，能夠通過切割工藝和研磨工藝形成 多個相同尺寸(例如14寸、17寸或19寸等)的液晶顯示器的陣列基板。對盒工藝，顧名思義，是將陣列基板和彩膜基板進行對盒封裝，并形成液晶層 的工藝，也稱作cell工藝。制造液晶面板的方法有兩種，其最大區(qū)別在于形成液晶層方法不同。分別是液 晶滴下法和液晶注入法。通過液晶滴下法制造的液晶面板的工藝如下先在沒有進行切割的陣列基板用基板和彩膜基板上，先分別形成一層取向膜； 然后，向陣列基板用基板滴下液晶；然后，將彩墨基板與陣列基板用基板上的每個陣列 基板對盒并封裝；然后，進行切割和研磨，得到多個液晶面板。通過液晶注入法制造的液晶面板的工藝如下先對陣列基板用基板進行切割和研磨，形成多個陣列基板；然后，在陣列基板 和彩膜基板上分別形成一層取向膜；然后，將陣列基板和彩膜基板進行對盒，然后注入 液晶之后封裝，得到液晶面板。上述的取向膜用于對液晶分子預(yù)先給予一定的取向，便于控制液晶分子的旋 轉(zhuǎn)。取向膜通過摩擦輥(rubbing roll)摩擦取向?qū)拥姆椒ㄟM行制造。圖1為通過現(xiàn)有的摩擦輥制造取向膜的示意圖。如圖1所示，陣列基板用基板 100包括多個陣列基板區(qū)域101，在陣列基板用基板100上形成有一層透明的取向?qū)?，?過摩擦輥對取向?qū)舆M行摩擦形成取向膜。具體地，現(xiàn)有的摩擦輥包括滾軸10和摩擦布11。摩擦布11上具有很多的細密 的條紋，將摩擦布11纏繞在滾軸10上，通過滾動滾軸10，對經(jīng)過其下方的取向?qū)舆M行摩 擦，摩擦布11上的條紋在摩擦?xí)r，在取向?qū)由闲纬梢粭l條細密的條紋，這些條紋會賦予 液晶分子一定的取向。高品質(zhì)的取向膜，要求條紋細致且均勻。
但是，在通過液晶滴下法制造液晶面板時，如圖1所示，需要對陣列基板用基 板100進行整體的摩擦。因此，摩擦布11的纏繞寬度比幾個陣列基板區(qū)域的寬度之和 還要大。過大的摩擦布11，在實際生產(chǎn)中，將摩擦布11纏繞到滾軸10上的過程中，不 可避免會產(chǎn)生貼合不良的現(xiàn)象。用這種摩擦輥進行摩擦之后，取向膜上會出現(xiàn)條紋在有 些區(qū)域不夠均勻的現(xiàn)象，尤其是摩擦輥的移動速度和滾動速度快時尤其突出，這將導(dǎo)致 完成對盒工藝后的液晶層內(nèi)的液晶分子的取向達不到要求，在顯示圖像時發(fā)生漏光等現(xiàn) 象，影響液晶顯示器的顯示品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種摩擦輥及用該摩擦輥對陣列基板用基板進行摩擦的方 法，能夠同時制造多個高品質(zhì)取向膜。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種摩擦輥，用于摩擦陣列基板用基板，所述 摩擦輥包括滾軸及纏繞在所述滾軸上的多個摩擦布單元，每個摩擦布單元纏繞在滾軸的 寬度與其對應(yīng)的所述陣列基板用基板的陣列基板區(qū)域的寬度相同。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還提供了一種用上述摩擦輥對陣列基板用基板進行摩 擦的方法，包括在陣列基板用基板上沉積取向?qū)?；將摩擦輥固定于所述取向?qū)拥纳戏剑沟盟鲫嚵谢逵没宓呐c所述摩擦輥 平行的一行或一列陣列基板區(qū)域與所述摩擦輥的摩擦布單元相互一一對應(yīng)；移動所述摩擦輥或所述陣列基板用基板，對所述取向?qū)舆M行摩擦形成取向。由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明的摩擦輥及用該摩擦輥對陣列基板用基板進行摩 擦的方法，具有如下優(yōu)點1、本發(fā)明的摩擦布單元與透明基板用基板的陣列基板區(qū)域?qū)?yīng)且寬度相同，因 此本發(fā)明的摩擦布單元比現(xiàn)有技術(shù)的摩擦布要小很多，纏繞到滾軸時，也更加容易，且 能夠更加貼緊，能夠減小貼合不良，進而在摩擦后得到更加均勻細致的條紋，避免液晶 分子因取向不均導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象，提高液晶顯示器的品質(zhì)。2、通過本發(fā)明的摩擦方法，可以同時制造多個高品質(zhì)的取向膜。


圖1為通過現(xiàn)有的摩擦輥制造取向膜的示意圖；圖2為通過本發(fā)明的摩擦輥制造取向膜的示意圖；圖3為用本發(fā)明的摩擦輥對陣列基板用基板進行摩擦的方法的流程圖。
具體實施例方式下面通過附圖和實施例，對本發(fā)明的技術(shù)方案做進一步的詳細描述。圖2為通過本發(fā)明的摩擦輥制造取向膜的示意圖。如圖2所示，本發(fā)明的大型 的陣列基板用基板100與現(xiàn)有技術(shù)相同，包括多個陣列基板區(qū)域102、103及104，陣列基 板用基板100上整體覆蓋有一層取向?qū)?。本發(fā)明的摩擦輥包括滾軸10及纏繞在所述滾軸上的多個摩擦布單元21、22、23，每個摩擦布單元21、22、23纏繞在滾軸的寬度與其對應(yīng)的陣列基板區(qū)域102、103、 104的寬度相同。實際生產(chǎn)中，摩擦布單元21、22、23的寬度可以稍微比陣列基板區(qū)域
102、103及104的寬度大一些，避免摩擦方向稍微偏離時，也能夠摩擦到整個陣列基板 區(qū)域。將摩擦布單元21、22、23纏繞至滾軸10上時，可以先在摩擦布單元21、22、23 上貼一層雙面膠，在將摩擦布單元21、22、23纏繞在雙面膠上，進行固定。當(dāng)然，也可 以采用現(xiàn)有的任何固定方式進行固定。通過本發(fā)明的摩擦輥，對與摩擦輥平行設(shè)置的一行或一列陣列基板區(qū)域102、
103、104同時進行摩擦，得以制造多個高品質(zhì)的取向膜。本發(fā)明中，可以一邊旋轉(zhuǎn)滾軸10，一邊將滾軸沿箭頭方向移動，進行摩擦。還 可以使?jié)L軸10在固定的位置進行旋轉(zhuǎn)，通過移動陣列基板用基板來進行摩擦。由于本發(fā)明的摩擦布單元與透明基板用基板的陣列基板區(qū)域?qū)?yīng)且寬度相同， 因此本發(fā)明的摩擦布單元比現(xiàn)有技術(shù)的摩擦布要小很多，纏繞到滾軸時，也更加容易， 且能夠更加貼緊，能夠減小貼合不良，進而在摩擦后得到更加均勻細致的條紋，避免液 晶分子因取向不均導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象，提高液晶顯示器的品質(zhì)。圖3為用本發(fā)明的摩擦輥對陣列基板用基板進行摩擦的方法的流程圖。如圖3所示，通過本發(fā)明的摩擦輥進行摩擦的步驟如下步驟1、在陣列基板用基板上沉積取向?qū)?；步驟2、將摩擦輥固定于所述取向?qū)拥纳戏?，使得所述陣列基板用基板的與所述 摩擦輥平行的一行或一列陣列基板區(qū)域與所述摩擦輥的摩擦布單元相互一一對應(yīng)；步驟3、移動所述摩擦輥或所述陣列基板用基板，對所述取向?qū)舆M行摩擦形成取 向。通過本發(fā)明的摩擦方法，可以同時制造多個高品質(zhì)的取向膜。最后應(yīng)說明的是以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對其進行限 制，盡管參照較佳實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理 解其依然可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進行修改或者等同替換，而這些修改或者等同替換 亦不能使修改后的技術(shù)方案脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種摩擦輥，用于摩擦陣列基板用基板，其特征在于，所述摩擦輥包括滾軸及纏 繞在所述滾軸上的多個摩擦布單元，每個摩擦布單元纏繞在滾軸的寬度與其對應(yīng)的所述 陣列基板用基板的陣列基板區(qū)域的寬度相同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦輥，其特征在于，所述多個摩擦布單元上貼設(shè)有雙面 膠，通過雙面膠將所述摩擦布單元與所述滾軸進行固定。
3.一種用如權(quán)利要求1或2所述的摩擦輥對陣列基板用基板進行摩擦的方法，其特征 在于，包括在陣列基板用基板上沉積取向?qū)?；將摩擦輥固定于所述取向?qū)拥纳戏?，使得所述陣列基板用基板的與所述摩擦輥平行 的一行或一列陣列基板區(qū)域與所述摩擦輥的摩擦布單元相互一一對應(yīng)；移動所述摩擦輥或所述陣列基板用基板，對所述取向?qū)舆M行摩擦形成取向。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種摩擦輥及用該摩擦輥對陣列基板用基板進行摩擦的方法。所述摩擦輥包括滾軸及纏繞在所述滾軸上的多個摩擦布單元，每個摩擦布單元纏繞在滾軸的寬度與其對應(yīng)的所述陣列基板用基板的陣列基板區(qū)域的寬度相同。本發(fā)明的摩擦布單元與透明基板用基板的陣列基板區(qū)域?qū)?yīng)且寬度相同，因此本發(fā)明的摩擦布單元比現(xiàn)有技術(shù)的摩擦布要小很多，纏繞到滾軸時，也更加容易，且能夠更加貼緊，能夠減小貼合不良，進而在摩擦后得到更加均勻細致的條紋，避免液晶分子因取向不均導(dǎo)致的漏光現(xiàn)象，提高液晶顯示器的品質(zhì)。
文檔編號G02F1/1337GK102012584SQ200910092000
公開日2011年4月13日 申請日期2009年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月4日
發(fā)明者宋省勛 申請人:北京京東方光電科技有限公司