技術(shù)特征：
1.一種光刻膠清洗劑，含有：季銨氫氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亞砜、聚羧酸類緩蝕劑和氨基唑類緩蝕劑，其中，所述烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子數(shù)目為3～18，所述季銨氫氧化物的含量為質(zhì)量百分比0.1～10％，所述水的含量為質(zhì)量百分比0.1～30％，所述的烷基二醇芳基醚的含量為質(zhì)量百分比1～60％，所述二甲基亞砜的含量為質(zhì)量百分比1～98％，所述聚羧酸類緩蝕劑的含量為質(zhì)量百分比0.01～5％，所述的氨基唑類緩蝕劑的含量為質(zhì)量百分比0.01～5％。2.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，所述的季銨氫氧化物為四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨和/或芐基三甲基氫氧化銨。3.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，所述的季銨氫氧化物的含量為質(zhì)量百分比0.5～5％。4.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，所述的水的含量為質(zhì)量百分比0.5～15％。5.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，所述的烷基二醇芳基醚為丙二醇單苯基醚、異丙二醇單苯基醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單苯基醚、二異丙二醇單苯基醚、三乙二醇單苯基醚、三丙二醇單苯基醚、三異丙二醇單苯基醚、六縮乙二醇單苯基醚、六縮丙二醇單苯基醚、六縮異丙二醇單苯基醚、丙二醇單芐基醚、異丙二醇單芐基醚和/或己二醇單萘基醚。6.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，所述的烷基二醇芳基醚的含量為質(zhì)量百分比5～30％。7.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，所述的二甲基亞砜的含量為質(zhì)量百分比50～90％。8.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，所述的聚羧酸類緩蝕劑為聚丙烯酸或其共聚物、聚甲基丙烯酸或其共聚物、聚丙烯酸醇胺鹽、聚甲基丙烯酸醇胺鹽、聚氧乙烯改性聚丙烯酸或其衍生物、聚氧乙烯改性聚甲基丙烯酸或其衍生物、聚環(huán)...