專利名稱：非對稱型移相光柵標(biāo)記的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光刻機(jī)，尤其涉及一種用于光刻機(jī)投影物鏡波像差的原位檢測 的非對稱型移相光柵標(biāo)記。
背景技術(shù)：
光刻機(jī)是極大規(guī)模集成電路制造工藝中的核心設(shè)備。投影物鏡系統(tǒng)是光刻機(jī)最 重要的分系統(tǒng)之一。投影物鏡的波像差會降低光刻成像質(zhì)量，減小光刻工藝窗口。 在投影物鏡成像過程中，彗差使空間像產(chǎn)生橫向位置偏移，增加光刻機(jī)套刻誤差； 彗差還會導(dǎo)致成像圖形的線寬不對稱，增加曝光視場內(nèi)的CD不均勻性。球差引起曝 光圖形的最佳焦面偏移，使光刻機(jī)焦深減小。隨著光刻特征尺寸的不斷減小，尤其 是各種分辨率增強(qiáng)技術(shù)的使用，投影物鏡波像差對光刻成像質(zhì)量的影響越來越突出。 高精度的投影物鏡波像差原位檢測能為波像差的校正提供及時可靠的數(shù)據(jù)，是一項 重要的光刻機(jī)技術(shù)。
TAMIS (TIS At Multiple Illumination Settings)技術(shù)是目前國際上用于檢測光刻 機(jī)投影物鏡波像差的主要技術(shù)之一。參見在先技術(shù)1， Hans van der Laan, Marcel Dierichs, Henk van Greevenbroek, Elaine McCoo, Fred Stoffels, Richard Pongers, Rob Willekers. "Aerial image measurement methods for fast aberration set-up and illumination pupil verification." Proc. SPIE 2001, 4346, 394-407。 TAMIS技術(shù)采用基于二元掩模圖 形的測試標(biāo)記，通過測量測試標(biāo)記成像時的軸向最佳焦面偏移量和橫向位置偏移量， 計算出投影物鏡的球差和曾差。該技術(shù)對球差和彗差的檢測精度，在3sigma條件下 分別可以達(dá)到3nm和2nm。該技術(shù)的波像差檢測精度由測試標(biāo)記的像差靈敏度決定。 像差靈敏度越大，其檢測精度越高。TAMIS技術(shù)選擇由普通二元掩模圖形，如圖1 所示，組成的光柵作為測試標(biāo)記，忽略了不同種類型掩模圖形組成的測試標(biāo)記的像 差靈敏度之間的差異，影響波像差檢測精度的進(jìn)一步提高。
在TAMIS技術(shù)的基礎(chǔ)上，F(xiàn)AN WANG等人提出了一種基于移相掩模測試標(biāo)記 的光刻機(jī)投影物鏡波像差原位檢測技術(shù)。參見在先技術(shù)2， Fan Wang, Xiangzhao Wang, Mingying Ma， Dongqing Zhang, Weijie Shi and Jianming Hu, "Aberrationmeasurement of projection optics in lithographic tools by use of an alternating phase-shiftingmask,"Appl. Opt, 45,281-287(2006)。該技術(shù)利用移相掩模圖形，如圖2 所示，代替二元掩模圖形作為測試標(biāo)記，利用移相掩模比二元掩模的像差靈敏度高 的優(yōu)點(diǎn)，提高了檢測精度。該技術(shù)采用線寬為250nm,線空比為1:1的對稱型移相 掩模光柵作為測試標(biāo)記，根據(jù)已有的波像差計算模型，計算出待測成像光學(xué)系統(tǒng)的 球差和彗差。在先技術(shù)2通過更換組成檢測標(biāo)記的掩模圖形，使對投影物鏡球差和 彗差的檢測精度分別比在先技術(shù)1提高了 20%和30%。
在先技術(shù)2在測量波像差時，忽略了移相掩模圖形尺寸和線空比對像差靈敏度 的影響，只考慮了利用移相的方法提高像差靈敏度，影響了投影物鏡波像差檢測精 度的進(jìn)一步提高。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于對上述現(xiàn)有技術(shù)的進(jìn)一歩改進(jìn)，提供一種 用于光刻機(jī)投影物鏡波像差原位檢測的非對稱型移相光柵標(biāo)記，以提高光刻機(jī)投影 物鏡波像差的檢測精度。
本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案如下
一種用于原位檢測光刻機(jī)投影物鏡波像差的非對稱型移相光柵標(biāo)記，其特點(diǎn)是 該標(biāo)記由兩組非對稱型移相光柵組成，第一組移相光柵的光柵線條方向?yàn)?0。，第
二組移相光柵的光柵線條方向?yàn)?° ，該非對稱型移相光柵為交替型移相光柵，相 鄰兩透光區(qū)域的相位差為180° ，而透光區(qū)域的寬度相同，光柵周期為不透光區(qū)域 和透光區(qū)域的寬度之和，所述移相光柵的線空比為1:2，即光柵不透光部分和透光部 分的寬度之比為1:2，所述移相光柵的周期為1.92義/AC4，其中A為光刻機(jī)照明系
統(tǒng)光源的波長，7VJ為光刻機(jī)投影物鏡數(shù)值孔徑可變化范圍內(nèi)的最大值和最小值的平 均值。
本實(shí)用新型與在先技術(shù)(在先技術(shù)l、在先技術(shù)2)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)
1、 使用本實(shí)用新型線空比為1:2的非對稱型移相光柵標(biāo)記，土3級衍射光復(fù)振 幅被調(diào)制為0，避免了多級衍射光的平均作用，從而獲得較大的像差靈敏度。
2、 移相光柵的周期得到優(yōu)化。當(dāng)光瞳中只有±1級衍射光時，移相光柵的像差 靈敏度隨光柵周期p的增大而增大。對于線空比為l:2的非對稱型移相光柵，其±3 級衍射光的復(fù)振幅被調(diào)制為0。本實(shí)用新型在保證± 5級衍射光不進(jìn)入光瞳的條件下，
取最大的光柵周期1.92義/^4，同時獲得最大的像差靈敏度。
3、利用本實(shí)用新型的測試標(biāo)記5，可以同時測量球差和彗差。相對于在先技術(shù) 2，通過提高測試標(biāo)記的像差靈敏度，球差和彗差的檢測精度也得到大幅度提高。


圖1:在先技術(shù)1中使用的測試標(biāo)記結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2:在先技術(shù)2中使用的測試標(biāo)記結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3:本實(shí)用新型非對稱型移相光柵標(biāo)記的示意圖。
圖4:本實(shí)用新型非對稱型移相光柵標(biāo)記的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5:本實(shí)用新型采用的波像差檢測系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6:成像位置偏移量和移相光柵標(biāo)記的線空比、光柵周期之間的關(guān)系，其縱
軸表示成像位置偏移量(單位nm)，橫軸表示光柵周期(單位nm)。
圖7:測試標(biāo)記5對三階彗差Z7的靈敏度系數(shù)隨數(shù)值孔徑和部分相干因子的變
化關(guān)系，其縱軸為靈敏度系數(shù)，橫軸為部分相干因子，不同標(biāo)記的曲線對應(yīng)不同的
數(shù)值孔徑NA。
圖8:測試標(biāo)記5對五階彗差Z14的靈敏度系數(shù)隨數(shù)值孔徑和部分相干因子的變
化關(guān)系，其縱軸為靈敏度系數(shù)，橫軸為部分相干因子，不同標(biāo)記的曲線對應(yīng)不同的
數(shù)值孔徑NA。
圖9:測試標(biāo)記5對球差Z9的靈敏度系數(shù)隨數(shù)值孔徑和部分相干因子的變化關(guān)
系，其縱軸為靈敏度系數(shù)，橫軸為部分相干因子，不同標(biāo)記的曲線對應(yīng)不同的數(shù)值
孔徑NA。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，但不應(yīng)以此實(shí)施例限制本 實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
先請參閱圖3和圖4，圖3是本實(shí)用新型非對稱型移相光柵標(biāo)記的示意圖。圖4 是本實(shí)用新型非對稱型移相光柵標(biāo)記的結(jié)構(gòu)示意圖。由圖可見，本實(shí)用新型一種用 于原位檢測光刻機(jī)投影物鏡波像差的非對稱型移相光柵標(biāo)記由兩組非對稱型移相光 柵組成，第一組移相光柵51的光柵線條方向?yàn)?0。，第二組移相光柵52的光柵線 條方向?yàn)?。，該非對稱型移相光柵為交替型移相光柵，相鄰兩透光區(qū)域42和透光
區(qū)域43的相位差為180° ，而透光區(qū)域的寬度相同，光柵周期為不透光區(qū)域41和 透光區(qū)域42的寬度之和，所述移相光柵的線空比為1:2，即光柵不透光部分41和透 光部分42的寬度之比為1:2，所述移相光柵的周期為1.92義/A^4，其中義為光刻 機(jī)照明系統(tǒng)光源的波長，為光刻機(jī)投影物鏡數(shù)值孔徑可變化范圍內(nèi)的最大值和最 小值的平均值。
一種利用上述非對稱型移相光柵標(biāo)記進(jìn)行光刻機(jī)投影物鏡波像差的原位檢測方 法使用的檢測系統(tǒng)如圖5所示。該系統(tǒng)包括產(chǎn)生照明光束的光源1;用于調(diào)整所述 光源發(fā)出的光束的束腰尺寸、光強(qiáng)分布、部分相干因子和照明方式的照明系統(tǒng)2; 能承載測試掩模3并精確定位的掩模臺4;能將測試掩模3上的測試標(biāo)記5成像且 數(shù)值孔徑可調(diào)的投影物鏡6;能承載硅片并具有三維掃描能力和精確定位能力的工 件臺7，安裝在工件臺7上用于測量測試掩模3上測試標(biāo)記5的空間像位置的像傳 感器8。
所述光源1可以是汞燈、準(zhǔn)分子激光器、激光等離子體光源和放電等離子體光
源等紫外和深紫外光源。
所述照明系統(tǒng)2包括擴(kuò)束透鏡組，光束整形器和光束均勻器。 所述照明方式包括傳統(tǒng)照明、環(huán)形照明、二級照明、四級照明等。 所述測試標(biāo)記5為本實(shí)用新型內(nèi)容之一的非對稱型移相光柵標(biāo)記。 所述像傳感器可以是CCD、光電二極管陣列或其它具有光電信號轉(zhuǎn)換功能的探
測器陣列。測量測試標(biāo)記5空間像的偏移量時，首先工件臺7調(diào)焦調(diào)平，然后，對
測試標(biāo)記5經(jīng)投影物鏡所成的空間像進(jìn)行三維掃描，測量得到空間像的最佳焦面偏
移量和焦面內(nèi)的成像位置偏移量。
利用上述非對稱型移相光柵標(biāo)記進(jìn)行光刻機(jī)投影物鏡波像差的原位檢測方法，
包括如下步驟
(1)標(biāo)定投影物鏡6的球差和彗差靈敏度系數(shù)
首先，介紹波像差、成像位置偏移量和像差靈敏度系數(shù)的概念；然后詳細(xì)說明
靈敏度系數(shù)的標(biāo)定方法。
投影物鏡的波像差系指投影物鏡光瞳處理的像波面與實(shí)際波面之間的偏差，通
常由澤尼克多項式來表示<formula>see original document page 7</formula> (1)
其中，p， e為物鏡出瞳面的歸一化極坐標(biāo)。Z7和Zw分別表示三階和五階x方向
彗差，它們與z2均能引起測試標(biāo)記51的空間像在X方向的成像位置偏移AX(p，。。 Z8和Zis分別表示三階和五階Y方向彗差，它們與Z3均能引起測試標(biāo)記52的空間像在 Y方向的成像位置偏移AYOo")。 Z9和Zi6分別表示三階球差和五階球差，它們與Z4
均能引起測試標(biāo)記51和測試標(biāo)記52的空間像在Z方向的最佳焦面偏移AZ、.(y9)。忽略
高階波像差的影響，橫向成像位置偏移量可分別表示為
<formula>see original document page 7</formula> (2)<formula>see original document page 7</formula> (3)
最佳焦面偏移量可以表示為
<formula>see original document page 7</formula> (4)
橫向成像位置偏移量、最佳焦面偏移量與數(shù)值孔徑
在成像位置偏移量和澤尼克系數(shù)之間建立如下方程
<formula>see original document page 7</formula> (5)
<formula>see original document page 7</formula> (6)
<formula>see original document page 7</formula> (7)上述方程可由以下矩陣方程表示
<formula>see original document page 7</formula> (8)
<formula>see original document page 7</formula> (9)<formula>see original document page 8</formula>
(10)
其中，ΔX(NAi,σi)為在不同NA和σ條件下測量得到的測試標(biāo)記51的空間像在X 方向的成像位置偏移ΔX31(NAi,σi)，即
<formula>see original document page 8</formula> (11) AY(NAi,σi)為在不同NA和「條件下測量得到的測試標(biāo)記52的空間像在Y方向的成像 位置偏移AY(NAi,σi,)，即
<formula>see original document page 8</formula> (12).
AZ(NAi,σi)為在不同NA和。條件下測量得到的AZ31(NAi,σi)和AZ32(NAi,σi)的 平均值，即
<formula>see original document page 8</formula> ( 13 )
S1(NAi,σi)、 S2(NAi,σi)、 S3(NAi,σi)、 S4(NAi,σi)、 S5(NAi,σi)、 S6(NAi,σi)、
S7(NAi,σi)、 S8(NAi,σi)、 S9(NAi,σi)、 分別為與z2、 z7、 z14、 z3、 z8、 z15、 z4、
Z9和Z^對應(yīng)的像差靈敏度系數(shù)，由下列公式定義
<formula>see original document page 8</formula>
<formula>see original document page 9</formula>
(20)
(21)
(22)
利用光刻仿真軟件PROLITH標(biāo)定波像差靈敏度系數(shù)。波像差靈敏度系數(shù)是隨 投影物鏡的數(shù)值孔徑和照明系統(tǒng)的部分相干因子的變化而變化的。為了能夠利用不 同照明條件下(iV4,a,)測量得到的成像位置偏移量(AX(AH",) 、 AY(^4,a,)和
<formula>see original document page 9</formula>計算出表示投影物鏡波像差的澤尼克系數(shù)，需要標(biāo)定相應(yīng)照明條件下
的波像差靈敏度系數(shù)S(iV4，。)。照明條件的變化通過在PROLITH軟件中的設(shè)置實(shí) 現(xiàn)，部分相干因子變化范圍為0.3~0.8，歩長為0.1;數(shù)值孔徑變化范圍為0.5~0.8， 步長為O.l，可以得到20組不同的照明條件
<formula>see original document page 9</formula>
舉例說明靈敏度系數(shù)的標(biāo)定方法，在標(biāo)定三階彗差Z7的靈敏度系數(shù)S2(A^,CT,)
時，可設(shè)定一定的Z7值而取其它澤尼克系數(shù)為零，使用光刻仿真軟件計算得到由 Z7引起的成像位置偏移量AX(A^,，a,)，則此時的靈敏度系數(shù)&(AH,cr,)即為
<formula>see original document page 9</formula>&<formula>see original document page 9</formula>的標(biāo)定方法與& (#4,a,)相似。
最后得到(8) (10)式中的三個20x3的靈敏度系數(shù)矩陣。
(2) 測試標(biāo)記5通過投影物鏡6在不同數(shù)值孔徑^4,和部分相干因子(T,條件下
成像；
(3) 根據(jù)標(biāo)定得到的靈敏度矩陣和測量得到的偏移量，計算投影物鏡的球差和
首先，利用(11) (13)式，計算得到第一組移相光柵51的空間像在X方向 的成像位置偏移AX(A^,q)、第二組移相光柵52的空間像在Y方向的成像位置偏
移AY(A^,a,)和最佳焦面偏移量AZ,(AM,，c7,)。然后，根據(jù)測量得到的位置偏移量和
標(biāo)定得到的靈敏度系數(shù)矩陣，利用最小二乘法求解方程組(8) (10)，得到表示投影物鏡球差和彗差的澤尼克系數(shù)Z7、 Z14、 Z8、 Z15、 Z9和Z16。
本實(shí)用新型實(shí)施例中所采用的光刻機(jī)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)如圖5所示，光源1采用波長為 193nm的ArF準(zhǔn)分子激光器，照明系統(tǒng)2提供的照明方式為傳統(tǒng)照明，部分相干因 子變化范圍為0.3 0.8，步長為O.l。投影物鏡5的數(shù)值孔徑變化范圍為0.5 0.8，歩 長為O.l。測試掩模3上的測試標(biāo)記5采用非對稱型移相光柵標(biāo)記，如圖3所示，測 試標(biāo)記5的周期為570nm， CD寬度為190nm，相位區(qū)域?qū)挾葹?80mn。
根據(jù)理論分析可知，此種標(biāo)記的土3級衍射光光強(qiáng)被調(diào)制為0，測試標(biāo)記的像差 靈敏度得到提高。圖3所示移相光柵的透過率函數(shù)t(x)為
<formula>see original document page 10</formula> (23)
其中，pw為相位區(qū)域42和43的寬度，戶為光柵周期。移相光柵的頻譜分布函數(shù)為透過率函數(shù)的傅里葉變換，
<formula>see original document page 10</formula> (24)
其中，.V'是能夠進(jìn)入光瞳的衍射光的最高衍射級次。由(24)式可知，此種光柵的 偶數(shù)級次的衍射光復(fù)振幅被調(diào)制為0， ±1級衍射光復(fù)振幅遠(yuǎn)大于±3和±5級衍射 光。由±1級衍射光引起的成像位置偏移量AZ^可依據(jù)下式估算，
<formula>see original document page 10</formula>(25)
其中, f = 1/(2p), f-1=-1/(2p)分別為+i和-i級衍射光的空間頻率。 1和 2分別為波像差函數(shù)在/i和厶處的值。根據(jù)(1)式和(25)式可知，iAZ,J隨光柵周期的增大
而增大，即當(dāng)光瞳中只有土l級衍射光時，移相光柵的像差靈敏度隨光柵周期p的增 大而增大。但是，隨著光柵周期p的增大，±3級衍射光開始進(jìn)入光瞳，使成像位置 偏移量成為△X1-1, △X3-3,△X13, △X1-3, △X-13和△X-1-3的平均值，像差靈敏度隨之減小。當(dāng)光柵線空比為1:2時，使用線空比為l:2的非對稱型移相光柵標(biāo)記，±3級衍 射光復(fù)振幅被調(diào)制為0，避免了多級衍射光的平均作用，從而獲得較大的像差靈敏度。
從式(23)和(24)可知，移相光柵周期p和線空比的大小會影響移相光柵的 頻譜分布，進(jìn)而影響移相光柵的像差靈敏度。圖6仿真計算了在投影物鏡中只有三 階X方向彗差時，兩種不同線空比的移相光柵成像時的橫向位置偏移量隨光柵周期P的變化關(guān)系。其中，縱軸表示成像位置偏移量(單位nm)，橫軸表示光柵周期(單
位nm)。由圓圈標(biāo)記的曲線表示位相區(qū)域?qū)挾?w和光柵周期戶之比為2:3的移相
光柵的成像位置偏移量隨光柵周期p的變化關(guān)系。由十字標(biāo)記的曲線表示位相區(qū)域
寬度pw和光柵周期/7之比為1:2的移相光柵的成像位置偏移量隨光柵周期; 的變化
關(guān)系。從圖6可知，與對稱型移相光柵相比，線空比為1:2的非對稱型移相光柵在
其周期P為570nm時，得到最大的成像位置偏移量，即像差靈敏度最大。
在本實(shí)施例中，利用本實(shí)用新型內(nèi)容之一的非對稱型光柵檢測光刻機(jī)投影物鏡
的球差和彗差，其步驟如下。
(1)利用光刻仿真軟件PROLITH標(biāo)定投影物鏡的波像差靈敏度系數(shù)矩陣，標(biāo)
定方法如發(fā)明內(nèi)容所述，得到靈敏度系數(shù)矩陣如下
<formula>see original document page 11</formula> (26)
<formula>see original document page 11</formula> (27)
<formula>see original document page 11</formula> (28)
(2) 在不同數(shù)值孔徑AM,和部分相干因子cT,條件下測量第一組移相光柵51的X 方向橫向成像位置偏移量AXw(A^，o",)和最佳焦面偏移量AZw(W^,cT,;)，測量第二 組移相光柵52的Y方向橫向成像位置偏移量AYm(A^，ct,)和最佳焦面偏移量 AZ32(A^,fT,)。由于照明條件不同，每種偏移量測量得到20組數(shù)據(jù)。
(3) 根據(jù)標(biāo)定得到的靈明度系數(shù)矩陣和測量得到的偏移量，利用(8) (13) 式計算投影物鏡的球差和彗差。計算方法如說明內(nèi)容所述。
在測量投影物鏡波像差時，標(biāo)定測試標(biāo)記5的靈敏度矩陣是測量中的關(guān)鍵，而 且靈敏度矩陣中靈敏度系數(shù)的變化范圍直接決定波像差測量精度，其變化范圍越大， 波像差測量精度越高。圖7為本實(shí)用新型所采用的測試標(biāo)記5對三階彗差Z7的靈敏 度系數(shù)隨數(shù)值孔徑和部分相干因子的變化關(guān)系，其縱軸為靈敏度系數(shù)，橫軸為部分 相干因子，不同標(biāo)記的曲線對應(yīng)不同的數(shù)值孔徑NA。圖8為本實(shí)用新型所采用的測 試標(biāo)記5對五階彗差Z14的靈敏度系數(shù)隨數(shù)值孔徑和部分相干因子的變化關(guān)系，其縱 軸為靈敏度系數(shù)，橫軸為部分相干因子，不同標(biāo)記的曲線對應(yīng)不同的數(shù)值孔徑NA。 圖9為本實(shí)用新型所采用的測試標(biāo)記5對球差Z9的靈敏度系數(shù)隨數(shù)值孔徑和部分相 干因子的變化關(guān)系，其縱軸為靈敏度系數(shù)，橫軸為部分相干因子，不同標(biāo)記的曲線 對應(yīng)不同的數(shù)值孔徑NA。根據(jù)靈敏度系數(shù)變化范圍評價波像差的檢測精度，本實(shí)施 例中對投影物鏡球差、彗差的檢測精度比在先技術(shù)2分別提高了 17%和15%。
權(quán)利要求1、一種用于原位檢測光刻機(jī)投影物鏡波像差的非對稱型移相光柵標(biāo)記，其特征在于該標(biāo)記由兩組非對稱型移相光柵組成，第一組移相光柵(51)的光柵線條方向?yàn)?0°，第二組移相光柵(52)的光柵線條方向?yàn)?°，該非對稱型移相光柵為交替型移相光柵，相鄰兩透光區(qū)域(42)和透光區(qū)域(43)的相位差為180°，而透光區(qū)域的寬度相同，光柵周期為不透光區(qū)域(41)和透光區(qū)域(42)的寬度之和，所述移相光柵的線空比為1∶2，即光柵不透光部分(41)和透光部分(42)的寬度之比為1∶2，所述移相光柵的周期為1.92λ/NA，其中λ為光刻機(jī)照明系統(tǒng)光源的波長，NA為光刻機(jī)投影物鏡數(shù)值孔徑可變化范圍內(nèi)的最大值和最小值的平均值。
專利摘要一種非對稱型移相光柵標(biāo)記及在光刻機(jī)物鏡像差檢測中的應(yīng)用，所述標(biāo)記由兩組非對稱型移相光柵組成，兩組光柵的線條方向分別為90度和0度，所述標(biāo)記為交替型移相光柵，光柵中兩相鄰?fù)腹鈪^(qū)域的相位差為180度；移相光柵的線空比為1∶2，移相光柵的周期為1.92λ/NA，其中，λ為光刻機(jī)照明光源的波長，NA為光刻機(jī)投影物鏡數(shù)值孔徑可變化范圍內(nèi)其最大與最小值的平均值。本實(shí)用新型通過優(yōu)化移相光柵的結(jié)構(gòu)和尺寸，測試標(biāo)記的像差靈敏度明顯提高，利用該測試標(biāo)記檢測光刻機(jī)投影物鏡的波像差，檢測精度明顯提高。
文檔編號G02B27/00GK201181391SQ20082005621
公開日2009年1月14日 申請日期2008年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月14日
發(fā)明者王向朝, 袁瓊雁, 邱自成 申請人:中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所