技術(shù)編號：2813284
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及光刻機，尤其涉及一種用于光刻機投影物鏡波像差的原位檢測 的非對稱型移相光柵標記。背景技術(shù)光刻機是極大規(guī)模集成電路制造工藝中的核心設備。投影物鏡系統(tǒng)是光刻機最 重要的分系統(tǒng)之一。投影物鏡的波像差會降低光刻成像質(zhì)量，減小光刻工藝窗口。 在投影物鏡成像過程中，彗差使空間像產(chǎn)生橫向位置偏移，增加光刻機套刻誤差； 彗差還會導致成像圖形的線寬不對稱，增加曝光視場內(nèi)的CD不均勻性。球差引起曝 光圖形的最佳焦面偏移，使光刻機焦深減小。隨著光刻特征尺寸的不斷減...
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