專利名稱：：光波導(dǎo)膜及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及光波導(dǎo)膜及其制造方法。
背景技術(shù)：
：以往，已知利用光波導(dǎo)膜、對設(shè)置在光基片上的多個光學(xué)元件之間進(jìn)行光連接。這種光波導(dǎo)膜配置在光基片時，需要對光基片精密定位，以確保光路準(zhǔn)確。作為這種光波導(dǎo)膜，例如已提出由多個光布線層組成并以硬化型粘接劑為中介、形成在硅基片上的光布線膜(例如參考日本國特開2002—116334號公報)。此方案中，首先，在光布線膜涂敷液狀硬化型粘接劑(未硬化)，接著以液狀硬化型粘接劑層為中介，將光布線膜對光基片定位，然后形成因硬化而具有所希望粘接力的硬化型粘接劑層，并將光布線膜固定在光基片上。然而，日本國特開2002—116334號公報中，對光基片固定光布線膜的期間，液狀硬化型粘接劑進(jìn)行流動，到達(dá)光布線膜與光學(xué)元件的連接部分，則可能妨礙光布線層的光路。另一方面，如果使用預(yù)先具有粘接力的片狀粘接劑層，則粘接劑層難流動，雖然不擔(dān)心妨礙光路，但粘接劑層的初期粘接力大，所以粘接劑層一接觸光基片，就立即將光波導(dǎo)膜固定于光基片。因此，定位中，難以調(diào)整光波導(dǎo)膜對光基片的配置。其結(jié)果，光波導(dǎo)膜難對光基片高精度定位。本發(fā)明的目的在于，提供一種定位時容易剝離從而能得到優(yōu)良的定位精度、并且定位后能將膜可靠地固定的連接可靠性高的光波導(dǎo)膜及其制造方法。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的光波導(dǎo)膜，配備具有包層和被所述包層覆蓋的芯層的膜；以及粘著劑層，該粘著劑層形成在所述膜的至少單面，并在表面具有算術(shù)平均表面粗糙度為0.1微米2.0微米的凹凸結(jié)構(gòu)，而且頻率1赫的扭轉(zhuǎn)模式動態(tài)粘彈性測量得到的25'C的儲存彈性模量為10兆巴100兆巴。本發(fā)明的光波導(dǎo)膜中，由丙烯類粘著劑組成物，形成所述粘著劑層為妥。而且，本發(fā)明的光波導(dǎo)膜中，所述粘著劑層的厚度大于等于IO微米為妥。又，本發(fā)明的光波導(dǎo)膜中，所述粘著劑層的初期粘接力小于等于0.5牛頓/厘米為妥。本發(fā)明的光波導(dǎo)膜制造方法，具有以下工序準(zhǔn)備具有算術(shù)平均表面粗糙度為0.1微米2.0微米的凹凸結(jié)構(gòu)的表面的靠模的工序；在所述靠模的表面涂覆粘著劑組成物的工序；使所述粘著劑組成物硬化，并形成頻率l赫的扭轉(zhuǎn)模式動態(tài)粘彈性測量得到的25'C的儲存彈性模量為10兆巴100兆巴的粘著劑層的工序；準(zhǔn)備具有包層和被所述包層覆蓋的芯層的膜的工序；以及裝貼所述包層和與所述靠模接觸的所述粘著劑層的表面的相反面的表面的工序。根據(jù)本發(fā)明的光波導(dǎo)膜，光波導(dǎo)膜在對被粘接體的初期粘接中，使粘接劑層的特定表面粗糙度的凹凸結(jié)構(gòu)的表面與被粘接體接觸，因此能減小初期粘接力。因此，使定位時的剝離容易，能得到優(yōu)良的定位精度。而且，粘接劑層具有特定的儲存彈性模量，因此能抑制對被粘接體初期粘結(jié)中的粘接劑層的流動，防止粘接劑層妨礙芯層的光路。因此，定位時，能一面重復(fù)膜對被粘接體的粘接和剝離、調(diào)整膜對被粘接體的配置，一面以優(yōu)良的定位精度定位，定位后，能將膜可靠地固定于被粘接體，進(jìn)而能確保優(yōu)良的連接可靠性。又，本發(fā)明的光波導(dǎo)膜制造方法，具有以下工序準(zhǔn)備具有特定表面粗糙度的凹凸結(jié)構(gòu)的表面的靠模的工序；在所述靠模的表面涂覆粘著劑組成物的工序；以及使所述粘著劑組成物硬化，并形成特定儲存彈性模量的粘著劑層的工序。因此，此方法將靠模的表面具有的特定表面粗糙度的凹凸結(jié)構(gòu)，復(fù)制到由涂覆在靠模表面的粘接劑組成物形成的粘接劑層的表面，因此能準(zhǔn)確且簡便地形成具有特定表面粗糙度的凹凸結(jié)構(gòu)的表面的粘接劑層。而且，此方法具有裝貼包層和與靠模接觸的粘著劑層的表面的相反面的表面的工序，因此能充分確保包層與粘接劑層的接觸面積，使包層與粘接劑層可靠地粘接。圖1是一本發(fā)明光波導(dǎo)膜實(shí)施方式的沿寬度方向的剖視圖。圖2是示出圖l所示光波導(dǎo)膜的制造方法的工序圖，(a)示出準(zhǔn)備靠模的工序，(b)示出在靠模的表面涂覆粘接劑組成物的工序，(c)示出使粘接劑組成物硬化并形成粘接劑層的工序，(d)示出裝貼內(nèi)包層和粘接劑層上表面的工序。圖3是示出圖1所示光波導(dǎo)膜的制造方法的工序圖，(a)示出準(zhǔn)備基體材料的工序，(b)示出在基體材料上形成內(nèi)包層的工序，(e)示出將芯層形成在內(nèi)包層上的工序，(d)示出在內(nèi)包層上將外包層形成得覆蓋芯層的工序，(e)示出去除基體材料的工序。圖4是說明將圖l所示光波導(dǎo)膜固定于光基片的方法用的剖視圖，(a)示出從粘接劑層剝下靠模的工序，(b)示出使光波導(dǎo)膜固定于光基片的工序。圖5是粘接劑層(實(shí)施例l)的下表面的激光顯微鏡表面觀察的圖像處理圖(背面圖)。圖6是粘接劑層(實(shí)施例l)的下表面的激光顯微鏡表面觀察的圖像處理圖(立體圖)。具體實(shí)施例方式圖1是一本發(fā)明光波導(dǎo)膜實(shí)施方式的沿寬度方向(與縱向正交的方向)的剖視圖，圖2是示出圖l所示光波導(dǎo)膜的制造方法的工序圖，圖3是示出圖1所示光波導(dǎo)膜的制造方法的工序圖，圖4是說明將圖l所示光波導(dǎo)膜固定于光基片的方法用的剖視圖。圖1中，此光波導(dǎo)膜1形成往縱向延伸的扁帶狀，具有膜2和粘接劑層3。膜2為光波導(dǎo)，形成對應(yīng)于光波導(dǎo)膜1的外形形狀。而且，膜2具有作為包層的內(nèi)包層4和外包層6、以及被內(nèi)包層4和外包層6覆蓋的芯層5。具體而言，膜2具有內(nèi)包層4、形成在內(nèi)包層4上的芯層5、以及在內(nèi)包層4上形成得覆蓋芯層5的外包層6。在內(nèi)包層4的上表面設(shè)置多個(3個)芯層5，將其并行配置，往縱向延伸，并且在寬度方向相互隔開間隔。將芯層5的縱向兩端部做成與多個光學(xué)元件光連接用的連接部分。將各芯層5形成剖視截面為實(shí)質(zhì)上矩形。在膜2的單面，具體而言，在內(nèi)包層4的下表面，設(shè)置粘接劑層3。粘接劑層3將其表面、即粘接劑層3的下表面形成凹凸結(jié)構(gòu)，具體而言，形成算術(shù)平均表面粗糙度為0.1微米Oim)2.0微米的凹凸結(jié)構(gòu)。而且，粘接劑層3的下表面的所述平均表面粗糙度以0.1微米0.5微米為佳，0.15微米0.3微米更好。將所述平均表面粗糙度作為用激光顯微鏡的表面觀察得到的表面粗糙度的算術(shù)平均Ra求出。而且，遵照J(rèn)ISB0601—1994，求出此算術(shù)平均粗糙度。又，粘接劑層的25'C儲存彈性模量為10兆巴(MPa)100兆巴，以10兆巴70兆巴為佳，10兆巴30兆巴更好。將25"儲存彈性模量作為以頻率1赫的扭轉(zhuǎn)模式，求出作為使溫度按5t:/分(min)從一2(TC升至20(TC的動態(tài)粘彈性測量得到的25'C的扭轉(zhuǎn)儲存彈性模量G'。另一方面，將粘接劑層3的背面(具體為粘接劑層的上表面(接觸內(nèi)包層4的下表面的面))形成平坦?fàn)?。又，此光波?dǎo)膜1如圖1的假想線所示，根據(jù)需要，配備覆蓋粘接劑層3的表面(下表面)的靠模7(后文闡述)。接著，參照圖2說明此光波導(dǎo)膜的制造方法。首先，此方法如圖2(a)所示，準(zhǔn)備靠模7。作為形成靠模7的材料，可列舉例如硅、玻璃等陶瓷材料，例如銅、鋁、不銹鋼、鐵合金等金屬材料，例如聚酰亞胺、玻璃—環(huán)氧樹脂、二甲酯(PET)等樹脂材料。根據(jù)凹凸結(jié)構(gòu)容易加工的觀點(diǎn)，以舉樹脂材料為佳，舉PET更好。又，靠模7的表面、具體為靠模7的上表面(與接著涂覆的粘接組成物13接觸的面)形成算術(shù)平均表面粗糙度為0.1微米2.0微米的凹凸結(jié)構(gòu)?？磕?的上表面的算術(shù)平均表面粗糙度的較佳范圍與上述粘接劑層3的下表面的較佳范圍相同。而且，與上文所述同樣地求出所述平均表面粗糙度。利用模壓加工等公知的方法形成靠模7的表面凹凸結(jié)構(gòu)?？磕?的厚度為例如10微米5000微米，以10微米150微米為佳。接著，用此方法如圖2(b)所示那樣在靠模7的表面涂覆粘接劑組成物13。粘接劑組成物13是實(shí)質(zhì)上不包含溶媒、并利用下文所述的硬化形成粘接劑層3的粘接劑組成物，例如，可舉出丙烯類粘接劑組成物。這種丙烯類粘接劑組成物例如包含單體成分或其部分聚合物和引發(fā)劑。單體成分，主要包含(偏)丙烯酸垸基酯，其它還包含具有反應(yīng)性官能團(tuán)的含反應(yīng)性官能團(tuán)乙烯系單體和能與上述單體((偏)丙烯酸垸基酯和含反應(yīng)性官能團(tuán)乙烯系單體)共聚的共聚性乙烯系單體。(偏)丙烯酸烷基酯是甲基丙烯酸垸基酯和/或丙烯酸烷基酯，可列舉例如(例如可列舉)(偏)丙烯酸甲酯、(偏)丙烯酸乙酯、(偏)丙烯酸丙酯、(偏)丙烯酸異丙酯等(偏)丙烯酸烷基(碳數(shù)13直鏈或分支垸基)酯，例如(偏)丙烯酸丁酯、(偏)丙烯酸異丁酯、(偏)丙烯酸sec-丁酯、(偏)丙烯酸t(yī)-丁酯、(偏)丙烯酸戊酯、(偏)丙烯酸新戊酯、(偏)丙烯酸異戊酯、(偏)丙烯酸己酯、(偏)丙烯酸庚酯、(偏)丙烯酸辛酯、(偏)丙烯酸2-乙基己酯、(偏)丙烯酸異辛酯、(偏)丙烯酸壬酯、(偏)丙烯酸異(偏)壬酯、(偏)丙烯酸癸酯、(偏)丙烯酸十(烷)酯、(偏)丙烯酸十一(垸)酯、(偏)丙烯酸十二(垸)酯、(偏)丙烯酸十三(垸)酯、(偏)丙烯酸十四(垸)酯、(偏)丙烯酸十五(烷)酯、(偏)丙烯酸十六(垸)酯、(偏)丙烯酸十七(垸)酯、(偏)丙烯酸異十八(烷)酯((偏)丙烯酸異正十八(垸)酯)等(偏)丙烯酸烷基(碳數(shù)418直鏈或分支烷基)酯，例如(偏)丙烯酸環(huán)己酯、(偏)丙烯酸環(huán)戊酯、(偏)丙烯酸冰片酯、(偏)丙烯酸異冰片酯等(偏)丙烯酸環(huán)垸酯等。這些(偏)丙烯酸垸基酯能單獨(dú)使用或同時使用大于等于2種。(偏)丙烯酸烷基酯的配合比率相對于單體成分IOO重量配份，為例如5099.5重量配份。作為含反應(yīng)性官能團(tuán)的乙烯系單體，可舉出例如含羧基的乙烯系單體。作為這種含羧基羧乙烯系單體，可列舉例如(偏)丙烯酸、富馬酸、馬來酸、衣康酸、巴豆酸、肉桂酸等非飽和羧酸，例如無水富馬酸、無水馬來酸、無水衣康酸等非飽和二羧酸無水物，例如衣康酸(一)甲酯、衣康酸(一)丁酯、2-丙烯酰乙氧基苯二甲酸等非飽和二羧酸(一)酯，例如2-甲烯酰乙氧基偏苯三酸、2-甲烯酰乙氧基1,2,4,5-苯四酸等非飽和三羧酸(一)酯，例如羧乙基丙烯酸酯、羧戊基丙烯酸酯等羧垸基丙烯酸酯等。又，作為含反應(yīng)性官能團(tuán)乙烯系單體，除上述和羧基乙烯系單體外，還可列舉例如(偏)丙烯酸丙三酯、(偏)丙烯酸甲基丙三酯等含環(huán)氧基乙烯系單體，例如丙烯酸2-乙二醇、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸2-羥基丁酯等含1價羥基乙烯系單體，例如(偏)丙烯酸甘醇、(偏)丙烯酸丙二醇、(偏)丙烯酸甲氧基甘醇、(偏)丙烯酸甲氧基丙二醇等含羥基(含2價羥基)乙烯系單體，例如(偏)丙烯酰胺、N，N-二甲基(偏)丙烯酰胺、N,N-二乙基(偏)丙烯酰胺、N-異丙基(偏)丙烯酰胺、N-丁基(偏)丙烯酰胺、N-甲氧甲基(偏)丙烯酰胺、N-羥甲基(偏)丙烯酰胺、N-羥甲基丙垸(偏)丙烯酰胺、N-乙烯羧酸酰胺等含酰胺基乙烯系單體，例如(偏)丙烯酸氨基乙酯、(偏)丙烯酸t(yī)-丁氨基乙酯等含氨基乙烯系單體，例如丙烯腈、甲烯腈等含腈基乙烯系單體，例如N-環(huán)己順丁烯二酰亞胺、N-十二(烷)基順丁烯二酰亞胺、N-苯基順丁烯二酰亞胺等含順丁烯二酰亞胺類的酰亞胺基的乙烯系單體，例如N-甲基衣康酰亞胺、N-乙基衣康酰亞胺、N-丁基衣康酰亞胺、N-辛基衣康酰亞胺、N-2-乙基己衣康酰亞胺、N-環(huán)己衣康酰亞胺、N-十二(院)基衣康酰亞胺等含衣康酰亞胺類酰亞胺基的乙烯系單體，例如N-(偏)丙烯酰甲酵琥珀酰亞胺、N-(偏)丙烯酰-6-氧化環(huán)己烷琥珀酰亞胺、N-(偏)丙烯酰-8-氧化1，8亞辛基琥珀酰亞胺等含琥珀酰亞胺類酰亞胺基的乙烯系單體，例如苯乙烯磺酸、烯炳基磺酸、2-(偏)丙烯酰胺酰亞胺-2-甲基丙垸磺酸、(偏)丙烯酰胺酰亞胺丙垸磺酸、磺丙基(偏)丙烯酸酯、(偏)丙烯酰氧化萘磺酸的含磺酸乙烯系單體，例如2-甲基丙烯酰氧化乙酯異氰酸鹽等含異氰酸鹽的乙烯系單體等。這些含反應(yīng)性官能團(tuán)乙烯系單體中，以舉含羧基乙烯系單體為佳。含反應(yīng)性官能團(tuán)乙烯系單體的配合比率相對于單體成分100重量配份，為例如0.515重量配份。作為共聚性乙烯系單體，可列舉例如乙烯基乙酸酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類，例如乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等烯屬單體，例如(偏)丙烯酸苯酯等(偏)丙烯酸烯丙酯((偏)丙烯酸環(huán)己酯、(偏)丙烯酸環(huán)戊酯、(偏)丙烯酸冰片酯、(偏)丙烯酸異冰片酯等(偏)丙烯酸酯環(huán)式烴酯，例如(偏)丙烯酸苯等(偏)丙烯酸烯丙酯)，例如苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族類乙烯基單體，(例如(偏)丙烯酸甲酯、(偏)丙烯酸乙酯、(偏)丙烯酸丙酯、(偏)丙烯酸異丙酯等(偏)丙烯酸烷基(碳數(shù)13直鏈或分支垸基)酯)，例如(偏)丙烯酰嗎啉、(偏)丙烯酸氨基乙酯、(偏)丙烯酸N，N-二甲氨基乙酯、(偏)丙烯酸t(yī)-丁氨基乙酯等含氮原子乙烯系單體，例如(偏)丙烯酸甲氧基乙酯、(偏)丙烯酸乙氧基乙酯、(偏)丙烯酸甲氧基乙烯甘醇、(偏)丙烯酸甲氧基丙烯甘醇等含醇氧基乙烯系單體，例如乙烯醚等乙烯醚系單體，例如氯乙烯等含卣素原子單體，例如N-吡咯烷酮、N-(乙烯基甲基)吡咯烷酮、N-乙烯基綠毛菌素、N-乙烯基薄荷酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡咯N-乙烯基咪唑、N-乙烯基啞唑、N-乙烯基嗎啉、(偏)丙烯酸氫糠酯等含乙烯基雜環(huán)化合物，例如含鹵素原子丙烯酸的丙烯酸酯系單體等。又，作為共聚性乙烯系單體，可舉多官能性單體。作為多官能性單體，可列舉例如乙二醇二(偏)丙烯酸酯、二乙二醇二(偏)丙烯酸酯、三乙二醇二(偏)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(偏)丙烯酸酯、四甘醇二(偏)丙烯酸酯、新戊基甘醇(偏)丙烯酸酯、1，6-己二元醇二(偏)丙烯酸酯、季戊四醇(偏)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(偏)丙烯酸酯、二季戊四醇六(偏)丙烯酸酯等(單或聚)亞烷基多元醇聚(偏)丙烯酸酯或苯乙烯等。而且，作為多官能性單體，還可舉環(huán)氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、尿烷丙烯酸酯等。這些共聚單體中，以舉多官能性單體為佳。這些共聚性乙烯系單體可單獨(dú)使用，也可同時使用大于等于2種。共聚性乙烯系單體的配合比率相對于單體成分100重量配份，為例如小于等于49重量配份。單體成分的部分聚合物，是存在引發(fā)劑的情況下能將單體成分部分聚合(預(yù)聚合)未反應(yīng)單體成分和聚合體成分的混合物。部分聚合物的聚合率為例如240重量％，以520重量％為佳。再者，精確秤出約0.5克(g)的部分聚合物，對其精確秤出13(TC下進(jìn)行烘干2小時后的重量，求出重量的減少量，將得到的數(shù)值代入下面的公式，從而算出部分聚合物的聚合率。部分聚合物的聚合率(％)=[1-(重量減少量)/(烘干前的部分聚合物的重量)]x100作為引發(fā)劑的例子，可舉例如光聚合引發(fā)劑、熱聚合引發(fā)劑等。根據(jù)容易硬化的觀點(diǎn)，舉光聚合引發(fā)劑為佳。作為光聚合引發(fā)劑，可列舉例如苯偶姻乙醚、苯偶姻丙醚、2,2-二甲氧基-1，2-苯乙烷-1-酮等苯偶姻乙醚，例如茴香醚甲醚等取代苯偶姻醚，例如2，2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-二苯乙酮、1-羥基-環(huán)己苯酮等取代苯乙酮，例如2-甲基-2-羥苯基，乙基(甲)酮等芳香族氯化磺酰，例如l-苯基-l，1-丙二酮-2-(0-乙氧基碳酰)-肟等光激活性肟。以舉2，2-二甲氧基-1,2-苯乙烷-l-酮、l-羥基-環(huán)己苯酮為佳。光聚合引發(fā)劑通常使用一般市售品，例如IRGACURE系歹U(CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)，具體可舉IRGACURE651(2,2-2,2-二甲氧基-1,2-苯乙垸-l-酮)、IRGACURE184(l-羥基-環(huán)己苯酮)等。這些引發(fā)劑可單獨(dú)使用或同時使用大于等于2種。引發(fā)劑的配合比率對單體成分100重量配份，為例如0.015重量配份，以0.13重量配份為佳。通過配合上述單體成分和引發(fā)劑并進(jìn)行混合，能得到粘著劑組成物13。又，粘著劑組成物13可根據(jù)需要，以適當(dāng)比率添加例如粘度調(diào)整劑、交聯(lián)劑、剝離調(diào)整劑、增塑劑、軟化劑、填充劑、著色劑(顏料、染料等)、防老化劑等粘著劑組成物中通常添加的添加劑。作為粘度調(diào)整劑，可舉苯乙烯類成塊聚合物。涂覆粘著劑時，可用例如澆注、旋涂的涂覆法。根據(jù)接著形成的粘著劑層3的厚度，適當(dāng)選擇這樣涂覆的粘著劑組成物13的厚度，但大于等于10微米，以大于等于20微米為佳，通常小于等于400微米。接著，此方法如圖2(c)所示，使粘接劑組成物13硬化，形成粘接劑層3。使粘接劑組成物13硬化時，例如粘接劑組成物13含有光聚合引發(fā)劑作為引發(fā)劑，則對粘接劑組成物13照射光，而例如粘接劑組成物13含有熱聚合引發(fā)劑作為引發(fā)劑，則對粘接劑組成物13加熱。以對粘著劑組成物13照射光(紫外線)為佳。紫外線照射中，例如以400毫焦/厘米"mJ/cm2)4000毫焦/厘米2的劑量照射波長300納米(nm)400納米的照度為1毫瓦/厘米"mW/cm2)200毫瓦/厘米2的紫外線。又，紫外線照射中，如圖2(b)的假想線所示，在已涂覆的粘接劑組成物13的表面(上表面)，根據(jù)需要，疊積PET等合成樹脂的組成的脫模膜8，使粘著劑層13斷氧。為了提高從粘著劑層13的剝離性，按照需要，在脫模膜8的表面(下表面)進(jìn)行硅處理等剝離處理。由此，使粘著劑層13硬化，形成上述25'C的儲存彈性模量為10兆巴100兆巴的粘著劑層3。這樣形成的粘著劑層3，其厚度為例如大于等于IO微米，以大于等于20微米為佳，通常小于等于400微米。接著，此方法如圖3(e)所示，準(zhǔn)備具有內(nèi)包層4、芯層5和外包層6的膜2。準(zhǔn)備膜2時，如圖3(a)所示，首先準(zhǔn)備基體材料12。基體材料12做成板狀；作為形成此基體材料12的材料，可舉與上述靠模7的材料相同的材料。根據(jù)后文闡述的容易去除的觀點(diǎn)，可舉金屬材料?；w材料12的厚度為例如IO微米5000微米，以10微米1500微米為佳。接著，此方法如圖3(b)所示，在基體材料12上形成內(nèi)包層4。作為形成內(nèi)包層4的材料，可舉例如聚酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、硅樹脂、環(huán)氧樹脂或者它們的氟化樹脂或氘化樹脂，還可舉芴感應(yīng)體樹脂的樹脂材料。這些樹脂材料最好配合感光劑，作為感光樹脂使用。以舉感光聚酰亞胺樹脂(作為原材料，感光聚酰胺-酰亞胺樹脂或感光氟化聚酰胺-酰亞胺樹脂樹脂)和感光芴感應(yīng)體樹脂(作為原材料，感光芴感應(yīng)體)。在基體材料12上形成內(nèi)包層4時，例如調(diào)制上述樹脂的漆(樹脂溶液)，利用澆注、旋涂等，將該漆涂覆在基體材料12上后，使其干燥，根據(jù)需要，進(jìn)行加熱。再者，使用感光材料的情況下，漆的涂覆和干燥后，以光掩模為中介進(jìn)行曝光，根據(jù)需要，曝光后進(jìn)行加熱，然后進(jìn)行顯像，接著進(jìn)行加熱。這樣形成的內(nèi)包層4的厚度，為例如5微米100微米。接著，此方法如圖3(c)所示，在內(nèi)包層4上形成芯層5。作為形成芯層5的材料，可舉折射率高于內(nèi)包層4的樹脂材料的樹脂材料。作為這種樹脂材料，可舉與上文所述相同的樹脂材料。形成芯層5時，例如調(diào)制上述樹脂的漆(樹脂溶液)，將該漆涂覆在內(nèi)包層4的表面后，使其干燥，根據(jù)需要，使其硬化。再者，使用感光材料的情況下，漆的涂覆和干燥后，以光掩模為中介進(jìn)行曝光，根據(jù)需要，曝光后進(jìn)行加熱，然后進(jìn)行顯像，接著進(jìn)行加熱。這樣形成的芯層5的厚度，為例如5微米100微米。寬度為例如5微米100微米。接著，此方法如圖3(d)所示，在內(nèi)包層4上形成外包層6，使其覆蓋芯層5。作為形成外包層6的材料，可舉與上述內(nèi)包層4相同的材料。再者，內(nèi)包層4和外包層6可由相同的樹脂材料形成，也可由不同的樹脂材料形成。在內(nèi)包層4上形成外包層6時，例如調(diào)制上述樹脂的漆(樹脂溶液)，利用例如澆注、旋涂等將該漆涂覆在包含芯層5的內(nèi)包層4上后，使其干燥，根據(jù)進(jìn)行加熱。再者，使用感光材料的情況下，漆的涂覆和干燥后，以光掩模為中介進(jìn)行曝光，根據(jù)需要，曝光后進(jìn)行加熱，然后進(jìn)行顯像，接著進(jìn)行加熱。這樣形成的外包層6的厚度，為例如5微米100微米。其后，此方法如圖3(e)所示，去除基體材料12。作為基體材料12的去除，可用例如蝕刻、剝離等。這樣，能準(zhǔn)備具有內(nèi)包層4、芯層5和外包層6的膜2。接著，此方法如圖2(d)所示，裝貼內(nèi)包層4和粘著劑層3的平坦表面(接觸靠模7的表面的相反方的表面)。具體而言，裝貼膜2的內(nèi)包層4的下表面和粘著劑層3的上表面(粘著劑層3的平坦表面)。這樣，能得到光波導(dǎo)膜1。又，此光波導(dǎo)膜l中，后文的實(shí)施例詳述的粘著劑層3的初期粘接力為例如小于等于0.5牛頓/厘米(N/cm)，以小于等于0.2牛頓/厘米為佳，通常為大于等于0.1牛頓/厘米；粘著劑層3壓接后的粘接力為例如大于等于1牛頓/厘米，以大于等于1.1牛頓/厘米為佳，通常小于等于3牛頓/厘米。接著，參照圖4說明將光波導(dǎo)膜1固定在光基片9上的方法。首先，如圖4(a)所示，得到的光波導(dǎo)膜l中，從粘著劑層3剝下靠模7(參考圖2(d))。由此，露出具有凹凸結(jié)構(gòu)的粘著劑層3的下表面。其后，如圖4(b)所示，使光波導(dǎo)膜1固定在具有光學(xué)元件(未圖示)的光基片9上。于是，對光基片9固定光波導(dǎo)膜1中，首先，一面將光波導(dǎo)膜l對光基片9從上方定位成與光學(xué)元件相鄰，一面使粘著劑層3的下表面暫時與光基片9的上表面接觸(初期粘接)。接著，如果將光波導(dǎo)膜1對光基片9定位成光連接芯層5的連接部分和光學(xué)元件的連接部分，則使光波導(dǎo)膜1原樣往下方壓接，從而使光波導(dǎo)膜1固定在光基片1上。另一方面，如果未將光波導(dǎo)膜1對光基片1定位，則一面往上方撤離光波導(dǎo)膜1，從光基片9剝下粘著劑層3，將光波導(dǎo)膜1對光基片9定位(修正位置)，一面使粘著劑層3的下表面與光基片9的上表面接觸。其后，如果將光波導(dǎo)膜1對光基片9定位成光連接芯層5的連接部分和光學(xué)元件的連接部分，則使光波導(dǎo)膜1固定于光基片1。再者，如果未將光波導(dǎo)膜1對光基片1定位，則重復(fù)上述剝離和粘接。于是，上述光波導(dǎo)膜1的制造方法，將靠模7的上表面具有的特定表面粗糙度的凹凸結(jié)構(gòu)，復(fù)制到涂敷在靠模7的上表面的粘著劑組成物13形成的粘著劑層3的下表面，因此能可靠且簡便地形成具有特定表面粗糙度的凹凸結(jié)構(gòu)的下表面的粘著劑層3。又，光波導(dǎo)膜1的制造方法，充分確保內(nèi)包層4與粘著劑層3的接觸面積，能使內(nèi)包層4與粘著劑層3可靠地粘接。而且，利用此方法得到的光波導(dǎo)膜1在對光基片9的初期粘接中，使粘著劑層3的特定表面粗糙度的凹凸結(jié)構(gòu)的下表面與光基片9接觸，因此能使初期粘接力減小。因此，使定位時的剝離容易，能得到優(yōu)良的定位精度。又，粘著劑層3具有特定儲存彈性模量，因此對光基片9的初期粘接后的接合(壓接)中，使粘著劑層3的特定表面粗糙度的凹凸結(jié)構(gòu)的下表面與光基片9壓接，可確保充分的粘接力，能使膜2可靠地固定于光基片9。而且，由于粘著劑層3具有特定儲存彈性模量，抑制對光基片9的初期粘接中粘著劑層3的流動，從而能防止粘著劑層3妨礙芯層5的連接部分與光學(xué)元件的連接部分之間的光路。因此，在定位時，能一面重復(fù)膜2對光基片1的粘接和剝離，調(diào)整膜2對光基片9的配置，一面以優(yōu)良的定位精度進(jìn)行定位，而在定位后能將膜2可靠地固定于光基片9，進(jìn)而能確保優(yōu)良的連接可靠性。再者，上述說明中，僅在內(nèi)包層4的下表面設(shè)置粘著劑層3，但也能除內(nèi)包層4的下表面外，還在外包層6的上表面設(shè)置粘著劑層3。實(shí)施例下面，舉實(shí)施例和比較例，進(jìn)一步具體說明本發(fā)明。但是，本發(fā)明不受下面的實(shí)施例和比較例任何限制。再者，下面的說明中，"份"和"％"是以重量基準(zhǔn)，除非專門標(biāo)明。實(shí)施例1(調(diào)制粘著劑組成物)在配備冷卻管、氮導(dǎo)入管、溫度計和攪拌機(jī)的4口燒瓶中，添加并混合丙烯酸異硬脂酰酯75份、丙烯酸12份、1,6-己二元醇二丙烯酸酯0.1份、IRGACURE651(光聚合引發(fā)劑，CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)0.2份、IRGACURE184(CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)0.2份和苯乙烯類成塊聚合物SEBS(粘度調(diào)整劑，住友化學(xué)公司制)25份，從而調(diào)制粘著劑組成物。(形成粘著劑層)準(zhǔn)備將上表面加工處理(磨砂編碼處理)成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜(EMBLTSM-38，厚38微米，尺寸200毫米X300毫米，UNICHIKA公司制)(參考圖2(a))，接著在此PET膜的上表面涂覆粘著劑組成物，使其硬化后的厚度為40微米(參考圖2(b))。然后，裝貼該粘著劑組成物和對下表面作硅處理(剝離處理)后的厚度為35微米的PET組成的脫模膜，使粘著劑組成物與脫模膜的下表面接觸，從而使粘著劑組成物斷氧(參考圖2(b)的假想線)。接著，從脫模膜的上方，用黑光(東芝公司制)以照度3.6毫瓦/厘米"mW/cm2)照射紫外線(波長315納米(nm)400納米)5分鐘，使粘著劑組成物硬化，形成被PET膜和脫模膜夾在中間的粘著劑層(參考圖2(c))。(制作膜)首先，準(zhǔn)備厚25微米的不銹鋼基體材料(尺寸為200毫米X300毫米)(參考圖3(a))。接著，按照表1的處方調(diào)制芴感應(yīng)體漆A。接著，將此芴感應(yīng)體漆A涂覆于不銹鋼基體材料的表面，以IO(TC加熱15分鐘，從而烘干。其后，以光掩模為中介進(jìn)行曝光，接著進(jìn)行顯像后，以10(TC加熱20分鐘，使其硬化，從而在不銹鋼基體材料上形成內(nèi)包層(參考圖3(b))。內(nèi)包層在波長633納米的折射率為1.585。而且，內(nèi)包層的厚度為20微米。又，按照表1的處方調(diào)制芴感應(yīng)體漆B。接著，將此芴感應(yīng)體漆B涂覆于內(nèi)包層的表面，以10(TC加熱30分鐘，從而烘干。其后，以光掩模為中介進(jìn)行曝光，接著曝光后以10(TC加熱60分鐘后，進(jìn)行顯像。然后，以100'C加熱IO分鐘，使其硬化，從而在內(nèi)包層上形成芯層。此芯層在波長633納米的折射率為1.615。而且，芯層的厚度為5微米，寬度為5微米。接著，將芴感應(yīng)體漆A涂覆于含芯層的內(nèi)包層的表面，以10(TC加熱15分鐘，從而烘干。其后，以光掩模為中介進(jìn)行曝光，接著進(jìn)行顯像。其后，以100。C加熱20分鐘，使其硬化，從而在內(nèi)包層上將外包層形成得覆蓋芯層(參考圖3(d))。此外包層在波長633納米的折射率為1.585。而且，外包層的厚度為20微米。然后，利用蝕刻去除不銹鋼基體材料(參考圖3(e))。由此，準(zhǔn)備好具有內(nèi)包層、芯層和外包層的膜。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage16</column></row><table>*1:雙苯氧基乙烯醇芴二縮水甘油醚*2:雙苯酚芴二縮水甘油醚*3:3，4-環(huán)氧環(huán)己烯甲基-3'，4'-環(huán)氧環(huán)己烯羧化物(CEROXIDE2021P，DAICER化學(xué)公司制)*4:含50%的4,4-雙[二(p羥基乙氧基)二苯砜]二苯硫醚-雙-氟代銻酸鹽的丙碳酸鹽溶液(制作光波導(dǎo)膜)首先，從粘著劑層剝下脫模膜，然后，將膜的內(nèi)包層下表面與粘著劑層上表面粘合(參考圖2(d))。由此，制作了具有膜和粘著劑層的光波導(dǎo)膜。實(shí)施例2在實(shí)施例1的形成粘著劑層中，將粘著劑組成物涂覆成硬化后的厚度為70微米。除這點(diǎn)外，與實(shí)施例1同樣地形成粘著劑層，接著制作光波導(dǎo)膜。實(shí)施例3在實(shí)施例1的形成粘著劑層中，將粘著劑組成物涂覆成硬化后的厚度為120微米。除這點(diǎn)外，與實(shí)施例1同樣地形成粘著劑層，接著制作光波導(dǎo)膜。實(shí)施例4(調(diào)制粘著劑組成物)在配備冷卻管、氮導(dǎo)入管、溫度計和攪拌機(jī)的4口燒瓶中，添加并混合丙烯酸2-乙基己酯45份、丙烯酸10份、丙烯酸異冰片酯45份、1，6-己二元醇二丙烯酸酯0.1份、IRGACURE651(光聚合引發(fā)劑，CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)0.05份和IRGACURE184(CHIBASPECIALITYCHEMICALS公司制)0.05份。然后，一面導(dǎo)入氮，一面照射紫外線，使其預(yù)聚合，從而調(diào)制由部分聚合物(單體漿)組成的粘著劑組成物。再者，部分聚合物的聚合率為8%。(形成粘著劑層和制作光波導(dǎo)膜)除使用上述調(diào)制的粘著劑組成物外，與實(shí)施例同樣地形成粘著劑層(厚40微米)，接著制作光波導(dǎo)膜。實(shí)施例5實(shí)施例4的調(diào)制粘著劑組成物中，使用丙烯酸15份，以代替丙烯酸10份。除這點(diǎn)外，與實(shí)施例4相同地調(diào)制含部分聚合物的粘著劑組成物，接著形成粘著劑層(厚40微米)后，接著制作光波導(dǎo)膜。再者，部分聚合物的聚合率為8%。比較例1實(shí)施例1的形成粘著劑層中，使用普通PET膜(未加工處理成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜)，以代替加工處理成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜。除這點(diǎn)外，與實(shí)施例1同樣地形成粘著劑層后，接著制作光波導(dǎo)膜。比較例2實(shí)施例4的形成粘著劑層中，使用普通PET膜(未加工處理成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜)，以代替加工處理成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜。除這點(diǎn)外，與實(shí)施例4同樣地形成粘著劑層后，接著制作光波導(dǎo)膜。比較例3實(shí)施例5的形成粘著劑層中，使用普通PET膜(未加工處理成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜)，以代替加工處理成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜。除這點(diǎn)外，與實(shí)施例5同樣地形成粘著劑層后，接著制作光波導(dǎo)膜。比較例4(調(diào)制聚合物溶液)在配備冷卻管、氮導(dǎo)入管、溫度計和攪拌機(jī)的4口燒瓶中，添加丙烯酸丁酯100份、丙烯酸1份、丙烯酸4-羥基丁酯0.3份、2，2'-偶氮雙異丁腈0.l份和乙酸乙酯20份，一面緩慢攪拌，一面導(dǎo)入l小時氮?dú)狻Ｈ缓?，一面?dǎo)入氮?dú)猓幻鎸績?nèi)的液溫保持55'C6(TC，進(jìn)行10小時的聚合后，調(diào)制聚合體溶液。(調(diào)制粘著劑溶液)相對于聚合體固態(tài)部分100份添加甲苯二異氰酸鹽的三甲基丙烷阿達(dá)克特體(CORONETL，日本聚亞胺酯公司制)l份，一面攪拌一面混合，從而調(diào)制粘著劑溶液。(形成粘著劑層)準(zhǔn)備將上表面加工處理(磨砂表面處理)成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜(RMBLETSM-38，厚38微米；UNICHIKA公司制)(參考圖2(a))，接著在此PET膜表面將粘著劑溶液涂覆成干燥后的厚度為40微米(參考圖2(b))。接著，投入13(TC的干燥機(jī)3分鐘，使殘存的單體揮發(fā)，從而形成粘著劑層(參考圖2(c))。(制作光波導(dǎo)膜)將膜的內(nèi)包層下表面和粘著劑層上表面粘合(參考圖3(d))由此，制作具有膜和粘著劑層的光波導(dǎo)膜。(評價)(1)儲存彈性模量(G')對各實(shí)施例和各比較例中形成的粘著劑層，使用動態(tài)粘彈性測量裝置(ARES，TA*INSTRUMENT公司制)，以頻率1赫的扭轉(zhuǎn)模式使溫度按5°C/分從一2(TC升高到20(TC，并算出25。C的儲存彈性模量。表2示出其結(jié)果。(2)算術(shù)平均表面粗糙度(Ra)對加工處理成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜的上表面以及各實(shí)施例和各比較例形成的粘著劑層的下表面，根據(jù)使用激光顯微鏡(1LM21H，Lasertec公司制)的表面觀察結(jié)果算出算術(shù)平均表面粗糙度Ra。再者，遵照J(rèn)ISB0601-1944算出算術(shù)平均表面粗糙度。加工成凹凸結(jié)構(gòu)的PET膜的上表面的算術(shù)平均表面粗糙度Ra為0.18微米。又，表2示出各實(shí)施例和各比較例形成的粘著劑層下表面的算術(shù)平均表面粗糙度Ra。而且，圖5和圖6示出實(shí)施例1的粘著劑層下表面的激光顯微鏡表面觀察的圖像處理圖。圖5是粘著劑層下表面的背面圖，圖6是粘著劑層下表面的立體圖。(3)初期粘接力對得到的光波導(dǎo)膜的粘著劑層算出使其以壓力1千巴(kPa)接觸時的粘接力，作為初期粘接力。表2示出其結(jié)果。(4)壓接后粘接力(90。剝離試驗)將得到的光波導(dǎo)膜的粘著劑層以壓力400千巴、溫度130'C的滾筒粘合于硅組成的光基片。然后，在23t;下放置30分鐘后，以50毫米/分的速度往90度方向?qū)⒐獠▽?dǎo)膜的一端對光基片剝離，并測量其阻力(90。剝離試驗)。90°剝離試驗中，光波導(dǎo)膜的一端剝離IO毫米前不測量，超過10毫米后開始測量，并算出最小阻力作為壓接后粘接力。表2示出其結(jié)果。再者，作為本發(fā)明示例實(shí)施方式提供了上述說明，但這只不過是示例，并非限定性解釋。后文所述權(quán)利要求書包含本領(lǐng)域技術(shù)人員明白的本發(fā)明變換例。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage19</column></row><table>權(quán)利要求1、一種光波導(dǎo)膜，其特征在于，配備具有包層和被所述包層覆蓋的芯層的膜；以及粘著劑層，該粘著劑層形成在所述膜的至少單面，并在表面具有算術(shù)平均粗糙度為0.1微米～2.0微米的凹凸結(jié)構(gòu)，而且頻率1赫的扭轉(zhuǎn)模式動態(tài)粘彈性測量得到的25℃的儲存彈性模量為10兆巴～100兆巴。2、如權(quán)利要求1中所述的光波導(dǎo)膜，其特征在于，由丙烯類粘著劑組成物，形成所述粘著劑層。3、如權(quán)利要求1中所述的光波導(dǎo)膜，其特征在于，所述粘著劑層的厚度大于等于IO微米。4、如權(quán)利要求1中所述的光波導(dǎo)膜，其特征在于，所述粘著劑層的初期粘接力小于等于0.5牛頓/厘米。5、一種光波導(dǎo)膜制造方法，其特征在于，具有以下工序準(zhǔn)備具有算術(shù)平均表面粗糙度為0.1微米2.0微米的凹凸結(jié)構(gòu)的表面的靠模的工序；在所述靠模的表面涂覆粘著劑組成物的工序；使所述粘著劑組成物硬化，并形成頻率l赫的扭轉(zhuǎn)模式動態(tài)粘彈性測量得到的25'C的儲存彈性模量為10兆巴100兆巴的粘著劑層的工序；準(zhǔn)備具有包層和被所述包層覆蓋的芯層的膜的工序；以及裝貼所述包層和與所述靠模接觸的所述粘著劑層的表面的相反面的表面的工序。全文摘要光波導(dǎo)膜配備具有包層和被所述包層覆蓋的芯層的膜；以及粘著劑層，該粘著劑層形成在所述膜的至少單面，并在表面具有算術(shù)平均粗糙度為0.1微米～2.0微米的凹凸結(jié)構(gòu)，而且頻率1赫的扭轉(zhuǎn)模式動態(tài)粘彈性測量得到的25℃的儲存彈性模量為10兆巴～100兆巴。文檔編號G02B6/13GK101359069SQ20081014428公開日2009年2月4日申請日期2008年7月30日優(yōu)先權(quán)日2007年7月31日發(fā)明者疋田貴巳,程野將行,長崎國夫申請人:日東電工株式會社