專利名稱：取向膜摩擦工藝用摩擦布的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種液晶顯示裝置生產(chǎn)裝置，特別是一種取向膜摩擦工藝用 摩擦布。
背景技術(shù)：
近年來，液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display,簡稱LCD)產(chǎn)品已 應(yīng)用到多種領(lǐng)域。液晶顯示裝置的主體結(jié)構(gòu)包括對盒在一起將液晶物質(zhì)填充 其間的彩膜基板和陣列基板，利用電場進(jìn)行液晶分子的取向控制，通過液晶 折射率各向異性使透射率發(fā)生變化并進(jìn)行顯示。為使液晶分子得到一樣的排 列，彩膜基板和陣列基板的內(nèi)表面上均涂敷有取向膜。目前的取向技術(shù)主要 采用摩擦(robbing)法實(shí)現(xiàn)，對液晶分子產(chǎn)生均一的錨定作用，從而使液晶 分子在彩膜基板和陣列基板之間的某一區(qū)域內(nèi)以一定的溝槽呈現(xiàn)均勻、 一致 的排列。
現(xiàn)有技術(shù)取向膜摩擦工藝一般采用摩擦布按一定方向摩擦取向膜。圖7 為現(xiàn)有摩擦布的結(jié)構(gòu)示意圖，摩擦布包括基膜1和摩擦毛羽2,摩擦毛羽 2 (摩擦布與基板相接觸的部分)為沿基膜長度方向等高度設(shè)置。摩擦布 摩擦取向膜后，在取向膜表面摩擦出按一定方向排列的溝槽，取向膜上的液 晶分子依該溝槽排列。摩擦毛羽的材料一般是人造纖維(Rayon)或棉絨 (Cotton)，人造纖維的特點(diǎn)是摩擦毛羽的長度短，但彈性好，即使與基 板接觸長度短也能具有較好的摩擦強(qiáng)度；棉絨的特點(diǎn)是可以設(shè)置多個(gè)摩擦 毛羽，多個(gè)摩擦毛羽與取向膜同時(shí)接觸，取向精密度較高。
現(xiàn)有技術(shù)為了提高液晶的取向力，在摩擦工藝中注重增加摩擦毛羽與 取向膜的接觸長度，以增大保留液晶的錨定力，防止殘像等現(xiàn)象。但是，摩擦毛羽與取向膜的接觸長度增加使摩擦強(qiáng)度增大，導(dǎo)致取向方向均勻度 降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，有效解決現(xiàn)有技術(shù) 摩擦毛羽與取向膜接觸長度增加導(dǎo)致取向方向均勻度降低等技術(shù)缺陷。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，包括 貼附于配向滾軸外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽，所述摩擦 毛羽與取向膜表面接觸的端部為傾斜狀。
所述基膜具有相同的厚度，排列在所述基膜上摩擦毛羽的長度逐漸增加
或減少。進(jìn)一步地,所述摩擦毛羽長度的最大值與最小值之差小于或等于2mm。 所述摩擦毛羽與取向膜表面接觸的端部形成的傾斜角小于10° 。
所述基膜厚度逐漸增加或減少，排列在所述基膜上摩擦毛羽的長度相同。 進(jìn)一步地，所述基膜厚度的最大值與最小值之差小于或等于2隨。所述基膜 厚度變化形成的傾斜角小于10° 。
在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上，所述摩擦毛羽為人造纖維或棉絨。
本發(fā)明提出了 一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，通過將摩擦毛羽的端部設(shè) 置成傾斜狀，在摩擦中利用較長的摩擦毛羽實(shí)現(xiàn)較大的摩擦強(qiáng)度，利用較短 的摩擦毛羽獲得較高的取向方向均勻度，實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。因此，本發(fā) 明在具有較大摩擦強(qiáng)度的前提下，可以實(shí)現(xiàn)更均勻的取向方向，提高了液晶 顯示裝置的對比度和畫面品質(zhì)。
下面通過附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。


圖l為本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2a為接觸長度與摩擦強(qiáng)度的關(guān)系曲線；圖2b為摩擦強(qiáng)度與液晶取向力的關(guān)系曲線； 圖2c為接觸長度與方向均勻度的關(guān)系曲線； 圖3為本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布工作示意圖； 圖4為本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5為本發(fā)明取向工藝后的效果圖； 圖6為現(xiàn)有技術(shù)取向工藝后的效果圖； 圖7為現(xiàn)有摩擦布的結(jié)構(gòu)示意圖。 附圖標(biāo)記說明
1—基膜； 2—摩擦毛羽； IO—配向滾軸。
具體實(shí)施例方式
圖1為本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖 l所示，本實(shí)施例取向膜摩擦工藝用摩擦布包括基膜l和摩擦毛羽2，基膜l
用于將摩擦布貼附于配向滾軸的外表面，摩擦毛羽2固定在基膜1上，使用 時(shí)與基板(陣列基板或彩膜基板)上的取向膜表面接觸，在配向滾軸轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí) 摩擦取向膜表面，通過對取向膜表面施以摩擦處理，在取向膜經(jīng)摩擦毛羽擦 過的方向上形成具有一定取向方向的溝槽。具體地，本實(shí)施例的基膜1具有 相同的厚度，沿基膜1的長度方向上，摩擦毛羽2的長度逐漸增加或減小， 形成具有傾斜狀摩擦毛羽端部的結(jié)構(gòu)。例如在如圖l所示的本實(shí)施例中，從 左向右方向，摩擦毛羽2的長度逐漸增加，左端部位置摩擦毛羽1的長度為 a，右端部位置摩擦毛羽1的長度為b，使摩擦毛羽形成具有傾斜角a的端部， 且0?！磑c《10。，其中a=arctg((b-a)/L) , L為基膜l的長度?；蛘撸蠖瞬?位置摩擦毛羽的長度a和右端部位置摩擦毛羽的長度b滿足關(guān)系(b-a)《 2mm。
經(jīng)發(fā)明人深入研究表明，采用摩擦布對取向膜表面進(jìn)行摩擦處理時(shí)，摩 擦布的摩擦毛羽與取向膜接觸長度增加，摩擦強(qiáng)度會(huì)增大(如圖2a所示)隨著摩擦強(qiáng)度越大，LC取向力增加，增大了保留液晶的錨定力(如圖2b所 示)。但摩擦布的摩擦毛羽與取向膜接觸長度增加會(huì)導(dǎo)致摩擦中的阻抗力增 大，使摩擦?xí)r有可能會(huì)使摩擦毛羽脫離摩擦方向，導(dǎo)致取向方向均勻度降低 (如圖2c所示)，最終導(dǎo)致漏光現(xiàn)象，并降低對比度。本發(fā)明通過將摩擦毛 羽端部設(shè)置成傾斜狀，可以有效解決摩擦毛羽與取向膜接觸長度增加導(dǎo)致取 向方向均勻度降低的缺陷。具體地，當(dāng)摩擦毛羽與取向膜接觸時(shí)，由于摩擦 毛羽端部為傾斜狀，摩擦毛羽與取向膜接觸長度會(huì)發(fā)生變化，通過接觸長度 的改變提高取向方向的均勻性。
圖3為本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布工作示意圖。如圖3所示，基膜 1貼附于配向滾軸10的外表面上，摩擦毛羽2固定在基膜1上，由于本發(fā)明 將摩擦毛羽端部設(shè)置成傾斜狀，因此在配向滾軸IO轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，摩擦毛羽2端部 的軌跡為螺旋形，而不是現(xiàn)有技術(shù)通常的圓形軌跡。在配向滾軸轉(zhuǎn)動(dòng)中，當(dāng) 較長的摩擦毛羽與取向膜接觸時(shí)，與取向膜的接觸長度大，可以實(shí)現(xiàn)較大的 摩擦強(qiáng)度；當(dāng)較短的摩擦毛羽與取向膜接觸時(shí)，與取向膜的接觸長度短，可 以實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。因此，本實(shí)施例取向膜摩擦工藝用摩擦布結(jié)構(gòu)一方 面可以提供較大的摩擦強(qiáng)度，同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。
現(xiàn)有摩擦工藝條件進(jìn)行摩擦?xí)r，在一個(gè)像素區(qū)域中約有1次左右的摩擦 回轉(zhuǎn)，即配向滾軸轉(zhuǎn)動(dòng)360°左右。本實(shí)施例通過調(diào)整配向滾軸的轉(zhuǎn)動(dòng)速度(如 1000rpm)及移動(dòng)速度，使各像素區(qū)域中至少進(jìn)行2次摩擦回轉(zhuǎn)，避免在一個(gè) 像素區(qū)域開始部分與結(jié)束部分具有不同的接觸長度。對于較大尺寸的像素區(qū) 域，需要摩擦回轉(zhuǎn)的次數(shù)增加，因此本發(fā)明上述技術(shù)方案更適用于較大液晶 顯示裝置的生產(chǎn)。
圖4為本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖 4所示，本實(shí)施例取向膜摩擦工藝用摩擦布包括基膜1和摩擦毛羽2。本實(shí)施 例是在前述本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布第一實(shí)施例的基礎(chǔ)上，基膜1的 厚度逐漸增加或減少(如一邊為傾斜邊的梯形)，沿基膜1的長度方向上，摩擦毛羽2的長度相等，形成具有傾斜狀摩擦毛羽端部的結(jié)構(gòu)。例如在如圖 4所示的本實(shí)施例中，基膜厚度的變化形成傾斜角oc，且0?！磑c《10。，基膜l 上摩擦毛羽2的長度相等，使左端部位置摩擦毛羽1的端部高度為a,右端 部位置摩擦毛羽1的端部高度為b， a和b滿足關(guān)系(b-a )《2mm。本實(shí) 施例是前述第 一實(shí)施例結(jié)構(gòu)的 一種變形，同樣一方面可以提供較大的摩擦強(qiáng) 度，同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。
本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布適用于LCD的生產(chǎn)。LCD由陣列基板、 彩膜基板、液晶和液晶驅(qū)動(dòng)構(gòu)成，陣列基板上形成有柵線、數(shù)據(jù)線和多個(gè)像 素,每個(gè)像素由一個(gè)或兩個(gè)TFT驅(qū)動(dòng)，在柵線上施加較高的電壓，TFT的溝 道導(dǎo)通，隨數(shù)據(jù)線施加的電壓使像素充電，所充的電荷在陣列基板和彩膜基 板上產(chǎn)生壓差，使液晶隨電場方向旋轉(zhuǎn)。在陣列基板和彩膜基板制備完成后， 首先在陣列基板和彩膜基板的表面涂布取向膜，之后采用本發(fā)明取向膜摩擦 工藝用摩擦布進(jìn)行摩擦處理，經(jīng)過兩個(gè)基板的取向工藝后，進(jìn)行兩個(gè)基板相 貼合的密封涂布工藝和液晶滴注工藝，最終完成面板制造。
圖5為本發(fā)明取向工藝后的效果圖，為便于比較，圖6為現(xiàn)有技術(shù)取向 工藝后的效果圖。如圖5、圖6所示，通過比較可以看出，采用本發(fā)明取向 膜摩擦工藝用摩擦布進(jìn)行摩擦處理后，相對于目標(biāo)摩擦方向A,本發(fā)明摩擦 方向B具有角度較小的偏差，而現(xiàn)有技術(shù)摩擦方向C的角度偏差較大。因此， 與現(xiàn)有技術(shù)相比，采用本發(fā)明取向膜摩擦工藝用摩擦布在具有較大摩擦強(qiáng)度 的前提下，可以實(shí)現(xiàn)更均勻的取向方向，提高了液晶顯示裝置的對比度和畫 面品質(zhì)。
最后應(yīng)說明的是以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制， 盡管參照較佳實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng) 理解，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技 術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，包括貼附于配向滾軸外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽，其特征在于，所述摩擦毛羽與取向膜表面接觸的端部為傾斜狀。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 基膜具有相同的厚度，排列在所述基膜上摩擦毛羽的長度逐漸增加或減少。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 摩擦毛羽長度的最大值與最小值之差小于或等于2mm。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 摩擦毛羽與取向膜表面接觸的端部形成的傾斜角小于10° 。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 基膜厚度逐漸增加或減少，排列在所述基膜上摩擦毛羽的長度相同。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 基膜厚度的最大值與最小值之差小于或等于2mm。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 基膜厚度變化形成的傾斜角小于10° 。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1 ~ 7中任一權(quán)利要求所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布， 其特征在于，所述摩擦毛羽為人造纖維或棉絨。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，包括貼附于配向滾軸外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽，所述摩擦毛羽與取向膜表面接觸的端部為傾斜狀。本發(fā)明通過將摩擦毛羽端部設(shè)置成傾斜狀，在摩擦中，利用較長的摩擦毛羽實(shí)現(xiàn)較大的摩擦強(qiáng)度，利用較短的摩擦毛羽獲得較高的取向方向均勻度，實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。本發(fā)明在具有較大摩擦強(qiáng)度的前提下，可以實(shí)現(xiàn)更均勻的取向方向，提高了液晶顯示裝置的對比度和畫面品質(zhì)。
文檔編號(hào)G02F1/13GK101556409SQ200810103610
公開日2009年10月14日 申請日期2008年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月9日
發(fā)明者宋省勳 申請人:北京京東方光電科技有限公司