專利名稱：：電子照相感光體、處理盒以及圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及可用作電子照相圖像形成裝置中的靜電潛像載體的電子照相感光體、處理盒以及使用該處理盒的圖像形成裝置。
背景技術(shù)：
：近年來，具有由有機光電導(dǎo)材料制成的光敏層的有機光敏材料已經(jīng)主要用作在電子照相裝置(如復(fù)印機和激光打印機)中所用的電子照相感光體(下文有時稱作"感光體")，以取代使用無機光電導(dǎo)材料(如硒、硒-碲合金、硒-砷合金和硫化鎘)的無機感光體，其中所述有機光電導(dǎo)材料的優(yōu)點在于比較便宜、易于獲得并在廢棄時處理起來極具優(yōu)勢。特別是，具有電荷發(fā)生層(其在曝光后產(chǎn)生電荷)和疊置在其上的電荷傳輸層(其傳輸上述所產(chǎn)生的電荷)的功能分離型疊層有機感光體具有優(yōu)異的電子照相特性。由于上述的這些有機光敏材料通常具有比無機感光體低的機械強度，因此，這些有機光敏材料由于受到來自清潔用刮刀、顯影刷、紙等的外部機械力而經(jīng)常形成擦痕或磨耗。從生態(tài)學(xué)的觀點來考慮，近年來接觸型充電單元己經(jīng)廣泛用在電子照相圖像形成裝置中。然而，與使用電暈管的充電單元相比，接觸型充電單元對感光體造成更嚴(yán)重的磨耗。形成這些擦痕和磨耗不僅縮短感光體的壽命，而且引起由于感光體的靈敏度降低而造成的圖像密度降低以及由于充電電位降低而造成的霧影(fogging)。為了解決這些問題，人們提出幾種方法來改善電子照相感光體的機械強度，例如通過在光敏層的表面上設(shè)置其內(nèi)分散有電荷傳輸材料的表面保護(hù)層來實現(xiàn)。例如，在專利文獻(xiàn)JP-A-2002-82469和JP-A-2003-186234中，通過使用酚樹脂和具有羥基的電荷傳輸材料來形成表面保護(hù)層。作為其上裝備有有機感光體的電子照相裝置的光源，激光在近年來得到采用。由于激光光源產(chǎn)生可干涉光束，因此最終所得圖像的表面有時會產(chǎn)生被稱為"莫爾效應(yīng)"或"干涉條紋"的圖像缺陷，除非從導(dǎo)電性支持體一側(cè)進(jìn)入光敏層的光線的反射光被吸收或被散射，并由此抑制了該反射光與感光體表面上的反射光的干涉作用。雖然期望通過使用黑色導(dǎo)電性支持體可以吸收來自導(dǎo)電性支持體的反射光，但是目前還沒有一種黑色的、可導(dǎo)電的、并且具有優(yōu)異的電阻率和尺寸精良的材料。專利文獻(xiàn)JP-A-6-138685公開了一種通過在表面保護(hù)層中分散有含氟樹脂而改善表面保護(hù)層的表面粗糙度的方法。然而，在該方法中，進(jìn)入電荷發(fā)生層的激光束被散射，從而造成圖像品質(zhì)可能反而劣化的問題。
發(fā)明內(nèi)容在以上所討論的情況下所完成的本發(fā)明旨在提供一種電子照相感光體，該電子照相感光體具有優(yōu)異的電位特性和維持特性，并且能夠抑制由干涉造成的圖像品質(zhì)的劣化以及重影現(xiàn)象，本發(fā)明還旨在提供處理盒和使用該處理盒的圖像形成裝置。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種電子照相感光體，該電子照相感光體具有導(dǎo)電性支持體；光敏層；以及作為所述電子照相感光體的最外層的表面保護(hù)層，其中，所述電子照相感光體滿足以下式(a)和(b):(a)3.6$(A+B)/Cx100(b)B吼3其中A表示所述導(dǎo)電性支持體的十點平均表面粗糙度Rzm94，單位為pm;B表示所述表面保護(hù)層的十點平均表面粗糙度Rzj，4，單位為(im;并且C表示所述表面保護(hù)層的反射率相對于所述導(dǎo)電性支持體的反射率的百分比值。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種根據(jù)本發(fā)明第一方面所述的電子照相感光體，該電子照相感光體在所述導(dǎo)電性支持體和光敏層之間還具有中間層。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種根據(jù)本發(fā)明第二方面所述的電子照相感光體，其中，所述中間層含有分散在其中的顆粒。根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供一種根據(jù)本發(fā)明第三方面所述的電子照相感光體，其中所述顆粒為導(dǎo)電性顆粒。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供一種根據(jù)本發(fā)明第四方面所述的電子照相感光體，其中所述導(dǎo)電性顆粒由氧化鋅制得。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供一種根據(jù)本發(fā)明第一方面至第五方面中任一方面所述的電子照相感光體，其中所述表面保護(hù)層包含酚樹脂和具有反應(yīng)性官能團(tuán)的電荷傳輸物質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的第七方面，提供一種根據(jù)本發(fā)明第六方面所述的電子照相感光體，其中所述表面保護(hù)層還包含流平劑。根據(jù)本發(fā)明的第八方面，提供一種根據(jù)本發(fā)明第一方面至第五方面中任一方面所述的電子照相感光體，其中所述光敏層包括電荷發(fā)生層和電荷傳輸層。根據(jù)本發(fā)明的第九方面，提供一種電子照相處理盒，該電子照相處理盒可從圖像形成裝置上拆卸下來，所述的電子照相處理盒包括根據(jù)本發(fā)明第一方面至第五方面中任一方面所述的電子照相感光體以及選自充電單元、曝光單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元、定影單元和清潔單元中的至少一種單元。根據(jù)本發(fā)明的第十方面，提供一種圖像形成裝置，該圖像形成裝置包括根據(jù)本發(fā)明第一方面至第五方面中任一方面所述的電子照相感光體；充電單元，其使所述電子照相感光體的表面帶電；曝光單元，其以成像方式(imagewise)使所述電子照相感光體的所述帶電表面曝光，以形成靜電潛像；顯影單元，其將調(diào)色劑供給到所述電子照相感光體的表面上，從而使所述靜電潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像；和轉(zhuǎn)印單元，其將顯影后的所述調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到目標(biāo)物上。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，可以抑制干涉條紋，可以抑制重復(fù)使用時殘余電位的升高并抑制重影的產(chǎn)生。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，可以掩蓋表面缺陷，并且可以有效地抑制干涉條紋。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，可以比本發(fā)明的第二方面更有效地抑制干涉條紋。根據(jù)本發(fā)明的第四方面，可以期望改善對干涉條紋的抑制效果和對殘余電位升高的抑制效果。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，可以期望進(jìn)一步改善對殘余電位升高的抑制效果。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，可以提供一種電子照相感光體，其具有高的圖像品質(zhì)以及優(yōu)異的抑制殘余電位升高的效果。根據(jù)本發(fā)明的第七方面，可以提高涂膜的均勻性，并且可以獲得更高的圖像品質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的第八方面，可以使裝置設(shè)計的選擇余地增大，并且可以期望實現(xiàn)更高的圖像品質(zhì)和更好的抑制殘余電位升高的效果。根據(jù)本發(fā)明的第九方面，可以提供一種處理盒，其通過使用所述的電子成像感光體因而具有優(yōu)異的抑制干涉條紋的效果、抑制重復(fù)使用時殘余電位升高的效果以及抑制重影的效果。根據(jù)本發(fā)明的第十方面，可以提供一種圖像形成裝置，該圖像形成裝置具有優(yōu)異的抑制干涉條紋的效果、抑制重復(fù)使用時殘余電位升高的效果以及抑制重影的效果。附圖簡要說明參照以下附圖，將對本發(fā)明的示例性實施方案進(jìn)行詳細(xì)說明，其中圖1為示出根據(jù)本發(fā)明一個方面的電子照相感光體的層構(gòu)造的示例性實施方案的典型放大剖視圖，圖2為示出根據(jù)本發(fā)明一個方面的電子照相感光體的層構(gòu)造的另一示例性實施方案的典型放大剖視圖3為示出根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光體的層構(gòu)造的再一示例性實施方案的典型放大剖視圖4為示出適合于涂敷所述表面保護(hù)層的浸涂裝置的示例性實施方案的示意性構(gòu)造圖5為示意性地示出根據(jù)本發(fā)明一個方面的圖像形成裝置的示例性實施方案的典型剖視圖6為根據(jù)本發(fā)明一個方面的處理盒，該圖示出了處理盒的一個示例性實施方案的基本構(gòu)造的典型剖視圖。發(fā)明詳述接下來將詳細(xì)地對本發(fā)明的示例性實施方案進(jìn)行說明。在附圖中，相同功能的部件具有相同的符號，并且省略對所述部件的重復(fù)說明。<層構(gòu)造〉根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光體至少包括在導(dǎo)電性支持體上形成的光敏層和形成為最外層的表面保護(hù)層。關(guān)于所述光敏層，可以列出以下的構(gòu)造在一種構(gòu)造中，其中光敏層具有功能相互分離的電荷發(fā)生層和電荷傳輸層，在另一構(gòu)造中，一層中同時包含電荷發(fā)生材料和電荷傳輸材料，由此該層起到電荷發(fā)生層和電荷傳輸層的功能(下文中稱為"單層型光敏層")。圖1至圖3示出根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光體的層構(gòu)造的示例性實施方案。這些附圖都是示出電子照相感光體一部分的典型橫截面視圖。圖1和圖2所示的電子照相感光體具有獨立形成的電荷發(fā)生層和電荷傳輸層(功能分離型感光體)，而圖3所示的電子照相感光體具有起到電荷發(fā)生層和電荷傳輸層的功能的單層型光敏層。更具體地說，圖1所示的電子照相感光體具有在導(dǎo)電性支持體11的表面上依次形成的中間層13、電荷發(fā)生層14、電荷傳輸層15和表面保護(hù)層16，并且電荷發(fā)生層14和電荷傳輸層15構(gòu)成光敏層12。在圖2中，電子照相感光體具有在導(dǎo)電性支持體11的表面上依次形成的中間層13、電荷傳輸層15、電荷發(fā)生層14和表面保護(hù)層16。換言之，構(gòu)成光敏層12，的電荷發(fā)生層14和電荷傳輸層15的層疊次序與圖1中的層疊次序不同。圖3所示的電子照相感光體具有在導(dǎo)電性支持體11的表面上依次形成的中間層13、單層型光敏層(電荷發(fā)生層/電荷傳輸層)17和表面保護(hù)層16，并且該單層型光敏層單獨地構(gòu)成光敏層12"。接下來將參照圖1至圖3首先對以上各層的構(gòu)造進(jìn)行說明，然后將對導(dǎo)電性支持體和表面保護(hù)層的表面粗糙度(即本發(fā)明的特征)進(jìn)行集中說明。<導(dǎo)電性支持體>導(dǎo)電性支持體11的例子包括由金屬(如鋁、銅、鋅、不銹鋼、鉻、鎳、鉬、釩、銦、金或鉑或它們的合金)形成的金屬板、金屬筒或金屬帶；以及其上涂布、真空沉積或?qū)盈B有導(dǎo)電性聚合物、導(dǎo)電性化合物(如氧化銦)或諸如鋁、鉑或金等金屬或它們的合金的紙、塑料膜或帶。所述導(dǎo)電性支持體可以采用筒形、片形、板形之類的合適形狀，但是并不局限于這些形狀。在所述電子照相感光體用于激光打印機的情況中，激光的發(fā)射波長優(yōu)選為350nm至850nm。在該范圍內(nèi)的波長越短越可以產(chǎn)生更高的分辨率。為了防止在用激光輻射時產(chǎn)生干涉條紋，并且確保本發(fā)明所限定的期望的表面粗糙度，優(yōu)選使導(dǎo)電性支持體ll的表面粗糙化。使導(dǎo)電性支持體11的表面粗糙化的方法的優(yōu)選例子包括濕式衍磨法，其通過將磨料在水中的懸浮液向支持體噴射而進(jìn)行；無心磨削法，在該方法中，通過將支持體與旋轉(zhuǎn)的磨輪按壓-接觸而連續(xù)地進(jìn)行磨削；以及陽極氧化法。陽極氧化處理是這樣一種處理，其中在鋁作為陽極的情況下在電解質(zhì)溶液中進(jìn)行陽極氧化，從而在鋁的表面上形成氧化鋁膜。電解質(zhì)溶液的例子包括硫酸溶液和草酸溶液。然而，這樣所形成的多孔陽極氧化膜本身就具有化學(xué)活性，并且易于受污染，而且其電阻隨著周圍條件的變化而發(fā)生較大的改變。因此優(yōu)選的是，將陽極氧化的鋁板進(jìn)行封孔處理，其中陽極氧化膜的微孔由于通過將該氧化膜在加壓水蒸氣或沸水(可任選地含有諸如鎳等金屬的鹽)中進(jìn)行水合反應(yīng)后引起體積膨脹而封閉，并且轉(zhuǎn)化為更穩(wěn)定的水合氧化物。陽極氧化膜的厚度優(yōu)選為0.3pm至15pm。在厚度小于0.3Mm的情況下，陽極氧化膜對電荷注入的阻隔性能較差，由此在一些情況中不會得到充分的效果。另一方面，在厚度大于15pm的情況下，可能存在重復(fù)使用之后殘余電位增加的問題。也優(yōu)選的是，通過用酸處理液進(jìn)行處理或通過勃姆石處理來處理表面。在用酸處理液進(jìn)行的處理中，可以使用含有磷酸、鉻酸、氫氟酸等的溶液。關(guān)于磷酸、鉻酸和氫氟酸在酸處理液中的比例，磷酸的濃度為10重量％至11重量％，鉻酸的濃度為3重量％至5重量％，并且氫氟酸的濃度為0.5重量％至2重量％，這些酸的總濃度優(yōu)選為13.5重量％至18重量％。處理溫度為42°(:至48°C。通過將處理溫度保持在較高水平可以以較高的速度得到較厚的膜。這樣所形成的膜的厚度優(yōu)選為0.3)um至15pm。在厚度小于0.3的情況下，膜對電荷注入的阻隔性能較差，由此在一些情況中不會得到充分的效果。另一方面，在膜厚度大于15pm的情況下，可能存在重復(fù)使用之后殘余電位增加的問題。用勃姆石處理可以這樣進(jìn)行.通過將支持體浸在9(TC至IO(TC的純水中5分鐘至60分鐘，或者通過將支持體與9(TC至12(TC的熱水蒸汽接觸5分鐘至60分鐘。這樣形成的膜的厚度優(yōu)選為0.1pm至5pm。對如此處理后的產(chǎn)品可以使用具有低的膜溶解能力的電解質(zhì)溶液(如己二酸溶液、硼酸溶液、硼酸鹽溶液、磷酸鹽溶液、鄰苯二甲酸鹽溶液、馬來酸鹽溶液、苯甲酸鹽溶液、酒石酸鹽溶液或檸檬酸鹽溶液)進(jìn)一步進(jìn)行陽極氧化處理。<中間層〉在圖1至圖3的例子中，為了保持優(yōu)異的圖像品質(zhì)而形成中間層13。然而，在本發(fā)明中，不一定必須需要中間層。但是，特別是在用酸溶液對導(dǎo)電性支持體進(jìn)行處理或用勃姆石進(jìn)行處理的情況中，導(dǎo)電性支持體的缺陷掩蓋能力容易變得不充分，因此，在這種情況下優(yōu)選形成中間層13。在充電時，中間層13抑制電荷從導(dǎo)電性支持體11注入光敏層12中，并且還起到將光敏層12粘附在導(dǎo)電性支持體上并使兩者保持在一起的粘合劑層的作用。此外，在一些情況中，可以賦予中間層13對導(dǎo)電性支持體的減反射作用。為了改善感光體的特性，中間層13可以含有導(dǎo)電性物質(zhì)。所述導(dǎo)電性物質(zhì)的例子包括諸如氧化鈦、氧化鋅和氧化錫之類的金屬氧化物，但是也可以使用已知的任何導(dǎo)電性物質(zhì)，只要感光體由此可以獲得所需的特性即可。可以對所述金屬氧化物進(jìn)行表面處理。通過表面處理，可以控制電阻和分散性，并且可以改善感光體的特性。作為表面處理劑，可以使用公知的材料，如鋯鰲合物、鈦鰲合物、鋁鰲合物、鈦醇鹽、有機鈦化合物和硅烷偶聯(lián)劑?？梢允褂眠@些化合物中的任何一種或者包含其兩種或更多種的混合物或者縮聚產(chǎn)物。在所有這些表面處理劑之中，硅烷偶聯(lián)劑具有優(yōu)異的特性例如，其具有低的殘余電位，其電位幾乎不隨著環(huán)境條件的變化而變化，重復(fù)使用時幾乎不表現(xiàn)出電位變化，并且具有優(yōu)異的圖像品質(zhì)。硅垸偶聯(lián)劑的例子與下文中關(guān)于電荷發(fā)生層所列舉出的那些例子相同。此外，可以使用作為鋯鰲合物、鈦鰲合物、鋁鰲合物、鈦氧化物和有機鈦化合物的多種已知化合物。雖然可以使用任何已知的表面處理方法，但是其例子包括干法和濕法?，F(xiàn)在通過例子的形式對使用硅烷偶聯(lián)劑進(jìn)行的表面處理進(jìn)行說明。在通過干法進(jìn)行表面處理時，將可任選地溶解在有機溶劑中的硅烷偶聯(lián)劑滴入到(例如)用具有較大剪切力的混合器攪拌的金屬氧化物微粒中。接著將混合物與干燥空氣或氮氣一起噴霧，從而進(jìn)行均一的表面處理。優(yōu)選的是，在不超過所用溶劑的沸點的溫度下進(jìn)行硅垸偶聯(lián)劑的滴入和混合物的噴霧。當(dāng)在超過溶劑沸點的溫度下進(jìn)行滴入或噴霧時，會產(chǎn)生以下的傾向在進(jìn)行均勻攪拌之前，溶劑被蒸發(fā)，并且硅垸偶聯(lián)劑局部聚集，從而幾乎不能進(jìn)行均一處理?？梢詫⒁陨辖?jīng)表面處理后的金屬氧化物顆粒在IOO'C或更高的溫度下進(jìn)一步烘焙。可以在任意溫度下進(jìn)行烘焙任意時間，只要可以獲得所需的電子照相特性即可。在通過濕法進(jìn)行的表面處理中，通過攪拌或超聲或使用砂磨機、超微磨碎機、球磨機等將金屬氧化物微粒分散在溶劑中，然后向其中加入硅垸偶聯(lián)劑溶液。在攪拌或分散之后，除去溶劑，從而進(jìn)行均一的處理。優(yōu)選通過蒸餾除去溶劑。當(dāng)通過過濾法除去溶劑時，未反應(yīng)的硅垸偶聯(lián)劑通常流出，這使得難以控制硅烷偶聯(lián)劑的量來達(dá)到所需的特性。除去溶劑之后，可以在IO(TC或更高溫度下對金屬氧化物微粒進(jìn)一步進(jìn)行烘焙?？梢栽谌我鉁囟认逻M(jìn)行烘焙任意時間，只要可以獲得所需的電子照相特性即可。作為在濕法中除去金屬氧化物顆粒中所含有的水分的方法，可以使用這樣一種方法，其包括在攪拌條件下在表面處理所用的溶劑中加熱顆粒從而除去溶劑，以及可以使用這樣一種方法，其包括使用溶劑進(jìn)行共沸蒸餾。中間層13中硅垸偶聯(lián)劑的量與金屬氧化物微粒的量的比例可以是任何比例，只要可以獲得所需的電子照相特性即可。此外，金屬氧化物微粒與要用于中間層13中的樹脂的比例可以是任何水平，只要可以獲得所需的電子照相特性即可。為了改善光散射性等，中間層13中還可以含有多種有機微粉或無機微粉。這些微粉的優(yōu)選例子包括作為白色顏料(如氧化鈦、氧化鋅、硫化鋅、鉛白和鋅鋇白)和體質(zhì)顏料(如氧化鋁、碳酸鈣和硫酸鋇)的無機顏料(無機微粉)；以及有機微粉，如Teflon(商標(biāo))、樹脂顆粒、苯代三聚氰胺樹脂顆粒和苯乙烯樹脂顆粒。上述微粉的粒徑優(yōu)選為0.01)am至2pm。這些微粉是在需要時才加入的可任選成分。在加入所述微粉的情況中，微粉的含量優(yōu)選為中間層13中所含有的總固體物質(zhì)的10重量％至80重量％，更優(yōu)選為30重量°/。至70重量％。用于形成中間層13的涂料溶液(形成中間層用涂料溶液)可以含有多種添加劑，以改善電學(xué)性質(zhì)、環(huán)境穩(wěn)定性和圖像品質(zhì)?？梢约尤氲奶砑觿┑睦影娮觽鬏斘镔|(zhì)和多環(huán)縮合型或偶氮型電子傳輸顏料，如四氯苯醌、四溴苯醌、醌類化合物(如蒽醌)、四氰基苯醌二甲烷類化合物、芴酮類化合物(如2,4,7-三硝基芴酮和2,4,5,7-四硝基-9-芴酮)和噁二唑類化合物(如2-(4-聯(lián)苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-l,3,4-噁二唑、2,5-雙(4-萘基)-l,3,4-噁二唑和2,5-雙(4-二乙基氨基苯基)-l，3,4-噁二唑；咕噸酮類化合物、噻吩類化合物和二苯酚合苯醌類化合物(如3，3',5,5'-四叔丁基二苯酚合苯醌)?？梢酝ㄟ^將構(gòu)成中間層的多種成分在合適的溶劑中分散和混合來制備用于形成中間層的涂料溶液。在制備用于形成中間層的涂料溶液時，當(dāng)該溶液中混合有上述的導(dǎo)電性物質(zhì)或光散射物質(zhì)的微粉的情況下，優(yōu)選的是，將上述微粉加入到其內(nèi)溶解有樹脂成分的溶液中，然后進(jìn)行分散處理。將微粉分散在涂料溶液中的方法的例子包括使用諸如輥磨機、球磨機、振動球磨機、超微磨碎機、砂磨機、膠體磨或油漆搖動器等分散裝置的那些方法。此外，作為用于形成中間層的涂料溶液的涂敷方法，可以采用常規(guī)的方法，如刮刀涂布法、線棒涂布法、噴涂法、浸涂法、微珠涂布法、氣刀涂布法或簾式涂布法。中間層13的厚度優(yōu)選不超過50]um，更優(yōu)選為15pm至25pm。中間層13的厚度超過50pm是不優(yōu)選的，這是因為經(jīng)常出現(xiàn)重影圖像，而且循環(huán)特性發(fā)生劣化并且殘余電位傾向于蓄積。另一方面，當(dāng)該厚度小于15nm時，經(jīng)常產(chǎn)生霧影，并且難以避免干涉作用。<光敏層>光敏層12、12'和12"適當(dāng)?shù)匕▓D1和圖2所示的、兩者功能相互分離的電荷發(fā)生層14和電荷傳輸層15，或圖3所示的單層型光敏層17。接下來將對以上各層進(jìn)行說明。(電荷發(fā)生層)電荷發(fā)生層14主要包含電荷發(fā)生材料和粘結(jié)劑樹脂。作為電荷發(fā)生材料，可以使用已知的那些材料，而沒有特別限制，例如，有以偶氮顏料(如雙偶氮顏料和三偶氮顏料)、含有縮合環(huán)的芳香族顏料(如二溴花色蒽酮(dibromoanthoanthrone))為例的有機顏料，如二萘嵌苯類顏料、吡咯并吡咯類顏料和酞菁類顏料之類的有機顏料；和以三方硒和氧化鋅為例的無機顏料。特別優(yōu)選使用金屬酞菁類顏料和無金屬酞菁類顏料。在所有這些顏料中，專利文獻(xiàn)JP-A-5-263007和JP-A-5-279591中公開的羥基酞菁鎵、專利文獻(xiàn)JP-A-5-98181中公開的氯代酞菁鎵、專利文獻(xiàn)JP-A-5-140472和JP-A-5-140473中公開的二氯酞菁錫以及專利文獻(xiàn)JP-A-4-189873和JP-A-5-43813公開的氧鈦酞菁是特別優(yōu)選的，其中每個都具有特定的々±曰2口曰曰o可以通過用如下方法處理顏料結(jié)晶(其通過公知的方法制得)來制備優(yōu)選用于電荷發(fā)生層14中的電荷發(fā)生材料，所述的方法為利用(例如)自動研缽、行星式球磨機、振動磨、CF磨、輥磨機、砂磨機或混煉機進(jìn)行干式的機械研磨法，然后可任選地利用(例如)球磨機、研缽、砂磨機或混煉機與溶劑一起進(jìn)行濕式研磨法。在濕式研磨處理中所使用的溶劑的例子包括芳香族溶劑(例如，甲苯和氯苯)、酰胺類(例如，二甲基甲酰胺和N-甲基吡咯烷酮)、脂肪醇類(例如，甲醇、乙醇和丁醇)、脂肪族多元醇類(例如，乙二醇、甘油和聚乙二醇)、芳香族醇類(例如，芐醇和苯乙醇)、酯類(例如，醋酸乙酯和醋酸丁酯)、酮類(例如，丙酮和甲乙酮)、二甲基亞砜、醚類(例如，二乙醚和四氫呋喃)、選自上述溶劑中的幾種溶劑的混合物或水與上述溶劑的混合物。優(yōu)選的是，相對于每重量份的顏料結(jié)晶，所述溶劑的用量為1重量份至200重量份、更優(yōu)選為IO重量份至IOO重量份。在濕式研磨處理中，處理溫度為O"C或更高，但是不超過溶劑的沸點，優(yōu)選為1(TC至60。C。在研磨處理中，可以使用研磨助劑，如氯化鈉或芒硝。研磨助劑的用量以重量計可以為顏料的0.5倍至20倍，優(yōu)選為1倍至10倍。在使用通過公知方法制得的顏料結(jié)晶時，還可以通過酸糊法或者酸糊法與上述的干式研磨處理或與濕式研磨處理的組合來控制結(jié)晶。作為在酸糊法中所用的酸，優(yōu)選硫酸。作為硫酸，可以使用濃度為70重量％至100重量％、優(yōu)選為95重量％至100重量％的所謂濃硫酸。將濃硫酸的量控制為顏料結(jié)晶重量的l倍至100倍，優(yōu)選為3倍至50倍(均以重量計)。將溶解溫度控制為-2(TC至IO(TC，優(yōu)選為0t:至6(TC。作為用于使結(jié)晶從酸中析出的溶劑，可以使用水或者水與任意量的有機溶劑的混合物。雖然對析出溫度沒有特別限定，但是優(yōu)選用冰等將反應(yīng)混合物冷卻，以防止產(chǎn)生熱量?？梢杂镁哂锌伤饣鶊F(tuán)的有機金屬化合物或者硅垸偶聯(lián)劑對電荷發(fā)生材料進(jìn)行涂敷。由于這種涂敷處理，電荷發(fā)生材料的分散性和用于形成電荷發(fā)生層的涂料溶液的適涂性得到改善，由此可以容易地、可靠地形成平滑的、均勻分散的電荷發(fā)生層M。結(jié)果，可以防止諸如霧影和重影等圖像缺陷，并且可以改善圖像維持特性。此外，用于形成電荷發(fā)生層的涂料溶液的貯存穩(wěn)定性得到明顯改善，由此帶來涂料溶液適用期延長的優(yōu)點，并且有利于降低感光體的成本。上述的具有可水解基團(tuán)的有機金屬化合物為由以下通式(A)表示的化合物。通式(4A)Rp-M-Yq^(在通式(A)中，R表示有機基團(tuán)；M表示除了堿金屬之外的金屬原子或硅原子；Y表示可水解的基團(tuán)；并且p和q各自獨立地為l至4的整數(shù)，前提是p+q相當(dāng)于M的原子價。)通式(A)中由R表示的有機基團(tuán)的例子包括垸基，如甲基、乙基、丙基、丁基和辛基；烯基，如乙烯基和烯丙基；環(huán)烷基，如環(huán)己基；芳基，如苯基，甲苯基和萘基；芳烷基，如芐基和苯乙基；芳烯基，如苯乙烯基；和雜環(huán)基團(tuán)，如呋喃基、噻吩基、吡咯烷基、吡啶基和咪唑基。這些有機基團(tuán)可以具有選自以上各種基團(tuán)中的一個或多個取代基。通式(A)中由Y表示的可水解基團(tuán)的例子包括醚類基團(tuán)，如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、環(huán)己氧基、苯氧基和芐氧基；酯類基團(tuán)，如乙酰氧基、丙酰氧基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、苯甲酰氧基、甲磺酰氧基、苯磺酰氧基和芐氧基羰基；和鹵原子，如氯原子。雖然對通式(A)中由M表示的金屬原子或硅原子沒有特別限定，只要其不是堿金屬即可，但是其優(yōu)選的例子包括鈦原子、鋁原子、鋯原子或硅原子。g卩，在本發(fā)明的感光體中優(yōu)選使用有機鈦化合物、有機鋁化合物或有機鋯化合物或者硅烷偶聯(lián)劑，其中所述有機鈦化合物、有機鋁化合物或有機鋯化合物都具有上述的有機基團(tuán)和可水解基團(tuán)作為官能取代基。上述的硅垸偶聯(lián)劑包括乙烯基三甲氧基硅垸、Y-甲基丙烯酰氧基丙基-三((3-甲氧基乙氧基)硅垸、(3-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、Y-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅垸、乙烯基三乙酰氧基硅烷、Y-巰基丙基三甲氧基硅垸4-氨基丙基三乙氧基硅垸、>^-(3-(氨基乙基)-7-氨基丙基三甲氧基硅垸、N-(3-(氨基乙基)-Y-氨基丙基甲基二甲氧基硅垸、N,N-雙((3-羥乙基)-Y-氨基丙基三乙氧基硅垸、Y-氯丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅垸、乙烯基-三(2-甲氧基乙氧基)硅垸、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅垸、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅垸、2-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅垸、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅垸、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷。在這些硅烷偶聯(lián)劑中，更優(yōu)選的是乙烯基三乙氧基硅垸、乙烯基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅垸、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅垸、2-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅垸、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅垸、3-氨基丙基三乙氧基硅垸、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷。還可以使用上述的有機金屬化合物的水解產(chǎn)物和硅垸偶聯(lián)劑的水解產(chǎn)物。作為這些水解產(chǎn)物，可以列出在由通式(A)表示的有機金屬化合物中，與M(除了堿金屬之外的金屬原子或硅原子)相連的Y(可水解基團(tuán))或作為取代基的與R(有機基團(tuán))相連的可水解基團(tuán)發(fā)生水解反應(yīng)后生成的水解產(chǎn)物。在有機金屬化合物和硅垸偶聯(lián)劑具有多個可水解基團(tuán)的情況中，并不一定需要使所有的官能團(tuán)全部水解。換言之，可以使用部分水解的產(chǎn)物。可以使用這些有機金屬化合物和硅烷偶聯(lián)劑中的任何一種或者它們的兩種或多種的混合物。作為用上述的具有可水解基團(tuán)的有機金屬化合物和/或硅烷偶聯(lián)劑(下文中簡稱為"有機金屬化合物")來涂敷酞菁顏料的方法，可以列出1)一種包括在對酞菁顏料結(jié)晶進(jìn)行控制的過程中對酞菁顏料進(jìn)行涂敷的方法；2)—種包括在將酞菁顏料分散在粘結(jié)劑樹脂之前對酞菁顏料進(jìn)行涂敷的方法；3)—種包括在將酞菁顏料分散在粘結(jié)劑樹脂的步驟中混合有機金屬化合物的方法；和4)一種包括將酞菁顏料分散在粘結(jié)劑樹脂中，然后使用有機金屬化合物進(jìn)行分散處理的方法。現(xiàn)在對各方法進(jìn)行更具體地說明。方法1)(其包括在對酞菁顏料結(jié)晶進(jìn)行控制的過程中對酞菁顏料進(jìn)行涂敷)的例子有一種包括在對酞菁顏料結(jié)晶進(jìn)行控制之前將有機金屬化合物與酞菁顏料混合、然后再加熱的方法；一種包括在對酞菁顏料結(jié)晶進(jìn)行控制之前將有機金屬化合物加入到酞菁顏料中、然后再進(jìn)行干式機械研磨的方法；和一種包括在對酞菁顏料結(jié)晶進(jìn)行控制之前將有機金屬化合物溶于水或有機溶劑中所得的溶液與酞菁顏料混合，然后再進(jìn)行濕式研磨的方法。方法2)(其包括在將酞菁顏料分散在粘結(jié)劑樹脂之前對酞菁顏料進(jìn)行涂敷)的例子有一種包括將有機金屬化合物、水或者水與有機溶劑的液體混合物以及酞菁顏料進(jìn)行混合、然后加熱的方法；一種包括直接將有機金屬化合物噴到酞菁顏料上的方法；以及將有機金屬化合物與酞菁顏料混合、然后再研磨的方法。方法3)(其包括在分散步驟中進(jìn)行混合處理)的例子包括一種包括依次將有機金屬化合物、酞菁顏料和粘結(jié)劑樹脂加到分散溶劑中、并混合的方法；以及一種包括將這些電荷發(fā)生層(14)的構(gòu)成成分同時加入并混合的方法。作為方法4)(其包括將酞菁顏料分散在粘結(jié)劑樹脂中、然后使用有機金屬化合物進(jìn)行分散處理)的例子，可以列出一種方法，其包括向分散液中加入用溶劑稀釋后的有機金屬化合物、并在攪拌條件下分散。為了在分散處理中使所述有機金屬化合物更牢固地粘附在酞菁顏料上，可以加入硫酸、鹽酸或三氟乙酸之類的酸作為催化劑。在這些方法中，其中包括在對酞菁顏料結(jié)晶進(jìn)行控制的過程中對酞菁顏料進(jìn)行涂敷的方法1)和其中包括在將酞菁顏料分散在粘結(jié)劑樹脂中之前對酞菁顏料進(jìn)行涂敷的方法2)是優(yōu)選的。粘結(jié)劑樹脂可以選自廣泛的絕緣性樹脂。也可以選自有機的光導(dǎo)電性聚合物，如聚N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘和聚硅烷。粘結(jié)劑樹脂的優(yōu)選例子包括絕緣性樹脂，如聚乙烯縮丁醛樹脂、聚芳酯樹脂(例如，雙酚A與鄰苯二甲酸的縮聚物)、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯氧樹脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚酰胺樹脂、丙烯酸樹脂、聚丙烯酰胺樹脂、聚乙烯基吡啶樹脂、纖維素樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、干酪素、聚乙烯醇樹脂和聚乙烯基吡咯烷酮樹脂，但是本發(fā)明并不局限于此。可以使用這些粘結(jié)劑樹脂中的任何一種或者它們的兩種或多種的混合物。電荷發(fā)生材料與粘結(jié)劑樹脂的重量比優(yōu)選為10:1至1:10?？梢酝ㄟ^涂敷含有電荷發(fā)生材料和粘結(jié)劑樹脂的形成電荷發(fā)生層用涂料溶液來形成電荷發(fā)生層14。作為用于分散電荷發(fā)生材料和粘結(jié)劑樹脂的溶劑，可以使用任何溶劑而沒有限制，只要粘結(jié)劑樹脂在該溶劑中可以溶解即可。例如，可以使用普通的有機溶劑，如甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、芐醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、醋酸甲酯、醋酸正丁酯、二氧六環(huán)(dioxoane)、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯，這些溶劑可以單獨使用或者使用它們的兩種或多種的組合。作為用于將電荷發(fā)生材料和粘結(jié)劑樹脂分散于溶劑中的方法，可以使用常規(guī)的方法，如球磨機分散法、超微磨碎機分散法和砂磨機分散法。然而，優(yōu)選在使得電荷發(fā)生材料的晶型不發(fā)生變化的條件下進(jìn)行分散。此外，在分散時，將電荷發(fā)生材料的粒徑調(diào)節(jié)為0.5pm或更低、優(yōu)選調(diào)節(jié)為0.3(im或更低、更優(yōu)選調(diào)節(jié)為0.15)im或更低是有效的。作為用于涂敷所述涂料溶液的方法，可以使用常規(guī)的方法，如刮刀涂布法、Meyer棒涂法、噴涂法、浸涂法、微珠涂布法、氣刀涂布法和簾式涂布法。電荷發(fā)生層14的厚度通常為0.1/im至5優(yōu)選為0.2pm至2.0pm。(電荷傳輸層)電荷傳輸層15由電荷傳輸材料和粘結(jié)劑樹脂或者由高分子電荷傳輸材料所構(gòu)成。用于電荷傳輸層15的電荷傳輸材料的例子包括噁二唑衍生物，如2，5-雙(對二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑；吡唑啉類衍生物，如1,3,5-三苯基吡唑啉和l-[吡啶基-(2)]-3-(對二乙基氨基苯乙烯基)-5-(對二乙基氨基苯乙烯基)吡唑啉；芳香族叔胺類化合物，如三苯基胺、三(對甲苯基)-氨基-4-胺和二節(jié)基苯胺；芳香族叔胺二氨基化合物，N,N'-雙(3-甲基苯基)-N,N，-二苯基聯(lián)苯胺；1,2,4-三嗪類衍生物，如3-(4，-二甲基氨基苯基)-5,6-二(4，-甲氧基苯基)-1,2，4-三嗪；腙類衍生物，如4-二乙基氨基苯甲醛-l，l-二苯基腙；喹唑啉類衍生物，如2-苯基-4-苯乙烯基-喹唑啉；苯并呋喃類衍生物，如6-羥基-2,3-二(對甲氧基苯基)苯并呋喃；a-芪類衍生物，如對(2，2-二苯基乙烯基)-N,N-二苯基苯胺；空穴傳輸物質(zhì)，如烯胺類衍生物、咔唑類衍生物(如N-乙基咔唑、聚N-乙烯基咔唑及其衍生物)；醌類化合物(如氯醌和溴蒽醌)、四氰基苯醌二甲烷類化合物、芴酮類化合物(如2,4，7-三硝基芴酮和2,4,5，7-四硝基-9-芴酮);電子傳輸材料，如沾噸酮類化合物和噻吩類化合物；以及在其主鏈或側(cè)鏈上具有通過從以上化合物中除去氫原子等后形成的殘基的聚合物。這些電荷傳輸材料可以單獨使用或組合使用。用于電荷傳輸層15的粘結(jié)劑樹脂的例子包括絕緣性樹脂，如丙烯酸類樹脂、聚芳基化物、聚酯樹脂、雙酚A型或雙酚Z型聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮甲醛、聚砜、聚丙烯酰胺、聚酰胺和氯化橡膠，以及有機光電導(dǎo)性聚合物，如聚乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽和聚乙烯基芘。這些粘結(jié)劑樹脂可以單獨使用或組合使用。還可以單獨使用高分子電荷傳輸材料。作為高分子電荷傳輸材料，可以使用具有電荷傳輸能力的公知化合物，如聚N-乙烯基咔唑或聚硅烷。特別是，專利文獻(xiàn)JP-A-8-176293和JP-A-8-208820中公開的聚酯類高分子電荷傳輸材料由于具有高的電荷傳輸能力而是優(yōu)選的?？梢詫⒏叻肿与姾蓚鬏敳牧蠁为氂米麟姾蓚鬏攲拥慕M分?？晒┻x用的另外一種方式為，可以通過將該高分子電荷傳輸材料與上述的粘結(jié)劑樹脂混合而形成膜?？梢酝ㄟ^涂敷用于形成電荷傳輸層的涂料溶液并將其干燥來形成電荷傳輸層15，其中所述的用于形成電荷傳輸層的涂料溶液包含溶解和/或分散在合適的溶劑中的電荷傳輸材料和粘結(jié)劑樹脂(在只使用高分子電荷傳輸材料的情況下不一定含有粘結(jié)劑樹脂)。在用于形成電荷傳輸層的涂料溶液中所用的溶劑的例子包括芳香烴類，如甲苯和氯苯；脂肪族醇類溶劑，如甲醇、乙醇和正丁醇；酮類溶劑，如丙酮、環(huán)己酮和2-丁酮；鹵代脂肪烴類溶劑，如二氯甲烷、氯仿和二氯乙烷；環(huán)醚或直鏈醚類溶劑，如四氫呋喃、二氧六環(huán)和乙醚；以及它們的混合物。電荷傳輸材料與粘結(jié)劑樹脂的重量組成比優(yōu)選為10:1至1:5，更優(yōu)選為9:11至3:7。用于形成電荷傳輸層的涂料溶液的涂敷方法的例子包括常規(guī)采用的方法，如刮刀涂布法、Meyer棒涂法、浸涂法、交叉涂布法、噴涂法、輥涂法、凹版涂布法、微珠涂布法、氣刀涂布法和簾式涂布法。電荷傳輸層15的厚度通常為5pm至50pm，優(yōu)選為10pm至35pm。(單層型光敏層)圖3所示的單層型光敏層17含有上述的電荷發(fā)生材料和粘結(jié)劑樹脂。作為粘結(jié)劑樹脂，可以使用與在電荷發(fā)生層和電荷傳輸層中所用的相同的那些粘結(jié)劑樹脂。單層型光敏層17中電荷發(fā)生材料的含量優(yōu)選為單層型光敏層中總固體物質(zhì)的約10重量％至約85重量％，更優(yōu)選為約20重量％至約50重量％。如果需要的話，單層型光敏層17中還可以含有上述的電荷傳輸材料或高分子電荷傳輸材料，以(例如)改善光電特性。優(yōu)選的是，將上述電荷傳輸材料或高分子電荷傳輸材料的含量控制為占單層型光敏層中總固體物質(zhì)的5重量％至50重量％?？梢酝ㄟ^以下方法來形成單層型光敏層17，所述方法為將電荷發(fā)生材料和粘結(jié)劑樹脂(可任選地，與電荷傳輸材料或高分子電荷傳輸材料以及其它添加劑一起)溶解/分散在合適的溶劑中，以制得溶液或分散液形式的涂料溶液，將該涂料溶液涂布到導(dǎo)電性支持體上，然后通過加熱使其干燥。作為在該應(yīng)用中所采用的溶劑和涂敷方法，可以使用與針對電荷發(fā)生層和電荷傳輸層所述的那些相同的材料和涂敷方法。單層型光敏層17的厚度優(yōu)選為約5jam至約50pm，更優(yōu)選為約10pm至約40)im。(光敏層整體)為了防止在圖像形成裝置中產(chǎn)生的臭氧或氧化性氣體或者熱量和光引起電子照相感光體發(fā)生劣化，可以向光敏層(電荷發(fā)生層或電荷傳輸層中任意一者或兩者以及單層型光敏層；同樣適用于下文中僅僅稱為"光敏層"的情況)中加入諸如抗氧化劑、光穩(wěn)定劑或熱穩(wěn)定劑等添加劑。作為抗氧化劑，可以使用公知的那些抗氧化劑，例如，受阻酚、受阻胺、對苯二胺、芳基烷烴、氫醌、螺香豆酮、螺茚酮、這些化合物的衍生物、有機硫化合物和有機磷化合物。作為光穩(wěn)定劑，可以使用公知的那些，例如，二苯甲酮、苯并三唑、二硫代氨基甲酸酯、四甲基哌啶和它們的衍生物。關(guān)于熱穩(wěn)定劑，可以使用公知的那些熱穩(wěn)定劑。為了改善靈敏度、降低殘余電位和緩解由于重復(fù)使用造成的疲勞，可以加入至少一種可接受電子的物質(zhì)?？梢杂迷诒景l(fā)明的電子照相感光體中的可接受電子的物質(zhì)的例子包括琥珀酸酐、馬來酸酐、二溴馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、四溴鄰苯二甲酸酐、四氰基乙烯、四氰基苯醌二甲烷、鄰二硝基苯、間二硝基苯、氯醌、二硝基蒽醌、三硝基芴酮、苦味酸、鄰硝基苯甲酸、對硝基苯甲酸和鄰苯二甲酸。在這些化合物中，具有吸電子取代基(如C1—、CN—或N02—)的芴酮類化合物、醌類化合物和苯衍生物是特別優(yōu)選的。<表面保護(hù)層〉表面保護(hù)層16的例子包括其中導(dǎo)電性微粒分散在粘結(jié)劑樹脂中的層；其中由含氟樹脂、丙烯酸類樹脂等制得的潤滑性微粒分散在常規(guī)的電荷傳輸材料中的層；以及使用諸如有機硅樹脂或丙烯酸類樹脂等硬涂劑的層。此外，也可以列舉具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的材料，如酚類樹脂、聚氨酯類樹脂、丙烯酸類樹脂和硅氧烷類樹脂。然而，在本發(fā)明中，其中至少含有酚樹脂、具有反應(yīng)性官能團(tuán)的電荷傳輸物質(zhì)和流平劑的表面保護(hù)層是優(yōu)選的。雖然對在表面保護(hù)層16中所使用的具有反應(yīng)性官能團(tuán)的電荷傳輸物質(zhì)沒有特別限制，只要由其可以形成硬膜即可，但是從機械強度和圖像品質(zhì)維持特性的角度來說，具有由以下的通式(I)至通式(VI)表示的結(jié)構(gòu)的化合物是優(yōu)選的。通式(I)F[-D陽Si(R^)(3.nDQm]m！通式(II):F-((X、R2-ZtH)m通式(III):F-[(X2)n2-(R3)n3-(Z2)n4G]n5<formula>formulaseeoriginaldocumentpage23</formula>通式(V)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage23</formula>通式(VI)作為以上通式(I)至通式(VI)中的有機基團(tuán)F，具有由以下通式(VII)表示的結(jié)構(gòu)的有機基團(tuán)是優(yōu)選的。[在通式(VII)中，A—至A/各自獨立地表示取代的或未取代的芳基；ArS表示取代的或未取代的芳基或亞芳基，條件是在A—為芳基的情況下，其不與通式中右側(cè)的N鍵合，而只是與左側(cè)的N鍵合以形成化合物，并且在Ar1至Ar5中的2至4個基團(tuán)與以上通式(I)至通式(VI)中的各F的配對部分(counterpart)形成鍵合；并且k為0或1。〗作為在通式(VII)表示的化合物中由A—至A一表示的取代的或未取代的芳基的具體例子，具有由下表1中的式(VII-l)至(VII-7)所表示的結(jié)構(gòu)的那些芳基是優(yōu)選的。<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>在上式(VII-1)至式(VII-7)中，R^表示氫原子、具有1至4個碳原子的垸基、具有1至4個碳原子的烷氧基、由此取代的苯基或未取代的苯基或具有7至IO個碳原子的芳垸基；R"至R"各自獨立地表示氫原子、具有1至4個碳原子的烷基、具有1至4個碳原子的烷氧基、由此取代的苯基或未取代的苯基、具有7至10個碳原子的芳烷基、或者鹵原子；X表示與以上通式(I)至通式(VI)中的F的配對部分的相連接的鍵；Z表示氧原子、硫原子、NH或COO;Ar表示取代的或未取代的芳基；m4和s各自獨立地表示0或1;并且t各自獨立地表示1至3的整數(shù)。作為以上通式(VII-7)中的Ar，由下式(VII-8)或式(VII-9)所表示的芳基是優(yōu)選的。VII—8VII—9在上式(VII-8)和式(VII-9)中，R"和R"各自獨立地表示氫原子、具有1至4個碳原子的垸基、具有1至4個碳原子的垸氧基、由此取代的苯基或未取代的苯基、具有7至10個碳原子的芳垸基、或卣原子；并且t各自獨立地表示1至3的整數(shù)。作為以上通式(VII-7)中的Z，由下式(VII-10)至式(VII-17)中任何一個所表示的二價基團(tuán)是優(yōu)選的。[表3]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>在上式(VII-10)至式(VII-17)中，1116和1117各自獨立地表示氫原子、具有1至4個碳原子的烷基、具有1至4個碳原子的垸氧基、由此取代的苯基或未取代的苯基、具有7至IO個碳原子的芳垸基、或鹵原子；q和r各自獨立地表示1至IO的整數(shù)；并且t各自獨立地表示1至3的整數(shù)。此夕卜，上式(VII-16)和(VII-17)中的W表示由以下各式(VII-18)和(VII-26)中任何一個所表示的二價基團(tuán)。[表4]<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>在上式(VII-25)中，u為0至3的整數(shù)。關(guān)于以上通式(VII)中的ArS的具體結(jié)構(gòu)，在k為O的情況下，A,可以具有以上(VII-1)至(VII-7)的結(jié)構(gòu)，其中m4為1;在k為1的情況下，A一可以具有以上(VII-1)至(VII-7)的結(jié)構(gòu)，并且與通式(VII)中的相鄰氮原子連接，其中m4為0。以下將列舉具有通式(I)至通式(VI)所表示的反應(yīng)性官能團(tuán)的電荷傳輸物質(zhì)(其可用于上述的表面保護(hù)層16中)的具體例子。在以下的表5至表18中所列出的各個結(jié)構(gòu)式中給出的符號中，前面的各個羅馬數(shù)字是指其作為具體例子對應(yīng)于通式(I)至通式(VI)中哪一個通式。在以下的表5至表18中，符號"-"表示沒有任何取代基的鍵，Me表示甲基，Et表示乙基，并且iPr表示異丙基。<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>[表7]<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>[表8]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula><table>tableseeoriginaldocumentpage32</column></row><table>[表10]<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table>表11]<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage34</column></row><table>[表14]<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>[表15]<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>[表16]<table>tableseeoriginaldocumentpage37</column></row><table>[表17〗<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>[表18]<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>可用于表面保護(hù)層16中的酚樹脂的例子包括具有一個羥基的取代苯酚樹脂，如間苯二酚(resorcin)樹脂、雙酚樹脂、苯酚樹脂、甲酚樹脂、二甲苯酚樹脂、對垸基苯酚樹脂和對苯基苯酚樹脂；以及具有兩個羥基的取代苯酚樹脂，如兒茶酚樹脂、間苯二酚(resorcinol)樹脂和氫醌樹脂；雙酚樹脂，如雙酚A樹脂和雙酚Z樹脂；以及雙酚類。此外，還可以使用通過將具有苯酚結(jié)構(gòu)的化合物與甲醛、多聚甲醛等在酸催化劑或堿催化劑存在的條件下進(jìn)行反應(yīng)而得到的樹脂，該樹脂通常作為酚醛樹脂而銷售。為了進(jìn)一步改善耐摩擦性和耐磨耗性，所述酚醛樹脂優(yōu)選為甲階酚醛樹脂型酚醛樹脂。此外，表面保護(hù)層16中可以含有添加劑，如增塑劑、表面性質(zhì)改善劑、抗氧化劑、光劣化防止劑和硬化催化劑。此處可用的增塑劑的例子包括聯(lián)苯、氯化聯(lián)苯、三聯(lián)苯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二乙二醇酯、鄰苯二甲酸二辛酯、磷酸三苯酯、甲基萘、二苯甲酮、氯化石蠟、聚丙烯、聚苯乙烯和各種含氟烴類?？寡趸瘎┑氖褂脤τ诃h(huán)境改變時的電位穩(wěn)定性的改善和圖像品質(zhì)的改善是有效的?？梢允褂镁哂惺茏璺?、受阻胺、硫醚或磷酸酯的部分結(jié)構(gòu)的抗氧化劑。此處可用的受阻酚類抗氧化劑的具體例子包括2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2,5-二叔丁基氫醌、^^^'-六亞甲基雙(3，5-二叔丁基-4-羥基氫肉桂酰胺)、3,5-二叔丁基-4-羥基芐基磷酸酯-二乙酯、2,4-雙[(辛硫基)甲基]-鄰甲酚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2,2，-亞甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2，-亞甲基雙(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4,4，-亞丁基雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,5-二叔戊基氫醌、2-叔丁基_6_(3-丁基-2-羥基-5-甲基芐基)-4-甲基苯基丙烯酸酯和4,4，-亞丁基雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。硬化催化劑的使用對于改善表面保護(hù)層的耐劃擦性和耐磨耗性是有效的。其例子包括堿土金屬氧化物和堿土金屬氫氧化物，如氫氧化鈣、氫氧化鋇、氧化鎂和氫氧化鎂；堿金屬碳酸鹽，如碳酸鉀、碳酸氫鈉和碳酸鈉；無機酸，如鹽酸和硝酸；有機酸，如對甲苯磺酸、苯酚磺酸、十二垸基苯磺酸和水楊酸；以及酯，如磷酸酯、有機酯、甲酸酯和醋酸乙酯。表面保護(hù)層16中還可以含有絕緣性樹脂，如聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚芳酯樹脂(例如，雙酚A和鄰苯二甲酸的縮聚物)、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯氧樹脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚酰胺樹脂、丙烯酸樹脂、聚丙烯酰胺樹脂、聚乙烯基吡啶樹脂、纖維素樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、干酪素、聚乙烯醇樹脂和聚乙烯基吡咯垸酮樹脂。在這種情況下，可以以任意比例加入絕緣性樹脂。由此可以抑制表面保護(hù)層16與光敏層12、12'和12"之間的粘附性并可以抑制由熱皺縮或收縮(cissing)所造成的涂膜缺陷。表面保護(hù)層16中還可以含有諸如硅油之類的流平劑，所述流平劑被摻混在該表面保護(hù)層中，以便改善表面平滑度。硅油的例子包括有機硅油類，如二甲基聚硅氧垸、二苯基聚硅氧烷和苯基甲基硅氧烷；反應(yīng)性有機硅油類，如氨基改性的聚硅氧垸、環(huán)氧改性的聚硅氧垸、羧基改性的聚硅氧垸、甲醇改性的聚硅氧垸、甲基丙烯酰基改性的聚硅氧烷、巰基改性的聚硅氧烷和苯酚改性的聚硅氧烷；環(huán)狀的二甲基環(huán)硅氧垸，如六甲基環(huán)三硅氧烷、八甲基環(huán)四硅氧烷、十甲基環(huán)五硅氧垸和十二甲基環(huán)六硅氧烷；環(huán)狀的甲基苯基環(huán)硅氧烷，如1,3,5-三甲基-1,3,5-三苯基環(huán)三硅氧烷、1,3,5,7-四甲基-1,3,5,7-四苯基環(huán)四硅氧烷和1,3,5,7,9-五甲基-1,3,5,7,9-五苯基環(huán)五硅氧垸；環(huán)狀的苯基環(huán)硅氧烷，如六苯基環(huán)三硅氧垸；含氟的環(huán)硅氧烷，如3-(3,3,3-三氟丙基)甲基環(huán)三硅氧烷；含有氫甲硅垸基的環(huán)硅氧垸，如甲基氫硅氧垸混合物、五甲基環(huán)五硅氧垸和苯基氫環(huán)硅氧烷；以及含有乙烯基的環(huán)硅氧垸，如五乙烯基五甲基環(huán)五硅氧垸。通過制備含有這些成分的用于表面保護(hù)層的涂料溶液、并涂敷該涂料溶液來形成表面保護(hù)層?？梢酝ㄟ^將這些成分溶解或分散在合適的溶劑中來制備用于表面保護(hù)層的涂料溶液。此處可用的溶劑的例子包括醇類溶劑，如甲醇、乙醇、丙醇和丁醇；酮類溶劑，如丙酮和甲乙酮；以及醚類溶劑，如四氫呋喃、二乙醚和二氧六環(huán)。其沸點不高于IO(TC的溶劑是優(yōu)選的，并且可以使用以上溶劑的任意混合物。雖然可以使用任意量的上述溶劑，但是在溶劑的量過低的情況中固體物質(zhì)容易析出。因此，相對于每重量份的固體物質(zhì)，溶劑的用量優(yōu)選為0.5重量份至70重量份，更優(yōu)選為1重量份至60重量份。表面保護(hù)層16中還可以含有多種添加劑，如針對光敏層所述的那些光穩(wěn)定劑和熱穩(wěn)定劑。此處可用的添加劑的具體例子和優(yōu)選例子與針對光敏層所述的添加劑相同。此外，優(yōu)選的是，用含有含氟樹脂的水分散液來處理表面保護(hù)層16，所述水分散液也被用于處理清潔刮板部件以降低扭矩并增強轉(zhuǎn)印效率。將以上制得的用于表面保護(hù)層的涂料溶液涂敷在光敏層的表面上，并且使其干燥，從而形成表面保護(hù)層。表面保護(hù)層的厚度優(yōu)選為約0.1nm至約100pm。作為涂敷方法，可以采用常規(guī)的方法，如刮刀涂布法、Meyer棒涂法、噴涂法、浸涂法、微珠涂布法、氣刀涂布法或簾式涂布法。圖4示出在采用浸涂法作為涂敷方法的情況下浸涂裝置的示例性實施方案。圖4中所示的涂敷裝置包括浸涂槽521、流體接收器522、涂料溶液補充槽513、涂料溶液緩沖槽503、循環(huán)泵531、攪拌器504和用于裝調(diào)節(jié)涂料溶液粘度用的溶劑的槽(圖中未示出)。在涂料溶液緩沖槽503和涂料溶液補充槽513的外周，分別設(shè)置有夾套501和511，并且液溫控制器502和512分別與夾套501和511相連。這樣可以獨立地控制槽503和513的溫度。通過控制涂料溶液緩沖槽503中涂料溶液的溫度，就可以控制浸涂槽521中的循環(huán)的涂料溶液的溫度。作為用于液溫控制器502和512的溫度控制方法，可以使用(例如)這樣一種方法，該方法包括可任選地使冷水或熱水在夾套501和511中流動，或使用這樣一種方法，該方法包括在夾套501和511中設(shè)置冷卻線圈/或電加熱圈、并且任選地驅(qū)動它們。循環(huán)泵531被設(shè)置在連接涂料溶液緩沖槽503與浸涂槽521的管線中，從而將涂料溶液從涂料溶液緩沖槽轉(zhuǎn)移到浸涂槽中。另一方面，從浸涂槽521的上端開口溢出的涂料溶液由流體接收器522收集，并且在重力作用下通過管線自發(fā)地回到涂料溶液緩沖槽503中。因此，在這種結(jié)構(gòu)中，涂料溶液在涂料溶液緩沖槽503和浸涂槽521之間循環(huán)流動。具有上述結(jié)構(gòu)的浸涂裝置內(nèi)裝滿作為涂料溶液的用于表面保護(hù)層的涂料溶液。當(dāng)使涂料溶液循環(huán)流動時，待涂敷的圓筒形管(即，已裝配好了光敏層、尚未完工的電子照相感光體)在使其軸位于垂直方向的條件下被浸漬在浸涂槽521中。經(jīng)過一定的時間以后，將管以一定的速度拉出。這樣，管上涂有用于表面保護(hù)層的涂料溶液。接著，涂膜通過自然干燥或在(例如)烘箱中強制干燥進(jìn)行硬化，從而形成表面保護(hù)層。優(yōu)選的是，將涂料溶液補充槽513中的涂料溶液冷卻至低于室溫(例如，24°C)的溫度，同時將浸涂槽521和涂料溶液緩沖槽503中的涂料溶液溫度控制在高于涂料溶液補充槽513中的涂料溶液溫度的水平。通過滿足這些溫度要求，可以防止在光敏層(特別是電荷傳輸層)與表面保護(hù)層之間的界面處發(fā)生劣化，并且可以防止殘余電位的升高和諸如重影圖像等缺陷的發(fā)生。理想的是，涂料溶液補充槽513中的涂料溶液的溫度為2(TC或更低，更理想的是，該溫度不低于涂料溶液的凝固點，并且不高于l(TC。另一方面，理想的是，浸涂槽521中的涂料溶液的溫度為20°C或更高，但是不高于3(TC，更理想的是，該溫度為23。C至26。C。<導(dǎo)電性支持體和表面保護(hù)層的表面狀況>為了制造具有較長壽命、優(yōu)異的電位性質(zhì)及維持特性、并且能夠控制由干涉所造成的圖像品質(zhì)的劣化和重影現(xiàn)象的電子照相感光體，本發(fā)明人在多種條件下進(jìn)行研究。在研究過程中，他們發(fā)現(xiàn)了電子照相感光體中導(dǎo)電性支持體和起到最外層作用的表面保護(hù)層的表面粗糙度與這兩個表面的反射率之間的相關(guān)性，并且通過適當(dāng)?shù)乜刂七@些因素而成功建立了可實現(xiàn)上述目的的條件，從而完成了本發(fā)明。所以，本發(fā)明的電子照相感光體的特征在于滿足下列條件(a)和(b):<formula>formulaseeoriginaldocumentpage43</formula>其中A表示導(dǎo)電性支持體的十點平均表面粗糙度Rzj，4，單位為B表示表面保護(hù)層的十點平均表面粗糙度RZ;IS94，單位為pm;并且C表示表面保護(hù)層的反射率相對于導(dǎo)電性支持體的反射率的百分比值。尚不清楚通過滿足以上的條件(a)和(b)后可以獲得具有較長壽命、優(yōu)異的電位性質(zhì)及維持特性、并且能夠控制由干涉所造成的圖像品質(zhì)的劣化和重影現(xiàn)象的電子照相感光體的原因。然而，其效果通過發(fā)明人所進(jìn)行的試驗在實際中已經(jīng)得到證實(參見實施例)。關(guān)于以上的條件(a)，以下的條件(a，)是優(yōu)選的，并且以下的條件(a，，)是更優(yōu)選的。4.(a，)4.5《(A+B)/CX100《65.(a")5.4《(A+B)/CX100《6另一方面，關(guān)于以上的條件(b)，以下的條件(b')是優(yōu)選的。(b，)B《0.25在本發(fā)明中，上述導(dǎo)電性支持體和表面保護(hù)層中待測的表面粗糙度為A(pm)，其用十點平均表面粗糙度Rzj鵬4來表達(dá)。本文所用的術(shù)語"十點平均表面粗糙度RZjIS94"是指在JISB0601(2001)"GeometricalProductSpecifications(GPS)—SurfaceTexture:ProfileMethod—Terms,DefinitionsandSurfaceTextureParameters"，附錄1中所定義的十點平均表面粗糙度，并且與JISB0601(1994)中法定的十點平均表面粗糙度具有相同的含義。雖然在截止(cut-off)值、為0.8mm和測量長度為10mm的條件下進(jìn)行測定，但是本發(fā)明并不局限于此。換言之，可以適當(dāng)?shù)剡x擇任何條件，只要其落入JISB0601(2001)Appendix1的定義中即可。對十點平均表面粗糙度Rzns94的測定方法不特別限定，可以根據(jù)JIS標(biāo)準(zhǔn)(1994)通過使用測定裝置容易地進(jìn)行測定。更具體地說，可以使用(例如)市售的SURFCOM1400系列裝置(由TokyoSeimitsu株式會社制造)。對于導(dǎo)電性支持體，在形成中間層之前即刻測定其外周表面的十點平均表面粗糙度Rzns94。對于表面保護(hù)層，測定最終完成的電子照相感光體的外周表面的十點平均表面粗糙度Rzj，4。在本發(fā)明中，表面保護(hù)層的反射率相對于導(dǎo)電性支持體的反射率是指如下測定的值。使用波長為780nm的光以與其前表面成直角的角度輻射待測定對象的表面。然后，測定反彈回來的正反射光。與十點平均表面粗糙度RZMS94的測定相似，待測定對象為形成中間層之前的導(dǎo)電性支持體的表面和表面保護(hù)層的表面(即，最終完成的電子照相感光體的外表面)。通過將來自導(dǎo)電性支持體的正反射光的反射率設(shè)定為100%，來自表面保護(hù)層的正反射光的反射率的百分比(％)在本發(fā)明中被定義為"表面保護(hù)層的反射率相對于導(dǎo)電性支持體的反射率的百分比值"。在測定反射率時，可以通過使用用于測定反射率的公知裝置來測定正反射光，而沒有特別的限定。更具體地說，可以通過使用諸如瞬時多波長分光光度計MCPD-3000(由OtsukaElectronics株式會社制造)等市售裝置進(jìn)行測定。在測定(例如)圓筒形的電子照相感光體的十點平均表面粗糙度R^S94或反射率時，分別在沿軸線中央處的外周和兩側(cè)的外周(例如，距離用作感光體的區(qū)域的邊緣5cm至10cm的位置)，在每一外周上以中心角為90°分別在4個位置上(即，共有12個點)各自進(jìn)行測定。然后，計算平均值，并作為十點平均表面粗糙度Rz氾94或反射率。雖然對測試點的位置和數(shù)目沒有限定，但是通過在上述的12個點處進(jìn)行測定可以獲得具有較小測定誤差的值。<表面狀態(tài)的控制〉可以通過(例如)對起始的未涂敷管的制造條件進(jìn)行調(diào)控、對表面狀態(tài)進(jìn)行主動控制(例如，通過濕式衍磨處理或無心磨削處理)或進(jìn)行諸如陽極氧化等表面處理，來控制上述導(dǎo)電性支持體的十點平均表面粗糙度RZJW4。另一方面，可以通過(例如)適當(dāng)?shù)卣{(diào)控涂敷的條件(根據(jù)所采用的涂敷方法的不同而采用的多種條件，例如，涂料溶液的組成、溫度和濃度，涂敷環(huán)境的濕度，涂敷方法，涂敷時間和在浸涂情況下的上拉速度)來控制上述表面保護(hù)層的十點平均表面粗糙度RMS94。還可以在形成表面保護(hù)層之后使其表面具有圖案(包括進(jìn)行磨削)。在這種情況下，優(yōu)選對表面保護(hù)層的表面進(jìn)行磨削以得到所需的表面狀態(tài)，這是因為該方法比使具有規(guī)則的圖案的方法更簡便。作為磨削電子照相感光體的最外表面的方法，可以使用公知的方法，而沒有限制。例如，可以采用任何的研磨方法，如濕式衍磨法、噴砂法、拋光法、激光噴射法、滾筒研磨法，或者砂紙研磨法或膠帶研磨法，只要可以由此得到本發(fā)明中所規(guī)定的表面形狀即可。可以通過以下方法來控制表面保護(hù)層相對于導(dǎo)電性支持體的反射率，所述方法為例如，向表面保護(hù)層中加入填料，同時調(diào)控該填料的粒徑和填料的量，或者適當(dāng)選擇不同條件，如表面保護(hù)層的厚度和用于涂料溶液的溶劑。本發(fā)明的圖像形成裝置至少包括根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光體，-充電單元，其使所述電子照相感光體的表面帶電；曝光單元，其以成像方式使所述電子照相感光體的表面曝光，以形成潛像；顯影單元，其將調(diào)色劑供給到所述電子照相感光體的表面上，從而使所述潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像；和轉(zhuǎn)印單元，其將所述顯影后的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印介質(zhì)上。如果需要的話，所述圖像形成裝置還具有定影單元，其將所述轉(zhuǎn)印后的調(diào)色劑圖像定影；清潔單元，其在轉(zhuǎn)印之后清除殘留在電子照相感光體表面上的調(diào)色劑；消除靜電單元，其在清潔工序之后除去電子照相感光體表面上的殘余電荷；以及電子照相系統(tǒng)的其它多個單元和機構(gòu)。通過轉(zhuǎn)印單元而被轉(zhuǎn)印的對象可以是記錄介質(zhì)(如紙或OHP片)或中間轉(zhuǎn)印體(如中間轉(zhuǎn)印帶)。在將顯影后的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印體(中間轉(zhuǎn)印系統(tǒng))上的情況中，圖像可以再次轉(zhuǎn)印到記錄介質(zhì)上，從而在記錄介質(zhì)的表面上形成圖像。在該過程中，可以通過以兩種或多種顏色的形式將圖像層積在中間轉(zhuǎn)印體的表面上、然后立即將這些圖像再次轉(zhuǎn)印至記錄介質(zhì)上來形成彩色圖像。通過以三種或四種顏色的形式來形成圖像，還可以形成全彩色圖像。圖5為示意性地示出本發(fā)明的圖像形成裝置的優(yōu)選示例性實施方案的典型剖視圖。圖5示出的圖像形成裝置200為這樣一種圖像形成裝置，該圖像形成裝置具有采用接觸充電方式的充電裝置(充電單元)402a至402d，并且在轉(zhuǎn)印中采用中間轉(zhuǎn)印方式，并且該圖像形成裝置包括多個圖像形成單元，各圖像形成單元至少具有充電裝置402a至402d、曝光裝置(曝光單元)403和顯影裝置(顯影單元)404a至404d，即，它是一種具有所謂的串聯(lián)系統(tǒng)的圖像形成裝置。更具體地說，在具有串聯(lián)系統(tǒng)的該圖像形成裝置200的殼體400中，4個感光體(電子照相感光體)401a至401d(例如，分別能夠形成黃色圖像、品紅色圖像、青色圖像和黑色圖像的感光體401a、401b、401c和401d)沿中間轉(zhuǎn)印帶409平行設(shè)置。裝載在圖像形成裝置200中的感光體401a至401d分別為上述的本發(fā)明的電子照相感光體。圖像形成裝置200還具有清潔裝置(清潔單元)415a至415d。感光體401a至401d分別可沿一定的方向(圖5中在紙面上沿逆時針方向)旋轉(zhuǎn)。沿著旋轉(zhuǎn)方向設(shè)置有輥型充電裝置402a至402d(可使電子照相感光體帶電的接觸充電裝置)、顯影裝置404a至404d(使通過曝光裝置而形成的靜電潛像顯影從而形成調(diào)色劑圖像的顯影單元)、轉(zhuǎn)印裝置410a至410d(采用一次轉(zhuǎn)印輥形式的轉(zhuǎn)印單元，其用于初次將通過顯影單元而形成的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)移到中間轉(zhuǎn)印帶409(中間轉(zhuǎn)印體)上，其中所述的中間轉(zhuǎn)印帶409將在下文中進(jìn)行描述)和清潔裝置415a至415d(具有刮板清潔體系的清潔單元)。配設(shè)調(diào)色劑盒405a至405d,從而使得4種顏色(黃色、品紅色、青色和黑色)的調(diào)色劑可以分別供給到顯影裝置404a至404d。轉(zhuǎn)印裝置410a至410d通過中間轉(zhuǎn)印帶409(用于將一次轉(zhuǎn)印圖像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印介質(zhì)500上的中間轉(zhuǎn)印體)分別與感光體401a至401d接觸。此外，起到激光光源作用的曝光裝置403(使已被充電裝置充電的電子照相感光體曝光從而形成靜電潛像的曝光單元)位于殼體400中的一定位置上。該裝置被構(gòu)造成這樣的結(jié)構(gòu)，所述結(jié)構(gòu)使得來自曝光裝置403的激光對已被充電裝置402a至402d充電、但是尚未被顯影裝置404a至404d顯影的感光體401a至401d的表面進(jìn)行輻照。這樣，隨著感光體401a至401d的旋轉(zhuǎn)，依次進(jìn)行充電步驟、曝光步驟、顯影步驟、一次轉(zhuǎn)印步驟和清潔步驟，并且各顏色的調(diào)色劑圖像以重疊的形式被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶409的表面(外周面)上。呈輥式的充電裝置(充電單元)402a至402d均勻地向感光體401a至401d施加電壓，由此使感光體401至401d的表面帶有一定的電位。作為充電裝置402a至402d的材料，可以使用(例如)金屬，如鋁、鐵或銅；導(dǎo)電性聚合物材料，如聚乙炔、聚吡咯或聚噻吩；或彈性體材料，如聚氨酯橡膠、硅橡膠、環(huán)氧氯丙烷橡膠、乙烯-丙烯橡膠、丙烯酸橡膠、含氟橡膠、苯乙烯-丁二烯橡膠或丁二烯橡膠，其中在這些橡膠中分散有炭黑、碘化銅、碘化銀、硫化鋅、碳化硅或金屬氧化物的顆粒。金屬氧化物的例子包括ZnO、Sn02、Ti02、ln203、Mo03和它們的絡(luò)合氧化物。還可以使用通過加入高氯酸鹽而賦予了導(dǎo)電性的彈性材料作為充電裝置402a至402d。此外，充電裝置402a至402d在其表面也可以具有涂層。作為用于形成所述涂層的材料，可以單獨地或以組合的方式使用N-垸氧基甲基尼龍、纖維素樹脂、乙烯基吡啶樹脂、酚樹脂、聚氨酯、聚乙烯縮丁醛或三聚氰胺。還可以使用乳液型樹脂類材料，如丙烯酸樹脂乳液、聚酯樹脂乳液或聚氨酯。在所有這些樹脂中，通過無皂乳液聚合法合成的乳液型樹脂是優(yōu)選的。上述樹脂還可在其內(nèi)分散有導(dǎo)電性顆粒以控制電阻率或含有抗氧化劑以防止氧化。還可以向樹脂中加入流平劑或表面活性劑，從而改善形成涂層時的成膜特性。雖然此處通過例子的形式列舉出接觸充電型的輥形充電裝置402a至402d，但是在本發(fā)明中對充電裝置的形狀沒有限定。換言之，可以使用(例如)葉片形的充電裝置、帶形的充電裝置或刷子形的充電裝置。充電裝置402a至402d的電阻率優(yōu)選為1(^Dcm至10"。cm，更優(yōu)選為1C^ncm至1012Qcm。施加到接觸型充電元件上的電壓可以為直流電壓或交流電壓，或者為直流+交流電壓(直流電加上交流電)。雖然通過例子的形式列舉出接觸充電型轉(zhuǎn)印裝置410a至410d，但本發(fā)明并不局限于此。即，可以使用柵極充電型轉(zhuǎn)印裝置或電暈管充電型轉(zhuǎn)印裝置。作為顯影裝置404a至404d，可以使用利用單組分或者雙組分的常規(guī)顯影劑或反轉(zhuǎn)顯影劑的公知顯影裝置。從改善圖像品質(zhì)的角度來說，特別優(yōu)選采用利用雙組分顯影劑的雙組分顯影體系。在這種情況中，用于使靜電潛像顯現(xiàn)出來的顯影劑(雙組分顯影劑)由調(diào)色劑和載體構(gòu)成。對于此處所使用的調(diào)色劑沒有特別的限定。例如，可以使用通過研磨法而制備的無定形調(diào)色劑或者使用通過聚合法而制備的球形調(diào)色劑。采用清潔裝置415a至415d來除去一次轉(zhuǎn)印之后粘附在感光體401a至401d的表面上的殘余調(diào)色劑。這樣，感光體401a至401d的表面保持清潔，并且可在隨后的圖像形成過程中重復(fù)使用。作為清潔裝置415a至415d，可以使用清潔刮板、清潔刷、清潔輥等。其中，優(yōu)選使用在此所示的清潔刮板。構(gòu)成清潔刮板的材料的例子包括聚氨酯橡膠、氯丁橡膠和硅橡膠。中間轉(zhuǎn)印帶409為由公知的材料(如聚酰胺、聚酰亞胺或聚酰胺酰亞胺)制得的環(huán)形帶。可以通過(例如)以下的方法來制造由聚酰亞胺構(gòu)成的中間轉(zhuǎn)印帶。艮P，通過將幾乎等摩爾的四羧酸二酐或其衍生物與二胺在確定的溶劑中進(jìn)行聚合來獲得聚酰胺酸溶液。接著將該聚酰胺酸溶液供給并鋪展到圓筒形模具上，以形成膜(層)，隨后進(jìn)行酰亞胺化反應(yīng)。這樣，可以得到由聚酰亞胺樹脂構(gòu)成的中間轉(zhuǎn)印帶409。四羧酸二酐的例子包括均苯四酸二酐、3,3，,4,4，-二苯甲酮四酸二酐、3,3',4,4'-聯(lián)苯四酸二酐、2,3,3，,4-聯(lián)苯四酸二酐、2，3,6,7-萘四羧酸二酐、1,2,5，6-萘四羧酸二酐、1,4,5,8-萘四羧酸二酐、2,2，-雙(3,4-二羧基苯基)磺酸二酐、二萘嵌苯-3,4,9，10-四羧酸二酐、雙(3,4-二羧基苯酚)醚二酐和乙烯四羧酸二酐。二胺的具體例子包括4，4，-二氨基二苯醚、4,4'-二氨基二苯甲垸、3，3'-二氨基二苯甲烷、3,3'-二氯聯(lián)苯胺、4,4'-二氨基二苯硫醚、3,3'-二氨基二苯砜、1，5-二氨基萘、間苯二胺、對苯二胺、3,3'-二甲基-4，4'-聯(lián)苯二胺、聯(lián)苯胺、3,3'-二甲基聯(lián)苯胺、3,3'-二甲氧基聯(lián)苯胺、4,4'-二氨基苯砜、4,4，-二氨基二苯基丙垸、2,4-雙((3-氨基-叔丁基)甲苯、雙(對-(3-氨基-叔丁基苯基)醚、雙(對-P-甲基-5-氨基苯基)苯、雙-對-(1，1-二甲基-5-氨基戊基)苯、l-異丙基-2,4-間苯二胺、間亞二甲苯基二胺、對亞二甲苯基二胺、二(對氨基環(huán)己基)甲烷、六亞甲基二胺、七亞甲基二胺、八亞甲基二胺、九亞甲基二胺、十亞甲基二胺、二氨基丙基四亞甲基二胺、3-甲基七亞甲基二胺、4,4-二甲基七亞甲基二胺、2,11-二氨基十二垸、1,2-雙-3-氨基丙氧基乙烷、2,2-二甲基丙二胺、3-甲氧基六亞甲基二胺、2，5-二甲基七亞甲基二胺、3-甲基七亞甲基二胺、5-甲基九亞甲基二胺、2,17-二氨基三十烷、1,4-二氨基環(huán)己烷、1,10-二氨基-l,10-二甲基癸垸、1,2-二氨基十八烷、2,2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙垸、哌嗪、H2N(CH2)30(CH2)20(CH2)NH2、H2N(CH2)3S(CH2)3NH2和H2N(CH2)3N(CH2)3(CH2)3NH2。作為四羧酸二酐與二胺的聚合反應(yīng)中所用的溶劑，從溶解度的角度來說，極性溶劑是優(yōu)選的。作為極性溶劑，N，N-二烷基酰胺是優(yōu)選的。特別是，具有低分子量的極性溶劑是優(yōu)選的，并且其例子包括N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二甲基甲氧基乙酰胺、二甲基亞砜、六甲基磷酰三胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、吡啶、環(huán)丁砜和二甲基環(huán)丁砜。這些溶劑可以單獨使用或組合使用。為了控制中間轉(zhuǎn)印帶409的膜電阻率，可以將碳分散在聚酰亞胺樹脂中。雖然對碳的種類沒有限定，但是優(yōu)選使用氧化炭黑，該氧化炭黑具有在炭黑氧化過程中在其表面上所形成的含氧官能團(tuán)(例如，羧基、醌基、內(nèi)酯基或羥基)。在將氧化炭黑分散在聚酰亞胺樹脂中的情況下，在施加電壓時過量的電流會流入到氧化炭黑中。由此，聚酰亞胺樹脂受到由于重復(fù)施加電壓而造成的氧化的影響較小。此外，由于氧化碳黑在其表面上形成有含氧官能團(tuán)，氧化碳黑可以高度分散在聚酰亞胺樹脂中，因此，這有利于降低電阻率的不均勻性以及有利于降低電場依賴性。結(jié)果，由于轉(zhuǎn)印電壓而造成的電場集中現(xiàn)象的發(fā)生概率降低。這樣，可以防止由轉(zhuǎn)印電壓而引起電阻率的降低，從而可以提高電阻率的均一性并可以獲得這樣一種中間轉(zhuǎn)印帶，該轉(zhuǎn)印帶較少依賴于電場，其電阻率較少隨環(huán)境的變化而變化，并且可以抑制在紙的轉(zhuǎn)印部分(runningpartofpaper)出現(xiàn)針孔這樣的圖像缺陷，從而可以確保得至l」優(yōu)異的圖像品質(zhì)?？梢酝ㄟ^下列方法將炭黑氧化來獲得氧化炭黑，所述方法有在高溫環(huán)境中使炭黑與空氣發(fā)生接觸反應(yīng)的空氣氧化法；在常溫下采用氧化氮或臭氧的反應(yīng)方法；或者先在高溫下進(jìn)行空氣氧化之后再在低溫下通過臭氧進(jìn)行氧化的方法。作為氧化炭黑，可以使用市售的產(chǎn)品，如MA100(pH3.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為1.5%(以重量計，同樣適用下文))、MA100R(pH3.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為1.5。/。)、MA100S(pH3.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為1.5%)、#970(pH3.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為3.0%)、MA11(pH3.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為2.0%)、#1000(pH3.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為3.0%)、#2200(pH3.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為3.5%)、MA230(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為1.5%)、MA220(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為1.0%)、#2650(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為8.0%)、MA7(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為3.0%)、MA8(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為3.0%)、OIL7B(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為6.0%)、MA77(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為3.0%)、#2350(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為7.5%)、#2700(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為10.0。/0)和弁2400(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為9.0%)，以上物質(zhì)都由三菱化學(xué)株式會社制造；PRINTEX150T(pH4.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為10.0%)、SPECIALBLACK350(pH3.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為2.2%)、SPECIALBLACK100(pH3.3，揮發(fā)性物質(zhì)含量為2.2%)、SPECIALBLACK250(pH3.1，揮發(fā)性物質(zhì)含量為2.0%)、SPECIALBLACK5(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為15.0%)、SPECIALBLACK4(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為14.0%)、SPECIALBLACK4A(pH3.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為14.0%)、SPECIALBLACK550(pH2.8，揮發(fā)性物質(zhì)含量為2.5%)、SPECIALBLACK6(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為18.0%)、COLORBLACKFW200(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為20.0%)、COLORBLACKFW2(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為16.5%)和COLORBLACKFW2V(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為16.5%)，這些物質(zhì)均由Degussa株式會社制造；MONARCH1000(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為9.5%)、MONARCH1300(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為9.5%)、MONARCH1400(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為9.0%)、MOGUL-L(pH2.5，揮發(fā)性物質(zhì)含量為5.0%)和REGAL400R(pH4.0，揮發(fā)性物質(zhì)含量為3.5%)，這些物質(zhì)都由Cabot株式會社制造。優(yōu)選使用pH值為4.5或更低、并且揮發(fā)性物質(zhì)含量為1.0%或更高的氧化炭黑。這些氧化炭黑的導(dǎo)電率隨(例如)氧化程度、DBP吸油量、物理性質(zhì)(如利用氮氣吸附，通過BET法而測定的比表面積)等的變化而不同。雖然可以單獨地或組合地使用這些氧化炭黑，但是優(yōu)選的是，將導(dǎo)電率基本上不相同的兩種或多種炭黑組合。在使用物理性質(zhì)不同的兩種或多種炭黑的組合的情況下，可以通過(例如)優(yōu)先加入具有較高導(dǎo)電率的炭黑、然后加入具有較低導(dǎo)電率的炭黑，來控制表面電阻率。'氧化炭黑的含量優(yōu)選為聚酰亞胺樹脂的10重量％至50重量％，更優(yōu)選為12重量％至30重量％。當(dāng)其含量低于10重量％時，有時會觀察到電阻率的均一性降低，并且在長時間使用時其表面電阻率會極大地降低。另一方面，所述含量超過50重量％是不利的，這是因為幾乎難以獲得所需的電阻率，并且在這種情況下由其所得到的模制品會變脆。作為制備其中分散有兩種或多種氧化炭黑的聚酰胺酸溶液的方法，可以列舉出下列的方法一種方法是，其包括預(yù)先將兩種或多種氧化炭黑分散在溶劑中、然后將上述的羧酸二酐成分和二胺溶解在該分散液中，隨后進(jìn)行聚合；另一種方法是，其包括將兩種或多種氧化炭黑分別分散在溶劑中從而得到兩種或多種炭黑分散液、將上述的羧酸二酐成分和二胺溶解在這些分散液中、然后將這些聚酰胺酸溶液進(jìn)行混合，等等?？梢酝ㄟ^以下方法獲得中間轉(zhuǎn)印帶409，所述方法為將以上所得到的聚酰胺酸溶液供給并鋪展在圓筒形模具的內(nèi)表面上以形成涂膜，然后加熱使該聚酰胺酸發(fā)生酰亞胺化反應(yīng)。在該酰亞胺化步驟中通過將所得涂膜在一定的溫度下保持0.5小時或更長時間，可以獲得具有高平滑度的中間轉(zhuǎn)印帶。將聚酰胺酸溶液供給到圓筒形模具的內(nèi)表面上的方法的例子包括使用分配器的方法和使用模頭的方法。作為所述圓筒形模具，優(yōu)選使用具有拋光鏡面的內(nèi)周面的模具。將聚酰胺酸溶液供給到圓筒形模具的內(nèi)表面上來形成膜的方法的例子包括在加熱條件下通過離心來形成膜的方法；利用彈丸狀的移動體來形成膜的方法；以及通過旋轉(zhuǎn)來形成膜的方法。通過采用這些方法，可以形成厚度更均勻的涂膜。通過使所得到的涂膜發(fā)生酰亞胺化來形成中間轉(zhuǎn)印帶的方法的例子包括(i)一種包括將涂膜和模具一起放在加熱器中并將涂膜加熱至可以發(fā)生酰亞胺化的反應(yīng)溫度的方法；和(ii)一種包括以下步驟的方法將溶劑除去以達(dá)到使涂膜形狀保持為帶狀的程度，從模具的內(nèi)表面剝離涂膜，將該涂膜放在金屬圓筒的外周面上，并對膜與圓筒一起進(jìn)行加熱從而進(jìn)行酰亞胺化。雖然可以采用上述方法(i)和(ii)中任何一種方法進(jìn)行酰亞胺化，只要所得到的中間轉(zhuǎn)印帶的表面的沖擊硬度滿足上述的條件即可，但是方法(ii)是優(yōu)選的。這是因為通過方法(ii)進(jìn)行的酰亞胺化能夠確保有效地制得具有高平坦度和優(yōu)異外表面精度的中間轉(zhuǎn)印體。下面對方法(ii)進(jìn)行詳細(xì)說明。雖然對在方法(ii)中除去溶劑的加熱條件沒有特別限定，只要可以除去溶劑即可，但是優(yōu)選的是，加熱溫度為8(TC至200°C，并且加熱時間為0.5小時至5小時。將以上制得的形狀保持為帶狀的模制品從模具的內(nèi)周面上剝離。在剝離步驟中，可以將模具的內(nèi)周面進(jìn)行脫模處理。接著，將已經(jīng)被加熱并硬化從而形狀保持為帶狀的模制品放置在金屬圓筒的外周面上，然后與該圓筒一起加熱，從而進(jìn)行聚酰胺酸的酰亞胺化反應(yīng)。作為所述金屬圓筒，優(yōu)選使用其線性膨脹系數(shù)大于聚酰亞胺樹脂的圓筒。通過使該圓筒的外徑比聚酰亞胺的模制品的內(nèi)徑小一定的程度，可以進(jìn)行熱固化，從而獲得厚度均勻的、沒有凹凸不平的環(huán)形帶。優(yōu)選的是，金屬圓筒的外周面的算術(shù)平均粗糙度Ra為1.2pm至2.0fim。當(dāng)金屬圓筒的外周面的算術(shù)平均粗糙度Ra小于1.2pm時，金屬圓筒本身過于平滑，由此所得到的中間轉(zhuǎn)印帶不會發(fā)生由于在沿帶的軸方向上收縮而引起的滑移。結(jié)果，產(chǎn)生這樣的傾向在該步驟中進(jìn)行拉伸時，膜厚度變得不均勻或平面精度降低。當(dāng)金屬圓筒的外周面的算術(shù)平均粗糙度Ra超過2.0^m時，產(chǎn)生這樣的傾向金屬圓筒的外表面輪廓被轉(zhuǎn)印到帶形中間轉(zhuǎn)印體的內(nèi)表面上，并在中間轉(zhuǎn)印體的外表面上形成小的凹凸，從而引起圖像缺陷。在本示例性實施方案中所述的算術(shù)平均粗糙度Ra是根據(jù)JISB0601測定的值。在酰亞胺化時，加熱溫度優(yōu)選為22(TC至280°C，同時加熱時間優(yōu)選為0.5小時至2小時，但是該加熱條件取決于聚酰亞胺樹脂的組成。當(dāng)在以上加熱條件下進(jìn)行酰亞胺化時，會使聚酰亞胺樹脂的收縮量增加。因此，通過緩慢地使所述帶沿其軸方向收縮，可以防止厚度的不均一性和平面精度的降低。優(yōu)選的是，以上獲得的由聚酰亞胺樹脂所構(gòu)成的中間轉(zhuǎn)印帶的外周面的算術(shù)平均粗糙度Ra為1.5pm或更低。當(dāng)中間轉(zhuǎn)印帶的外周面的算術(shù)平均粗糙度Ra超過1.5pm時，經(jīng)常發(fā)生諸如圖像粗糙等的圖像缺陷。據(jù)認(rèn)為產(chǎn)生這種圖像粗糙的原因如下。即，轉(zhuǎn)印時所施加的電壓或由剝離放電所產(chǎn)生的電場會局部集中在中間轉(zhuǎn)印帶表面的凸部上，由此使凸部表面發(fā)生變性。結(jié)果，出現(xiàn)新的導(dǎo)電通路，因此使電阻率降低，這使所得圖像的密度降低。以上獲得的中間轉(zhuǎn)印帶409優(yōu)選為無縫帶。在無縫帶的情況下，中間轉(zhuǎn)印帶409的厚度可以根據(jù)使用目的來適當(dāng)?shù)卮_定。從機械特性(如強度和撓性)的角度來說，所述厚度優(yōu)選為20pm至500pm，更優(yōu)選為50(im至200)imi。關(guān)于中間轉(zhuǎn)印帶409的表面電阻率，優(yōu)選的是，其表面電阻率(n/□)的常用對數(shù)值為8(logO/口)至15(logQ/口)，更優(yōu)選為11(logn/口)至13(logQ/口)。此處所述的表面電阻率是指在22°C和55%RH的環(huán)境下施加100V的電壓并在IO秒鐘之后測定電流值而得到的值。本文所用的術(shù)語"表面電阻率(a/口)"其含義與文獻(xiàn)/fflhmah/fcmc/o5mMw,Ohmsha,896頁中所述的"表面電阻率"相同。換言之，該表面電阻率是從阻抗體平面截取的正方形的兩個相對邊之間的電阻。只要該電阻是均勻分布的，那么表面電阻率即保持恒定而與正方形的大小無關(guān)。中間轉(zhuǎn)印帶409由驅(qū)動輥406、支持輥408和具有一定張力的張力輥407所支撐，并且由于這些輥的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)，不會產(chǎn)生撓曲。二次轉(zhuǎn)印輥413被設(shè)置為經(jīng)由中間轉(zhuǎn)印帶409而與支持輥408接觸。穿過支持輥408和二次轉(zhuǎn)印輥413之間的中間轉(zhuǎn)印帶409被清潔刮板416所清潔，然后重復(fù)地被輸送到隨后的圖像形成過程中。托盤(轉(zhuǎn)印介質(zhì)托盤)411設(shè)置在殼體400中的確定位置上。托盤411中的轉(zhuǎn)印介質(zhì)500(如紙)通過傳輸輥412依次被傳輸?shù)街虚g轉(zhuǎn)印帶409和二次轉(zhuǎn)印輥413之間的間隙和定影裝置(定影單元)414的互相接觸的兩個輥之間的間隙，然后從殼體400中被排出。如上所述，在感光體401a至401d旋轉(zhuǎn)的條件下依次進(jìn)行充電步驟、曝光步驟、顯影步驟、轉(zhuǎn)印步驟和清潔步驟，由此重復(fù)地進(jìn)行圖像形成。感光體410a至401d為上述的電子照相感光體1，因此其具有本發(fā)明的優(yōu)異功能和效果。這樣，這些感光體本身具有長的壽命以及優(yōu)異的電特性和維持特性，并且能夠?qū)崿F(xiàn)令人滿意的圖像品質(zhì)，同時可防止由干涉造成的圖像品質(zhì)的劣化和重影圖像的形成。本發(fā)明的圖像形成裝置并不限于本示例性實施方案中的裝置。例如，圖5所示的裝置可以具有處理盒，該處理盒具有感光體401a至401d和接觸式充電裝置402a至402d。使用這種處理盒有利于維護(hù)。本發(fā)明的圖像形成裝置還可以具有靜電消除裝置，如光輻射清除裝置。這樣，在重復(fù)使用電子照相感光體的情況下可以防止電子照相感光體的殘余電位被帶到下一循環(huán)中，從而進(jìn)一步改善圖像品質(zhì)。處理盒具有這樣的結(jié)構(gòu)，為了更換圖像形成裝置的可消耗部件，圖像形成裝置的某些部件被組裝到盒內(nèi)，以有利于更換它們。所述處理盒可以以被安裝在圖像形成裝置中的狀態(tài)而市售，或者作為可更換單元或修理單元而單獨存在。通常被集成在處理盒中的部件的例子包括顯影單元、充電單元、曝光單元和清潔單元。此外，還可以具有轉(zhuǎn)印單元和定影單元。這些單元可以根據(jù)處理盒的使用性質(zhì)和使用目的而組合使用。本發(fā)明的處理盒的特征在于，其至少包括電子照相感光體和上述部件中的任何一個或它們的組合，并且該電子照相感光體為本發(fā)明的電子照相感光體。對除了電子照相感光體之外的部件(其可被組裝到處理盒中)沒有特別限定，可以毫無問題地使用公知的部件。在以上的[本發(fā)明的圖像形成裝置]中已對這些部件進(jìn)行了詳細(xì)地說明。圖6為示出本發(fā)明的處理盒的優(yōu)選示例性實施方案的基本構(gòu)造的典型剖視圖。在圖6中，處理盒300包括感光體(電子照相感光體)307以及充電裝置(充電單元)308、顯影裝置(顯影單元)311、中間轉(zhuǎn)印體320和清潔裝置(清潔單元)313。在外部，該處理盒還具有用于曝光的開口318和用于抗靜電曝光的另一開口317，此外，其還具有固定桿316。這些單元被集成在一起。在本例子的轉(zhuǎn)印裝置312中，采用中間轉(zhuǎn)印法，其包括通過中間轉(zhuǎn)印體320將調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印介質(zhì)500上。感光體307為本發(fā)明上述的電子照相感光體。該處理盒300可從圖像形成裝置的主體(其包括轉(zhuǎn)印裝置312、定影裝置315和圖中沒有示出的其它部分)上拆卸下來。這樣，處理盒與圖像形成裝置主體一起構(gòu)成了圖像形成裝置。作為充電裝置(充電單元)308，可以選擇其中利用(例如)充電輥、充電刷、充電膜或充電管的接觸式充電體系。在該接觸式充電體系中，將電壓施加到與感光體表面相接觸的導(dǎo)電性部件上，從而使感光體表面帶電。導(dǎo)電性部件可以具有任何形狀，如刷子狀、刮板狀、針電極或輥狀，但是輥形部件是特別優(yōu)選的。通常，按照從外到內(nèi)的方向，輥形部件包括電阻層、支撐該電阻層的彈性層和芯材。如果需要的話，可以在電阻層的外面形成保護(hù)層。作為顯影裝置311，可以根據(jù)目的而適當(dāng)?shù)剡x擇任意已知的顯影裝置。例如，可以利用公知的顯影裝置，在該顯影裝置中，通過使單組分型或雙組分型的顯影劑與刷子、輥等接觸或以非接觸的方式來進(jìn)行顯影。此處可用的調(diào)色劑可以為通過機械粉碎或化學(xué)聚合而制得的、并且具有從無定形到球形等多種形狀的那些調(diào)色劑。作為在圖中未示出的、可以將在感光體307表面上顯影后的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印體320上的中間轉(zhuǎn)印裝置(轉(zhuǎn)印單元)，可以使用本身已公知的轉(zhuǎn)印充電裝置，例如，使用帶、輥、膜、橡膠刮板等的接觸充電型轉(zhuǎn)印裝置，柵極充電型轉(zhuǎn)印裝置或電暈管充電型轉(zhuǎn)印裝置。其中，接觸充電型轉(zhuǎn)印裝置是優(yōu)選的，因為其具有優(yōu)異的充電轉(zhuǎn)印補償能力。除了上述的充電型轉(zhuǎn)印裝置之外，還可以結(jié)合使用剝離型轉(zhuǎn)印裝置。作為清潔裝置(清潔單元)313，可以使用本身已公知的那些清潔裝置，而沒有特別限定。其例子包括由聚氨酯所制得的刮板和清潔刷。在圖中未示出的靜電消除裝置(光靜電消除單元)包括鎢燈和LED。作為在光靜電消除過程中所使用的光，可以使用(例如)來自鎢燈的白光和來自LED的紅光。在光靜電消除過程中，輸出量被設(shè)定為可以產(chǎn)生這樣的輻射強度，該輻射強度通常為可使電子照相感光體表現(xiàn)出半曝光靈敏度的光量的約幾倍至約30倍。在本發(fā)明的處理盒300中，來自光靜電清除裝置的光從開口317導(dǎo)入，從而清除感光體307表面上的靜電。另一方面，來自圖中未示出的曝光裝置(曝光單元)的成像曝光光線從開口318導(dǎo)入到本例子的處理盒中，該光線輻射感光體307的表面，從而形成靜電潛像。本發(fā)明的處理盒被安裝在上述的圖像形成裝置中。由于該處理盒中安裝有具有優(yōu)異的功能和效果的本發(fā)明電子照相感光體，因此，處理盒本身具有長的壽命以及優(yōu)異的電特性和維持特性，并且能夠?qū)崿F(xiàn)令人滿意的圖像品質(zhì)，同時可以防止圖像品質(zhì)的劣化和重影圖像的形成。雖然參照附圖對本發(fā)明的電子照相感光體、處理盒和圖像形成裝置進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明并不局限于這些構(gòu)造。此外，在本發(fā)明的處理盒和圖像形成裝置中，對除了電子照相感光體之外的其它構(gòu)成部件沒有特別限定，可以毫無問題地采用公知的那些部件。以下將參照實施例和對比例對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)地說明。但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明并不局限于這些例子。[實施例1]首先，在攪拌條件下將100重量份的氧化鋅(數(shù)均粒徑為70nm，由Tayca株式會社制造的試驗品)和500重量份的甲苯混合。然后，向其中加入1.5重量份的硅垸偶聯(lián)劑(KBM603,由Shin-EtsuChemical株式會社制造)，并將混合物攪拌2小時。在減壓下蒸餾掉甲苯之后，將殘留物在150'C下烘焙2小時。將60重量份的經(jīng)過以上表面處理的氧化鋅、15重量份的用作硬化劑的封端異氰酸酯(Sumidule3175，由SumitomoByerUrethane株式會社制造)、15重量份的縮丁醛樹脂(BM-lTM，由SekisuiChemical株式會社制造)和85重量份的甲乙酮混合在一起，從而得到液體混合物。將38重量份的以上獲得的液體混合物與25重量份的甲乙酮混合，并在砂磨機中利用直徑為lmm的玻璃珠分散2小時，從而得到分散液。向所得分散液中加入0.005重量份的二月桂酸二辛基錫作為催化劑。由此獲得用于形成中間層的涂料溶液。通過浸涂法將形成中間層用的涂料溶液涂敷在鋁基材料(直徑為30mm，長度為404mm，厚度為1mm，圓筒形，十點平均表面粗糙度Rziis94二0.3pm)的外周面上，并通過在16(TC下干燥100分鐘使其硬化，從而形成厚度為15pm的中間層。此處采用的鋁基材料(導(dǎo)電性支持體)的表面狀態(tài)在其制造過程中在無心磨削步驟中已經(jīng)被控制為確定的狀態(tài)。通過采用與以下將要描述的表面保護(hù)層中所用的方法相同的方法來測定其十點平均表面粗糙度RZIIS94。這同樣適用于以下的實施例和對比例。接著，將15重量份的羥基酞菁鎵(其在X-射線衍射譜中于Blag角(2e土0.2。)為7.3°、16.0°、24.9°和28.0。處出現(xiàn)衍射峰)、用作粘結(jié)劑樹脂的10重量份的氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物樹脂(VMCHTM，由NipponUnicar株式會社制造)和300重量份的醋酸正丁酯一起混合，并在臥式砂磨機中用玻璃珠分散0.5小時，從而得到用于形成電荷發(fā)生層的涂料溶液。通過浸涂法將所獲得的用于形成電荷發(fā)生層的涂料溶液涂敷在已經(jīng)形成的中間層上，并于IO(TC下通過加熱干燥IO分鐘，從而形成厚度為約0.15pm的電荷發(fā)生層。接著，將2重量份的由以下的結(jié)構(gòu)式(A)表示的化合物和3重量份的由以下的結(jié)構(gòu)式(B)表示的高分子化合物(粘度平均分子量39,000)溶解在包含15重量份的四氫呋喃和5重量份的氯苯的溶劑混合物中，從而得到用于形成電荷傳輸層的涂料溶液。通過浸涂法將以上獲得的用于形成電荷傳輸層的涂料溶液涂敷在己經(jīng)形成的電荷發(fā)生層上，并于115T下通過熱空氣流干燥.40分鐘，從而形成厚度為20pm的電荷傳輸層。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage59</formula>然后將5重量份的上表中的化合物(1-16)和5重量份的甲階酚醛樹脂型酚醛樹脂(PL-4852TM，由GunEiChemicalIndustry株式會社制造)溶解在27重量份的丁醇溶劑中。在加入0.2重量份的對甲苯磺酸和0.1重量份的二正丁基胺之后，通過攪拌該混合物于24t:下混合1小時。再向其中加入0.02重量份的二甲基硅氧垸，從而得到用于形成表面保護(hù)涂層的涂料溶液。將以上獲得的用于形成表面保護(hù)涂層的涂料溶液裝在具有圖4所示構(gòu)造的涂敷裝置中，并且使之在涂料溶液緩沖槽503和浸涂槽521之間循環(huán)。在這種狀態(tài)下，通過浸涂法使該涂料溶液涂敷在已經(jīng)組裝完電荷傳輸層的未完工的感光體上。為了防止涂料溶液進(jìn)入管中，在浸漬之前用蓋子將管的兩端密封。在上述步驟中，用液溫控制器502來控制涂料溶液緩沖槽503中涂料溶液的溫度，從而將浸涂槽521中的涂料溶液的溫度調(diào)節(jié)至24°C。此外，用液溫控制器512將涂料溶液補充槽513中的涂料溶液的溫度控制為4'C。涂敷室的溫度為24'C。這樣將用于形成表面保護(hù)層的涂料溶液涂敷在已經(jīng)形成的電荷傳輸層上之后，通過熱空氣流于12(TC下將涂料溶液干燥60分鐘，從而形成厚度為6nm的表面保護(hù)層。由此制得實施例1的電子照相感光體。按照與實施例1相同的方法來制造實施例2的電子照相感光體，不同之處在于將實施例1中的中間層的厚度調(diào)節(jié)為19pm。[實施例3]按照與實施例2相同的方法來制造實施例3的電子照相感光體，不同之處在于使用十點平均表面粗糙度Rzns94為0.15pm(通過改變實施例2中的切削條件而形成)的鋁基材料(導(dǎo)電性支持體)。按照與實施例1相同的方法來制造實施例4的電子照相感光體，不同之處在于將實施例1中的電荷傳輸層的厚度調(diào)節(jié)為15pm。[實施例5〗按照與實施例1相同的方法來制造實施例5的電子照相感光體，不同之處在于將實施例1中的電荷傳輸層厚度和表面保護(hù)層厚度分別調(diào)節(jié)為25|im和3(im。按照與實施例2相同的方法來制造實施例6的電子照相感光體，不同之處在于將實施例2中的電荷傳輸層的厚度調(diào)節(jié)為15pm。[實施例7〗按照與實施例3相同的方法來制造實施例7的電子照相感光體，不同之處在于將實施例3中的電荷傳輸層的厚度調(diào)節(jié)為15pm。[實施例8]按照與實施例3相同的方法來制造實施例8的電子照相感光體，不同之處在于將實施例3中的中間層厚度和表面保護(hù)層厚度分別調(diào)節(jié)為23)nm禾卩3(am。按照與實施例3相同的方法來制造對比例2的電子照相感光體，不同之處在于將實施例3中的中間層的厚度調(diào)節(jié)為15pm。[對比例3]按照與實施例3相同的方法來制造對比例3的電子照相感光體，不同之處在于將實施例3中的中間層厚度和電荷傳輸層厚度分別調(diào)節(jié)為15)im禾口15(im。按照與實施例3相同的方法來制造對比例4的電子照相感光體，不同之處在于將實施例3中的中間層厚度和電荷傳輸層厚度分別調(diào)節(jié)為23fim禾卩25|um。對以上實施例和對比例中所獲得的電子照相感光體進(jìn)行包括以下項目的表面特性測定。(十點平均表面粗糙度RZJIS94的測定)通過使用由TokyoSeimitsuK.K.株式會社制造的Surfcom1400系列來測定已完工的表面保護(hù)層的十點平均表面粗糙度RZjIS94。根據(jù)JISB0601(2001)(=JISB0601，94)進(jìn)行測定。結(jié)果總結(jié)于表19。對于各個電子照相感光體而言，分別在沿軸線中央處的外周和兩61側(cè)的外周(距離用作感光體的區(qū)域的邊緣7cm的位置處)，在每一外周上以中心角為90。在4個位置(即，共有12個點)進(jìn)行測定。然后，計算平均值，并作為十點平均表面粗糙度Rzns94。(表面保護(hù)層的反射率相對于導(dǎo)電性支持體的反射率)利用瞬時多波長分光光度計(MCPD-3000，由OtsukaElectronics株式會社制造)，用波長為780nm的光以與表面保護(hù)層的前表面成直角的角度來輻射已完工的表面保護(hù)層的表面。然后測定由此反彈回來的正反射光。與此類似，在形成各層之前，預(yù)先測定由各樣品的鋁基材料(導(dǎo)電性支持體)所反射的正反射光。通過將來自鋁基材料的正反射光的反射率設(shè)定為100%，計算來自表面保護(hù)層的正反射光的反射率的百分比(％)，并稱為"表面保護(hù)層的反射率相對于導(dǎo)電性支持體的反射率的百分比值"。測定結(jié)果總結(jié)于表19。在與測定十點平均表面粗糙度1^594相同的12個位置處進(jìn)行測定。將在以上實施例和對比例中所獲得的電子照相感光體進(jìn)行以下項目的測定。(殘余電位和維持特性的測定和評價)在低溫和低濕(IO'C，15%RH)環(huán)境下，使用柵極網(wǎng)(柵極電壓-700伏特)對各電子照相感光體進(jìn)行充電。充電一秒鐘后，使用780nm半導(dǎo)體激光以10mJ/m2的強度輻射電子照相感光體以進(jìn)行放電。放電三秒鐘后，用LED紅光以50mJ/r^的強度輻射電子照相感光體，以消除靜電。將在此時測定的電子照相感光體的表面電位(V)稱作殘余電位。重復(fù)以上過程500,000次之后，測定表面電位(V)，并將其稱作殘余電位的維持特性。如果殘余電位為IOOV或更低，結(jié)果為良好(X)。如果殘余電位大于IOOV，則結(jié)果為非良好(Y)。結(jié)果總結(jié)于表19。(重影和干涉條紋的評價)分別制備各電子照相感光體的四個樣品，從而替換彩色串聯(lián)型復(fù)印機(由FujiXerox株式會社制造的DocuCentreC400)的所有顏色的感光體。在高溫和高濕(28°C，85%RH)的環(huán)境下，輸出重影的記錄圖。在重影的記錄圖中，在對應(yīng)于第一循環(huán)的部分中記錄有一定的圖像圖案(由層積在一起的四色(黑色、黃色、品紅色和青色)實地圖像(solidimage)而構(gòu)成的基色黑色)以及在對應(yīng)于第二循環(huán)的部分中記錄有半色調(diào)圖像(顏色與上述的顏色相同，濃度為30%)。在輸出該圖像時，將打印速度調(diào)節(jié)為"中等彩色打印速度"，同時選擇"彩色"、"手動供紙"和"普通紙打印模式"。通過用肉眼觀察輸出的打印紙來評價重影，并且將沒有出現(xiàn)重影圖像的記錄圖稱作"無"，將出現(xiàn)重影圖像的記錄圖稱作"有"。通過用肉眼觀察半色調(diào)部分來評價干涉現(xiàn)象，并將沒有出現(xiàn)干涉條紋的記錄圖稱作"無"，將出現(xiàn)干涉條紋的記錄圖稱作"有"。結(jié)果總結(jié)于表19。評價的標(biāo)準(zhǔn)如下干涉條紋X:無Y:有殘余電位(同時包括初始的殘余電位和500,000次循環(huán)之后的殘余電位)X:IOOV或更低Y:大于100V重影X:無Y:有總體評價X:所有以上的評價結(jié)果都為XY:以上評價結(jié)果中的一個或多個為Y表19<table>tableseeoriginaldocumentpage64</column></row><table><關(guān)于結(jié)果的討論〉上表19中的結(jié)果清楚地表明，實施例的各個電子照相感光體(其具有本發(fā)明所規(guī)定的被適當(dāng)控制的表面狀態(tài))都沒有產(chǎn)生重影圖像或干涉條紋，并且在初始階段和耐久性試驗之后都具有優(yōu)異的電位特性和維持特性。與此形成對比的是，對比例中的電子照相感光體在干涉條紋、重影和殘余電位中的任意一個評價項目中都不夠充分。權(quán)利要求1.一種電子照相感光體，其包含導(dǎo)電性支持體；光敏層；以及作為所述電子照相感光體的最外層的表面保護(hù)層，其中，所述的電子照相感光體滿足以下的式(a)和式(b)(a)3.6≤(A+B)/C×100≤6(b)B≤0.3其中A表示所述導(dǎo)電性支持體的十點平均表面粗糙度RZJIS94，單位為μm；B表示所述表面保護(hù)層的十點平均表面粗糙度RZJIS94，單位為μm；并且C表示所述表面保護(hù)層的反射率相對于所述導(dǎo)電性支持體的反射率的百分比值。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，該電子照相感光體還包括在所述導(dǎo)電性支持體和所述光敏層之間的中間層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子照相感光體，其中，所述中間層包含分散在其中的顆粒。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子照相感光體，其中，所述顆粒為導(dǎo)電性顆粒。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子照相感光體，其中，所述導(dǎo)電性顆粒由氧化鋅制成。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述的表面保護(hù)層包含-酚樹脂；和具有反應(yīng)性官能團(tuán)的電荷傳輸物質(zhì)。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子照相感光體，其中，所述表面保護(hù)層還包含流平劑。8.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述光敏層包括電荷發(fā)生層；和電荷傳輸層。9.一種電子照相處理盒，該電子照相處理盒可從圖像形成裝置上拆卸下來，所述的電子照相處理盒包括根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的電子照相感光體；以及選自充電單元、曝光單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元、定影單元和清潔單元中的至少一種單元。10.—種圖像形成裝置，其包括根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的電子照相感光體；充電單元，其使所述電子照相感光體的表面帶電；曝光單元，其以成像方式使所述電子照相感光體的所述帶電表面曝光，以形成靜電潛像；顯影單元，其將調(diào)色劑供給到所述電子照相感光體的表面上，從而使所述靜電潛像顯影，以形成調(diào)色劑圖像；以及轉(zhuǎn)印單元，其將顯影后的所述調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到目標(biāo)物上。全文摘要本發(fā)明涉及電子照相感光體、處理盒以及圖像形成裝置。所述的電子照相感光體包括導(dǎo)電性支持體；光敏層；以及作為所述電子照相感光體的最外層的表面保護(hù)層，其中，所述的電子照相感光體滿足以下的式(a)和式(b)(a)3.6≤(A+B)/C×100≤6；(b)B≤0.3，其中A表示所述導(dǎo)電性支持體的十點平均表面粗糙度R_ZJIS94，單位為μm；B表示所述表面保護(hù)層的十點平均表面粗糙度R_ZJIS94，單位為μm；并且C表示所述表面保護(hù)層的反射率相對于所述導(dǎo)電性支持體的反射率的百分比值。文檔編號G03G21/18GK101299135SQ20081008481公開日2008年11月5日申請日期2008年3月27日優(yōu)先權(quán)日2007年5月2日發(fā)明者中村博史,中村和行,春山大輔,江角鐵也,西川雅之申請人:富士施樂株式會社