專利名稱：使用具有可調精度的模擬檢驗掩模版圖印刷適性的方法和系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明一般涉及集成電路制造中的平版印刷工藝，并且更具體地，涉及為了平版印刷處理效果而檢驗掩模版圖的印刷適性(printability)。
技術背景在集成電路制造中，典型地，使用光刻(或平版印刷)將與集成電路 版圖有關的圖形轉印到晶片襯底上，該晶片襯底包括但不限于例如硅(Si)、 硅鍺(SiGe)、絕緣體上硅(SOI)或者其各種組合的材料。提高超大規(guī) 模集成電路(VLSI)性能的驅使導致對于組件尺寸的減小和版圖密度的提 高的需求增大了。這又需要使用分辨率增強技術(RET)以擴展光學平版 印刷工藝的性能。RET包括光學鄰近修正(OPC)、亞分辨率輔助圖形 (SRAF)增強平版印刷和相移4^;漠(PSM)增強平版印刷的技術。復雜RET ^t術的應用相當大地增加了l^模和平版印刷制造的成本。因 此，在實際制造掩模之前，基于計算機的晶片圖像模擬變得必不可少，以 檢驗掩才莫經過工藝變化性的圖形轉印性能(還稱為印刷適性)。掩模制造和檢查的不斷增加的成本以及OPC和RET技術不斷增加的 復雜性要求在制造掩模之前恰當地和精確地模擬掩模，以消除潛在缺陷。 通常，這方面稱為掩模可制造性檢驗或掩模印刷適性檢驗。精確的模擬是 印刷適性檢驗的主要焦點。這意味著印刷適性檢驗模擬不應遺漏掩模上的 任何實錯(real error)?？梢岳斫?，被實際制造和用于芯片制造的有缺陷 掩模的代價非常高。然而，存在印刷適性檢驗工具的其他兩個重要目標。 第一，需要盡可能快地進行模擬。由于來自印刷適性檢驗的反饋被用于 OPC和RET的開發(fā)，期望快速的反饋以最小化OPC和RET開發(fā)的周轉周期(TAT)。第二，應該有盡可能少的"假錯(false errors)"。假錯 被定義為由使用其模擬工具由印刷適性檢驗確定的掩模版圖錯誤，如果在 平板印刷工藝中實際使用該掩模，那么在晶片上不會出現該錯誤。由于遺 漏實錯比確定假錯明顯代價更大，期望所有的印刷適性檢驗工具保守地犯 錯，也就是，趨向于檢測更多的錯誤，包括假錯。然而，由于每個錯誤， 不管假的還是真的，需要手工核查，因此期望印刷適性檢驗工具不要確定 太多的假錯。如果有太多的假錯，因為會消耗時間來評估所有的假錯以找 到實錯，實錯會被淹沒并且可能在手工檢測中遺漏。當前的印刷適性檢驗方法往往是使用非常保守的標準以最精確的幾何 形狀對整個掩模版像模擬。這趨向于增大印刷適性檢驗工藝的運行時 間以及假錯數量。例如，目前工藝技術的狀態(tài)使用校準的抗蝕劑和光學模 型，對掩模版圖(或其區(qū)段)模擬。然后，該模擬圖像與相應的目標形狀 比較。如果模擬的晶片區(qū)段不在對應目標形狀的容差之內，則報告為有問 題，也就是，包括錯誤。圖1示出了具有示例性模擬晶片圖像16的示例性掩模版圖10。掩模 版圖10包括主掩模形狀12和亞分辨率輔助圖形(SRAF) 14，該亞分辨 率輔助圖形14本身不印刷，而是幫助印刷主掩模形狀12。模擬晶片圖像 16 4皮示出為構圖的形狀，該構圖的形狀對應于主^^才莫形狀12。如圖1中所 示，各種錯誤被包括在模擬圖像16中，其中20圖示出"頸g ( necking error)"，其中晶片圖像形狀寬度小于 預定值；22圖示出"橋4綠(bridging error)，，，其中兩個晶片圖像形狀之間 的間多巨小于預定值；24圖示出"邊緣布置錯誤(edge placement error)"，其中在邊緣處 晶片圖像形狀從主掩模形狀12所指示的目標邊緣偏離了預定值；26圖示出"線端變短錯誤(line end shortening error)"，其中在線 端處晶片圖像形狀從主掩模形狀12所指示的目標線端偏離了預定值；28圖示出SRAF印刷錯誤，其中印制了 SRAF的一部分；以及30圖示出由例如諸如旁瓣(side-lobe)印刷4t^的光衍射效應引起的 額外印刷錯誤。印刷適性錯誤可分為兩類。第一類中的錯誤被認為是臾難性發(fā)蔽，原 因是如果這些錯誤的任何一個發(fā)生，電路完全不能運作。其他類g被認 為是性能，。這種類型的錯誤不會使得電路發(fā)生故障。但是在例如速度 或功耗方面的電路性能會隨著這樣錯誤的增加而惡化。突難性錯誤的實例 有頸錯誤20、橋睹誤22、 SRAF和額外圖像(例如旁瓣)印刷錯誤28、 30。另一方面，通常認為邊緣布置錯誤24為性能餘溪的實例。如果由于覆 蓋錯誤，線端變短錯誤26碰巧遺漏了與芯片中下一層的任何連接，則可將 它們歸類為災難性的。在使用掩模版圖制造電路之前，必須修正掩模版圖 中的所有災難性錯誤。另一方面，從統(tǒng)計上來考慮性能錯誤，其中在整個 掩模版圖中少量的性能錯誤是容許的。典型地，所設計的掩模版圖上的形狀(下文中稱為掩模)被定義為多 邊形/由多邊形代表。為模擬目的，將每個掩模形狀的邊分成更小的線段。 印刷適性檢驗工具的核心是模擬器，該模擬器在特殊點處模擬圖像強度， 典型地，但不是必須地，該特殊點在每個線段的中心。雖然隨著區(qū)段數量 的增加，檢Mt度會改善，M驗工具的效率會降低。掩模形狀的分段依賴于多邊形的邊的數量。邊印刷處的位置受其他鄰 近的4^4莫多邊形的影響。大的擾動圖形具有比小圖形更強的影響力，但是 通常，隨著分隔距離的增大，相互作用減弱。部分相干圖像的形成是非線 性工藝，因此相互作用的減弱不是距離的固定函數。然而，通常的按比例 縮放行為是所謂的透鏡脈沖響應(lens impulse response)函數，也稱為 Airy函數。數學上，Airy函數是[J"2;rs)/(7r.s)]2，其中J，是第一 Bessel函 數，以及s是圖像平面中的無量綱位置坐標，定義為s-x.NAA，其中x是 以常規(guī)長度單位測量的位置，NA是平版印刷系統(tǒng)的有效數值孔徑，以及k 是照射光的波長。在分段工序期間，掩模中的任何細節(jié)會相互作用，以在鄰近的掩模形 狀上產生對應的區(qū)段。通過離主形狀(main shape)相當遠的鄰近形狀的變化，產生這些區(qū)段中的一些。這些遠的區(qū)段中的一些對晶片圖^^f莫擬具 有非常小的影響。最終，這些遠的區(qū)段對于印刷適性檢驗工藝的無效率有 影響。根據鄰近形狀的位置越遠，對特定掩模形狀的鄰近效應更小的事實，該無效率被加劇。然而，傳統(tǒng)的OPC方法學不利用上述事實?；谏鲜銮闆r，本領域需要以在保持OPC精度或效率的同時改進檢驗效率的方式來檢驗掩模印刷適性。 發(fā)明內容公開了 一種檢驗用于光刻工藝的掩模版圖的印刷適性的方法、系統(tǒng)和 計算枳4呈序產品。用于所設計掩模版圖的光刻工藝的模擬是使用具有較低 精度的掩模版圖的簡化版進行模擬的，以產生較低精度的模擬圖像。在較 低精度模擬圖像被確定為潛在地包括錯誤或違犯印刷適性規(guī)則，則使用具 有較高精度的掩才莫版圖，對所設計的掩模版圖的對應于潛在錯誤的部分進 行進一步模擬。發(fā)明的第 一方面旨在一種檢驗用于光刻工藝的掩模版圖的印刷適性的方法，該方法包括以下步驟提供掩模版圖；使用所述掩模版圖的簡化版 模擬具有第一精度的光刻工藝，以產生模擬的圖像；以及根據印刷適性規(guī) 則，基于所述模擬的圖像評估所述掩模版圖的印刷適性，以確定是否將模 擬精度調節(jié)為笫二更高精度。優(yōu)選地，通過平滑工藝得到所述掩才莫版圖的簡化版。然而，發(fā)明包括 在空間或頻域中得到所述掩模版圖的簡化版。發(fā)明的第二方面旨在一種計算機可用程序代碼，當通過計算機系統(tǒng)執(zhí) 行時，所述計算#幾可用程序代碼被配置為執(zhí)行以下方法步驟提供掩模版 圖；使用所述掩模版圖的簡化版模擬具有第一精度的光刻工藝，以產生模 擬圖像；以及根據印刷適性規(guī)則，基于所i^莫擬圖像評估所述掩模版圖的 印刷適性，以確定是否將模擬精度調節(jié)為笫二更高精度。發(fā)明的第三方面旨在一種檢驗用于光刻工藝的掩^模版圖的印刷適性的 系統(tǒng)的產生方法，所述方法包括以下步驟提供計算機基礎結構(infrastructure)，所述計算機基礎結構可操作接收用于掩模版圖的數 據；使用所述掩模版圖的簡化版對具有第一精度的光刻工藝模擬，以產生 模擬圖像；以及根據印刷適性規(guī)則，基于所i^莫擬圖像評估所述掩模版圖 的印刷適性，以確定是否將模擬精度調節(jié)為第二更高精度。如由權利要求所單獨限定的，對于本領域的普通技術人員而言，在結 合附圖閱覽了本發(fā)明的下列非限制性的詳細描述后，本發(fā)明的其他方面和 特征變得顯而易見。


將參考下列圖，詳細描述本發(fā)明的實施例，圖中相同標記表示相同元 件，并且其中圖1示出了才艮據現有技術的具有示例性模擬晶片圖像的示例性掩4^&圖；圖2示出了根據本發(fā)明的一個實施例的示意性計算機系統(tǒng)的方框圖； 圖3示出了根據本發(fā)明的掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)的操作的一個實施 例；以及圖4-8示出了根據本發(fā)明的具有多個筒化版和各自的模擬圖像形狀的 掩模區(qū)段的實例。注意到，本發(fā)明的附圖不是按比例的。附圖旨在僅僅描述本發(fā)明的代 表性方面，因此不應被認為限制發(fā)明范圍。在附圖中，相同數字代表圖中 的相同元件。
具體實施方式
下列實施例的詳細描述參考附圖，該附示出本發(fā)明的特定實施例。 具有不同結構和操作的其他實施例不脫離本發(fā)明的范圍。1.計算機系統(tǒng)參考圖2,示出了根據本發(fā)明的一個實施例的示意性計算機系統(tǒng)100 的方框圖。在一個實施例中，計算機系統(tǒng)100包括存儲器120、處理單元
1. 一種壓電驅動的可變形反射鏡，包括帶四個支撐柱的硅反射鏡面、四個 PZT壓電驅動器、底座，其特征在于，底座由玻璃基板和硅基板鍵合而成，位于整
個反射鏡的最下面，底座的上面是四個PZT壓電驅動器，在四個PZT壓電驅動器上. 面鍵合了帶有四個支撐柱的硅反射鏡面，硅反射鏡面的邊框與底座相連，當施加 可調節(jié)的電壓時，PZT壓電驅動器產生的法向壓電力使硅反射鏡面的中心部分發(fā) 生板形變最大，形成一個凹凸面。
2. 根據權利要求l所述的壓電驅動的可變形反射鏡，其特征是，所述凹凸面， 當施加正電壓時形成凹面；當施加負電壓時形成凸面。
3. —種壓電驅動的可變形反射鏡制造方法，其特征是，包括如下步驟-
① 帶四個支撐柱的硅反射鏡面部分的制作工藝，
所述的反射鏡部分的制作工藝，具體為首先，準備好用于光刻處理的掩模
板，利用uv光刻與顯影技術將設計好的掩模板結構圖案轉移在掩模板的硅片表
面，其次，用感應耦合反應離子刻蝕工藝對硅片中的硅進行第一次刻蝕，然后，
再準備好用于光刻處理的第二塊掩模板，利用UV光刻技術和用感應耦合反應離子 刻蝕工藝將設計好的掩模板結構圖案轉移到硅片上，即用感應耦合反應離子刻蝕 工藝對硅片中的硅進行第二次刻蝕，形成帶有四個支撐柱的硅反射鏡部分，最后
再進行平面鏡鏡面A1的蒸鍍，形成反射鏡；
② 底座部分的制作工藝，
所述的底座部分的制作工藝，具體為首先，準備好用于光刻處理的掩模板，
利用uv光刻與顯影技術將設計好的電極轉移在用玻璃基板和硅基板鍵合而成的
基片的硅表面；
③ PZT壓電驅動器的制作工藝及Si-Au共晶合金鍵合，
所述硅反射鏡與PZT驅動器的Si-Au共晶合金鍵合，是指將加工好的硅反射 鏡背面鍍金膜與驅動器的表面鍍金，通過Si-Au共晶合金鍵合形成驅動聯接。
4. 根據權利要求3所述的壓電驅動的可變形反射鏡制造方法，其特征是，所 述反射鏡部分的制作工藝中，鏡面結構是在硅片上加工的，這個硅晶片厚度為通常掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)132運作以對所設計的掩模版圖模擬，以 確定掩模版圖是否包括錯誤。圖3示出了對掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)132的 操作的實施例?，F在參考圖2-3，首先在步驟S1中，數據采集器140接 4t/收集用于目標圖像形狀以及以為目標圖像形狀設計的掩模版圖的數據， 以便于對數據的進一步分析。接下來在步驟S2中，掩模和目標圖像分割器144隨意地將目標圖像分 成目標圖像區(qū)段，并且將掩模版圖分成對應于每個目標圖像區(qū)段的掩模區(qū) 段?？梢岳斫?，更細小的分割將以效率為代價提高模擬精度。操作員可以 指令掩模和目標圖像分割器144關于優(yōu)選多細的分割。應該理解，每個掩 模區(qū)段與該掩模區(qū)段邊界處附近的區(qū)域相關聯。在該附近區(qū)域之內的形狀 用作參考，用于計算在每個分割出的區(qū)段之內的模擬晶片圖像。應該理解， 可將多于一個的掩模用于單個目標圖像，例如，交替相移掩模或雙偶極子 掩模。在下列描述中，為簡化目的，示出一個掩模，作為用于目標圖像的 示意性實例。應該理解，當前發(fā)明可應用于并且包括多掩才莫的情況。接下來在步驟S3中，操作控制器142確定在操作中是否檢驗所有掩模 區(qū)段的錯誤。如果是，操作控制器142控制掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)132的 操作以當前掩模版圖結束并且通過輸出166輸出檢驗結果。如果否，操作 控制器142控制掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)132的操作至步驟S4。在步驟S4中，模擬器146對掩模版圖/掩模版圖的掩模區(qū)段模擬，以 產生模擬的圖像形狀。為示意目的，假定執(zhí)行可選步驟S2并且模擬器146 對掩模版圖的掩模區(qū)段模擬。具體地，步驟S4包括三個子步驟。在步驟 S4-1中，！^模版圖簡化器150在空間域和頻域的至少一者中簡化掩'模版圖 /掩模區(qū)段，以得到筒化版。結果，與原始掩沖莫版圖相比，簡化版具有減小 的數據量。簡化版的減小的數據尺寸便于高效模擬。根據一個實施例，通 過平滑步驟執(zhí)行筒化。另外，掩模版圖簡化器150可執(zhí)行多個簡化步驟， 以產生具有簡化分級的多個簡化版。提供圖4-8,以圖示筒化步驟以及l(fā)51^ 的掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)132操作的步驟。圖4-8示出了根據發(fā)明的具有 多個簡化版和各自的模擬圖像形狀的掩模區(qū)段200的實例。圖4示出了包括掩模形狀202、 204和206的掩^模區(qū)段200的示意性實 例。為描述目的，原始掩模版圖/掩模區(qū)段稱為"1級，，。如上所述，可多 次應用簡化步驟，例如平滑。應該理解，在筒化步驟中，可使用任何簡化 掩模區(qū)段的方法，并且所有的簡化方法都包括在發(fā)明中。例如，以因子A 將空間域中的平滑步驟應用于l級的形狀。平滑因子A依賴于所謂的雷利 極限(Raleigh Limit)，該雷利極限限定光學步驟的分辨率的極限。雷利 極P艮還確定掩模區(qū)段附近的邊界。雷利極限定義為1q/NA，其中NA是光 學系統(tǒng)的有效數值孔徑，是用于曝光的光的波長，以及ki是可變因子。因 子1^的值越小，由平版印刷工藝引起的形狀變形越嚴重。換句話說，系統(tǒng) 對形狀的較小變化變得較不敏感。因此，在這個實施例中，定義平滑因子 A與雷利極限成比例。存在許多可以實現平滑工藝的不同方法。例如，應 該理解，可以使用閔可夫斯基和(Minkowski sum)以及差分方法的連續(xù) 應用。在平滑后，所得到的掩模形狀稱為2級。圖5示出了2級的平滑了 的掩模區(qū)段300。在圖5中，具有虛直線的形狀代表原始掩模區(qū)段200;具 有實直線的形狀代表平滑了的掩模區(qū)段300;以及具有曲線的形狀代表模 擬圖像形狀350。不同的線圖形的上述使用也應用于圖6-8中。類似地，以因子A對2級的平滑了的4^才莫形狀再次應用平滑，其產生 3級的平滑了的掩才莫形狀。圖6示出了 3級的平滑了的掩才莫形狀400。以因 子A平滑3級的平滑了的^^漠形狀，得到4級的平滑了的掩才莫形狀500(圖 7)。應該理解，可應用任何數量的簡化步驟，并且所有的都包括在發(fā)明中。 盡管圖5-7示出了空間域中的平滑了的掩^模形狀，但在頻域中的簡化也是 可能的并且包括在發(fā)明中。基于例如檢驗任務的特定需要，操作員指令掩 模版圖簡化器150關于優(yōu)選多少簡化步驟。返回圖2-3,在步驟S4-2中，模擬器146模擬掩模版圖以產生模擬的 圖像形狀。根據一個實施例，模擬器146首先以較低的精度模擬掩模版圖。 具體地，通過模擬掩模版圖的簡化版，實現較低精度的模擬。如上述實例 所示例的，2-4級全是掩模版圖200 (圖4)的簡化版，其中它們的簡化級 從最小簡化至最大簡化排序?？衫斫?，較大筒化版的模擬不如較小筒化版的模擬精確。根據一個實施例，模擬器146首先模擬最大簡化版，例如4 級，并且產生模擬的圖像形狀550 (圖7)?？衫斫?，模擬器146可以以其 他任何級的精JL/簡化版開始模擬。在步驟S4-3中，模擬精度調節(jié)器148檢查才莫擬的圖像形狀，以確定是 否將模擬精度調節(jié)至更高精度。在檢查中，可應用任何方法，并且所有的 方法都包括在發(fā)明中.根據一個實施例，在檢查中模擬精度調節(jié)器148與 錯誤探測器152協調工作，并且步驟S4-3并入步驟S5，如圖3中虛塊所 示。也就是說，根據一組印刷適性規(guī)則或標準，檢查模擬的圖像形狀，以 同時確定是否以更高精度模擬掩模版圖，以及掩模版圖/掩模區(qū)段是否是可 印刷的，也就是，檢驗掩模版圖的印刷適性。在檢查中，可使用任何標準 和任何方法，并且所有的標準和方法都包括在發(fā)明中。例如，比較模擬的 圖像形狀與提供的目標圖像形狀，以探測錯誤或對印刷適性規(guī)則的任何違 犯。再例如，為確定模擬的圖像形狀是否包括錯誤例如橋錯誤，而設置規(guī) 則。根據一個實施例，在步驟S4-3的檢查中，應用容許閾值，以便操作員 可控制模擬操作的效率和精度?；?依賴于模擬中使用的精勿簡化級，選 擇同許閾值。在S4-3和S5的合并步驟中，如果沒有探測到錯誤，則在步 驟S7中將掩模區(qū)段鑒定并且標記為良好，并且操作控制器142控制操作轉 到步驟S3。如果在步驟S4-3和S5中探測到4f溪，操作控制器142在步驟 S6中進一步確定是否可用更高精度的模擬。如果是，操作控制器142控制 操作轉到步驟S4-2，以更高精度模擬掩模版圖。具體地，根據一個實施例， 模擬器146模擬具有較小筒化版(包括原始掩模版圖)的掩模版圖模擬， 并且然后重復步驟S4-3和S5,直到不再發(fā)現錯誤或者不再可用更高精度 的模擬，也就是，使用原始掩模版圖/掩模區(qū)段(上述實例的l級)的模擬 已經進行仿真并且仍舊探測到錯誤。在后一情況下，堅定特定掩模區(qū)段為 具有錯誤并且在步驟S8中這樣標記。然后操作控制器142控制操作轉到步 驟S3。如上所述，在步驟S3中，如果確定已經檢查了所有的掩模區(qū)段， 則掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)132的操作以當前掩模版圖結束并JL在步驟S9 中報告掩模版圖為可印刷的即沒有發(fā)現錯誤或者為有問題的即發(fā)現錯誤。如果在步驟S3中確定存在用于檢查的另一掩模區(qū)段，則開始對該掩模區(qū)段 操作。由于步驟S4-3和S5包括檢查模擬的圖像形狀，該模擬的圖像形狀 是基于所設計的掩模版圖的簡化版而模擬的，這個方法在檢測災難性錯誤 比檢測性能錯誤更有效。圖5-8示出了上述操作的實例。首先，模擬器146模擬最大簡化版4 級并且產生如圖7中所示的模擬圖像形狀550，該模擬圖像形狀550包括 對應于簡化的掩模版圖形狀502、 504、 506的形狀552、 554和556。簡化 的4^4莫版圖形狀502、 504和506 (4級)的幾何形狀比原始掩模形狀202、 204和206的對應幾何形狀(圖4 )簡單了很多。因此，對這些簡化形狀(502、 504和506 )模擬晶片圖像與對原始掩模形狀202、 204和206 (圖4 )模擬 晶片圖像高效了很多。檢查在步驟S4-3和S5中所得到的模擬圖像形狀， 探測到在位置561和562處存在,誤。因此，需要更精確的模擬。圖6示出了模擬的圖像形狀450，該模擬的圖像形狀450包括使用3 級簡化掩模版圖的形狀452、 454和456。由于3級比4級較小簡化，模擬 的形狀452、 454和456分別比圖7的形狀552、 554和556更精確。應用 步驟S4-3和S5，探測到在位置461和462處存在g誤。因此，仍需要 更精確的模擬。圖5示出了模擬的圖4象形狀350，該模擬的圖像形狀350包括使用2 級簡化掩模版圖的形狀352、 354和356。由于2級比3級較小簡化，模擬 的形狀352、 354和356分別比圖6的形狀452、 454和456更精確。應用 步驟S4-3和S5，探測到在位置361和362處存在^^誤。因此，仍需要 更精確的模擬。圖8示出了模擬的圖像形狀250,該模擬的圖像形狀250包括使用原 始掩模版圖/區(qū)段即l級的形狀252、 254和256。模擬的形狀252、 254和 256分別比圖5的形狀352、 354和356更精確。應用步驟S4-3和S5，探 測到在位置261和262處存在，誤。在該階段，沒有更高精度的模擬可 用。因此，掩模區(qū)段200 (圖4)被鑒定且標記為具有橋錯誤，^f且操作控 制器142控制掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)的操作轉到步驟S3。對于上述實例，可以容易地證實該方法的計算優(yōu)勢。為了簡單目的， 假定對于每個區(qū)段的模擬時間是相同的。經過每次平滑，區(qū)段的數量趨于減少至少20%。因此，在l 、 2、 3和4級中，區(qū)段的數量分別從100%減 少到80%、 64%、 50%。在更現實的情形中，可以期望，在以最簡單的幾 何形狀由4級評估之后，免除卯％的區(qū)域。對于其余的，在使用3級后可 免除6 % ，在使用2級后可免除3 % ,而僅僅剩下的1 %需要由1級使用所 有區(qū)段的詳細模擬。使用上述假設，上述方法將比現有技術快至少48%地 運行。優(yōu)選地，應用該方法以探測災難性錯誤。然而，應該理解，可應用 該方法探測其他類型的錯誤，并且本發(fā)明的范圍及其應用不受將要探測的 任何特定類型的錯誤限制。 3.結論盡管于此所示和所述的為檢驗掩模版圖印刷適性的方法和系統(tǒng)，可以 理解，本發(fā)明進一步提供各種可選實施例。例如，在一個實施例中，本發(fā) 明提供一種存儲在計算機可讀媒介上的程序產品，當其被執(zhí)行時，該程序 產品使得計算機基礎結構能夠檢驗掩模版圖的印刷適性。在這方面，計算 機可讀媒介包括程序代碼，例如掩模印刷適性檢驗系統(tǒng)132 (圖2 )，其執(zhí) 行于此描述的步驟?？梢岳斫猓g語"計算機可讀媒介，，包括一個或多個 任何類型的程序代碼的物理實施例。特別地，計算機可讀媒介可包含程序 代碼，該程序代碼體現在一個或多個便攜存儲制品的產品(例如，光盤、 磁盤、磁帶等)上、計算裝置的一個或多個數據存儲部分例如存儲器120 (圖2)和/或數據庫128 (圖2)上，和/或作為在網絡內(例如，在程序 產品的有線/無線電子分布期間)傳播的數據信號。在另 一實施例中，本發(fā)明提供一種產生用于檢驗掩模版圖的印刷適性 的系統(tǒng)的方法。在這種情況下，可以得到(例如創(chuàng)建、保持、使得可用等) 計算機基礎結構，例如計算機系統(tǒng)100 (圖2)，以及可以得到(例如，創(chuàng) 建、購買、使用、修改等)用于執(zhí)行于此描述的步驟的一個或多個系統(tǒng)， ,并將該系統(tǒng)配置到計算枳i基礎結構。在這方面，每個系統(tǒng)的配置可包含以 下的一者或多者(1)在計算裝置例如計算機系統(tǒng)100 (圖2)上安裝來自計算機可讀媒介的程序代碼；(2 )向計算機基礎結構加入一個或多個計 算裝置；以及(3)合并和/或修改計算機基礎結構的一個或多個現有系統(tǒng)， 以使計算機基礎結構能夠執(zhí)行本發(fā)明的工藝步驟。在又一個實施例中，本發(fā)明提供一種商業(yè)方法，該方法可在訂購、廣 告支持和/或費用的基礎上執(zhí)行在此描述的步驟。也就是說，服務提供者可 如在此所述的提供檢驗掩模版圖的印刷適性。在這種情況下，服務提供者 可管理(例如，創(chuàng)建、保持、支持等)計算機基礎結構，例如計算機系統(tǒng) 100 (圖2)，該計算機基礎結構為一個或多個客戶執(zhí)行在此所述的步驟， 并且將結果傳達給一個或多個客戶。作為回報，服務提供者可根據訂購和/ 或費用協議接受來自客戶的報酬，和/或服務提供者可接受來自給一個或多 個笫三方廣告的銷售的報酬。可以理解，在此使用的術語"程序代碼"和"計算機程序代碼"是同 義的，并且意味著一組指令的以任何語言、代碼或符號表示的任何表達， 這些指令使具有信息處理能力的計算裝置直接或在下列任何組合之后執(zhí)行 特定功能U)轉換為另一語言、代碼或符號；(b)在不同材料形式中 復制；和/或(c)解壓縮。在這方面，可將程序代碼可體現為一個或多個 類型的程序產品，例如應用/軟件程序、組件軟件/函數庫、操作系統(tǒng)、基本I/O系統(tǒng)/用于特定計算的驅動器和/或i/o裝置等等。此外，可以理解，在此使用的術語"組件"和"系統(tǒng)"是同義的，并且代表可執(zhí)行某些功能的 硬件和/或軟件的任何組合。附圖中的流程圖和方框示了根據本發(fā)明的各種實施例的系統(tǒng)、方 法和計算機程序產品的可能執(zhí)行(implementation)的體系機構、功能和 操作。在這方面，流程圖或方框圖中的每個塊代表代碼的模塊、區(qū)段或部 分，其包含用于執(zhí)行特定邏輯功能的一個或多個可執(zhí)行指令。還應該注意， 在一些可選執(zhí)行中，在塊中記錄的功能可以不按圖中記錄的順序發(fā)生。例 如，根據包括的功能，連續(xù)示出的兩個塊實際上可以基本擊同時執(zhí)行，或 者有時以相反順序執(zhí)行這些塊。還注意到，可由特殊目的的基于硬件的系 統(tǒng)或者特殊目的硬件和計算機指令的結合來執(zhí)行方框圖和/或流程示的每個塊以及方框圖和/或流程示的塊的結合，該基于硬件的系統(tǒng)執(zhí)行 特定功能或作用。
在此使用的術語僅僅是為了描述特定實施例的，并且不旨在限制本發(fā) 明。除非在上下文中明確指出，在此使用的單數形式"一個"和"該"旨 在同樣包括復數形式。此外應理解，當在該說明書中使用術語"包含"時， 表示存在所述的特征、整體、步驟、操作、元件和/或組件，而不排除存在 或附加一個或多個其他特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的 組。
盡管在此示例和描述了特定實施例，本領域普通技術人員可理解，用 于達到相同目的的任何設置可替代縮示出的特定實施例，并且本發(fā)明具有 在其他環(huán)境中的其他應用。該申請旨在覆蓋本發(fā)明的任何改變和變型。下 列權利要求決不旨在將本發(fā)明的范圍限制為在此描述的特定實施例。
權利要求
1.一種檢驗用于光刻工藝的掩模版圖的印刷適性的方法，該方法包括以下步驟提供掩模版圖；使用所述掩模版圖的簡化版模擬具有第一精度的光刻工藝，以產生模擬的圖像；以及根據印刷適性規(guī)則，基于所述模擬的圖像評估所述掩模版圖的印刷適性，以確定是否將模擬精度調節(jié)至第二更高精度。
2. 根據權利要求l的方法，其中與所述掩模版圖相比，所述簡化版具 有減小的數據量。
3. 根據權利要求l的方法，其中通過在空間域和頻域的至少一者中簡 化所述掩模版圖，得到所述簡化版。
4. 根據權利要求l的方法，其中通過平滑工藝得到所述簡化版。
5. 根據權利要求l的方法，還包括確認是否存在對所述印刷適性規(guī)則 的違犯，并且如果存在對所述印刷適性規(guī)則的違犯，那么對于所述掩模版 圖的與所述違犯對應的部分，使用具有比所述簡化版更大的精度的所述掩 模版圖的第二版，模擬具有所述笫二更高精度的光刻工藝。
6. 根據權利要求5的方法，其中所述違犯包括災難性錯誤。
7. 根據權利要求l的方法，其中所述印刷適性規(guī)則包括容限閾值，所 述限度閾值是基于所述模擬的所述第 一精度而被選擇的。
8. 根據權利要求5的方法，還包括對所述掩模版圖的與所述印刷適性 規(guī)則的違犯對應的部分重復模擬和評估的步驟，每次重復都采用更高精度， 并且如果在最大精度時存在對所述印刷適性規(guī)則的違犯，那么鑒定在所述 最大精度時所述掩模的所述部分包含所述違犯。
9. 根據權利要求l的方法，其中所述掩模版圖包括邊區(qū)段，并且所述 掩模版圖的所述簡化版包括比所述掩模版圖少的邊區(qū)段，其中所*擬的 步驟是對所述^^才莫版圖的所述簡化版的每個區(qū)段執(zhí)行的。
10. —種計算機系統(tǒng)，包含用于執(zhí)行權利要求1-9中任何一項的方法 的裝置。
11. 一種檢驗用于光刻工藝的掩才莫版圖的印刷適性的系統(tǒng)的產生方法， 該方法包括提供計算機基礎結構，所述計算機基礎結構可操作以執(zhí)行權 利要求1-9中任何一項的方法。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種使用具有可調精度的模擬檢驗掩模版圖印刷適性的方法和系統(tǒng)。公開了一種檢驗用于光刻工藝的掩模版圖的印刷適性的方法、系統(tǒng)和計算機程序產品。用于所設計的掩模版圖的光刻工藝的模擬是使用具有較低精度的掩模版圖的簡化版而模擬的，以產生較低精度的模擬的圖像。在較低精度模擬的圖像被確定為潛在地包括錯誤的位置，以較高精度進行對掩模版圖的指定部分的進一步模擬。
文檔編號G03F1/14GK101226326SQ20081000220
公開日2008年7月23日 申請日期2008年1月2日 優(yōu)先權日2007年1月3日
發(fā)明者J·A·卡爾普, M·慕克爾吉, S·M·曼斯菲爾德 申請人:國際商業(yè)機器公司