專利名稱：顯示裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種顯示裝置。
背景技術：
專利文獻1等所示的那種液晶顯示裝置作為便攜電話機等電子設備的 顯示部，已被廣泛使用。例如，在作為便攜電話機的顯示部來使用時，在 等待畫面等上顯示制造商標識或特定的圖形等豐富多彩的圖像。近年來，正在尋求電子設備設計性的提高。例如，即便是便攜電話機，也提出了一種方案，該方案為，不只是在等待畫面上顯示圖像，JH吏之在 電源斷開時也可以顯示這種圖像，提高包括顯示部在內的設備整體設計性。 這種情況下，需要具備在電源斷開時仍可以顯示圖像的那種寬廣表現(xiàn)力的 顯示部。專利文獻1:特開平11-101992號公才艮但是，在專利文獻1等所示的那種以往的液晶顯示裝置中，在斷開了 電源時變成什么都不顯示的狀態(tài)。當要在液晶顯示裝置的顯示部上顯示圖 像時，需要在電源接通的狀態(tài)下驅動液晶顯示裝置進行顯示。因此，無法 實現(xiàn)在電源斷開時顯示圖像的那種寬廣表現(xiàn)。發(fā)明內容鑒于如上的情況，本發(fā)明的目的在于提供一種具備寬廣表現(xiàn)力的顯示 特性較高的顯示裝置，該寬廣表現(xiàn)力即使在斷開電源的狀態(tài)下，也顯示包 括如公司名稱的識別用標識等在內的圖形。為了達到上述目的，本發(fā)明所涉及的顯示裝置具備子像素，具有包
1. 一種壓電驅動的可變形反射鏡，包括帶四個支撐柱的硅反射鏡面、四個 PZT壓電驅動器、底座，其特征在于，底座由玻璃基板和硅基板鍵合而成，位于整
個反射鏡的最下面，底座的上面是四個PZT壓電驅動器，在四個PZT壓電驅動器上. 面鍵合了帶有四個支撐柱的硅反射鏡面，硅反射鏡面的邊框與底座相連，當施加 可調節(jié)的電壓時，PZT壓電驅動器產(chǎn)生的法向壓電力使硅反射鏡面的中心部分發(fā) 生板形變最大，形成一個凹凸面。
2. 根據(jù)權利要求l所述的壓電驅動的可變形反射鏡，其特征是，所述凹凸面， 當施加正電壓時形成凹面；當施加負電壓時形成凸面。
3. —種壓電驅動的可變形反射鏡制造方法，其特征是，包括如下步驟-
① 帶四個支撐柱的硅反射鏡面部分的制作工藝，
所述的反射鏡部分的制作工藝，具體為首先，準備好用于光刻處理的掩模
板，利用uv光刻與顯影技術將設計好的掩模板結構圖案轉移在掩模板的硅片表
面，其次，用感應耦合反應離子刻蝕工藝對硅片中的硅進行第一次刻蝕，然后，
再準備好用于光刻處理的第二塊掩模板，利用UV光刻技術和用感應耦合反應離子 刻蝕工藝將設計好的掩模板結構圖案轉移到硅片上，即用感應耦合反應離子刻蝕 工藝對硅片中的硅進行第二次刻蝕，形成帶有四個支撐柱的硅反射鏡部分，最后
再進行平面鏡鏡面A1的蒸鍍，形成反射鏡；
② 底座部分的制作工藝，
所述的底座部分的制作工藝，具體為首先，準備好用于光刻處理的掩模板，
利用uv光刻與顯影技術將設計好的電極轉移在用玻璃基板和硅基板鍵合而成的
基片的硅表面；
③ PZT壓電驅動器的制作工藝及Si-Au共晶合金鍵合，
所述硅反射鏡與PZT驅動器的Si-Au共晶合金鍵合，是指將加工好的硅反射 鏡背面鍍金膜與驅動器的表面鍍金，通過Si-Au共晶合金鍵合形成驅動聯(lián)接。
4. 根據(jù)權利要求3所述的壓電驅動的可變形反射鏡制造方法，其特征是，所 述反射鏡部分的制作工藝中，鏡面結構是在硅片上加工的，這個硅晶片厚度為述光反射層，當^f吏該顯示裝置成為非驅動狀態(tài)時，在上述顯示區(qū)域上顯示 圖形。根據(jù)本發(fā)明，能夠使用具有光透射區(qū)域的子像素，進行驅動狀態(tài)下顯 示裝置的通常顯示，并且使用只包括光反射區(qū)域的子像素，在非驅動狀態(tài) 下由外部光形成的入射光出射時，能顯示出識別圖形等的圖形，可以獲得 具備寬廣表現(xiàn)力的顯示特性較高的顯示裝置。另外，在上述的顯示裝置中，其特征為，具備對向配置的第l基板和第2 g以及由上述第1 !41和上述第2基板所夾持的液晶層，至少上述 光反射區(qū)域是在非驅動狀態(tài)下成為白顯示的常時亮態(tài)模式。根據(jù)本發(fā)明，由于在使用液晶的所謂液晶顯示裝置中，控制液晶層以 便至少光反射區(qū)域在非驅動時成為白顯示(所謂的常時亮態(tài)模式)，因而 在該被控制以成為白顯示的部分上，即l更在非驅動時也不斷透射光。據(jù)此， 在液晶顯示裝置中，在非驅動狀態(tài)時斷開電源的情況下，能夠在所入射的 外部光出射時顯示出識別圖形等的圖形，可以獲得具備寬廣表現(xiàn)力的顯示 特性較高的顯示裝置。


圖l是表示本發(fā)明第1實施方式所涉及的液晶顯示裝置結構的俯視圖。圖2是表示本實施方式所涉及的液晶顯示裝置結構的截面圖。圖3是表示本實施方式所涉及的液晶顯示裝置一部分結構的俯視圖。圖4是表示本實施方式所涉及的液晶顯示裝置一部分結構的俯視圖。圖5是表示本實施方式所涉及的液晶顯示裝置結構的俯視圖。圖6是表示本實施方式所涉及的液晶顯示裝置結構的俯視圖。圖7是表示本發(fā)明第2實施方式所涉及的液晶顯示裝置結構的截面圖。圖8是表示本實施方式所涉及的液晶顯示裝置一部分結構的俯視圖。圖9是表示本實施方式所涉及的液晶顯示裝置驅動時狀況的俯視圖。圖IO是表示本發(fā)明第3實施方式所涉及的顯示裝置一部分結構的俯視圖。符號說明1、 101…液晶顯示裝置 2、 102…液晶面板 3、 103…背光源 4、 104'"TFT陣列基板 5、 105'"濾色基板 6、 106'"液晶層 9…顯示區(qū)域 10、 110、 llOc."子像素 10b、 110b…光反射區(qū)域 10a…光透射區(qū)域45、 145…光反射層 45a、 45b、 145b、 145c、 145d…光反射層 50、 150…濾色 層 50R、 150R".紅色層 50G、 150G…綠色層 50B、 150B"藍色層 150W…白色層具體實施方式
根據(jù)附圖，來說明本發(fā)明的實施方式。在下面的附圖中，為了使各部 件成為可辨認的大小，適當變更了比例尺。 [第1實施方式]根據(jù)

本發(fā)明的第1實施方式。在以下的附圖中，為了使各部 件成為可辨別的大小，適當改變了比例尺。圖l是表示液晶顯示裝置l整體結構的附圖。在本實施方式中，將舉 出對開關元件使用薄膜晶體管(Thin Film Transistor,下面稱為TFT)元 件的有源矩陣方式的半透射反射型液晶顯示裝置為例，進行說明。如圖1所示，液晶顯示裝置1的主體包括液晶面板2和背光源3。液 晶面板2和背光源3配置為俯視重合，并且在圖1中只表示出液晶面板2。液晶面板2的結構為，利用密封部件7來粘合TFT陣列基敗(第1基 板)4和濾色J4！(第5，并且在由該密封部件7劃分出的區(qū)域內 封入液晶層6。在密封部件7的一部分，設置注入液晶的注入口 7a。注入 口 7a利用封固部件7b進行封固。在密封部件7內側的區(qū)域，設置由遮光 性材料構成的遮光膜(周邊分隔部)8。周邊分隔部8內側的區(qū)域為顯示圖 像、動態(tài)圖像等的顯示區(qū)域9。在顯示區(qū)域9，多個子像素10設置成矩陣 狀。多個子像素10之間的區(qū)域是像素間區(qū)域11。還有，將子像素10配置 為矩陣狀所形成的顯示區(qū)域9雖然在圖1中表示出矩形狀的顯示區(qū)域，但 是顯示區(qū)域9并不限定為矩形狀。例如也可以按下述方式配置子像素10，該方式為，使顯示區(qū)域9成為圓形狀或橢圓形狀。另外，對于被稱為所謂 三角形配置的那種子像素10的配置來說，當然也包括在這里所說的矩陣狀 配置中。TFT陣列基板4的周緣部為從濾色J4！ 5伸出的伸出區(qū)域。在該伸出 區(qū)域之中的附圖中左邊側及右邊側，形成生成掃描信號的掃描線驅動電路 12。在附圖中上邊側，布設連接左右掃描線驅動電路12之間的布線14。 在附圖中下邊側，形成生成數(shù)據(jù)信號的數(shù)據(jù)線驅動電路13和用來與外部的 電路等進行連接的連接端子15。在掃描線驅動電路12和連接端子15之間 的區(qū)域，形成連接雙方的布線16。在濾色皿5的各角部，設置用來對 TFT陣列基板4和濾色J4！ 5進行電連接的基板間導通部件17。圖2是表示沿著圖1的II-II截面的結構的附圖。TFT陣列基板4的主體包括基體材料4a，例如由玻璃或石英等透光 性高的材料形成；像素電極48，形成于該基體材料4a的液晶側；開關元 件47，給該像素電極48供給電信號；光反射層45;取向膜46，其形成為 覆蓋像素電極48、開關元件47及該光反射層45;以及偏癡敗49，粘貼于 基體材料4a的外側(和液晶層6相反側)。像素電極48配置在與子像素10俯視重合的區(qū)域，例如采用ITO (Indium Tin Oxide,氧化銦錫)等的透明導電材料來形成。開關元件47 配置在像素間區(qū)域ll內，其設置為與像素電極48以一對一形式對應。這 樣，就可以按每個子像素10獨立控制液晶層6的取向。該開關元件47例 如是由薄膜晶體管構成的元件，連接到未圖示的掃描線、數(shù)據(jù)線。取向膜 46設置在和液晶層6之間的界面處，控制構成液晶層6的液晶分子的取向。 還有，開關元件47雖然配置在^象素間區(qū)域11內，但是并不限定為該位置， 也可以配置在子#>素10。具體而言，也可以配置于在下述光反射區(qū)域10b 所形成的光反射層45、像素電極48的下方。這樣一來，由于開關元件47 不影響在顯示中所利用的外部光、來自背光源3的光，所以能夠減小〗象素 間區(qū)域ll。光反射層45例如是由鋁等構成的金屬層，將光向濾色H1 5側進行反射。該光反射層45設置在像素電極48的液晶層6側俯視占子像素10內大 致一半的區(qū)域，該區(qū)域為光反射區(qū)域10b。不設置光反射層45的區(qū)域為光 透射區(qū)域10a,其使來自背光源3的光不斷向液晶層6及濾色^ 5透射。 光反射層45的表面(液晶層6側的面)成為反射面，在該反射面形成凹凸 的圖形。各光反射層45的厚度為一定。還有，在附圖中，光反射層45雖 然形成在像素電極48的上方，但是只要像素電極48具備透明性，也可以 將光反射層45形成于像素電極48的下方。另外，如果光透射區(qū)域10a的 像素電極48和光反射層45進行電導通，則在光反射區(qū)域10b，光反射層 45也可以兼作像素電極48 。另一方面，濾色皿5的主體包括基體材料5a、濾色層50、遮光膜 51、共用電極58及取向膜56?；w材料5a和基體材料4a相同，例如是由玻璃或石英等透光性高的 材料所形成的矩形板狀部件。濾色層50是設置于基體材料5a的液晶層6 側的俯碎見與子像素10重合的色層。該濾色層50例如由紅色層50R、綠色 層50G、藍色層50B的3色色層組成。在一個子像素10設置3色之中1色的濾色層50，并且紅色層50R、 綠色層50G、藍色層50B配置成各自相鄰的列。具有相互相鄰且不同色層 的濾色層50的3個子像素10為1組，構成1個像素。遮光膜51是由可反射或吸收光的材料構成的遮光部件，設置在該濾色 層50的周圍。共用電極58例如是采用ITO等透明導電材料所形成的電極， 其設置為覆蓋濾色層50及遮光膜51。在共用電極58之中與上述光反射層 45俯視重合的區(qū)域中，形成得比其他區(qū)域稍厚(附圖中把斜線反過來的部 位)。其結果為，設置有光^Jt層45的區(qū)域的液晶層6的間隙t2變得比 其他區(qū)域的液晶層6的間隙tl小。取向膜56設置在和液晶層6之間的界 面處，在其和取向膜46之間控制構成液晶層6的液晶分子取向。液晶層6例如采用氟類液晶化合物或非氟類液晶化合物等的液晶分子 來構成，并且被兩個基板所夾持使之接觸TFT陣列基板4側的取向膜46 和濾色基H 5側的取向膜56雙方。液晶分子的取向由取向膜46及取向膜56來控制，使之在不施加電壓的非驅動時透射光(常時亮態(tài)模式)。進一步具體說明這樣所構成的液晶顯示裝置i之中光反射層45的圖形。圖3A及圖3B表示出光反射層45的反射面上所形成的2種反射圖形。 圖3A所示的光反射層45a的反射圖形例如是^^面變得平坦并且其 設計為在該光反射層45a的反射面上光進行全反射的圖形(第1光反射圖 形)。各光反射層45a的反射率為一定。圖3B所示的光反射層45b的反 射圖形例如是不規(guī)則地配置凹凸并且其設計為在該光反射層45b的反射面 上光進行散射的圖形(第2光反射圖形)。該光反射層45a和光反射層45b 形成為，垂直于液晶面板面的方向上的反射率相互不同。光反射層45a通 過使表面變得平坦，使從垂直于液晶面板的方向所入射的光進行全反射， 因為光>^射層45b通過使表面為凹凸而使從垂直于液晶面板的方向所入射 的光進行^^射，所以垂直于液晶面板的方向上的反射率比光反射層45a 低。圖4是表示液晶顯示裝置1的平面結構的附圖，是和圖l相同的附圖。 在顯示區(qū)域9內的子像素10之中的位于附圖中用斜線部所示部分的子像素 10 (第1子像素)，配置光進行全反射的光反射層45a,在位于除此以外 的部分的子像素10 (第2子像素)，配置光進行^:射的光反射層45b。還 有，光反射層45在本實施方式中其配置為，顯示ABCDE。但是，并不限 定為實施例那種顯示字母等字符的那類配置。具體而言，也可以配置為顯 示花羅紋或幾何學圖形等。圖5是表示該液晶顯示裝置1的TFT陣列皿4一部分結構的附圖。如圖5所示，多個子像素10之中圖5中的上側是光透射區(qū)域10a，附 圖中的下側是光反射區(qū)域10b。在光反射區(qū)域10b，設置光反射層45a， 具有上述圖3A所示的反射圖形；和光反射層45b，具有上述圖3B所示的 凹凸反射圖形。還有，將由光透射區(qū)域10a和設置有光反射層45a的光反 射區(qū)域10b構成的子像素10設為子像素20A，將由光透射區(qū)域10a和設置 有光反射層45b的光反射區(qū)域10b構成的子像素10設為子像素20B。子像素20A設置在從附圖中左側起第1列、第2列、第3列的全部行和從附圖中右側起第1列、第2列、第3列的第2行及第3行。子像素20B 設置在從附圖中左側起第4列、第5列、第6列的全部行和從附圖中右側 起第1列、第2列、第3列的第1行。在圖5中，用斜線表示出設置有光 反射層45b的區(qū)域。這樣所構成的液晶顯示裝置1使外部光透射濾色基板5的濾色層50， 并透射常時亮態(tài)才莫式的液晶層6。入射到TFT陣列141 4的子像素10之 中的光透射區(qū)域10a的光透射像素電極48 M體材料4a，由偏,49進 行遮光。入射到光反射區(qū)域10b的光通過光反射層45進行反射。入射到子像素20A的設置有光反射層45a的區(qū)域的光進行全反射，并 經(jīng)過液晶層6、濾色層50向TFT陣列基^ 4的表面(顯示側)射出。入 射到子^象素20B的設置有光反射層45b的區(qū)域的光進行散射地出射。其結 果為，即使在斷開電源的狀態(tài)下，如圖6所示，也顯示與光反射層45a的 配置圖形相應的圖# 。這樣，根據(jù)本實施方式，由于在TFT陣列基板4內面之中的預定區(qū)域 所配置的子像素20A,設置使光進行全反射的光反射層45a，在除此以外 的子像素20B設置使光進行散射的光反射層45b，因而可以使光反射層45a 的光反射率和光反射層45b的光反射率不同。其結果為，可以使通過由光 反射層45a及光反射層45b所反射的光形成的顯示光產(chǎn)生差別。據(jù)此，因 為能夠實現(xiàn)顯示光的明亮度、對比度的精細調節(jié)，所以可以獲得具備寬廣 表現(xiàn)力的顯示特性較高的液晶顯示裝置1。特別是，在本實施方式中，由于光反射層45a使來自濾色基板5的光 進行全反射，光反射層45b使來自濾色M5的光進行散射，因而視覺辨 認者的視覺辨認方向上的光的反射量因光反射層45a和光反射層45b有較 大不同。從而，通過設定光反射層45a和光反射層45b的配置，就可以形 成任意圖形的顯示光。除此之外，在本實施方式中，由于控制液晶層6的取向以成為所謂的 常時亮態(tài)才莫式，因而即l更在電源斷開時也透射光。據(jù)此，由于在電源斷開 時也可以顯示圖像，因而圖像的表現(xiàn)范圍進一步擴大。在第1實施方式中，雖然還按光反射層45a和光反射層45b的部分， 在濾色基板5設置濾色層50，但是也可以不按該部分設置濾色層50。這種 情況下，電源斷開時顯示出的是單色的顯示。另外，雖然光反射層45a使表面變得平坦，并且其設計為使得垂直于 液晶面板面的方向上的光進行全反射，但是也可以設計為，在表面形成凹 凸使光進行^^射。這種情況下，必須在光反射層45a和光反射層45b， 使得垂直于液晶面板面的方向上的反射率相互不同。[第2實施方式下面，說明本發(fā)明的第2實施方式。和第l實施方式相同，在下面的 附圖中，為了使各部件成為可辨認的大小，適當變更了比例尺。圖7是表示本實施方式所涉及的液晶顯示裝置101截面結構的附圖， 對應于第1實施方式中的圖2。如圖7所示，液晶顯示裝置101具有液晶面板102和背光源103。液 晶面板102的主體包括TFT陣列基板104、濾色J4^ 105和被這些基敗所 夾持的液晶層106。液晶層106和第1實施方式相同，液晶分子的取向由 取向膜146及取向膜156來控制，以在不施加電壓時使光透射(常時亮態(tài) 模式)。濾色基板105和第1實施方式相同，其主體包括基體材料105a、濾色 層150、遮光膜151 、共用電極158和取向膜156。濾色層150由紅色層150R、 綠色層150G、藍色層150B、白色層150W的4色色層構成。還有，白色 層150W的色層可以只以透明的層形成。紅色層150R、綠色層150G、藍 色層150B、白色層150W配置成各自相鄰的列。具有相互相鄰且不同色層 的濾色層150的4個子像素110為1組，構成1個像素。光反射層145和第1實施方式相同，例如是由鋁等構成的金屬層，將 光向濾色基板105側進行反射。圖8另:表示液晶顯示裝置101的TFT陣列基板104 —部分結構的附圖， 對應于第1實施方式的圖5。在與紅色層150R、綠色層150G、藍色層150B俯^L重合的子像素110,在占該子像素110 —半的區(qū)域(例如，附圖中的下側)設置光反射層145b。 該子像素110其設置有光反射層145b的區(qū)域為光反射區(qū)域110b,未 設置光反射層145b的區(qū)域為光透射區(qū)域110a。在光反射層145b的光反射 面，形成使光進行散射的圖形。光反射層145b在子像素110之間形成為相 同的圖形。因此，顯示光在上述子像素IIO之間被均勻形成。在與白色層150W俯視重合的子〗象素110，在該子像素110的整個面 設置光反射層145c或光反射層145d。在圖7中用斜線表示設置有光反射 層145d的子像素110。該子像素110整體為光反射區(qū)域。在光反射層145c 的光反射面形成使光進行散射的圖形，在光反射層145d的光反射面形成使 光進行全反射的圖形。這樣所構成的液晶顯示裝置101使外部光透射濾色141105的濾色層 150，并透射常時亮態(tài)模式的液晶層106。入射到TFT陣列基仗104的子由偏振板149進行遮光。入射到光反射區(qū)域110b的光通過光^Jt層145 進行反射。入射到設置有光反射層145d的區(qū)域的光進行全反射，并經(jīng)過液晶層 106、濾色層150向TFT陣列基板104的表面(顯示側)射出。入射到設 置有光反射層145b及光反射層145c的區(qū)域的光進行散射而出射。其結果 為，即使在斷開電源的狀態(tài)下，也顯示與光反射層145d的配置圖形相應的 圖像。當驅動該液晶顯示裝置101時如圖9所示，優(yōu)選的是，控制液晶層106 的取向，以使得在背光源3點亮時，在整個面設置有光反射區(qū)域的子像素 110c成為黑顯示。其結果為，在子像素110中光被液晶層106吸收。根據(jù)本發(fā)明，由于光反射層145c、 145d設置到子像素110的整個面， 因而可以使用該子像素IIO來作為反射顯示用的子像素。據(jù)此，可以在子 像素IIO獨立設定白顯示及黑顯示。特別是，在本實施方式中，由于當驅 動液晶顯示裝置101時，控制液晶層106的取向以使得在背光源3點亮時， 設置有光反射層145c、 145d的子像素110成為黑顯示，因而可以防止顯示的設計有助于使顯示面板500呈現(xiàn)較佳的反射顯示效果。在此，像素結構540 是與圖4C的像素結構300c相似為例以進行說明。在其它實施例中，像素結構 540可以是上述多種實施例的像素結構100a 100c、 200、 300a 300c及400 至少其中的一種。也就是說，像素結構540也可以應用于反射式設計、穿透式 設計、半穿反式、或是微反射設計中。顯示面板500還包括至少一間隙物560。間隙物560配置于第一基板510 與第二基板520之間，用以維持第一基板510與第二基板520的間距。此外， 間隙物560例如是一球型間隙物或是一光間隙物。本實施例以光間隙物為范 例，但不限于此。此外，本實施例的光間隙物560，較佳地，配置于第二基板 520為范例，但不限于此，光間隙物560配置于第一基板510或同時配置于第 一基板510及第二基板520。本實施例的光間隙物560接觸于第一基板510的 位置上位于二相鄰凸起圖案之間的凹部(未標示)內。然而，較佳地，光間隙物 560接觸于第一基板510的位置上具有一位于二相鄰凸起圖案之間的平坦部(未標示)，但不限于此。而平坦部的高度由平坦部下方的介電層厚度來決定之。 例如當介電層550存在于第一顯示區(qū)P1及第二顯示區(qū)P2時，則平坦部的高 度，較佳地，實質上大于或等于存在于第二顯示區(qū)P2及第一顯示區(qū)P1其中至 少一者內的介電層550平均厚度，以使得光間隙物較為穩(wěn)固，但不限于此。平 坦部的高度也可實質上小于存在于第二顯示區(qū)P2及第一顯示區(qū)Pl其中至少一 者內的介電層550平均厚度。當介電層550，如圖4A所示僅存在于第一顯示 區(qū)P1，且介電層550同時具有第一厚度hl及第二厚度h2，則平坦部的高度， 較佳地，實質上大于或等于存在于第一顯示區(qū)P1的介電層550平均厚度，即 (hl+h2)/2，以使得光間隙物較為穩(wěn)固，但不限于此。平坦部的高度也可實質 上小于存在于于第一顯示區(qū)P1的介電層550平均厚度，即(hl+h2)/2。另外，像素結構540具有半穿透半反射式設計為例。因此，為了使反射式 顯示模式與穿透式顯示模式所呈現(xiàn)的顯示效果一致，顯示面板500還包括一墊 高層580。較佳地，墊高層580配置于第二基板520與顯示介質層530之間， 且墊高層580位于第一顯示區(qū)Pl中，以調整第一像素電極544上方的顯示介 質層530的厚度，也就是晶穴間隙(cell gap)。在其它實施例中，墊高層580 也可設置于第一基板510上，且其位于第一顯示區(qū)P1中或是同時設置于第一 基板510上及第二基板520上，且其位于第一顯示區(qū)Pl中。例如，在上述實施方式中，雖然設為使光進行全反射的光反射層的光 反射率是一定，進行了說明，但是不限于此，例如也可以進行設計以使得在每個子像素iio中使光反射率不同。據(jù)此，由于可以在子像素IIO之間使顯示光的明亮度及對比度產(chǎn)生差別，因而表現(xiàn)的范圍進一步擴大。另外，在上述實施方式中，雖然設為使光進行全反射的光反射層厚度 是一定，進行了說明，但是不限于此，例如也可以進行設計M個子《象素110使厚度不同。據(jù)此，可以在子像素110之間使單元間隙產(chǎn)生差別。由于通過使單元間隙產(chǎn)生差別，就可以使顯示光的明亮度及對比度產(chǎn)生差別， 因而表現(xiàn)的范圍進一步擴大。另外，在上述實施方式中，雖然控制取向以便液晶層的整個區(qū)域成為所謂的常時亮態(tài);漠式，但是不限于此。例如也可以部分控制液晶層的取向， 以便只有通過光反射層進行全反射的子像素的區(qū)域成為常時亮態(tài)模式。另外，在上述實施方式中，雖然其結構為，在全部的子像素配置光反 射層，但是不限于此。例如，也可以只在斷開電源時顯示特定圖形的部分 配置光反射層，在剩余的部分不配置光反射層。另外，在第1實施方式等中，對于光反射區(qū)域內的光反射層，說明了 由凹凸形成的反射圖形，但是對于光反射層來說，并不只限定為反射圖形。 也就是說，本發(fā)明因為是通過按照所反射的光量來實現(xiàn)濃淡，而在使顯示 裝置成為非驅動狀態(tài)時使之顯示圖形的裝置，所以所謂不同的光反射層不 只是由凹凸得到的>^射圖形，例如也可以通過改變光反射層的厚度，來改 變所反射的光量。另外，在第l實施方式等中，以下述方式形成了像素電極48，該方式 為使得對于在非驅動狀態(tài)下顯示出圖形的子像素的光反射區(qū)域，在液晶 顯示裝置的驅動狀態(tài)下也改變液晶層6中液晶分子的取向，但是也可以通 過不設置該部分的像素電極48等，在液晶顯示裝置的驅動狀態(tài)下，不改變 液晶分子的取向。另外，在第l實施方式、第2實施方式中，雖然對于液晶顯示裝置進 行了說明，但是作為顯示裝置并不限定為液晶顯示裝置，也可以用于所謂的有機EL、被稱為電子紙的那類其他顯示裝置。
權利要求
1.一種顯示裝置，其具備子像素，其具有包括光反射層的光反射區(qū)域；和顯示區(qū)域，其將上述子像素排列成矩陣狀；其特征為，通過使用至少2種不同的上述光反射層，在使該顯示裝置為非驅動狀態(tài)時，在上述顯示區(qū)域顯示圖形。
2. 根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置，其特征為 上述子像素具有光透射區(qū)域和上述光反射區(qū)域。
3. 根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置，其特征為， 具備對向配置的第l基板和第2基板；以及由上述第1基板和上述第2 a所夾持的液晶層；至少上述光反射區(qū)域是在非驅動狀態(tài)下成為白顯示的常時亮態(tài)模式。
4. 一種顯示裝置，其具備顯示區(qū)域，在該顯示區(qū)域中將子像素排列成 矩陣狀，該顯示裝置的特征為在上述子^f象素中，存在具有光透射區(qū)域的子〗象素和只由光反射區(qū)域構 成的子像素，該光反射區(qū)域包括光反射層；通過在只由上述光反射區(qū)域構成的子像素，使用至少2種不同的上述 光反射層，當^f吏該顯示裝置為非驅動狀態(tài)時，在上述顯示區(qū)域顯示圖形。
5. 根據(jù)權利要求4所述的顯示裝置，其特征為， 具備對向配置的第l基板及第2^1;和由上述第1基板和上述第2基板所夾持的液晶層；至少上述光反射區(qū)域是在非驅動狀態(tài)下成為白顯示的常時亮態(tài)^t式。
全文摘要
本發(fā)明提供一種顯示裝置，由于在TFT陣列基板(4)內面之中的預定區(qū)域所配置的子像素(10)內，設置使光進行全反射的光反射層(45a)，在除此以外的子像素(10)內設置使光進行散射的光反射層(45b)，因而可以使光反射層(45a)的光反射率和光反射層(45b)的光反射率不同。其結果為，可以使通過由光反射層(45a)及光反射層(45b)所反射的光形成的顯示光產(chǎn)生差別。借此，因為能夠實現(xiàn)顯示光的明亮度、對比度的精細調節(jié)，所以可以獲得具備寬廣表現(xiàn)力的顯示特性較高的液晶顯示裝置(1)。
文檔編號G02F1/1362GK101226315SQ20081000158
公開日2008年7月23日 申請日期2008年1月14日 優(yōu)先權日2007年1月15日
發(fā)明者上原利范, 上條公高, 中野智之, 丸山邦雄, 杉山裕紀, 瀧澤圭二 申請人:愛普生映像元器件有限公司