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顯示裝置的制造方法

文檔序號(hào):10487725閱讀:331來(lái)源:國(guó)知局
顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)一種顯示裝置,包括一第一基板、一第二基板及多個(gè)間隔件。第一基板包括一第一基材、一元件結(jié)構(gòu)、一絕緣層、一像素電極層及一填平層。元件結(jié)構(gòu)形成于第一基材上。絕緣層形成于元件結(jié)構(gòu)上。絕緣層具有至少一穿孔。像素電極層形成于絕緣層上,一部分的像素電極層延伸至穿孔中并與元件結(jié)構(gòu)電連接。像素電極層對(duì)應(yīng)穿孔位置形成一凹槽部。填平層形成于像素電極層上,并填滿凹槽部。第二基板設(shè)置于第一基板的對(duì)側(cè)。間隔件位于第一基板與第二基板間并對(duì)應(yīng)設(shè)置于填平層上。
【專利說(shuō)明】
曰f駐罷業(yè)不表直
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種顯示裝置,特別是涉及一種具有間隔件設(shè)置于二相對(duì)基板之間的顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]顯示裝置在現(xiàn)代人的生活中扮演著重要角色。其應(yīng)用領(lǐng)域擴(kuò)及電視、桌上型電腦、筆記型電腦、平板、移動(dòng)裝置、生醫(yī)領(lǐng)域、工業(yè)領(lǐng)域、交通領(lǐng)域等等。發(fā)展至今,顯示裝置包括CRT顯示裝置、液晶顯示裝置、OLED顯示裝置、等離子體顯示裝置等諸多類別。其中,目前最常見(jiàn)的當(dāng)屬液晶顯示裝置。相較于傳統(tǒng)的CRT顯示裝置來(lái)說(shuō),液晶顯示裝置具有體積小、重量輕、輻射低、省電等優(yōu)點(diǎn)。至今為止,對(duì)于各種顯示裝置的改良仍不斷地進(jìn)行。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明是對(duì)于顯示裝置的改良。
[0004]根據(jù)一些實(shí)施例,一種顯示裝置包括一第一基板、一第二基板及多個(gè)間隔件。第一基板包括一第一基材、一元件結(jié)構(gòu)、一絕緣層、一像素電極層及一填平層。元件結(jié)構(gòu)形成于第一基材上。絕緣層形成于元件結(jié)構(gòu)上。絕緣層具有至少一穿孔。像素電極層形成于絕緣層上,一部分的像素電極層延伸至穿孔中并與元件結(jié)構(gòu)電連接。像素電極層對(duì)應(yīng)穿孔位置形成一凹槽部。填平層形成于像素電極層上,并填滿凹槽部。第二基板設(shè)置于第一基板的對(duì)側(cè)。間隔件位于第一基板與第二基板間并對(duì)應(yīng)設(shè)置于填平層上。
[0005]為了對(duì)本發(fā)明的上述及其他方面有更佳的了解,下文特舉優(yōu)選實(shí)施例,并配合所附的附圖,作詳細(xì)說(shuō)明如下:
【附圖說(shuō)明】
[0006]圖1?圖3為一實(shí)施例的顯示裝置的示意圖;
[0007]圖4為另一實(shí)施例的顯示裝置的示意圖;
[0008]圖5及圖6為不同實(shí)施例的顯示裝置的示意圖。
[0009]符號(hào)說(shuō)明
[0010]100:第一基板
[0011]102:第一基材
[0012]104:元件結(jié)構(gòu)
[0013]106:絕緣層
[0014]108:穿孔
[0015]110:像素電極層
[0016]112:填平層
[0017]114:配向?qū)?br>[0018]116:掃描線
[0019]118:數(shù)據(jù)線
[0020]120:薄膜晶體管
[0021]122:第一層間絕緣層
[0022]124:第二層間絕緣層
[0023]126:導(dǎo)孔
[0024]128:緩沖層
[0025]130:底部電極
[0026]132:頂部電極
[0027]134:鈍化層
[0028]200:第二基板
[0029]202:第二基材
[0030]204:彩色濾光層
[0031]204B:藍(lán)色區(qū)域
[0032]204G:綠色區(qū)域
[0033]204R:紅色區(qū)域
[0034]206:黑色矩陣層
[0035]208:上覆層
[0036]210:配向?qū)?br>[0037]300:液晶層
[0038]302:間隔件
[0039]1100:凹槽部
[0040]N:非穿透區(qū)
[0041]T:穿透區(qū)
【具體實(shí)施方式】
[0042]請(qǐng)參照?qǐng)D1?圖3,其繪示根據(jù)一實(shí)施例的顯示裝置。圖3為沿著圖1、圖2中A_A’線的剖視圖。顯示裝置包括一第一基板100、一第二基板200及多個(gè)間隔件302。第一基板100包括一第一基材102、一元件結(jié)構(gòu)104、一絕緣層106、一像素電極層110及一填平層112。元件結(jié)構(gòu)104形成于第一基材102上。絕緣層106形成于元件結(jié)構(gòu)104上。絕緣層106具有至少一穿孔108。像素電極層110形成于絕緣層106上,一部分的像素電極層110延伸至穿孔108中并與元件結(jié)構(gòu)104電連接。像素電極層110對(duì)應(yīng)穿孔108位置形成一凹槽部1100。填平層112形成于像素電極層110上,并填滿凹槽部1100。第二基板200設(shè)置于第一基板100的對(duì)側(cè)。間隔件302位于第一基板100與第二基板200間并對(duì)應(yīng)設(shè)置于填平層112上。
[0043]具體來(lái)說(shuō),第一基板100的元件結(jié)構(gòu)104可包括多條掃描線116、多條數(shù)據(jù)線118及多個(gè)薄膜晶體管120。間隔件302沿掃描線116排列。第一基板100的元件結(jié)構(gòu)104還可包括第一層間絕緣層122、第二層間絕緣層124、導(dǎo)孔126及緩沖層128等等。第一層間絕緣層122及第二層間絕緣層124可分別由硅氮化物(SiNx)及硅氧化物(S1x)形成。像素電極層110可在穿孔108底部耦接至穿過(guò)第一層間絕緣層122及第二層間絕緣層124的導(dǎo)孔126,并可通過(guò)導(dǎo)孔126進(jìn)一步地耦接掃描線116、數(shù)據(jù)線118及薄膜晶體管120。薄膜晶體管120在本實(shí)施例是以低溫多晶硅(LTPS)為例,實(shí)際應(yīng)用上也可應(yīng)用于氧化物半導(dǎo)體層等其他有源層材料。像素電極層110可包括底部電極130、頂部電極132及隔絕二者的鈍化層134。底部電極130及頂部電極132可由銦錫氧化物(ITO)形成,鈍化層134可由硅氮化物(SiNx)形成。絕緣層106及填平層112可由光敏感材料形成,例如壓克力或硅基材料等等。通過(guò)使用光敏感材料,可先在結(jié)構(gòu)整體上形成填平層112,再移除不需要的部分。在一實(shí)施例中,絕緣層106及填平層112由相同材料所形成。填平層112的上表面的位置高于像素電極層110的上表面。在一實(shí)施例中,填平層112覆蓋于像素電極層110上的厚度為0.5um?2um。第一基板100還可包括一配向?qū)?14,形成于像素電極層110及填平層112上,其中間隔件302設(shè)置于配向?qū)?14上。配向?qū)?14可由聚酰亞胺(PI)形成。
[0044]第二基板200可包括一第二基材202、一彩色濾光層204及一黑色矩陣層206。黑色矩陣層形成于第二基材202上,接著形成彩色濾光層204。彩色濾光層204例如包括藍(lán)色區(qū)域204B、紅色區(qū)域204R及綠色區(qū)域204G。黑色矩陣層206定義出顯示裝置的穿透區(qū)T及非穿透區(qū)N,其中未被黑色矩陣層206遮蔽的范圍即穿透區(qū)T,被黑色矩陣層206遮蔽的范圍則是非穿透區(qū)N。穿孔108及間隔件302設(shè)置于黑色矩陣層206遮蔽的范圍內(nèi)。第二基板200還可包括上覆層208,覆蓋于彩色濾光層204及黑色矩陣層206上。第二基板200還可包括配向?qū)?10,形成于上覆層208上。
[0045]顯示裝置還可包括一液晶層300,設(shè)置于第一基板100與第二基板200之間。間隔件302位于液晶層300中。間隔件可為光致抗蝕劑式間隔件。
[0046]在根據(jù)本發(fā)明的顯示裝置中,通過(guò)加入填平層,可增加表面平坦的區(qū)域。如此一來(lái),如圖4所示,即使間隔件的位置稍微偏離至穿孔的上方,也不會(huì)受到因穿孔的影響而有高度上的變化,可避免由間隔件所分離的二基板之間的距離有變動(dòng)的情況,從而提高基板間距的一致性。隨著顯示裝置的分辨率提高,像素面積及間距都逐漸變小,若是沒(méi)有填平層的設(shè)置,則極有可能發(fā)生間隔件因?qū)ξ徽`差而掉入穿孔的情況,進(jìn)而造成二基板之間的距離有局部的改變。二基板之間的距離對(duì)于光的穿透度及色度有著很大的影響,若是發(fā)生間隔件掉入穿孔的情況,便會(huì)造成顯示裝置的光學(xué)特性不佳。因此,加入填平層的設(shè)計(jì)可改善顯示裝置的光學(xué)特性,如對(duì)比度(contrast rat1)等等。
[0047]再者,由于填平層高于像素電極層一定的高度,在維持相同的基板間隔的情況下,可整體性地縮小間隔件的尺寸。如此一來(lái),需要被黑色矩陣層遮蔽的范圍可減小,進(jìn)而提高顯示裝置的開(kāi)口率(aperture rat1) ο
[0048]在此,為了方便起見(jiàn),以液晶顯示裝置為例進(jìn)行說(shuō)明。然而,本發(fā)明并不受限于此,任何具有間隔件設(shè)置于二相對(duì)基板之間的顯示裝置都可適用。
[0049]現(xiàn)在請(qǐng)參照?qǐng)D5及圖6,其繪示根據(jù)不同實(shí)施例的顯示裝置。如此二圖所示,間隔件302可位于二個(gè)穿孔108之間。在一實(shí)施例中,如圖5所示,填平層112可為帶狀圖案。在另一實(shí)施例中,如圖6所示,填平層112可為島狀圖案。
[0050]綜上所述,雖然結(jié)合以上優(yōu)選實(shí)施例公開(kāi)了本發(fā)明,然而其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),可作各種的更動(dòng)與潤(rùn)飾。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以附上的權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種顯示裝置,包括: 第一基板,包括: 第一基材; 元件結(jié)構(gòu),形成于該第一基材上; 絕緣層,形成于該元件結(jié)構(gòu)上,該絕緣層具有至少一穿孔; 像素電極層,形成于該絕緣層上,一部分的該像素電極層延伸至該至少一穿孔中并與該元件結(jié)構(gòu)電連接,且該像素電極層對(duì)應(yīng)該至少一穿孔位置形成一凹槽部;及填平層,形成于該像素電極層上,并填滿該凹槽部; 第二基板,設(shè)置于該第一基板的對(duì)側(cè);以及 多個(gè)間隔件,位于該第一基板與該第二基板間并對(duì)應(yīng)設(shè)置于該填平層上。2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中該填平層為帶狀或島狀圖案。3.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中該填平層覆蓋于該像素電極層上的厚度為0.5um ?2um04.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中該填平層由光敏感材料形成。5.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其中該填平層由壓克力或硅基材料形成。6.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中該第一基板的該元件結(jié)構(gòu)包括多條掃描線、多條數(shù)據(jù)線及多個(gè)薄膜晶體管,該些間隔件沿該些掃描線排列。7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,還包括: 液晶層,設(shè)置于該第一基板與該第二基板之間,其中該些間隔件位于該液晶層中。8.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中該第一基板還包括: 配向?qū)?,形成于該像素電極層及該填平層上,其中該間隔件設(shè)置于該配向?qū)由稀?.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中該第二基板包括: 第二基材; 黑色矩陣層,形成于該第二基材上;及 彩色濾光層,形成于該第二基材上。10.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其中該些間隔件設(shè)置于該黑色矩陣層遮蔽的范圍內(nèi)。
【文檔編號(hào)】G02F1/1339GK105842929SQ201510013971
【公開(kāi)日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2015年1月12日
【發(fā)明人】劉侑宗, 李淂裕, 黃建達(dá)
【申請(qǐng)人】群創(chuàng)光電股份有限公司
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