專(zhuān)利名稱(chēng)：顯示影像的系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)于一種顯示元件，特別有關(guān)于一種液晶顯示元件。
技術(shù)背景液晶顯示器(liquid crystal display,以下簡(jiǎn)稱(chēng)LCD)是目前平面顯示器發(fā) 展的主流，其顯示原理是利用液晶分子所具有的介電各向異性及導(dǎo)電各向異 性于外加電場(chǎng)時(shí)，使液晶分子的排列狀態(tài)轉(zhuǎn)換，造成液晶薄膜產(chǎn)生各種光電 效應(yīng)。液晶顯示器的面板結(jié)構(gòu)一般由兩片基板疊合而成，中間留有一定距離 的空隙用以灌注液晶，而在上下兩基板上分別形成對(duì)應(yīng)的電極，用以形成電 場(chǎng)控制液晶分子的轉(zhuǎn)向及排列，表現(xiàn)出畫(huà)面。圖1顯示一傳統(tǒng)液晶顯示面板100的平面圖，請(qǐng)參照?qǐng)D1,提供包括陣 列區(qū)104的陣列基板102,多條第一信號(hào)線108位于陣列基板102的周邊， 其中大部份的第一信號(hào)線108與陣列基板102的邊緣平行，第一信號(hào)線108 提供顯示面板100的驅(qū)動(dòng)電路信號(hào)或能量。以密封物112(圖1中的點(diǎn)區(qū)域)密封陣列基板102和第二基板110，其中 密封物112位于陣列基板102和第二基板110的周邊。液晶注入于陣列基板 102和第二基板110間的空隙。多個(gè)驅(qū)動(dòng)IC 114位于陣列基板102和第二基 板IIO重疊部份以外的延伸區(qū)116中。此外，多條排列成扇型的第二信號(hào)線 118由驅(qū)動(dòng)IC 114提供信號(hào)或是能量至驅(qū)動(dòng)電路。圖2A顯示圖1的區(qū)域101的放大圖，圖2B顯示沿著圖2A的1-1，剖 面線的剖面圖。請(qǐng)參照?qǐng)D2A和圖2B,形成第一介電層120于陣列基板102 上，形成層間介電層124于第一介電層120上。平行陣列基板102邊緣的第 一信號(hào)線108為金屬線，其可以由例如Mo、 Al、上述組合或堆疊所組成。 一般來(lái)說(shuō)，在低溫多晶硅薄膜晶體管顯示元件中，平坦化層130形成于金屬 線108和層間介電層124上，密封物112形成于平坦化層130上，密封陣列 基板102和第二基板110。圖3A顯示圖1的區(qū)域103的》文大圖，圖3B顯示沿著圖3A的I-I，剖面線的剖面圖。請(qǐng)參照?qǐng)D3A和圖3B，從驅(qū)動(dòng)IC 114提供信號(hào)或是能量至 驅(qū)動(dòng)電路的第二信號(hào)線118可以是例如Mo、 Al、上述組合或上述堆疊的金 屬線，類(lèi)似于上述，在低溫多晶硅薄膜晶體管顯示元件中，平坦化層130形 成于第二信號(hào)線118和層間介電層124上。然而，金屬線118、 108和平坦化層130間的粘著力較層間介電層124 和平坦化層130間的粘著力差。因此，當(dāng)顯示面板IOO遭受碰撞時(shí)，容易于 金屬線118/108和平坦化層130間的界面產(chǎn)生剝落，而使得陣列基板102與 第二基板110間的液晶外漏。發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，本發(fā)明的目的為提供一液晶顯示面板及真制造方法，增加陣 列基板和第二基板的接合力，可減少或解決顯示面板遭碰撞時(shí)液晶外漏的問(wèn) 題。本發(fā)明提供一種顯示影像的系統(tǒng)，包括顯示面板，其中顯示面板包括第 一基板、第二基板、密封物、介電層、多個(gè)樣品金屬圖案和平坦化層。第一 基板和第二基板間設(shè)置有液晶層。密封物介于第一基板和第二基板間以密封 液晶層。介電層位于第一基板上。多個(gè)樣品金屬圖案位于密封物下和/或鄰近 密封物。平坦化層覆蓋且接觸介電層和上述樣品金屬圖案，其中平坦化層和 樣品金屬圖案間形成第一界面，平坦化層和介電層間形成第二界面，第一界 面和第二界面的面積的比例大體上小于75%。本發(fā)明提供一種顯示影像的系統(tǒng)，包括顯示面板，其中顯示面板包括第 一基板、第二基板、密封物、介電層、多個(gè)金屬線、平坦化層和多條不接觸 平坦化層的橋接線。第一基板和第二基板間設(shè)置有液晶層。密封物介于第一 基板和第二基板間以密封液晶層。介電層位于第一基板上。多個(gè)金屬線位于 密封物下或鄰近密封物。平坦化層覆蓋且接觸介電層和上述金屬線，其中平 坦化層和金屬線間形成第一界面，平坦化層和介電層間形成第二界面。多條 不接觸平坦化層的橋接線位于密封物下，和/或鄰近密封物，取代部份接觸平 坦化層的金屬線。


圖1顯示傳統(tǒng)液晶顯示面板的平面圖。圖2A顯示圖1的局部區(qū)域的放大圖。圖2B顯示沿著圖2A的I-I，剖面線的剖面圖。圖3A顯示圖1的局部區(qū)域的放大圖。圖3B顯示沿著圖3A的I-I，剖面線的剖面圖。圖4顯示本發(fā)明實(shí)施例的顯示影像系統(tǒng)的平面圖。圖5A顯示圖4的局部區(qū)域的放大圖。圖5B顯示沿圖5A的I-I'剖面線的剖面圖。圖6A顯示圖4的局部區(qū)域的^:大圖。圖6B顯示沿圖6A的I-I'剖面線的剖面圖。圖7顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的顯示影像系統(tǒng)的平面圖。圖8A顯示圖7的局部區(qū)域的放大圖。圖8B顯示沿圖8A的I-I，剖面線的剖面圖。圖9顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的圖7的局部區(qū)域的放大圖。圖IO顯示本發(fā)明又另一實(shí)施例圖7的局部區(qū)域的放大圖。圖11顯示本發(fā)明的影像顯示系統(tǒng)的配置示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明100 顯示面板；IO卜區(qū)域；102 陣列基板；103 區(qū)域；104 陣列區(qū);108 第一信號(hào)線/金屬線;110 第二基板；112 密封物；114 驅(qū)動(dòng)IC;116 延伸區(qū)；118~第二信號(hào)線/金屬線；120 第一介電層；124 層間介電層；130 平坦化層；400 顯示面板；402 陣列基板；403~區(qū)域；404~陣列區(qū)；406 驅(qū)動(dòng)區(qū)；408~第一信號(hào)線/金屬線;410 第二基板；412 密封物；414 驅(qū)動(dòng)IC;416 延伸區(qū)；418~第二信號(hào)線/金屬線；420 第一介電層；424 層間介電層；430 平坦化層；432 橋接線；434~插塞；491 第一界面 500~輸入單元 700 顯示面4反 702 陣列基板 705 平坦化層 7084屬圖案 710 外緣；492 第二界面; 600 電子裝置; 701~區(qū);或；704 第二基板; 706 密封物；751 驅(qū)動(dòng)區(qū)； 792 第二界面;709~介電層； 750~陣列區(qū)； 791 第一界面; 800 顯示裝置。
具體實(shí)施方式
以下將以實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明作為本發(fā)明的參考，且范例伴隨著

之。在附圖或描述中，相似或相同的部分使用相同的圖號(hào)。在附圖中，實(shí)施 例的形狀或是厚度可擴(kuò)大，以簡(jiǎn)化或是方便標(biāo)示。附圖中各元件的部分將分 別描述說(shuō)明之，值得注意的是，圖中未繪示或描述的元件，可以具有本領(lǐng)域 的技術(shù)人員所知的形式。另外，特定的實(shí)施例僅為揭示本發(fā)明使用的特定方 式，并非用以限定本發(fā)明。圖4顯示本發(fā)明實(shí)施例的例如顯示面板400的顯示影像系統(tǒng)的平面圖， 請(qǐng)參照?qǐng)D4，提供例如陣列基板402的第一基板，陣列基板402包括陣列區(qū) 404,多個(gè)像素、薄膜晶體管、柵極線、數(shù)據(jù)線(未繪示)形成于陣列區(qū)404中。 在陣列區(qū)404外，陣列基板402還包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)區(qū)406，其包括多個(gè)用以驅(qū) 動(dòng)顯示面板400的驅(qū)動(dòng)電路。多個(gè)第一信號(hào)線408設(shè)置于陣列基板402的周邊，且位于陣列區(qū)404和 驅(qū)動(dòng)區(qū)406外，其中大部份的第一信號(hào)線408平行陣列基板402的外緣，第 一信號(hào)線408用以提供信號(hào)或能量至驅(qū)動(dòng)區(qū)406的驅(qū)動(dòng)電路。密封物412密封陣列基板402和第二基板410，將液晶層密封于陣列基 板402和第二基板410間，其中密封物412位于陣列基板402和第二基板410 的周邊。在本發(fā)明的實(shí)施例中，密封物412設(shè)置于陣列區(qū)404和驅(qū)動(dòng)區(qū)406 以外。多個(gè)驅(qū)動(dòng)IC 414設(shè)置于陣列基板402和第二基板410重疊部份外的陣列 基板402的延伸區(qū)416中，多個(gè)排列成扇形的第二信號(hào)線418從驅(qū)動(dòng)IC 414提供信號(hào)或能量至驅(qū)動(dòng)區(qū)406中的驅(qū)動(dòng)電路，其中包括排列成扇形的第二信 號(hào)線418的區(qū)域可稱(chēng)為外部扇形區(qū)(fan out region)。圖5A顯示圖4區(qū)域401的放大圖，圖5B顯示沿圖5A的I-I'剖面線 的剖面圖，請(qǐng)參照?qǐng)D5A和圖5B,形成例如氧化硅、氮化硅或是氮氧化硅的 第一介電層420于陣列基板402上，形成例如氧化硅、氮化硅或是氮氧化硅 的一層間介電層424于第一介電層420上，第一信號(hào)線408位于層間介電層 424上，且其可以為例如Mo、 Al、上述組合或上述堆疊的金屬線。 一般來(lái) 說(shuō)，在低溫多晶硅薄膜晶體管顯示元件中，例如有機(jī)層的平坦化層430覆蓋 且接觸金屬線408和層間介電層424,而于金屬線408和平坦化層430間形 成第一界面491,在層間介電層424和平坦化層430間形成第二界面492。 密封物412形成于平坦化層430上，密封介于第二基板410和陣列基板402 間的液晶層。當(dāng)進(jìn)行剝落(peeling)測(cè)試時(shí)，容易于第一信號(hào)線408和平坦化層430間 的第一界面491產(chǎn)生剝落，為減少此種剝落的問(wèn)題，以下揭示本發(fā)明減少第 一信號(hào)線408和平坦化層430間4妄觸面積的實(shí)施例。在本發(fā)明的實(shí)施例中，為了減少第 一信號(hào)線408(金屬線)和平坦化層430 的接觸面積，未接觸平坦化層430的橋接線432設(shè)置于密封物412下，或鄰 近密封物412,取代至少部份的接觸平坦化層430中的第一信號(hào)線408,其 中橋接線432可和柵極線(掃描線)大體上使用同一道工藝步驟形成，而第一 信號(hào)線408和數(shù)據(jù)線(未繪示)可大體上由同一道工藝形成。易言之，本實(shí)施例將一些直接位于密封物412和平坦化層430下的第一 信號(hào)線408中斷，而改由第 一信號(hào)線408下的橋接線432經(jīng)由層間介電層424 中的插塞434串接。使用橋接線432雖然會(huì)使連線電阻增加，但相較于顯示 元件開(kāi)關(guān)的高電阻，此增加的電阻為可接受的。圖6A顯示圖4區(qū)J^或403的》丈大圖，圖6B顯示沿圖6A的I-I，剖面線 的剖面圖。請(qǐng)參照?qǐng)D6A和圖6B,類(lèi)似于上述，為了減少第二信號(hào)線418和 平坦化層430的接觸面積，未接觸平坦化層430的橋接線432設(shè)置于密封物 412下，或鄰近密封物412,取代至少部份的接觸平坦化層430的第二信號(hào) 線418。橋接線可和柵極線大體上使用同一道工藝步驟形成。易言之，如圖 6B所示，本實(shí)施例將一些直接位于密封物412和平坦化層430下的第二信 號(hào)線418中斷，而改由第二信號(hào)線418下的橋接線432經(jīng)由層間介電層424中的插塞434串接。根據(jù)上述實(shí)施例，本發(fā)明減少平坦化層430和金屬線408和/或418的接 觸面積，因此，可減少由于平坦化層430和金屬線408和/或418間較差粘著 性所導(dǎo)致的剝落。據(jù)此，可減少當(dāng)顯示面板遭受撞擊時(shí)泄漏液晶的問(wèn)題。圖7顯示本發(fā)明另一實(shí)施例，例如顯示面板700的顯示影像系統(tǒng)的平面 圖，請(qǐng)參照?qǐng)D7，提供陣列基板702,陣列基板702包括陣列區(qū)750,其包括 多個(gè)像素、薄膜晶體管、柵極線、數(shù)據(jù)線(未繪示)，在陣列區(qū)外，陣列基板 還包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)區(qū)751，其包括多個(gè)用以驅(qū)動(dòng)顯示面板的驅(qū)動(dòng)電路。密封物706密封陣列基板702和第二基板704,通過(guò)密封物706密封陣 列基板702和第二基板704間的液晶層，其中密封物706是位于陣列基板和 第二基板的周邊，在本發(fā)明的一實(shí)施例中，密封物706設(shè)置于陣列基板的周 邊，且位于陣列區(qū)750和驅(qū)動(dòng)區(qū)751以外的區(qū)域。圖8A顯示圖7區(qū)域701的放大圖，圖8B顯示沿圖8A的I-I，剖面線 的剖面圖。請(qǐng)參照?qǐng)D8A和圖8B，多個(gè)例如長(zhǎng)條狀的樣品(dummy)金屬圖案 708設(shè)置于陣列基板702周邊的例如氧化硅和氮化硅的介電層709上，以使 顯示面板達(dá)成均勻的單元間隙(cell gap)。平坦化層705覆蓋和接觸介電層709 和樣品金屬圖案708，在樣品金屬圖案708和平坦化層705間形成第一界面 750，在介電層709和平坦化層間705形成第二界面752,然而，平坦化層 705和樣品金屬圖案708的粘著性較平坦化層705和例如氧化硅或氮化硅的 介電層709的粘著性差。在本發(fā)明的實(shí)施例中，位于介電層709和平坦化層705間的第二界面752 至少是位于密封物706外緣710下。在一范例中，位于密封物706外緣710 下的介電層709和平坦化層705間的第二界面752的寬度至少約為3pm,更 進(jìn)一步，密封物706的整個(gè)外緣710下不包括樣品金屬圖案708和平坦化層 705間的第一界面750。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，樣品金屬圖案708和數(shù) 據(jù)線(未繪示)可由大體上由同 一道工藝同時(shí)形成。為了減少平坦化層705和樣品金屬圖案708因較差粘著性所導(dǎo)致的剝落 問(wèn)題，必須減少樣品金屬圖案708的面積或尺寸。在本發(fā)明的實(shí)施例中，在 直接位于密封物706下的區(qū)域701中，第一界面750和第二界面752的面積 比例大體上小于75%。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，密封物706下不設(shè)置有樣 品金屬圖案以避免剝落的問(wèn)題。圖9顯示本發(fā)明另一實(shí)施例的圖7的區(qū)域701的放大圖，如圖9所示， 樣品金屬圖案708可以為尺寸較小的圓柱形，例如水平直徑約為10|am。另 外，圖IO顯示本發(fā)明又另一實(shí)施例的圖7的區(qū)域701的放大圖，如圖10所 示，樣品金屬圖案708可以為尺寸較小的方形，例如一邊的邊長(zhǎng)約為l(Vm。 然而，本發(fā)明不限于此，樣品金屬圖案可以為任何形狀。根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例，由于減小樣品金屬圖案的尺寸或是重新排設(shè)樣 品金屬圖案的位置，可減少樣品金屬圖案和平坦化層間較差粘著力所導(dǎo)致的 剝落問(wèn)題，也因此可減少當(dāng)顯示面板遭受撞擊時(shí)，液晶泄漏的情況。圖11顯示本發(fā)明的影像顯示系統(tǒng)的配置示意圖，在此案例中影像顯示 系統(tǒng)可以為顯示面板400或電子裝置600,而以上所述的顯示面板可以為顯 示裝置的一部份。如圖11所示，顯示元件800可包括例如圖4所示的液晶 顯示面板400,或圖7所示的液晶顯示面板700,顯示裝置800可以為各種 電子裝置(例如電子裝置600)的一部份。 一般來(lái)說(shuō)，電子裝置600包含顯示 裝置800及與顯示面板耦接的輸入單元500,其中輸入單元500傳輸信號(hào)至 顯示面板400，以使顯示面板400顯示影像。電子裝置600可例如為行動(dòng)電 話(huà)、數(shù)字相機(jī)、PDA(個(gè)人數(shù)字助理)、筆記型電腦、桌上型電腦、電視、車(chē) 用顯示器，或是可攜式DVD放映機(jī)。雖然本發(fā)明已以?xún)?yōu)選實(shí)施例披露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何 本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動(dòng)與 潤(rùn)飾。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍，當(dāng)視權(quán)利要求所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種顯示影像的系統(tǒng)，包括顯示面板，包括第一基板和第二基板，其中該第一基板和該第二基板間設(shè)置有液晶層；密封物，介于該第一基板和該第二基板間以密封該液晶層；介電層，位于該第一基板上；多個(gè)樣品金屬圖案，位于該密封物下和/或鄰近該密封物；及平坦化層，覆蓋且接觸該介電層和該多個(gè)樣品金屬圖案，其中該平坦化層和該多個(gè)樣品金屬圖案間形成第一界面，該平坦化層和該介電層間形成第二界面，其中該第一界面和該第二界面的面積比例小于75％。
2. 如權(quán)利要求1所述的顯示影像的系統(tǒng)，其中該第一基板包括陣列區(qū)域 及多條數(shù)據(jù)線，且該多條數(shù)據(jù)線設(shè)置于該陣列區(qū)域中，其中該多條數(shù)據(jù)線和 該多個(gè)金屬圖案由同 一工藝步驟形成。
3. 如權(quán)利要求1所述的顯示影像的系統(tǒng)，其中該平坦化層和該介電層間 的該第二界面，至少形成于該密封物的外部邊緣下。
4. 如權(quán)利要求1所述的顯示影像的系統(tǒng)，其中該平坦化層和該多個(gè)樣品 金屬圖案間的該第一界面，不形成于該密封物的整個(gè)外部邊緣下。
5. 如權(quán)利要求1所述的顯示影像的系統(tǒng)，還包括顯示裝置，其中該顯示 面板為該顯示裝置的一部分，且該顯示影像的系統(tǒng)還包括電子裝置，其中該 電子裝置包括該顯示裝置；及輸入單元，耦接該顯示裝置，且可經(jīng)由操作，提供輸入信號(hào)至該顯示裝 置，使該顯示裝置顯示影像。
6. —種顯示影像的系統(tǒng)，包括 顯示面板，包括第 一基板和一第二基板，其中該第 一基板和該第二基板間設(shè)置液晶層；密封物，介于該第一基板和該第二基板間以密封該液晶層；介電層，位于該第一基板上；多條金屬線，位于該密封物下或鄰近該密封物；及平坦化層，覆蓋且接觸該介電層和該多條金屬線，其中該平坦化層和 該多條金屬線間形成第一界面，該平坦化層和該介電層間形成第二界面；及多條不接觸該平坦化層的橋接線，位于該密封物下，和/或鄰近該密 封物，取代部份接觸該平坦化層的該多條金屬線。
7. 如權(quán)利要求6所述的顯示影像的系統(tǒng)，其中該第一基板包括驅(qū)動(dòng)IC 的區(qū)域，且該多條金屬線延伸至該區(qū)域中。其中該陣列基板包括陣列區(qū)和驅(qū) 動(dòng)區(qū)，該多條金屬線包括多個(gè)位于該陣列區(qū)和該驅(qū)動(dòng)區(qū)外的信號(hào)線。
8. 如權(quán)利要求6所述的顯示影像的系統(tǒng)，其中該第一基板包括陣列區(qū)和 多條位于該陣列區(qū)中的掃描線，該多條掃描線和該多條橋接線由同一道工藝 形成。
9. 如權(quán)利要求6所述的顯示影像的系統(tǒng)，其中該第一基板包括陣列區(qū)和 多條位于該陣列區(qū)中的數(shù)據(jù)線，該多條數(shù)據(jù)線和該多條金屬線由同 一道工藝成。
10. 如權(quán)利要求6所述的顯示影像的系統(tǒng)，還包括顯示裝置，其中該顯 示面板為該顯示裝置的一部分，且該顯示影像的系統(tǒng)還包括電子裝置，其中 該電子裝置包括該顯示裝置；及輸入單元，耦接該顯示裝置，且可經(jīng)由操作，提供輸入信號(hào)至該顯示裝 置，使該顯示裝置顯示影像。
全文摘要
一種顯示影像的系統(tǒng)，包括顯示面板，其中顯示面板包括第一基板、第二基板、密封物、介電層、多個(gè)金屬線、平坦化層和多條不接觸平坦化層的橋接線。第一基板和第二基板間設(shè)置液晶層。密封物介于第一基板和第二基板間以密封液晶層。介電層位于第一基板上。多個(gè)金屬線位于密封物下或鄰近密封物。平坦化層覆蓋且接觸介電層和上述金屬線，其中平坦化層和金屬線間形成第一界面，平坦化層和介電層間形成第二界面。多條不接觸平坦化層的橋接線位于密封物下和/或鄰近密封物，取代部分接觸平坦化層的金屬線。
文檔編號(hào)G02F1/13GK101221325SQ20081000099
公開(kāi)日2008年7月16日 申請(qǐng)日期2008年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月12日
發(fā)明者宋相如, 李憶興, 藍(lán)榮煌, 陳政欣 申請(qǐng)人:統(tǒng)寶光電股份有限公司